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特許 7270650出願番号 特願 2020-566990
パターンプロファイル改善用化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物
出願人 ヨンチャン ケミカル カンパニー リミテッド（識別番号 516210942）
2026年 特許公開件数ランキング 27965位 0件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 22987位 0件（※）
公報発行日 2023年5月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7270650 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
パターンプロファイル改善用化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の目的は、透過率を増加させることができる樹脂の添加によって、従来のＫｒＦポジティブフォトレジストに比べて垂直な（Ｖｅｒｔｉｃａｌ）プロファイルを示すＫｒＦ光源用フォトレジスト組成物を提供することにある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
目的を達成するために、本発明は、下記化学式１で表示される重量平均分子量２，０００乃至２０，０００の化学増幅型レジスト用透過率増進樹脂添加剤を含む、ＫｒＦレーザー用ポジティブ型フォトレジスト組成物を提供する。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明に係る透過率増進樹脂添加剤の添加によって露光エネルギーによる垂直な（Ｖｅｒｔｉｃａｌ）プロファイルを得ることができ、感度を向上させて従来のＫｒＦ ＰＲに比べて工程マージンを改善することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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