特許7274027IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

基材と樹脂を積層する装置に関し、詳しくは、得られる積層体の基材と樹脂との密着性の向上を図り、平坦性のレベルを高く保ちながら、タクトタイムを短くし、短時間でより多くの積層体を製造することのできる積層装置に関するものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】得られる積層体のボイド発生を抑制し、平坦性を高めた積層体を製造可能な積層装置を提供する。
【解決手段】基材104と樹脂106とを減圧下で押圧して第1のプレ積層体101を形成する真空積層装置1と、第1のプレ積層体101を押圧して第1の積層体102を形成する第1の平面プレス積層装置2とを備え、真空積層装置1が、対向する一対のプレートブロック11,12を有し、一対のプレートブロック11,12の少なくとも一方が他方に対し進退可能に設定され、一対のプレートブロック11,12間で基材104と樹脂106とが押圧されるようになっており、進退可能なプレートブロック12が、弾性プレス板を有し、一対のプレートブロック11,12間における、基材104と樹脂106に対する押圧力が500mm四方面積あたり1.67~3.97MPaの範囲に設定されるようになっている積層装置。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

そこで、本発明ではこのような背景下において、得られる積層体の基材と樹脂との密着性の向上を図り、しかも、平坦性のレベルをより高めながら、タクトタイムを短くして、短時間でより多くの積層体を製造することのできる積層装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

しかるに、本発明者等はかかる事情に鑑み、積層装置の構成を鋭意検討した。その結果、得られる積層体において、ボイドの発生を抑制し、かつ、積層体表面の平坦性を高めるためには、真空積層装置と平面プレス積層装置とを備える積層装置において、真空積層装置および/または平面プレス積層装置における、進退可能なプレートブロックが、弾性プレス板または平面プレス板を有し、一対のプレートブロック間における、対・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の積層装置によれば、基材と樹脂との密着性をより高めることができ、ボイドの発生を抑制することができる。また、タクトタイムの短縮を実現するとともに、得られる積層体の平坦性のレベルを高く保つことができる。
そして、本発明の真空積層装置、第1の平面プレス積層装置によれば、既設の積層装置の一部をこれらの装置に置き換えることにより、ボイドの発生が抑制され、平坦性の高い積層体を得ることができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の一実施の形態に係る積層装置の概略を説明する構成図である。
【図2】 積層装置の真空積層装置の説明図である。
【図3】 積層装置の第1の平面プレス積層装置の説明図である。
【図4】 積層装置における、真空積層装置および第1の平面プレス積層装置での押圧対象物の積層状態の変化を説明する図である。
【図5】 本発明の他の実施の形態に係る積層装置の概略を説明する構成図である。
【図6】 積層装置の真空積層装置の説明図である。
【図7】 積層装置の第1の平面プレス積層装置の説明図である。
【図8】 積層装置における、真空積層装置および第1の平面プレス積層装置での押圧対象物の積層状態の変化を説明する図である。
【図9】 本発明の実施の形態のバリエーションを説明する構成図である。
【図10】 本発明のさらに他の実施の形態に係る積層装置の概略を説明する構成図である。
【図11】 積層装置の第2の平面プレス積層装置の説明図である。
【図12】 本発明の実施の形態のバリエーションを説明する構成図である。
【図13】 本発明の実施の形態のバリエーションを説明する構成図である。
【図14】 実施例6の結果を示した図である。
【図15】 実施例7の結果を示した図である。
【図16】 比較例2の結果を示した図である。

代表図 図1本件の代表的な図

1 真空積層装置 2 第1の平面プレス積層装置 11 プレートブロック 12 プレートブロック 21 緩衝材 22 弾性プレス板 101 第1のプレ積層体 102 第1の積層体 104 基材 106 樹脂

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