(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-05-10
(45)【発行日】2023-05-18
(54)【発明の名称】表示基板及びその製作方法並びに表示装置
(51)【国際特許分類】
G09F 9/30 20060101AFI20230511BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20230511BHJP
H10K 50/00 20230101ALI20230511BHJP
H05B 33/02 20060101ALI20230511BHJP
H05B 33/12 20060101ALI20230511BHJP
【ＦＩ】
G09F9/30 308Z
G09F9/30 338
G09F9/30 365
G09F9/00 338
H05B33/14 A
H05B33/02
H05B33/12 B
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2019563830
(86)(22)【出願日】2019-05-05
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-08-19
(86)【国際出願番号】 CN2019085541
(87)【国際公開番号】W WO2019214548
(87)【国際公開日】2019-11-14
【審査請求日】2022-05-02
(31)【優先権主張番号】201810432866.8
(32)【優先日】2018-05-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ
(74)【代理人】
【識別番号】100070024
【弁理士】
【氏名又は名称】松永 宣行
(74)【代理人】
【識別番号】100195257
【弁理士】
【氏名又は名称】大渕 一志
(72)【発明者】
【氏名】王 和金
(72)【発明者】
【氏名】謝 明哲
(72)【発明者】
【氏名】高 山鎮
【審査官】中村 直行
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１０－１１８１８０（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１１／１３２２１５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／００９０６９９（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１５／０１７９７２３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１３／００３２８０２（ＵＳ，Ａ１）
【文献】中国特許出願公開第１０１８１９９８３（ＣＮ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０９Ｆ ９／００ － ９／４６
Ｇ０９Ｇ ３／００ － ５／４２
Ｈ１０Ｋ ５０／００ － ９９／００
Ｈ０５Ｂ ３３／００ － ３３／２８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
表示基板であって、フレキシブル保護層と、
サブ画素構造と
を含み、
前記フレキシブル保護層はボスを含み、前記サブ画素構造は前記ボスのトップ面に設置され、前記ボスは、前記トップ面と交わる複数の側面を更に含み、前記表示基板は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された副サブ画素構造を更に含む、表示基板。
【請求項2】
前記ボスの横断面の形状は矩形又は台形を含み、前記横断面は前記トップ面に垂直である、請求項１に記載の表示基板。
【請求項3】
薄膜トランジスタユニットを更に含み、前記薄膜トランジスタユニットは、前記ボスの前記トップ面に設置されて前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造と連なり、且つ前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造を駆動して発光させるように構成される、請求項１に記載の表示基板。
【請求項4】
前記表示基板は複数の前記サブ画素構造を含み、前記フレキシブル保護層は複数の前記ボスを含み、複数の前記サブ画素構造は、複数の前記ボスに一対一に対応して設置される、請求項１～３のいずれか一項に記載の表示基板。
【請求項5】
複数の前記ボスは、行方向及び列方向に沿ってアレイ状に配置され、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち前記行方向と交わる側面に設置される、請求項４に記載の表示基板。
【請求項6】
前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち前記列方向と交わる側面に設置される、請求項５に記載の表示基板。
【請求項7】
封止層を更に含み、前記封止層は、前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造の、前記ボスから遠ざかる側に設置され、且つ前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造を包み、隣接する前記ボス上の前記封止層の間には間隔が空いている、請求項４～６のいずれか一項に記載の表示基板。
【請求項8】
前記サブ画素構造は、前記ボスのトップ面に設置された第一陽極と、第一陽極の前記ボスから遠ざかる側に設置された第一発光層とを含み、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された第二陽極と、前記第二陽極の前記ボスから遠ざかる側に設置された第二発光層とを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の表示基板。
【請求項9】
前記第一陽極と前記第二陽極とは電気的に接続される、請求項８に記載の表示基板。
【請求項10】
前記第一発光層と前記第二発光層とは同じ色の光を発するように構成される、請求項８に記載の表示基板。
【請求項11】
表示基板の製作方法であって、第一基板に突起部を形成するステップと、
前記突起部のトップ面にサブ画素構造を形成するステップと、
前記突起部の、前記トップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造を形成するステップと
を含む、表示基板の製作方法。
【請求項12】
前記第一基板に突起部を形成するステップは、第二基板に分離層を形成するステップと、
前記分離層をパターニングして前記突起部を形成するステップと
を含み、
前記第一基板は、前記第二基板と、前記突起部とを含む、請求項１１に記載の表示基板の製作方法。
【請求項13】
前記突起部のトップ面にサブ画素構造を形成する前に、前記第一基板及び前記突起部にフレキシブルベースを形成するステップと、前記突起部の、前記トップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造を形成した後、前記フレキシブルベースが凹凸構造を形成するように、前記第二基板及び前記突起部を除去するステップと、
前記フレキシブルベースの前記サブ画素構造から遠ざかる側にフレキシブル材料を塗布してフレキシブル保護層を形成し、前記フレキシブル保護層が前記凹凸構造を充填してボスを形成するステップと
を更に含む、請求項１２に記載の表示基板の製作方法。
【請求項14】
前記サブ画素構造は、前記突起部のトップ面に設置された第一陽極と、第一陽極の前記突起部から遠ざかる側に設置された第一発光層とを含み、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された第二陽極と、前記第二陽極の前記突起部から遠ざかる側に設置された第二発光層とを含み、前記第一陽極と前記第二陽極とは同一の金属層のパターニングにより形成され、前記第一発光層と前記第二発光層とは同一の蒸着工程により形成される、請求項１１に記載の表示基板の製作方法。
【請求項15】
請求項１～１０のいずれか一項に記載の表示基板を含む表示装置。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１８年０５月０８日に中国特許庁に提出された中国特許出願第２０１８１０４３２８６６．８号の優先権を主張し、その全ての内容が本出願の一部とされるように援用により本出願に取り込まれる。
本出願は、２０１８年０５月０８日に中国特許庁に提出された中国特許出願第２０１８１０４３２８６６．８号の優先権を主張し、その全ての内容が本出願の一部とされるように援用により本出願に取り込まれる。
【0002】
本開示の実施例は、表示基板及びその製作方法並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【0003】
表示技術の継続的な発展に伴って、引張可能なフレキシブル表示装置は段々とホットな研究課題及び市場の焦点になってきている。引張可能なフレキシブル表示装置は、フレキシブル材料を採用して製作された変形可能且つ湾曲可能な表示装置であり、そのサイズはさらに増大可能であり、且つ引張可能である。
【0004】
引張可能なフレキシブル表示装置は、自由に湾曲、折り畳み及び引張等が可能であるという特徴を有しており、これらの特徴により異なる環境に適用可能であり、従って表示装置の適用範囲を拡張できる。また、引張可能なフレキシブル表示装置は、軽くて薄く、体積が小さく、消費電力が低く、携帯性が良い等という利点を更に持つため、ウェアラブル機器に適用可能である。
【発明の概要】
【0005】
本開示の実施例は、表示基板及びその製作方法並びに表示装置を提供する。前記表示基板は、フレキシブル保護層と、サブ画素構造とを含み、前記フレキシブル保護層はボスを含み、前記サブ画素構造は前記ボスのトップ面に設置され、前記ボスは、前記トップ面と交わる複数の側面を更に含み、前記表示基板は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された副サブ画素構造を更に含む。これにより、前記表示基板は引張可能なフレキシブル表示を実現できるとともに、高解像度表示を実現する。
【0006】
本開示の少なくとも一つの実施例は、表示基板を提供する。前記表示基板は、フレキシブル保護層と、サブ画素構造とを含み、前記フレキシブル保護層はボスを含み、前記サブ画素構造は前記ボスのトップ面に設置され、前記ボスは、前記トップ面と交わる複数の側面を更に含み、前記表示基板は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された副サブ画素構造を更に含む。
【0007】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記ボスの横断面の形状は矩形又は台形を含む。
【0008】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記表示基板は、薄膜トランジスタユニットを更に含み、前記薄膜トランジスタユニットは、前記ボスの前記トップ面に設置されて前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造と連なり、且つ前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造駆動して発光させるように構成される。
【0009】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記表示基板は複数の前記サブ画素構造を含み、前記フレキシブル保護層は複数の前記ボスを含み、複数の前記サブ画素構造は、複数の前記ボスに一対一に対応して設置される。
【0010】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、複数の前記ボスは、行方向及び列方向に沿ってアレイ状に配置され、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち前記行方向と交わる側面に設置される。
【0011】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち前記列方向と交わる側面に設置される。
【0012】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記表示基板は、封止層を更に含み、前記封止層は、前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造の、前記ボスから遠ざかる側に設置され、且つ前記サブ画素構造及び前記副サブ画素構造を包み、隣接する前記ボス上の前記封止層の間には間隔が空いている。
【0013】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記サブ画素構造は、前記ボスのトップ面に設置された第一陽極と、第一陽極の前記ボスから遠ざかる側に設置された第一発光層とを含み、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された第二陽極と、前記第二陽極の前記ボスから遠ざかる側に設置された第二発光層とを含む。
【0014】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記第一陽極と前記第二陽極とは電気的に接続される。
【0015】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板において、前記第一発光層と前記第二発光層とは同じ色の光を発するように構成される。
【0016】
本開示の少なくとも一つの実施例は、表示基板の製作方法を更に提供する。前記表示基板の製作方法は、第一基板に突起部を形成するステップと、前記突起部のトップ面にサブ画素構造を形成するステップと、前記突起部の、前記トップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造を形成するステップとを含む。
【0017】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板の製作方法において、前記第一基板に突起部を形成するステップは、第二基板に分離層を形成するステップと、前記分離層をパターニングして前記突起部を形成するステップとを含み、前記第一基板は、前記第二基板と、前記突起部とを含む。
【0018】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板の製作方法において、当該製作方法は、前記突起部のトップ面にサブ画素構造を形成する前に、前記第一基板及び前記突起部にフレキシブルベースを形成するステップと、前記突起部の、前記トップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造を形成した後、前記フレキシブルベースが凹凸構造を形成するように、前記第二基板及び前記突起部を除去するステップと、前記フレキシブルベースの前記サブ画素構造から遠ざかる側にフレキシブル材料を塗布してフレキシブル保護層を形成し、前記フレキシブル保護層が前記凹凸構造を充填してボスを形成するステップとを更に含む。
【0019】
例えば、本開示の一実施例に係る表示基板の製作方法において、前記サブ画素構造は、前記突起部のトップ面に設置された第一陽極と、第一陽極の前記突起部から遠ざかる側に設置された第一発光層とを含み、前記副サブ画素構造は、前記複数の側面のうち少なくとも一つに設置された第二陽極と、前記第二陽極の前記突起部から遠ざかる側に設置された第二発光層とを含み、前記第一陽極と前記第二陽極とは同一の金属層のパターニングにより形成され、前記第一発光層と前記第二発光層とは同一の蒸着工程により形成される。
【0020】
本開示の少なくとも一つの実施例は、表示装置を更に提供する。前記表示装置は、上記いずれかの表示基板を含む。
【図面の簡単な説明】
【0021】
本開示の実施例の技術案をより明確に説明するために、以下では、実施例の図面を簡単に紹介することにする。以下の記述における図面は単に本開示の幾つかの実施例に関わるものであり、本開示を制限するものではないことは自明である。
【0022】
【図1】引張可能な表示装置の平面概略図である。
【図2】本開示の一実施例により提供される表示基板の断面概略図である。
【図5】本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のフローチャートである。
【図6A】本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のステップごとの概略図である。
【図6B】本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のステップごとの概略図である。
【図6C】本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のステップごとの概略図である。
【図6D】本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のステップごとの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
本開示の実施例の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下では、本開示の実施例の図面と合わせて、本開示の実施例の技術案を明瞭且つ完全に記述することにする。記述される実施例は本開示の一部の実施例であり、全部の実施例ではないことは自明である。記述される本開示の実施例に基づいて、本技術分野における通常の知識を有する者により、創造的労働を必要としない前提で得られる他の実施例は、全て本開示の保護範囲に属する。
【0024】
別途定義されない限り、本開示で使用される技術用語又は科学用語は、本開示の所属する分野における通常の知識を有する者により理解される通常の意味であるべきである。本開示で使用される「第一」、「第二」及び類似した語句はいかなる順序、数量又は重要性も表すものではなく、異なる構成部分を区別するためのみに用いられる。「含む」又は「包含」等の類似した語句は、当該語句の前に現れた素子又は物質が当該語句の後に現れて列挙された素子又は物質及びその均等物を包含することを意味するものであり、他の素子又は物質を排除するものではない。「接続」又は「連なる」等の類似した語句は、必ずしも物理的又は機械的接続に限定されるものではなく、直接的又は間接的の如何を問わず、電気的な接続を含み得る。
【0025】
研究において、本出願の発明人は、実際の適用において、引張可能なフレキシブル表示装置の引張又は湾曲を行う過程で、引張又は湾曲される領域にて画素間隔が大きくなるという問題が発生し、これにより引張又は湾曲される領域の輝度が低下し、解像度が低下する等といった現象が起こることに気付いた。
【0026】
上記の現象の発生を回避し、引張可能なフレキシブル表示装置の表示品質を向上させるために、隣接する画素の間に追加的なサブ画素を設置することで、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。図１は、引張可能な表示装置の平面概略図である。図１に示すように、当該引張可能な表示装置は、引張可能な表示を実現するために、複数の開口４０を含む。また、当該引張可能な表示装置は、第一表示領域１１と、隣接する第一表示領域１１の間に位置する第二表示領域１２とを含む。第一表示領域１１は、複数のサブ画素２０からなる画素２を含む。例えば、第一表示領域１１は、赤色サブ画素２１と、緑色サブ画素２２と、青色サブ画素２３とを含んで良く、赤色サブ画素２１、緑色サブ画素２２及び青色サブ画素２３は共に画素２を構成する。第二表示領域１２は補償サブ画素３０を含み、補償サブ画素３０は赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素のうちいずれか一つであって良い。引張又は湾曲されていない時、第二表示領域１２における補償サブ画素３０は発光せず、第一表示領域１１における画素２のみが発光する。引張又は湾曲されることが検出された時、第二表示領域１２における補償サブ画素３０が発光して、輝度及び解像度に対する補償を行うことで、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避する。
【0027】
然しながら、図１に示す引張可能なフレキシブル表示装置において、画素２と補償サブ画素３０とは同一面に設置されるため、第二表示領域１２及び補償サブ画素３０が存在することで、当該引張可能なフレキシブル表示装置の画素密度は低下する。当該引張可能なフレキシブル表示装置が引張又は湾曲されていない時、第二表示領域１２における補償サブ画素３０は発光しないため、当該引張可能なフレキシブル表示装置は、高解像度表示を実現できなくなる。
【0028】
本開示の実施例は、表示基板及びその製作方法並びに表示装置を提供する。当該表示基板は、フレキシブル保護層と、サブ画素構造とを含む。フレキシブル保護層はボスを含み、サブ画素構造はボスのトップ面に設置され、ボスはトップ面と交わる複数の側面を更に含み、当該表示基板は、複数の側面のうち少なくとも一つに設置された副サブ画素構造を更に含む。当該表示基板は、引張又は湾曲されていない時、ボスのトップ面におけるサブ画素構造が発光して画面を表示し、ボスの側面における副サブ画素構造は、露出できないか又は露出する面積が比較的小さい。当該表示基板が引張又は湾曲される時、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下、解像度の低下等といった現象を回避できる。また、当該表示基板は、引張又は湾曲されていない時、ボスの側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さいため、当該表示基板は、引張可能なフレキシブル表示を実現できるとともに、高解像度表示を実現する。
【0029】
以下、図面と合わせて、本開示の実施例により提供される表示基板及びその製作方法並びに表示装置を説明することにする。
【0030】
図２は、本開示の一実施例に係る表示基板の概略的な俯瞰図である。図３は、本開示の一実施例により提供される表示基板の図２におけるＨ－Ｈ’方向に沿った断面概略図である。図２及び図３に示すように、当該表示基板は、フレキシブル保護層１１０と、サブ画素構造１２０とを含む。フレキシブル保護層１１０はボス１１２を含み、ボス１１２はトップ面１１２０と、トップ面１１２０と交わる複数の側面とを含む。例えば、図２及び図３に示すように、ボス１１２のフレキシブル保護層１１０における正投影が矩形である場合、ボス１１２は、トップ面１１２０と交わる四つの側面である側面１１２１と、側面１１２２と、側面１１２３と、側面１１２４とを含む。サブ画素構造１２０はボス１１２のトップ面１１２０に設置される。当該表示基板は、複数の側面のうち少なくとも一つに設置された副サブ画素構造１３０を更に含む。説明すべきことは、上記のトップ面は、ボスの、フレキシブル保護層のボスが設置されていない側から遠ざかる表面であり、使用者により観察される表面でもある。
【0031】
本実施例に係る表示基板は、引張又は湾曲されていない時、ボスのトップ面におけるサブ画素構造が発光して画面を表示し、ボスの側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さい。当該表示基板が引張又は湾曲される時、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下、解像度の低下等といった現象を回避できる。また、当該表示基板は、引張又は湾曲されていない時、ボスの側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さいため、当該表示基板は高解像度表示を実現できる。
【0032】
例えば、フレキシブル保護層の材料は、引張及び湾曲のために、例えば熱可塑性ポリウレタンエラストマー、例えばポリジメチルシロキサン等のフレキシブルポリマーを含んで良い。もちろん、本開示の実施例はこられを含むがこれらに限られず、フレキシブル保護層の材料は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド等であっても良い。
【0033】
例えば、幾つかの例において、図３に示すように、ボス１１２の横断面の形状は矩形である。この場合、本実施例により提供される表示基板が引張又は湾曲されていない時、ボス１１２の側面における副サブ画素構造１３０は露出できず、副サブ画素構造１３０が発する光は使用者の視線に垂直であり、使用者には副サブ画素１３０が見えず、且つ、ボス１１２の横断面の形状が矩形である場合、副サブ画素構造１３０の占める面積は比較的小さく、表示基板におけるサブ画素構造１２０は密に並べられて、単独で表示を行う。このため、当該表示基板はさらに解像度を向上できる。注意すべきことは、本開示の実施例はこれらを含むがこれらに限られず、ボスの横断面の形状は他の形状であっても良い。
【0034】
図４は、本開示の一実施例により提供される別の表示基板の図２におけるＨ－Ｈ’方向に沿った断面概略図である。図４に示すように、ボスの横断面の形状は台形であっても良い。この場合、表示基板が引張又は湾曲されていない時、ボスの側面における副サブ画素構造は部分的に露出するが、露出する面積は比較的小さい。当該表示基板が引張又は湾曲される時、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造の露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。説明すべきことは、表示基板が引張又は湾曲されていない時、ボスの側面における副サブ画素構造は部分的に露出するが、露出する面積が比較的小さい場合、副サブ画素構造は発光及び表示を行わなくても良い。当該表示基板が引張又は湾曲され、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造の露出する面積が増加する場合、副サブ画素構造は発光及び表示を行い、引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができる。
【0035】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、当該表示基板は薄膜トランジスタユニット１４０を更に含み、薄膜トランジスタユニット１４０は、ボス１１２のトップ面１１２０に設置されてそれぞれサブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０と連なり、従ってサブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０を駆動して発光させる。このため、一方では、ボス１１２のトップ面１１２０に薄膜トランジスタユニット１４０を製作するのは比較的容易であり、当該表示基板の製作難易度を下げることができ、もう一方では、薄膜トランジスタユニット１４０により駆動サブ画素構造１２０と副サブ画素構造１３０とを同時に駆動することができ、副サブ画素構造１３０のための駆動回路を別個設置する必要がなくなり、従って当該表示基板の製作工程を簡素化し、コストを削減できる。説明すべきことは、上記の薄膜トランジスタユニットは、一つの薄膜トランジスタに限られない。例えば、当該表示基板が有機発光ダイオード表示基板である場合、薄膜トランジスタユニット１４０は２Ｔ１Ｃ等の構造を採用しても良く、即ち、複数の薄膜トランジスタを含んでも良い。注意すべきことは、本開示の実施例において、サブ画素構造と副サブ画素構造とは同期して駆動されても良いし、別々に駆動されても良い。
【0036】
例えば、幾つかの例において、図２～図４に示すように、表示基板は複数のサブ画素構造１２０を含み、フレキシブル保護層１１０は複数のボス１１２を含み、複数のサブ画素構造１２０は複数のボス１１２に一対一に対応して設置される。即ち、サブ画素構造１２０の数量は、フレキシブル保護層１１０におけるボス１１２の数量に等しく、ボス１１２の各々に、それぞれ一つのサブ画素構造１２０が設置されている。
【0037】
例えば、幾つかの例において、図２～図４に示すように、複数のボス１１２はアレイ状に配置される。この場合、複数のボス１１２は、一つの行方向と、一つの列方向とを持つ。副サブ画素構造１３０は、複数の側面のうち複数のボス１１２の行方向と交わる二つの側面に設置される。例えば、図２～図４に示すように、副サブ画素構造１３０は、複数の側面のうち複数のボス１１２の行方向と交わる側面１１２１及び側面１１２３に設置される。表示基板が行方向に引張又は湾曲される場合、引張又は湾曲される領域のボスの側面１１２１及び側面１１２３における副サブ画素構造１３０は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。
【0038】
例えば、幾つかの例において、図２に示すように、副サブ画素構造１３０は、複数の側面のうち複数のボス１１２の列方向と交わる二つの側面にも設置され、例えば、側面１１２２及び側面１１２４にも設置される。表示基板が列方向に引張又は湾曲される場合、引張又は湾曲される領域のボスの側面１１２１及び側面１１２３における副サブ画素構造１３０は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。
【0039】
例えば、幾つかの例において、図２に示すように、副サブ画素構造１３０は複数の側面の各々に設置され、例えば、側面１１２１、側面１１２２、側面１１２３及び側面１１２４に設置されても良い。表示基板が異なる方向に引張又は湾曲される場合、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造１３０はいずれも露出できたり露出する面積が増加したりして引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。
【0040】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、当該表示基板は、サブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０のボス１１２から遠ざかる側に設置され且つサブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０を包む封止層１５０を更に含む。これにより、サブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０を保護し、水・酸素による浸食を防ぐ。また、図３及び図４に示すように、隣接するボス１１２における封止層１５０の間には間隔が空いているため、当該表示基板が引張又は湾曲を行う時、隣接するボス１１２における封止層１５０の間の距離を比較的変えやすい。
【0041】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、当該表示基板は、少なくともボス１１２とサブ画素構造１２０と副サブ画素構造１３０との間に設置されたフレキシブルベース１６０を更に含む。即ち、フレキシブルベース１６０は、ボス１１２とサブ画素構造１２０の間及びボス１１２と副サブ画素構造１３０の間に設置される。例えば、図３及び図４に示すように、フレキシブルベース１６０の全面がフレキシブル保護層１１０上に設置されるため、サブ画素構造１２０及び副サブ画素構造１３０を直接フレキシブル保護層１１０に製作しなくてもよい。
【0042】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、フレキシブルベース１６０がフレキシブル保護層１１０上に設置されるため、フレキシブルベース１６０は凹凸構造を形成する。即ち、フレキシブルベース１６０は、ボス１１０の輪郭に沿って、サブ画素構造１２０の位置する方向に向かって突起する。説明すべきことは、フレキシブルベース１６０により形成される凹凸構造において、異なる位置におけるフレキシブルベースの厚さはほぼ等しい。
【0043】
例えば、フレキシブルベースの材料はポリイミドを含んで良い。
【0044】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、サブ画素構造１２０は、ボス１１２のトップ面１１２０に設置された第一陽極１２１と、第一陽極１２１のボス１１２から遠ざかる側に設置された第一発光層１２２とを含み、副サブ画素構造１３０は、複数の側面１２０のうち少なくとも一つに設置された第二陽極１３１と、第二陽極１３１のボス１１２から遠ざかる側に設置された第二発光層１３２とを含む。
【0045】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、第一陽極１２１と第二陽極１３１とは互いに連なる。例えば、第一陽極１２１と第二陽極１３１とは、同一の金属パターンであって、同一の金属層のパターニング工程により得られる。
【0046】
例えば、第一陽極の材料は銀を含み、第二陽極の材料は銀を含む。
【0047】
例えば、幾つかの例において、図２に示すように、当該表示基板は、隣接するボス（不図示）の間の接続線１９０を更に含む。接続線１９０は、隣接するサブ画素構造１２０と副サブ画素構造１３０の間の信号接続線として用いられても良い。例えば、接続線１９０は、表示基板が引張又は湾曲される際に断裂しないことを保証するために、湾曲形状であっても良い。
【0048】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、当該表示基板は、薄膜トランジスタユニット１４０と第一陽極１２１の間、フレキシブルベース１６０と第一陽極１２１の間、及びフレキシブルベース１６０と第二陽極１３１の間に位置する無機層１７０を更に含む。
【0049】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、第一発光層１２２の材料と第二発光層１３２の材料は同じである。即ち、第一発光層１２２と第二発光層１３２は、同じ色の光を発することができ、従ってサブ画素構造と副サブ画素構造とが同じ色の光を発することができるようになる。もちろん、本開示の実施例はこれを含むがこれに限られず、第一発光層と第二発光層とが異なる色の光を発するように構成されても良い。
【0050】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、第一発光層１２２は赤色光、緑色光又は青色光を発することができる。これにより、赤色光を発するサブ画素構造、緑色光を発するサブ画素構造及び青色光を発するサブ画素構造は一つの画素を構成でき、これによりフルカラー表示を行うことができる。
【0051】
例えば、幾つかの例において、図３及び図４に示すように、第一陽極１２２と第二陽極１３２とは電気的に接続される。もちろん、本開示の実施例はこれを含むがこれに限られず、第一陽極１２２と第二陽極１３２とは互いに絶縁されていても良い。本開示の実施例は、表示基板の製作方法を更に提供する。図５は、本開示の一実施例により提供される表示基板の製作方法のフローチャートである。図５に示すように、当該表示基板の製作方法は、以下のステップＳ５０１～ステップＳ５０３を含む。
【0052】
ステップＳ５０１で、第一基板に突起部を形成する。
【0053】
例えば、図６Ａに示すように、第一基板１９１に突起部１９３を形成する。
【0054】
ステップＳ５０２で、突起部のトップ面にサブ画素構造を形成する。
【0055】
例えば、図６Ｂに示すように、突起部１９３のトップ面にサブ画素構造１２０を形成する。
【0056】
ステップＳ５０３で、突起部のトップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造を形成する。
【0057】
例えば、図６Ｂに示すように、突起部１９３のトップ面と交わる複数の側面に、副サブ画素構造１３０を形成する。上記の表示基板の製作方法により製作された表示基板が引張又は湾曲されていない時、突起部のトップ面におけるサブ画素構造は発光を行って画面を表示し、突起部の側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さい。当該表示基板が引張又は湾曲される時、引張又は湾曲される領域の突起部の側面における副サブ画素構造は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。また、当該表示基板が引張又は湾曲されていない時、突起部の側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さいため、当該表示基板は高解像度表示を実現できる。
【0058】
例えば、サブ画素構造又は副サブ画素構造が有機発光素子を採用する場合、突起部のトップ面へのサブ画素構造の形成又は突起部のトップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つへの副サブ画素構造の形成には、堆積工程、パターニング工程、蒸着工程等を用いることができる。
【0059】
例えば、幾つかの例において、図６Ａに示すように、第一基板１９１に突起部１９３を形成するステップは、第二基板１９２に分離層１９３０を形成するステップと、分離層１９３０をパターニングして突起部１９３を形成するステップとを含んで良い。即ち、第一基板１９１は、第二基板１９２と突起部１９３とを含み、分離層１９３０をパターニングすることで、第一基板１９１に突起部１９３を形成する。
【0060】
例えば、第二基板はベース基板であって良く、後続の形成工程を容易にするために、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板等の剛性基板を採用しても良い。
【0061】
例えば、分離層の材料は、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素のうちの一つ又は複数から選択されて良い。
【0062】
例えば、上記の分離層をパターニングして突起部を形成するステップは、ドライエッチング又はウエットエッチング工程を用いて分離層をエッチングし、突起部を形成しても良い。
【0063】
例えば、幾つかの例において、図６Ｂに示すように、当該表示基板の製作方法は、突起部１９３のトップ面にサブ画素構造１２０を形成する前に、第一基板１９１及び突起部１９３にフレキシブルベース１６０を形成するステップを更に含む。図６Ｃに示すように、突起部１９３のトップ面と交わる複数の側面のうち少なくとも一つに副サブ画素構造１９３を形成した後、フレキシブルベース１６０が凹凸構造１６８を形成するように、第二基板１９２及び突起部１９３を除去する。その後、図６Ｄに示すように、フレキシブルベース１６０のサブ画素構造１２０から遠ざかる側にフレキシブル材料１１００を塗布してフレキシブル保護層１１０を形成し、フレキシブル保護層１１０は凹凸構造１６８を充填してボス１１２を形成する。当該表示基板の製作方法において、先ず第二基板（例えば、剛性基板）に突起部、サブ画素構造及び副サブ画素構造等の部材を形成してから、第二基板及び突起部を除去し、最後にフレキシブル保護層を形成することで、引張可能なフレキシブル表示基板の製作を実現でき、且つ製作難易度を下げ、歩留まり率を向上できる。説明すべきことは、上記のフレキシブルベースに形成される凹凸構造において、異なる位置におけるフレキシブルベースの厚さはほぼ等しくて良い。但し、フレキシブルベースは、突起部の輪郭に沿ってサブ画素構造の位置する方向に向かって突起する。
【0064】
例えば、フレキシブルベースの材料はポリイミドを含んで良い。もちろん、フレキシブルベースの材料として、他の適当な材料を選んでも良く、本開示の実施例はここでは限定しないことにする。
【0065】
例えば、上記の第二基板及び突起部を除去するステップは、物理的分離工程又はエッチング工程を採用しても良く、本開示の実施例はここでは限定しないことにする。
【0066】
例えば、幾つかの例において、サブ画素構造は、突起部のトップ面に設置された第一陽極と、第一陽極の突起部から遠ざかる側に設置された第一発光層とを含み、副サブ画素構造は、複数の側面のうち少なくとも一つに設置された第二陽極と、第二陽の突起部から極遠ざかる側に設置された第二発光層とを含む。
【0067】
例えば、幾つかの例において、第一陽極と第二陽極とは同一の金属層のパターニングにより形成され、第一発光層と第二発光層とは同一の蒸着工程により形成される。
【0068】
例えば、先ず、突起部が形成された第一基板に金属層を堆積させても良い。その後、金属層をパターニング（例えば、エッチング）してサブ画素構造の第一陽極、副サブ画素構造の第二陽極及び隣接するボスにおける第二陽極の間の接続線を形成しても良い。その後、第一陽極のボスから遠ざかる側及び第二陽極のボスから遠ざかる側に同時に第一発光層及び第二発光層を蒸着しても良い。
【0069】
表示基板が引張又は湾曲される時に断裂しないことを保証するために、接続線は、例えば湾曲形状であって良い。
【0070】
本開示の実施例は、表示装置を更に提供する。表示装置は、上記の例のいずれかにおいて記述された表示基板を含む。当該表示装置が引張又は湾曲されていない時、ボスのトップ面におけるサブ画素構造は発光を行って画面を表示し、ボスの側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さい。当該表示装置が引張又は湾曲される時、引張又は湾曲される領域のボスの側面における副サブ画素構造は露出できるか又は露出する面積が増加し、従って引張又は湾曲される領域の表示輝度及び解像度に対する補償を行うことができ、これにより、引張又は湾曲される領域の輝度の低下や解像度の低下等といった現象を回避できる。また、当該表示装置が引張又は湾曲されていない時、ボスの側面における副サブ画素構造は露出できないか又は露出する面積が比較的小さいため、当該表示装置は高解像度表示を実現できる。
【0071】
例えば、幾つかの例において、当該表示装置はテレビ、コンピュータ、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルフォトフレーム、ナビゲータ、腕時計、タブレットＰＣ、ノートパソコン等の表示機能付きの如何なる製品又は部材であっても良い。
【0072】
以下に、説明すべき幾つかの点を示す。
【0073】
（１）本開示の実施例の図面は、本開示の実施例に係る構造のみに係るものであるが、他の構造は、通用の設計を参照できる。
【0074】
（２）矛盾しないという前提の下、本開示の同一の実施例及び異なる実施例における特徴は、互いに組み合わせることができる。
【0075】
上記は、単に本開示の具体的な実施形態であり、本開示の保護範囲はこれらに限られない。当該技術分野において通常の知識を有する如何なる者も、本開示に開示される技術範囲内での変化又は置換を容易に想到でき、これら変化又は置換は全て本開示の保護範囲内に含まれるべきである。従って、本開示の保護範囲は特許請求の範囲の保護範囲を基準にするべきである。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】