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特許7286897配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成するためのプロセス
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-05-29
(45)【発行日】2023-06-06
(54)【発明の名称】配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成するためのプロセス
(51)【国際特許分類】
B41M 3/14 20060101AFI20230530BHJP
B05D 7/24 20060101ALI20230530BHJP
B05D 3/00 20060101ALI20230530BHJP
B05D 1/36 20060101ALI20230530BHJP
B05D 5/06 20060101ALI20230530BHJP
【ＦＩ】
B41M3/14
B05D7/24 303A
B05D7/24 301T
B05D3/00 D
B05D1/36 Z
B05D5/06 Z
B05D3/00 G
【請求項の数】
13
(21)【出願番号】P 2021512449
(86)(22)【出願日】2019-08-05
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-12-27
(86)【国際出願番号】 EP2019070990
(87)【国際公開番号】W WO2020052862
(87)【国際公開日】2020-03-19
【審査請求日】2022-07-05
(31)【優先権主張番号】18193402.7
(32)【優先日】2018-09-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】311007051
【氏名又は名称】シクパ ホルディング ソシエテ アノニム
【氏名又は名称原語表記】ＳＩＣＰＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＳＡ
【住所又は居所原語表記】Ａｖｅｎｕｅ ｄｅ Ｆｌｏｒｉｓｓａｎｔ ４１，ＣＨ－１００８ Ｐｒｉｌｌｙ， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ
(74)【代理人】
【識別番号】100107456
【弁理士】
【氏名又は名称】池田 成人
(74)【代理人】
【識別番号】100140453
【弁理士】
【氏名又は名称】戸津 洋介
(74)【代理人】
【識別番号】100128381
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 義憲
(74)【代理人】
【識別番号】100162352
【弁理士】
【氏名又は名称】酒巻 順一郎
(72)【発明者】
【氏名】ベニンガー， ナタリー
(72)【発明者】
【氏名】ロギノフ， エフゲニー
(72)【発明者】
【氏名】デスプラント， クロード‐アラン
(72)【発明者】
【氏名】バウディン， ジゼル
【審査官】亀田 宏之
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１４－５１０６５１（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１７／０８０６９８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１７／１４８７８９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００８－２１３４８６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－０２１５４１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０６－０７６２８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１６／０３２５５７８（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ４１Ｍ ３／１４
Ｂ０５Ｄ ７／２４
Ｂ０５Ｄ ３／００
Ｂ０５Ｄ １／３６
Ｂ０５Ｄ ５／０６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスであって、ａ）複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ１０）表面に塗布することにより、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｂ）前記第１の放射線硬化性コーティング組成物を
（Ａ）ｉ）磁界発生装置（ｘ３０）とｉｉ）磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界であり、前記磁界発生装置（ｘ３０）がループ状磁界発生装置（ｘ３１）を備え、前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石、又は、ループ状構成に配設され、磁気軸が結果的に前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石の組合せのいずれかであり、前記磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石、又は、磁気軸が結果的に前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せのいずれかである、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
（Ｂ）ｉ）磁界発生装置（ｘ３０）とｉｉ）磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界であり、前記磁界発生装置（ｘ３０）が、
支持マトリクス（ｘ３４）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石、又は、ループ状構成に配設され、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せのいずれかであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、を備え、
前記磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せのいずれかである、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
（Ｃ）ｉ）磁界発生装置（ｘ３０）とｉｉ）磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界であり、前記磁界発生装置（ｘ３０）が、
支持マトリクス（ｘ３４）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石、又は、ループ状構成に配設され、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せのいずれかであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）と、を備え、
前記磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せのいずれかである、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
（Ｄ）ｉ）磁界発生装置（ｘ３０）とｉｉ）磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界であり、前記磁界発生装置（ｘ３０）が、
支持マトリクス（ｘ３４）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石、又は、ループ状構成に配設され、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せのいずれかであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、
１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）と、を備え、
前記磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せのいずれかである、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
（Ｅ）ｉ）磁界発生装置（ｘ３０）とｉｉ）磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界であり、前記磁界発生装置（ｘ３０）が、
支持マトリクス（ｘ３４）と、
単一のループ状磁石、又は、ループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せのいずれかである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）と、
磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は、それぞれの磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）と、を備え、
前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石若しくは前記２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、
前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記単一のループ状磁石若しくは前記２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向き、
前記磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石、又は、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せのいずれかである、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、
に曝露することにより、前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、
ｃ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｄ）複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第２の放射線硬化性コーティング組成物をステップｃ）の少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンに少なくとも部分的に塗布することにより、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップと、
ｅ）ステップｂ）の前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）から選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に前記第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであり、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が、ステップｂ）において使用される前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、前記基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、ステップと、
ｆ）ステップｅ）の前記第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップであり、前記光学効果層が、当該光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与える、ステップと、
を含む、プロセス。
【請求項2】
前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）及び／又は前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が、ｉ）支持マトリクス（ｘ３４）、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のリング状双極子磁石である前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた前記磁界発生装置（ｘ３０）、並びにｉｉ）磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）である前記磁界発生装置（ｘ４０）、或いは、
ｉｉ）前記支持マトリクス（ｘ３４）、ループ状構成に配設され、それぞれの磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な４つ以上の双極子磁石（ｘ３１）の組合せである半径方向の磁化を有する前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及び磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた前記磁界発生装置（ｘ３０）、ｉｉ）磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である前記磁界発生装置（ｘ４０）であり、前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記４つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記４つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向く、前記磁界発生装置（ｘ４０）、並びにｉｉｉ）任意選択で１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、
を独立して備えた、請求項１に記載のプロセス。
【請求項3】
前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の前記磁界発生装置（ｘ３０）が、前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）の上に配置され、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）が、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の前記磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置された、請求項２に記載のプロセス。
【請求項4】
前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）が、ｉ）前記支持マトリクス（ｘ３４）、磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のリング状双極子磁石である前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた前記磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）である前記磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備え、
前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が、
ｉ）前記支持マトリクス（ｘ３４）、ループ状構成に配設され、それぞれの磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な４つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有する前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及び磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた前記磁界発生装置（ｘ３０）であり、前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記４つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する前記４つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が前記基板（ｘ１０）表面側を向く、前記磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）磁気軸が前記基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である前記磁界発生装置（ｘ４０）と、
ｉｉｉ）任意選択で１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）と、
を備えた、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項5】
前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の前記磁界発生装置（ｘ３０）が、前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）の上に配置され、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の前記磁界発生装置（ｘ４０）が、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の前記磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置された、請求項４に記載のプロセス。
【請求項6】
ステップａ）及び／又はステップｄ）が、印刷プロセスによって実行される、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記複数の非球状磁性又は磁化可能粒子の少なくとも一部が、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子により構成された、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記第１の放射線硬化性コーティング組成物及び前記第２の放射線硬化性コーティング組成物において同じであるか、又は、前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記第１の放射線硬化性コーティング組成物及び前記第２の放射線硬化性コーティング組成物においてサイズ及び／又は色特性に関して異なる、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項9】
前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記第１の放射線硬化性コーティング組成物においておよそ２重量％～およそ４０重量％の量だけ存在し、前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記第２の放射線硬化性コーティング組成物においておよそ２重量％～およそ４０重量％の量だけ存在する、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項10】
前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、前記第１の放射線硬化性コーティング組成物及び前記第２の放射線硬化性コーティング組成物において、およそ同じ量だけ存在する、請求項１～９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項11】
ステップｃ）が、ステップｂ）と一部同時に実行され、及び／又は、ステップｆ）が、ステップｅ）と一部同時に実行される、請求項１～１０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項12】
前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、血小板状顔料粒子であり、当該プロセスが、前記放射線硬化性コーティング組成物を磁界発生装置の動的な磁界に曝露することにより、前記血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるステップであり、ステップａ）の後及びステップｂ）の前、並びに／又は、ステップｄ）の後及びステップｅ）の前に実行される、ステップをさらに含む、請求項１～１１のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項13】
前記第１のコーティング層（ｘ２１）の前記１つ又は複数の第１のパターンの形状及び前記第２のコーティング層（ｘ２２）の前記１つ又は複数の第２のパターンの形状が、１つ又は複数のしるし、ドット、及び／又はラインを独立して表す、請求項１～１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
[001]本発明は、偽造及び違法複製に対する有価文書及び有価商品の保護の分野に関する。特に、本発明は、視角に応じたループ状の光学効果を示す光学効果層（ＯＥＬ）、上記ＯＥＬを生成する磁気アセンブリ及びプロセス、並びに文書上の偽造防止手段としての上記光学効果層の使用に関する。
【背景技術】
【0002】
[002]当技術分野においては、磁性又は磁化可能顔料粒子、特に非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、コーティング組成物、コーティング、又は層を用いることによって、セキュリティ要素及びセキュリティ文書を生成することが知られている。
【0003】
[003]例えばセキュリティ文書のセキュリティフィーチャは、「秘密」及び「公然」のセキュリティフィーチャに分類可能である。秘密のセキュリティフィーチャによる保護は、そのような特徴が隠蔽されており、検出には通常、特殊な機器及び知識が必要である、という概念に依拠している。一方、「公然」のセキュリティフィーチャは、人間の感覚のみで容易に検出可能であり、例えばそのような特徴の可視化及び／又は触覚による検出が可能でありながら、製造及び／又はコピーは依然として困難である。ただし、公然のセキュリティフィーチャの有効性は、そのセキュリティフィーチャとしての容易な認識に大きく依存している。ユーザは、このようなセキュリティフィーチャの存在及び性質に気付いている場合、そのセキュリティフィーチャに基づいて実際に安全確認を行うしかないためである。
【0004】
[004]配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層については、例えば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。コーティング中の磁性又は磁化可能顔料粒子によれば、対応する磁界の印加により、非固化コーティング中で磁性又は磁化可能顔料粒子を局所的に配向させた後、これらを固化させることによって、磁気誘導像、デザイン、及び／又はパターンを生成することができる。これにより、特定の光学効果すなわち偽造に対する耐性が高い固定磁気誘導像、デザイン、又はパターンが得られる。配向磁性又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は当該粒子を含む対応するインク若しくは組成物並びに上記インク若しくは組成物の塗布及び塗布インク若しくは組成物中の上記顔料粒子の配向に用いられる特定の技術の両者が利用可能な場合にのみ生成可能である。
【0005】
[005]移動リング効果が効率的なセキュリティ要素として開発されている。移動リング効果は、前記光学効果層の傾斜角に応じて任意のｘ－ｙ方向に移動するように見える漏斗、円錐、ボウル、円、楕円、及び半球等の物体の光学的錯覚像から成る。移動リング効果を生む方法については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２ ３０６ ２２２ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ３２５ ６７７ Ａ２号、及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号に開示されている。
【0006】
[006]国際公開第２０１１／０９２５０２ Ａ２号は、視角の変化で見かけ上の移動リングを表示する移動リング像を生成する装置を開示している。開示の移動リング像は、軟磁化可能シートと、ＮＳ軸がコーティング層の平面に垂直であるとともに上記軟磁化可能シートの下側に配設された球状磁石との組合せにより発生した磁界によって磁性又は磁化可能粒子を配向可能な装置の使用により取得又は生成され得る。
【0007】
[007]従来技術の移動リング像は一般的に、唯一の回転又は固定磁石の磁界による磁性又は磁化可能粒子の整列によって生成される。唯一の磁石の磁力線は一般的に、比較的緩やかな屈曲すなわち低い曲率を呈しているため、磁性又は磁化可能粒子の配向の変化もＯＥＬの表面上で比較的緩やかである。さらに、単一の磁石のみが用いられる場合は、磁石からの距離の増加とともに磁界の強度が急激に低下する。このため、磁性又は磁化可能粒子の配向により極めて動的且つ明確に規定された特徴を得るのは難しく、リング縁部がぼやけた視覚効果となる可能性がある。
【0008】
[008]国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、ＯＥＬの傾斜に際して移動するループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、ループ状体の中央領域において、突起の光学効果又は印象をさらにもたらすＯＥＬを開示しており、上記の突起はループ状体に囲まれた中央領域の反射帯により生成される。開示の突起は、ループ状体に囲まれた中央領域に存在する半球等の３次元物体の印象を与える。
【0009】
[009]国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、１つの共通中央領域を囲み、視角に応じた見かけ上の運動を示す複数の入れ子になったループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、最も内側のループ状体に囲まれ、これにより規定された中央領域を部分的に満たす突起をさらに含むＯＥＬを開示している。開示の突起は、中央領域に存在する半球等の３次元物体の錯覚を与える。
【0010】
[0010]国際公開第２０１７／０６４０５２ Ａ１号、国際公開第２０１７／０８０６９８ Ａ１号、及び国際公開第２０１７／１４８７８９ Ａ１号は、磁気配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に生成するための磁気アセンブリ及びプロセスを開示しており、前記光学効果層は、当該光学効果層の傾斜によりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体の光学的印象を与える。
【0011】
[0011]外観が変化して人目を引く動的なループ状効果であって、セキュリティ文書の向きに関わらず容易に確認可能であり、偽造者が利用可能な機器で大規模に製造することが難しく、非常に多くの考え得る形状及び形態にて提供可能である、ループ状効果を良い品質で基板上に表示するセキュリティフィーチャが依然として求められている。
【発明の概要】
【0012】
[0012]したがって、本発明は、上述の従来技術の不備を克服することを目的とする。
【0013】
[0013]第１の態様において、本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を基板（ｘ１０）上に生成するプロセス及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）であって、当該プロセスが、
ａ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ１０）表面に塗布することにより、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｂ）第１の放射線硬化性コーティング組成物を
ｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、任意選択で１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、並びに／又は任意選択で支持マトリクス（ｘ３４）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、
ｉ）支持マトリクス（ｘ３４）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、並びに／又は１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
ｉ）支持マトリクス（ｘ３４）、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又はそれぞれの磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、
に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、
ｃ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｄ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第２の放射線硬化性コーティング組成物をステップｃ）の少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンに少なくとも部分的に塗布することにより、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップと、
ｅ）ステップｂ）の第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）から選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであり、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が、ステップｂ）において使用される前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、ステップと、
ｆ）ステップｅ）の第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップと、
を含み、
光学効果層が、当該光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与え、
光学効果層が、当該光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与える、プロセス及び光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。
ａ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ１０）表面に塗布することにより、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｂ）第１の放射線硬化性コーティング組成物を
ｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、任意選択で１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、並びに／又は任意選択で支持マトリクス（ｘ３４）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、
ｉ）支持マトリクス（ｘ３４）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、並びに／又は１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、或いは、
ｉ）支持マトリクス（ｘ３４）、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又はそれぞれの磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界、
に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、
ｃ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップと、
ｄ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の第２の放射線硬化性コーティング組成物をステップｃ）の少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンに少なくとも部分的に塗布することにより、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップと、
ｅ）ステップｂ）の第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）から選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであり、前記第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が、ステップｂ）において使用される前記第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、ステップと、
ｆ）ステップｅ）の第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップと、
を含み、
光学効果層が、当該光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与え、
光学効果層が、当該光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与える、プロセス及び光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。
【0014】
[0014]別の態様において、本発明は、上記のプロセスにより作成された光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を提供する。
【0015】
[0015]別の態様において、偽造若しくは不正に対するセキュリティ文書の保護又は装飾用途のための光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）の使用が提供される。
【0016】
[0016]別の態様において、本発明は、本明細書に記載のような１つ又は複数の光学効果層を備えたセキュリティ文書又は装飾要素若しくは装飾物体を提供する。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1A】本発明に係る、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１２０）を基板（１１０）上に生成するのに適したプロセスの例であり、ａ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（１１０）表面に塗布することにより、第１のコーティング層（１２１）の第１のパターンを形成するステップと、ｂ）第１の放射線硬化性コーティング組成物を第１の磁気アセンブリ（１００－ａ）の磁界に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、ｃ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した第１のパターンを形成するステップと、ｄ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物をステップｃ）の少なくとも部分的に硬化した第１のパターンに少なくとも部分的に塗布することにより、第２のコーティング層（１２２）の第２のパターンを形成するステップと、ｅ）第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（１００－ｂ）の磁界に曝露するステップと、ｆ）ステップｄ）の第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した第２のパターンを形成するステップと、を含む、プロセスであって、図１Ａ（左）が、第１のコーティング層（１２１）が第２のコーティング層（１２２）と同じサイズを有し、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）を完全に覆う、すなわち、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）に完全に重なるプロセスを模式的に示し、図１Ａ（中央）及び図１Ａ（右）が、第１のコーティング層（１２１）が第２のコーティング層（１２２）と異なるサイズを有し、特に、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）よりも小さなサイズを有し、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）を部分的に覆う、すなわち、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）に部分的に重なるプロセスを模式的に示した図である。
【図1B】本発明に係る、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）（１２０）を基板（１１０）上に生成するのに適したプロセスの一例であり、ａ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（１１０）表面に塗布することにより、第１のコーティング層（１２１）の２つの第１のパターン、特に２つの離隔した第１のパターンを形成するステップと、ｂ）第１の放射線硬化性コーティング組成物を第１の磁気アセンブリ（１００－ａ）の磁界に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップと、ｃ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した２つの第１のパターンを形成するステップと、ｄ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物をステップｃ）の少なくとも部分的に硬化した２つの第１のパターンに少なくとも部分的に塗布することにより、第２のコーティング層（１２２）の第２のパターンを形成するステップと、ｅ）第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（１００－ｂ）の磁界に曝露するステップと、ｆ）ステップｂ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した第２のパターンを形成するステップと、を含む、プロセスであって、図１Ｂが、第１のコーティング層（１２１）が第２のコーティング層（１２２）と異なるサイズを有し、第２のコーティング層（１２２）が第１のコーティング層（１２１）を部分的に覆うプロセスを模式的に示した図である。
【図2】本発明に係るプロセスに適した第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）であって、前記プロセスが、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために一方がステップｂ）において第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と併用され、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために他方がステップｅ）において第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）と併用される前記磁気アセンブリのうちの２つを使用し、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図2A】ｉ）支持マトリクス（２３４）、磁気軸が基板（２１０）表面と実質的に垂直なループ状磁界発生装置（２３１）、特にリング状双極子磁石、及びループ状磁極片（２３３）、特にリング状磁極片（２３３）を備えた磁界発生装置（２３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（２１０）表面と実質的に平行な２つ以上、特に７つの双極子磁石（２４１）及び６つのスペーサ（２４２）を備えた磁界発生装置（２４０）とを備えた第１／第２の磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図3】本発明に係るプロセスに適した第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）であって、前記プロセスが、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために一方がステップｂ）において第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と併用され、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために他方がステップｅ）において第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）と併用される前記磁気アセンブリのうちの２つを使用し、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図3A】ｉ）支持マトリクス（３３４）、ループ状磁界発生装置（３３１）、特に、ループ状、特に正方形状構成に配設され、半径方向の磁化を有する４つの双極子磁石の組合せ、及び磁気軸が基板（３１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（３３２）、特に８つの双極子磁石を備えた磁界発生装置（３３０）と、ｉ）磁気軸が基板（３１０）表面と実質的に平行な磁界発生装置（３４０）、特に単一の棒状双極子磁石とを備えた第１／第２の磁気アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図4】本発明に係るプロセスに適した第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）であって、前記プロセスが、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために一方がステップｂ）において第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と併用され、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために他方がステップｅ）において第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）と併用される前記磁気アセンブリのうちの２つを使用し、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図4A】ｉ）支持マトリクス（４３４）、ループ状磁界発生装置（４３１）、特に、ループ状、特に正方形状構成に配設され、半径方向の磁化を有する４つの双極子磁石の組合せ、及び磁気軸が基板（４１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（４３２）、特に１９個の双極子磁石を備えた磁界発生装置（４３０）と、ｂ）磁気軸が基板（４１０）表面と実質的に平行な磁界発生装置（４４０）、特に単一の棒状双極子磁石と、ｃ）１つ又は複数の磁極片（４５０）、特に１つのディスク状磁極片（４５０）とを備えた第１／第２の磁気アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図5】本発明に係るプロセスに適した第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）であって、前記プロセスが、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために一方がステップｂ）において第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と併用され、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために他方がステップｅ）において第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）と併用される前記磁気アセンブリのうちの２つを使用し、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）が第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）と異なり、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向が、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である、第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図5A】ｉ）支持マトリクス（５３４）、磁気軸が基板（５１０）表面と実質的に垂直なループ状磁界発生装置（５３１）、特にリング状双極子磁石、及びループ状磁極片（５３３）、特にリング状磁極片（５３３）を備えた磁界発生装置（５３０）と、ｉ）磁気軸が基板（５１０）表面と実質的に平行な２つ以上、特に７つの双極子磁石（５４１）及び６つのスペーサ（５４２）を備えた磁界発生装置（５４０）とを備えた第１／第２の磁気アセンブリ（５００－ａ、５００－ｂ）を模式的に示した図である。
【図6】本発明に係る、図２～図４に示す２つの異なる第１又は第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を順次使用するプロセスにより得られたＯＥＬ（６２０）を異なる視角で見た写真である。 Ｆｉｇ．６Ａは、図２Ａ～図２Ｂ２に示す第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）及び図３Ａ～図３Ｂ２に示す第２の磁気アセンブリ（３００－ｂ）を使用するプロセスにより得られたＯＥＬ（６２０）を異なる視角で見た写真である。 Ｆｉｇ．６Ｂは、図２Ａ～図２Ｂ２に示す第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）及び図４Ａ～図４Ｂ２に示す第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）を使用するプロセスにより得られたＯＥＬ（６２０）を異なる視角で見た写真である。 Ｆｉｇ．６Ｃは、図２Ａ～図２Ｂ２に示す第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）及び図４Ａ～図４Ｂ２に示す第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）を使用するプロセスにより得られたＯＥＬ（６２０）を異なる視角で見た写真である。
【詳細な説明】
【0018】
定義
[0017]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。
[0017]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。
【0019】
[0018]本明細書において、不定冠詞「ａ」は、１つ及び２つ以上を示し、必ずしもその指示対象の名詞を単数に限定するものではない。
【0020】
[0019]本明細書において、用語「およそ（ａｂｏｕｔ）」は、対象とする量又は値が指定された特定の値又はその近傍の他の値であってもよいことを意味する。一般的に、ある値を示す用語「およそ」は、その値の±５％の範囲を示すことを意図している。一例として、表現「およそ１００」は、１００±５の範囲すなわち９５～１０５の範囲を示す。一般的に、用語「およそ」を使用する場合は、本発明に係る類似の結果又は効果が指定値の±５％の範囲で得られることが予想され得る。
【0021】
[0020]用語「実質的に平行（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐａｒａｌｌｅｌ）」は、平行整列からの逸脱が１０°以下であることを表し、用語「実質的に垂直（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ）」は、垂直整列からの逸脱が１０°以下であることを表す。
【0022】
[0021]本明細書において、用語「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」は、前記群の要素のすべて又は１つだけが存在していてもよいことを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、Ｂのみ、又はＡ及びＢの両者」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが存在しない可能性すなわち「ＡのみであってＢではない」という可能性も網羅している。
【0023】
[0022]本明細書において、用語「備える（具備する、含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、非排他的且つオープンエンドであることを意図している。したがって、例えば化合物Ａを含む湿し水は、Ａ以外の他の化合物を含んでいてもよい。ただし、用語「備える（具備する、含む）」は、その特定の一実施形態として、「～から本質的に成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「～から成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより限定的な意味も網羅するため、例えば「Ａ、Ｂ、及び任意選択でＣを含む湿し水」は、Ａ及びＢから（本質的に）成っていてもよいし、Ａ、Ｂ、及びＣから（本質的に）成っていてもよい。
【0024】
[0023]用語「コーティング組成物（ｃｏａｔｉｎｇ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）」は、本発明の光学効果層（ＯＥＬ）を固体基板上に形成可能であるとともに、印刷法によって優先的且つ非排他的に塗布可能な任意の組成物を表す。コーティング組成物は、少なくとも複数の非球状磁性又は磁化可能粒子及びバインダを含む。
【0025】
[0024]本明細書において、用語「光学効果層（ｏｐｔｉｃａｌ ｅｆｆｅｃｔ ｌａｙｅｒ：ＯＥＬ）」は、少なくとも複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子及びバインダを含み、非球状磁性又は磁化可能粒子の配向がバインダ内で固定又は停止（固定／停止）された２つの層の組合せを示す。
【0026】
[0025]用語「磁気軸（ｍａｇｎｅｔｉｃ ａｘｉｓ）」は、磁石の対応するＮＳ極を接続するとともに、前記両極を通って延びた仮想線を示す。この用語には、如何なる特定の磁界方向も含まない。
【0027】
[0026]用語「磁界方向（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｆｉｅｌｄ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）」は、磁石の外部でＮ極からＳ極へと向かう磁界線に沿った磁界ベクトルの方向を示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２の４６３～４６４頁参照）。
【0028】
[0027]用語「硬化（ｃｕｒｉｎｇ）」は、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの現在位置及び配向に固定／停止されて移動も回転もできなくなる状態すなわち固化又は固体状態へと材料を変換する刺激に応答してコーティング組成物の粘度が高くなるプロセスを示すのに使用する。
【0029】
[0028]本明細書において「好適な」実施形態／特徴に言及する場合は、これら「好適な」実施形態／特徴の組合せについても、その「好適な」実施形態／特徴の組合せが技術的に有意である限り開示されているものと考えられる。
【0030】
[0029]本明細書において、用語「少なくとも（ａｔ ｌｅａｓｔ）」は、１つ又は２つ以上（例えば、１つ、２つ、又は３つ）を規定するものである。
【0031】
[0030]用語「セキュリティ文書（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｄｏｃｕｍｅｎｔ）」は、少なくとも１つのセキュリティフィーチャにより偽造又は不正に対して通例保護される文書を表す。セキュリティ文書の例としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。
【0032】
[0031]用語「セキュリティフィーチャ（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｆｅａｔｕｒｅ）」は、認証目的で使用可能な像、パターン、又は図形要素を示すのに使用する。
【0033】
[0032]用語「ループ状体（ｌｏｏｐ－ｓｈａｐｅｄ ｂｏｄｙ）」は、それ自体で再結合することにより１つの中央暗領域を囲む閉ループ状体を構成する閉じた物体の視覚的印象をＯＥＬが観察者に与えるように非球状磁性又は磁化可能粒子が設けられたことを示す。「ループ状体」としては、円形、長円形、楕円形、正方形、三角形、長方形、又は任意の多角形を有し得る。ループ形状の例としては、リング又は円、長方形又は正方形（角丸の有無に依らず）、三角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）五角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）六角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）七角形（角丸の有無に依らず）、（正又は不規則）八角形（角丸の有無に依らず）、任意の多角形（角丸の有無に依らず）等が挙げられる。本発明において、ループ状体の光学的印象は、非球状磁性又は磁化可能粒子の配向によって形成される。
【0034】
[0033]本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセス及びその得られた光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を提供し、このように得られた光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）は、当該光学効果層を含む基板の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を観察者に与える。
【0035】
[0034]第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ３０）により生成された磁界及び磁界発生装置（ｘ４０）により生成された磁界はそれぞれ、磁気アセンブリの結果としての磁界中に配設され、傾斜によりサイズが変化するループ状体の光学効果層の光学的印象を与える未硬化の放射線硬化性コーティング組成物の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を磁気アセンブリの磁界が配向させ得るように相互作用する。このように得られた基板（ｘ１０）上の光学効果層の傾斜によりサイズが変化する異なるループ状体（例えば、一方が円、他方が正方形）の光学的印象をそれぞれ有するＯＥＬ（ｘ２０）の２つのコーティング層（ｘ２１、ｘ２２）の組合せは、光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体を示すＯＥＬの最終的な光学的印象を与える。一方、このように得られたＯＥＬの光学的印象では、基板の第１の方向の傾斜によって、第１の形状の第１のループ状体のサイズが小さくなるように認識され、同じ第１の方向の傾斜によって、第２の形状の第２のループ状体のサイズが大きくなるように認識され、基板を反対方向に傾斜させる場合には、その逆もまた同様である。組合せ効果の認識では、基板の第１の方向の傾斜によって、第１のループ状体が第２のループ状体の形状となるように認識される（それぞれの反対方向では、その逆もまた同様である）。このように得られたＯＥＬの光学的印象では、垂直な視角からある方向に基板が傾斜されると、ループ状体の第１の形状はサイズが小さくなり、別の第２の形状のサイズが大きくなるか、又は、ループ状体の第１の形状はサイズが大きくなり、別の第２の形状のサイズが小さくなる。図６のＦｉｇ．６Ａ～Ｆｉｇ．６Ｃは、本発明のプロセスに従って得られ、上述の通り、傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を示す光学効果層（ＯＥＬ）の例を示す。
【0036】
[0035]少なくとも本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）は、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ２１）及び少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ２２）により形成され、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ２２）は、少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ２１）の上に少なくとも部分的に存在する。第１のコーティング層（ｘ２１）は、１つ又は複数の第１のパターンの形状を有し、第２のコーティング層（ｘ２２）は、１つ又は複数の第２のパターンの形状を有する。少なくとも部分的に硬化した第１のコーティング層（ｘ２１）の形状は、第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの形状と同じであり、少なくとも部分的に硬化した第２のコーティング層（ｘ２２）の形状は、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの形状と同じである。
【0037】
[0036]第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの形状は、第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの形状と同じであってもよいし、異なっていてもよい。本明細書に記載の第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターン及び第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンは、独立して連続していてもよいし、不連続であってもよい。第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンの形状及び第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンの形状は、１つ又は複数のしるし、ドット、及び／又はラインを独立して表しているのが好ましい。本明細書において、用語「しるし（ｉｎｄｉｃｉａ）」は、デザイン及びパターンを意味するものとし、記号、英数字記号、モチーフ、文字、単語、数字、ロゴ、及び図画を含むが、これらに限定されない。本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に第１のコーティング層（ｘ２１）の２つ以上の第１のパターン及び第２のコーティング層（ｘ２２）の２つ以上の第２のパターンが存在する場合、前記２つ以上の第１／第２のパターンは、それぞれ第１のコーティング層（ｘ２１）の空きエリア及び第２のコーティング層（ｘ２２）の空きエリアによって互いに離隔したライン、ドット、及び／又はしるしから独立して成っていてもよい。
【0038】
[0037]図１Ａ及び図１Ｂに示すように、第１のコーティング層（ｘ２１）のサイズ及び前記第１のコーティング層（ｘ２１）の１つ又は複数の第１のパターンのサイズは、第２のコーティング層（ｘ２２）のサイズ及び前記第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ又は複数の第２のパターンのサイズと同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【0039】
[0038]図１Ａ及び図１Ｂに示すように、第２のコーティング層（ｘ２２）は、第１のコーティング層（ｘ２１）の上に存在し、前記第２のコーティング層（ｘ２２）が第１のコーティング層（ｘ２１）を完全に覆っていてもよいし（図１Ａ（左）参照）、第１のコーティング層（ｘ２１）を部分的に覆っていてもよい（図１Ａ（中央）、図１Ａ（右）、及び図１Ｂ参照）。
【0040】
[0039]例えば図１Ａ及び図１Ｂに示すように、本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための方法及びプロセス並びにその得られた光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を提供し、前記方法及びプロセスは、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を塗布する２つの独立ステップ（すなわち、ステップａ）及びｄ））と、放射線硬化性コーティング組成物を磁気アセンブリ（１００－ａ、１００－ｂ）の磁界に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させる２つの独立ステップ（すなわち、ステップｂ）及びｅ））と、放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定する２つの独立ステップ（すなわち、ステップｃ）及びｆ））とを含む。
【0041】
[0040]本明細書に記載のプロセスは、ａ）塗布ユニット、好ましくは印刷ユニット、ｂ）磁気配向ユニット、及びｃ）硬化ユニットを備えた装置上にて２つのパスで実行されるようになっていてもよく、磁気配向ユニットは、第１のパスにおいて第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）を備え、第２のパスにおいて第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）を備える。或いは、本明細書に記載のプロセスは、ａ）第１の塗布ユニット、好ましくは第１の印刷ユニット、ｂ）第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）を備えた第１の磁気配向ユニット、ｃ）第１の硬化ユニット、ｄ）第２の塗布ユニット、好ましくは第２の印刷ユニット、ｅ）第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）を備えた第２の磁気配向ユニット、及びｆ）第２の硬化ユニットを備えた装置上にて単一のパスで実行されるようになっていてもよい。本明細書に記載の磁気配向ユニットは、本明細書に記載の１つ又は複数の第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を含む回転磁気シリンダであって、本明細書に記載の前記１つ又は複数の第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が周方向溝に取り付けられた、回転磁気シリンダから成っていてもよいし、本明細書に記載の１つ又は複数の第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を含む平台印刷ユニットであって、本明細書に記載の前記１つ又は複数の第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が凹部に取り付けられた、平台印刷ユニットから成っていてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダは、印刷若しくは被覆ユニット等の塗布ユニット中での使用、印刷若しくは被覆ユニット等の塗布ユニットとの併用、又は印刷若しくは被覆ユニット等の塗布ユニットの一部としての構成が意図されている。回転磁気シリンダは、高い印刷速度で連続動作する回転式、枚葉給紙式、又はウェブ給紙式の産業用印刷機の一部であってもよい。平台印刷ユニットは、非連続動作する枚葉給紙式の産業用印刷機の一部であってもよい。
【0042】
[0041]本明細書に記載のプロセスは、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む本明細書に記載の第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を塗布するステップａ）及びステップｄ）を含む。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ１０）表面に塗布することにより、本明細書に記載の第１のコーティング層（ｘ２１）の本明細書に記載の１つ若しくは複数の第１のパターンを形成するステップａ）並びに／又は本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第２の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ１０）表面に塗布することにより、本明細書に記載の第２のコーティング層（ｘ２２）の１つ若しくは複数の第２のパターンを形成するステップｄ）は、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野においては銅版凹版印刷及び鋼製金型凹版印刷とも称する）から成る群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスにより独立して実行されるのが好ましい。
【0043】
[0042]本明細書に記載の基板（ｘ１０）表面又は少なくとも部分的に硬化した１つ若しくは複数の第１のパターンの少なくとも一部それぞれに対する本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物の塗布（ステップａ））及び本明細書に記載の第２の放射線硬化性コーティング組成物の塗布（ステップｄ））の後、一部同時、又は同時に、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界それぞれに対する放射線硬化性コーティング組成物（それぞれ、第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物）の曝露によって非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させることにより、各磁気アセンブリにより生成された磁界線に沿って非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を整列させる。
【0044】
[0043]本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｂ）及びステップｅ））の後又は一部同時に、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定又は停止する。このように特筆すべきこととして、第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は第１の状態すなわち液体又はペースト状態を有する必要があり、放射線硬化性コーティング組成物は十分に湿潤又は柔軟であるため、放射線硬化性コーティング組成物中に分散した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁界への曝露により自由に移動、回転、及び／又は配向可能である。また、第２の硬化（例えば、固体）状態も有する必要があり、この場合の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、それぞれの位置及び配向で固定又は停止される。
【0045】
[0044]以上から、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、ステップａ）の第１の放射線硬化性コーティング組成物及びステップｄ）の第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するステップｃ）及びステップｆ）を独立して含む。第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップ（ステップａ）及びｄ））は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｂ）及びステップｅ））の後又は一部同時に独立して実行されるようになっていてもよい。第１の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第１のパターンを形成するステップ（ステップｃ））は、第１の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に曝露するステップ（ステップｂ））と一部同時に実行されるのが好ましい。第２の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とすることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの選ばれた位置及び配向に固定するとともに、少なくとも部分的に硬化した１つ又は複数の第２のパターンを形成するステップ（ステップｅ））は、第２の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップ（ステップｅ））と一部同時に実行されるのが好ましい。本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスでは、ステップｃ）がステップｂ）と一部同時に実行され、ステップｆ）がステップｅ）と一部同時に実行されるのが好ましい。「一部同時」によって、両ステップの一部が同時に実行される。すなわち、各ステップの実行タイミングが部分的に重なることになる。本明細書に記載の背景において、配向ステップｂ）及び配向ステップｅ）それぞれと一部同時に硬化が実行される場合は、ＯＥＬの完全又は部分的な固化の前に顔料粒子が配向するように、配向後に硬化が有効となることが理解される必要がある。
【0046】
[0045]第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物の第１及び第２の状態は、ある種の放射線硬化性コーティング組成物を用いることによって提供される。例えば、第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子以外の成分は、インク又はセキュリティ用途（例えば、紙幣印刷）に用いられるような放射線硬化性コーティング組成物の形態であってもよい。上述の第１及び第２の状態は、電磁放射線への曝露に応答して粘度が高くなる材料を用いることにより提供される。すなわち、流体のバインダ材料は、硬化又は凝固によって、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの現在位置及び配向に固定されて、バインダ材料内で移動も回転もできなくなる第２の状態に変換される。
【0047】
[0046]当業者には既知の通り、基板等の表面上に塗布する放射線硬化性コーティング組成物に含まれる成分及び上記放射線硬化性コーティング組成物の物性は、放射線硬化性コーティング組成物の基板表面への移動に用いられるプロセスの要件を満たす必要がある。その結果、本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダ材料は通常、当技術分野において既知の材料から選定されるとともに、第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された放射線硬化プロセスによって決まる。
【0048】
[0047]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）において、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、当該非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／停止する硬化バインダ材料を含む第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物中にそれぞれ分散している。硬化バインダ材料は、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる様々な波長範囲の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。このように、バインダ材料は、少なくともその硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも称する）において、２００ｎｍ～２５００ｎｍすなわち通常「光学スペクトル」と称し、バインダ材料に含まれる硬化又は固体状態の粒子及びそれぞれの配向に応じた反射性がバインダ材料を通じて認識され得るように、電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ部分を含む波長範囲内に含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。硬化バインダ材料は、好ましくは２００ｎｍ～８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍに含まれる様々な波長範囲の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。本明細書において、用語「透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）」は、該当する（１つ又は複数の）波長において、ＯＥＬ（ｘ２０）（血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まないが、ＯＥＬのその他任意選択的な成分があれば、それらをすべて含む）に存在する硬化バインダ材料の２０μｍの層に対する電磁放射線の透過率が少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、さらにより好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これは、例えばＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）等の確立した試験方法に従って硬化バインダ材料（非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まず）の試験片の透過率を測定することによって決定可能である。ＯＥＬ（ｘ２０）が秘密のセキュリティフィーチャとして機能する場合、選択した非可視波長を含む各照明条件下においてＯＥＬ（ｘ２０）が生成する（完全な）光学効果を検出するには通常、技術的な手段が必要となる。当該検出では、可視領域外（例えば、近ＵＶ領域）において入射放射線の波長が選択される必要がある。この場合、ＯＥＬ（ｘ２０）は、入射放射線に含まれる可視スペクトルの外側の選択波長に応答して発光する発光性顔料粒子を含むのが好ましい。電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ部分は、７００～２５００ｎｍ、４００～７００ｎｍ、及び２００～４００ｎｍの波長範囲にそれぞれ略対応する。
【0049】
[0048]上述の通り、本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、当該放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された硬化プロセスによって決まる。第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物の硬化には、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を備えた物品の通常使用時に起こり得る（例えば、最大８０℃の）単純な温度上昇では不可逆の化学反応を伴うのが好ましい。用語「硬化（ｃｕｒｉｎｇ）」又は「硬化性（ｃｕｒａｂｌｅ）」は、塗布した放射線硬化性コーティング組成物中の少なくとも１つの成分が化学反応、架橋、又は重合によって開始物質よりも大きな分子量を有するポリマー材料に変化するプロセスを表す。放射線硬化では、硬化放射線への曝露により放射線硬化性コーティング組成物の粘度が瞬時に高くなり、顔料粒子の任意のさらなる移動が抑えられ、結果的に磁気配向ステップ後の任意の情報喪失が抑えられるため都合が良い。硬化ステップ（ステップｃ））は、好ましくはＵＶ可視光放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化、より好ましくはＵＶ可視光放射線硬化によって実行される。
【0050】
[0049]したがって、本発明に適した第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物としては、ＵＶ・可視光放射線（以下、ＵＶ・可視放射線硬化性と称する）又は電子ビーム放射線（以下、ＥＢと称する）によって硬化可能な放射線硬化性組成物が挙げられる。放射線硬化性組成物は、当技術分野において既知であり、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９６年に４巻を発行したＣ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ等の標準的な教科書に見られる。本発明の特に好適な一実施形態によれば、本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物である。
【0051】
[0050]第１及び第２のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物から成る群から選択される１つ又は複数の化合物を独立して含むのが好ましい。本明細書に記載の第１及び第２のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、独立したハイブリッド系であってもよく、１つ若しくは複数のカチオン硬化性化合物並びに１つ若しくは複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含む。カチオン硬化性化合物は、酸等のカチオン種を遊離させて硬化を開始することにより、モノマー及び／又はオリゴマーの反応及び／又は架橋によって放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を通常含むカチオン機構によって硬化する。ラジカル硬化性化合物は、１つ又は複数の光開始剤の放射によってラジカルを生成することにより重合を開始して放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる活性化を通常含む遊離ラジカル機構によって硬化する。本明細書に記載の第１及び第２のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダの作成に用いられるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用可能である。遊離ラジカル光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタル、α－アミノケトン、α－ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド、及びホスフィンオキシド誘導体のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、有機ヨードニウム塩（例えば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（例えば、トリアリールオキソニウム塩）、及びスルホニウム塩（例えば、トリアリールスルホニウム塩）等のオニウム塩のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。有用な光開始剤の他の例は、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙにより編集され、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９８年に発行したＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」第３巻の「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」第２版等の標準的な教科書に見られる。また、効率的な硬化を実現するため、１つ又は複数の光開始剤と併せて増感剤を含むのが好都合と考えられる。好適な光増感剤の代表例としては、イソプロピル－チオキサントン（ＩＴＸ）、１－クロロ－２－プロポキシ－チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４－ジエチル－チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくはおよそ０．１重量％～およそ２０重量％、より好ましくはおよそ１重量％～およそ１５重量％の総量で存在し、重量百分率は、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。
【0052】
[0051]本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくはタガント並びに／又は磁性材料（本明細書に記載の血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光材料、導電材料、及び赤外線吸収材料から成る群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに独立して含んでいてもよい。本明細書において、用語「機械可読材料（ｍａｃｈｉｎｅ ｒｅａｄａｂｌｅ ｍａｔｅｒｉａｌ）」は、肉眼では確認できない少なくとも１つの特別な特性を示し、ある層に含めることによって、特定の認証用機器の使用により当該層又は当該層を含む物品を認証する方法を提供可能な材料を表す。
【0053】
[0052]本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機色素から成る群から選択される１つ若しくは複数の着色成分並びに／又は１つ若しくは複数の添加剤をさらに独立して含んでいてもよい。後者としては、粘度（例えば、溶媒、増粘剤、及び界面活性剤）、稠度（例えば、硬化防止剤、充填剤、及び可塑剤）、起泡性（例えば、消泡剤）、潤滑性（ワックス、オイル）、ＵＶ安定性（光安定剤）、密着性、帯電防止特性、保存性（重合防止剤）等の放射線硬化性コーティング組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータの調整に用いられる化合物及び材料が挙げられるが、これらに限定されない。本明細書に記載の添加剤は、当該添加剤の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲であるいわゆるナノ材料等、当技術分野において既知の量及び形態で放射線硬化性コーティング組成物中に存在していてもよい。
【0054】
[0053]本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物の（１つ又は複数の）バインダ、（１つ又は複数の）光開始剤、（１つ又は複数の）マーカ物質、（１つ又は複数の）タガント、（１つ又は複数の）機械可読材料、（１つ又は複数の）着色成分、及び（１つ又は複数の）添加剤は、独立して同じであってもよいし、独立して異なっていてもよい。
【0055】
[0054]本明細書に記載の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を独立して含む。非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量だけ存在する。この重量百分率は、バインダ材料、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子、及び第１の放射線硬化性コーティング組成物のその他任意選択的な成分をそれぞれ含む第１の放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量だけ存在する。この重量百分率は、バインダ材料、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子、及び第２の放射線硬化性コーティング組成物のその他任意選択的な成分をそれぞれ含む第２の放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。
【0056】
[0055]本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を異なる量だけ含み、第１の放射線硬化性コーティング組成物においては、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量で存在し、第２の放射線硬化性コーティング組成物においては、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量で存在する。本発明の別の実施形態によれば、本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、当該第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物において、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を略同じ量だけ含み、好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量だけ含む。
【0057】
[0056]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、形状が非球状であることから、固化バインダ材料の少なくとも一部が透明である入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有するように規定されている。本明細書において、用語「非等方的な反射性（ｎｏｎ－ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）」は、第１の角度からの入射放射線が粒子により特定の（観察）方向（第２の角度）に反射される割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化に応じて観察方向への反射の大きさが異なり得ることを示す。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子の配向の変化によって当該粒子による反射が特定の方向に変化するように、好ましくはおよそ２００～およそ２５００ｎｍ、より好ましくはおよそ４００～およそ７００ｎｍの波長範囲の一部又は全部における入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有する。当業者には既知の通り、本明細書に記載の磁性又は磁化可能顔料粒子は、すべての視角について同じ色を示す従来の顔料粒子と異なり、上述の通り非等方的な反射性を示す。
【0058】
[0057]非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、扁長若しくは扁平な楕円体状、血小板状、若しくは針状の粒子、又はこれらの２つ以上の混合物であるのが好ましく、血小板状の粒子であるのがより好ましい。
【0059】
[0058]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ），及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性（ｍａｇｎｅｔｉｃ）」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、赤鉄鉱（Ｆｅ２Ｏ３）、磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）、二酸化クロム（ＣｒＯ２）、磁性フェライト（ＭＦｅ２Ｏ４）、磁性スピネル（ＭＲ２Ｏ４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ１２Ｏ１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ３）、磁性ガーネット（Ｍ３Ｒ２（ＡＯ４）３）等の鉄酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、Ｍは２価、Ｒは３価、Ａは４価の金属を表す。
【0060】
[0059]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ），又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数で構成された磁気層Ｍを含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。上記血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の別の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の別の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で独立して構成された層Ａ、金属及び金属合金、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成された層Ｂ、或いは上述のような１つ又は複数の層Ａ並びに上述のような１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上述の多層構造である血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の一般的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、層Ａ、磁気層Ｍ、及び層Ｂは、上述の層から選定される。
【0061】
[0060]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状光学可変磁性若しくは磁化可能顔料粒子並びに／又は光学可変特性を持たない非球状磁性若しくは磁化可能顔料粒子で構成されていてもよい。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によってもたらされる公然のセキュリティは、本明細書に記載の非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性コーティング組成物、コーティング、又は層を有する物品又はセキュリティ文書を人間の感覚のみで容易に検出、認識、及び／又はその考え得る偽造品から識別可能であるが、これに加えて、血小板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性をＯＥＬ認識用の機械可読ツールとして使用するようにしてもよい。したがって、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性を解析する認証プロセスにおいては、秘密又は準秘密のセキュリティフィーチャとして、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性を同時に使用するようにしてもよい。ＯＥＬ（ｘ２０）を生成する放射線硬化性コーティング組成物に非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を使用すると、前記ＯＥＬのセキュリティ文書用途におけるセキュリティフィーチャとしての意義が高くなる。このような材料（すなわち、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子）は、セキュリティ文書印刷業のためのものであって、一般には市販されていないためである。
【0062】
[0061]さらに、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、その磁性により機械可読であるため、これらの顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、例えば特定の磁気検出器により検出されるようになっていてもよい。したがって、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、セキュリティ文書の秘密又は準秘密のセキュリティ要素（認証ツール）として使用可能である。
【0063】
[0062]上述の通り、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、少なくとも一部が非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。これらは、非球状磁性薄膜干渉顔料粒子、非球状磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球状干渉被覆顔料粒子、及びこれらの２つ以上の混合物から成る群から選択可能であるのがより好ましい。
【0064】
[0063]磁性薄膜干渉顔料粒子については、当業者に既知であって、例えば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０ Ａ２号、欧州特許第０ ６８６ ６７５ Ｂ１号、国際公開第２００３／０００８０１ Ａ２号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号、及びこれらの引用文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子を含んでいるのが好ましい。
【0065】
[0064]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成り、反射体及び／又は吸収体が磁性層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体が、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
【0066】
[0065]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
【0067】
[0066]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
【0068】
[0067]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択され、さらにより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なおより好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成されているのが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ３ＡｌＦ６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物から成る群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なおより好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）で独立して構成されている。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、金属硫化物、金属炭化物、及び金属合金から成る群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、及び金属合金から成る群から選択され、さらにより好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成されている。磁気層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合は、磁性薄膜干渉顔料粒子がＣｒ／ＭｇＦ２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ２／Ｃｒ多層構造から成る７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を有するのが特に好ましく、Ｍは、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
【0069】
[0068]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられ、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、およそ４０重量％～およそ９０重量％の鉄、およそ１０重量％～およそ５０重量％のクロム、及びおよそ０重量％～およそ３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む１つ又は複数の磁気層を備える。人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子の一般的な例は、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号に見られるため、そのすべての内容を本明細書に援用する。
【0070】
[0069]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は通常、ウェブ上への異なる所要層の従来堆積技術によって製造される。例えば物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、又は電解析出によって所望数の層を堆積させた後は、好適な溶媒中での剥離層の溶解又はウェブからの材料の剥離によって層スタックをウェブから除去する。そして、このように得られた材料を粉砕することにより血小板状の顔料粒子が得られるが、これは、研削、ミル加工（例えば、ジェットミル加工プロセス等）、又は任意の好適な方法でさらに処理して所要サイズの顔料粒子を得る必要がある。得られる製品は、縁部が破砕され、形状が不規則で、アスペクト比が異なる平らな血小板状顔料粒子から成る。好適な血小板状磁性薄膜干渉顔料粒子の作成に関するさらなる情報については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号及び欧州特許出願公開第１ ６６６ ５４６ Ａ１号に見られるが、これらを本明細書に援用する。
【0071】
[0070]光学可変特性を示す好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。このような顔料粒子については、例えば国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号は、高い輝度及び変色特性のほか、磁化可能性等の特定の特性を有する単層及び当該単層から得られた顔料粒子を開示している。この開示の単層及び当該単層の粉砕により得られた顔料粒子は、３次元架橋したコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列がＡ１／Ｂ／Ａ２のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ１及びＡ２は、同じであってもよいし異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含む。Ｂは、層Ａ１及びＡ２から送られた光の全部又は一部を吸収するとともに磁気特性を付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列がＡ／Ｂであり、任意選択でＣを含む血小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。
【0072】
[0071]１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料としては、１つ又は複数の層で被覆されたコアから成る群から選択される基板から成る構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、上記コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも一方は、磁気特性を有する。例えば、好適な干渉被覆顔料は、上記のような磁性材料で構成されたコアであって、１つ又は複数の金属酸化物で構成された１つ又は複数の層で被覆された、コアを含むか、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物で構成されたコアから成る構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の別の層が存在していてもよい。
【0073】
[0072]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性コーティング組成物に生じ得る任意の劣化に対する保護及び／又は放射線硬化性コーティング組成物への組み込みの容易化のために表面処理されていてもよく、通常は、腐食防止材料及び／又は湿潤剤が用いられるようになっていてもよい。
【0074】
[0073]本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、例えば光学可変特性を含むサイズ及び／又は色特性に関して、本明細書に記載の異なる非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本発明の別の実施形態によれば、本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、例えば光学可変特性を含むサイズ及び／又は色特性に関して、本明細書に記載の同じ非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。本発明の一実施形態によれば、本明細書に記載の第１の放射線硬化性コーティング組成物及び第２の放射線硬化性コーティング組成物は、同じである。
【0075】
[0074]一実施形態によれば、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が血小板状顔料粒子であることを前提として、本明細書に記載の光学効果層を生成するためのプロセスは、磁界発生装置の動的な磁界に対して本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物を曝露することにより、血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させる１つ又は２つのステップをさらに含んでいてもよい。一実施形態によれば、このプロセスは、磁界発生装置の動的な磁界に対して第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露することにより、血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるステップであって、ステップａ）の後且つステップｂ）の前に実行される、前記ステップ及び／又は磁界発生装置の動的な磁界に対して第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露することにより、血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるステップであって、ステップｄ）の後且つステップｅ）の前に実行される、前記ステップをさらに含む。
【0076】
[0075]第２の磁界発生装置に対してコーティング組成物をさらに曝露するステップの前に、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対してコーティング組成物を曝露することにより、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるこのようなステップを含むプロセスは、国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号に開示されている。本明細書に記載の第１の磁界発生装置の動的な磁界に対する放射線硬化性コーティング組成物の曝露の後、内部の血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がさらに移動及び回転し得るように放射線硬化性コーティング組成物が依然として湿潤又は柔軟な間に、本明細書に記載の第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の磁界を用いて、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子をさらに再配向させる。
【0077】
[0076]２軸配向を実行することは、２つの主軸が拘束されるように血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させることを意味する。すなわち、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面内に長軸を有し、顔料粒子の面内に直交する短軸を有するものと考えられる。血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の長軸及び短軸はそれぞれ、動的な磁界に従って配向される。実用上は、これにより、空間中で互いに近く隣接する血小板状磁性顔料粒子が本質的に相互平行となる。２軸配向を実行するため、血小板状磁性顔料粒子は、時間に強く依存する外部磁界を受ける必要がある。言い換えれば、２軸配向によって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が（全方向に）隣接する顔料粒子の平面に対して本質的に平行となるように配向するように、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が整列される。一実施形態において、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面の上記長軸及び当該長軸に垂直な短軸はいずれも、（全方向に）隣接する顔料粒子の長軸及び短軸が互いに整列するように、動的な磁界によって配向される。
【0078】
[0077]一実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２つの主軸が基板表面に対して実質的に平行となる磁気配向が得られる。このような整列の場合、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、基板上の放射線硬化性コーティング組成物内で平坦化しており、基板表面と平行なそれぞれのＸ軸及びＹ軸（国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号の図１に示す）の両者で配向している。
【0079】
[0078]別の実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が基板表面と実質的に平行なＸＹ平面内の第１の軸と、基板表面に対して実質的に非ゼロの仰角で上記第１の軸と垂直な第２の軸とを有する磁気配向が得られる。
【0080】
[0079]別の実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子のＸＹ平面が仮想回転楕円体表面に対して平行となる磁気配向が得られる。
【0081】
[0080]血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい磁界発生装置は、欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示されている。欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示の磁界発生装置は、Ｘ軸及びＹ軸という両主軸が基板表面に対して平行になるまで血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を急激に振動させる方向を変化させる動的な磁界を与える。すなわち、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、基板表面に平行なＸ軸及びＹ軸との安定したシート状構成になり、前記２つの次元で平坦化するまで回転する。
【0082】
[0081]血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、直線状の永久磁石ハルバッハ配列すなわち磁化方向が異なる複数の磁石を備えたアセンブリを含む。ハルバッハ永久磁石の詳細な説明は、Ｚ．Ｑ．Ｚｈｕ及びＤ．Ｈｏｗｅ（Ｈａｌｂａｃｈ ｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｍａｇｎｅｔ ｍａｃｈｉｎｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：ａ ｒｅｖｉｅｗ，ＩＥＥ．Ｐｒｏｃ．Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ａｐｐｌ．，２００１，１４８，ｐ．２９９－３０８）によって与えられている。このようなハルバッハ配列により生成される磁界は、一方側に集中し、他方側ではほぼゼロまで弱まる特性を有する。同時係属の欧州特許出願第１４１９５１５９．０号は、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な装置であって、ハルバッハ円筒アセンブリを備えた、装置を開示している。血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、回転磁石であり、それぞれの直径に沿って本質的に磁化されるディスク状の回転磁石又は磁気アセンブリを含む。好適な回転磁石又は磁気アセンブリは、米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１ Ａ１号に記載されており、半径方向に対称的な時間可変磁界を発生させることによって、未固化コーティング組成物の血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向が可能になる。これらの磁石又は磁気アセンブリは、外部のモータに接続されたシャフト（又は、スピンドル）によって駆動される。中国特許第１０２５２９３２６ Ｂ号は、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させるのに適し得る回転磁石を備えた磁界発生装置の例を開示している。好適な一実施形態において、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な磁界発生装置は、非磁性材料、好ましくは非導電性材料で構成されたハウジング中に拘束されたシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリであり、ハウジングに巻回された１つ又は複数の磁石ワイヤコイルによって駆動される。このようにシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリの例は、国際公開第２０１６／０２６８９６ Ａ１号に開示されている。
【0083】
[0082]本明細書に記載の基板（ｘ１０）は、紙又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー等のその他の繊維材料、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの混合物又は組合せから成る群から選択されるのが好ましい。代表的な紙、紙状、又はその他の繊維材料は、アバカ、綿、麻、木材パルプ、及びこれらの混合等、様々な繊維で構成されるが、これらに限定されない。当業者には周知の通り、紙幣には綿及び綿／麻混合が好ましく、紙幣以外のセキュリティ文書には、木材パルプが一般的に用いられている。プラスチック及びポリマーの代表例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン ２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）等のポリエステル、並びにポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等が挙げられる。基板（ｘ１０）としては、例えばＴｙｖｅｋ（登録商標）という商標で販売されているスパンボンドオレフィン繊維も使用可能である。金属化プラスチック又はポリマーの代表例としては、表面に連続的又は不連続的に配設された金属を有する上述のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の代表例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組合せ、又はこれら金属の２つ以上の合金が挙げられるが、これらに限定されない。上述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われるようになっていてもよい。複合材の代表例としては、紙及び上記のような少なくとも１つのプラスチック若しくはポリマー材料の多層構造又は積層並びに上記のような紙状又は繊維材料に組み込まれたプラスチック及び／若しくはポリマー繊維等が挙げられるが、これらに限定されない。当然のことながら、基板（ｘ１０）には、サイジング剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤等、当業者に既知の別の添加剤を含むことも可能である。本明細書に記載の基板（ｘ１０）は、ウェブ（例えば、上述の材料の連続シート）の形態又はシートの形態で提供されるようになっていてもよい。本発明に従って生成されたＯＥＬ（ｘ２０）がセキュリティ文書上にある場合は、当該セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くすることを目的として、上記基板（ｘ１０）は、印刷、被覆、レーザマーキング、又はレーザ穿孔しるし、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組合せを備えていてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くするという同じ目的で、上記基板（ｘ１０）は、１つ又は複数のマーカ物質若しくはタガント並びに／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含んでいてもよい。
【0084】
[0083]また、本明細書には、本明細書に記載のように硬化した第１の放射線硬化性コーティング組成物中で配向した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子及び硬化した第２の放射線硬化性コーティング組成物中で配向した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）を記載している。
【0085】
[0084]第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）それぞれについて、磁界発生装置（ｘ３０）により生成された磁界及び磁界発生装置（ｘ４０）により生成された磁界は、第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の結果としての磁界がそれぞれ、第１／第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）それぞれの磁界中に配設されて光学効果層（ｘ１０）の傾斜によりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体の光学的印象を生成する未硬化の第１及び第２の放射線硬化性コーティング組成物中の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を独立して配向可能となるように相互作用する。
【0086】
[0085]好適な磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が国際公開第２０１７／０６４０５２ Ａ１号、国際公開第２０１７０／８０６９８ Ａ１号、及び国際公開第２０１７／１４８７８９ Ａ１号に開示されており、これらのすべての内容を本明細書に援用する。
【0087】
[0086]図２～図５は、２つの独立した配向ステップ（ステップｂ）及びｅ））での使用に際して、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を生成するのに適した磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）であって、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）及び磁界発生装置（ｘ４０）を備えた、磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の例を示している。
【0088】
[0087]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）を備えた本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）を備える。ループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せの代表例としては、円形のループ状構成に配設された２つの双極子磁石の組合せ、三角形のループ状構成に配設された３つの双極子磁石の組合せ、又は正方形若しくは長方形のループ状構成に配設された４つの双極子磁石の組合せが挙げられるが、これらに限定されない。
【0089】
[0088]いくつかの実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）をさらに備えた本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）を備える。本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）は、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）に備えられたすべての部分すなわちループ状磁界発生装置（ｘ３１）、単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）（存在する場合）、並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）（存在する場合）を一体的に保持する。特に、本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）は、単一のループ状磁界発生装置（ｘ３１）により規定されるとともに離隔したループ内又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石により規定されるとともに離隔したループ内に単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を保持する。ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、支持マトリクス（ｘ３４）内で対称的に配設されていてもよいし、支持マトリクス（ｘ３４）内で非対称的に配設されていてもよい。
【0090】
[0089]本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）（存在する場合）、並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）（存在する場合）を受容する１つ又は複数の窪み又は溝を備える。
【0091】
[0090]本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の支持マトリクス（ｘ３４）は、１つ又は複数の非磁性材料で構成されている。非磁性材料は、例えば産業用プラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。産業用プラスチック及びポリマーとしては、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）とその誘導体であるポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）コポリマー、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。
【0092】
[0091]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）を備える。磁界発生装置（ｘ４０）が２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである場合、当該２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、非磁性材料で構成された１つ又は複数のスペーサ片（ｘ４２）により分離されていてもよいし、非磁性材料で構成された支持マトリクス中に含まれていてもよい。非磁性材料は、支持マトリクス（ｘ３４）に関して与えられた材料から選択されるのが好ましい。
【0093】
[0092]第１の配向ステップ（ステップｂ））及び第２の配向ステップ（ステップｅ））において、磁界発生装置（ｘ３０）の上面又は磁界発生装置（ｘ４０）の上面（すなわち、基板（ｘ１０）表面に最も近い部分）と当該磁界発生装置（ｘ３０）又は当該磁界発生装置（ｘ４０）に面する基板（ｘ１０）の表面との間の距離（ｈ）は独立して、好ましくはおよそ０．１～およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２～およそ５ｍｍである。
【0094】
[0093]第１の配向ステップ（ステップｂ））及び第２の配向ステップ（ステップｅ））において、磁界発生装置（ｘ３０）と磁界発生装置（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は独立して、およそ０～およそ１０ｍｍ、好ましくはおよそ０～およそ３ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
【0095】
磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の第１の実施形態
[0094]第１の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、本明細書に記載のような支持マトリクス（ｘ３４）及び本明細書に記載のような１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）をさらに備え得る、磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、を備える。磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである場合、前記２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、対称構成に配置されていてもよいし、非対称構成に配置されていてもよい。２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、すべてが同じ磁場方向を有するのが好ましい。すなわち、すべてのＮ極が同じ方向を向いているのが好ましい。
[0094]第１の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、本明細書に記載のような支持マトリクス（ｘ３４）及び本明細書に記載のような１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）をさらに備え得る、磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、を備える。磁界発生装置（ｘ４０）が、磁気軸が結果的に基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである場合、前記２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、対称構成に配置されていてもよいし、非対称構成に配置されていてもよい。２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）は、すべてが同じ磁場方向を有するのが好ましい。すなわち、すべてのＮ極が同じ方向を向いているのが好ましい。
【0096】
[0095]磁界発生装置（ｘ３０）が磁界発生装置（ｘ４０）の上に配置されていてもよいし、或いは、磁界発生装置（ｘ４０）が磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されていてもよい。磁界発生装置（ｘ３０）と磁界発生装置（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、およそ０～およそ１０ｍｍ、好ましくはおよそ０～およそ３ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
【0097】
[0096]図２Ａ、図２Ｂ、図５Ａ、及び図５Ｂに示す一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な本明細書に記載の単一のループ状、特にリング状双極子磁石であるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）、特に１つ又は複数のループ状磁極片を備えた本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）であり、前記１つ又は複数のループ状、特にリング状磁極片がループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設された、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する本明細書に記載の２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）であり、２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）が本明細書に記載の１つ又は複数のスペーサ片（ｘ４２）により分離されていてもよく、磁界発生装置（ｘ３０）が上に配置された、磁界発生装置（ｘ４０）とを備える。
【0098】
[0097]図２Ａ、図２Ｂ、図５Ａ、及び図５Ｂは、本明細書に記載の第１の配向ステップ（ステップｂ））又は第２の配向ステップ（ステップｅ））に適した磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ／５００－ａ、５００－ｂ）であって、磁界発生装置（２３０／５３０）及び磁界発生装置（２４０／５４０）を備えた、磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ／５００－ａ、５００－ｂ）の例を示している。
【0099】
[0098]図２Ａ及び図５Ａの磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ／５００－ａ、５００－ｂ）は、本明細書に記載の２つ以上の棒状双極子磁石（２４１／６４１）の組合せである磁界発生装置（２４０／５４０）であって、磁界発生装置（２３０／６３０）の下方に配設された、磁界発生装置（２４０／５４０）を備えており、２つ以上の棒状双極子磁石（２４１／５４１）はそれぞれ、基板（２１０／５１０）表面に対して実質的に平行な磁気軸を有し、Ｎ極が同じ方向を向いている。
【0100】
[0099]磁界発生装置（２４０／５４０）は、２つ以上の棒状双極子磁石（２４１／５４１）（図２Ａ及び図５Ａでは７つの棒状双極子磁石）並びに１つ若しくは複数のスペーサ片（２４２／５４２）（図２Ａ及び図５Ａでは６つのスペーサ片）の組合せであり、支持マトリクス（ｘ３４）に関して本明細書に記載のような非磁性材料で構成されている。図２Ａ及び図５Ａに示すように、２つ以上の棒状双極子磁石（２４１／５４１）及びスペーサ片（２４２／５４２）の配置は、非対称的であってもよい。
【0101】
[00100]図２Ａに示すように、２つ以上の棒状双極子磁石（２４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。スペーサ片（２４２）はそれぞれ、長さ（Ｂ４）、幅（Ｂ５）、及び厚さ（Ｂ６）を有する直方体であってもよい。図５Ａに示すように、２つ以上の棒状双極子磁石（５４１）はそれぞれ、長さ（Ｌ１）、幅（Ｌ２ａ）、及び厚さ（Ｌ３）を有する直方体であってもよい。スペーサ片（５４２）はそれぞれ、長さ、幅（Ｌ２ｂ）、及び厚さ（Ｌ３）を有する直方体であってもよい。
【0102】
[00101]図２Ａに示すように、磁界発生装置（２３０）は、支持マトリクス（２３４）を備えており、これは、長さ（Ａ６）、幅（Ａ７）、及び厚さ（Ａ８）を有する直方体であってもよい。図５Ａに示すように、磁界発生装置（５３０）は、支持マトリクス（５３４）を備えており、これは、長さ（Ｌ４）、幅（Ｌ５）、及び厚さ（Ｌ６）を有する直方体であってもよい。
【0103】
[00102]図２Ａ及び図５Ａに示すように、図２Ａ及び図５Ａの磁界発生装置（２３０／５３０）は、支持マトリクス（２３４／５３４）、リング状双極子磁石（２３１／５３１）であるループ状磁界発生装置、並びに１つ若しくは複数のループ状磁極片（２３３／５３３）、特に、本明細書に記載のような１つのリング状磁極片を備える。リング状双極子磁石（２３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ａ１）、内径（Ａ２）、及び厚さ（Ａ５）を有する。リング状双極子磁石（５３１）であるループ状磁界発生装置は、外径（Ｌ７）、内径（Ｌ８）、及び厚さ（Ｌ９）を有する。リング状双極子磁石（２３１／５３１）の磁気軸は、磁界発生装置（２４０／５４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基板（２１０／５１０）に面した状態で、基板（２１０／５１０）の表面と実質的に垂直である。
【0104】
[00103]リング状磁極片（２３３）である１つ又は複数、特に１つのループ状磁極片（２３３）は、外径（Ａ３）、内径（Ａ４）、及び厚さ（Ａ５）を有する。リング状磁極片（５３３）である１つ又は複数、特に、１つのループ状磁極片（５３３）は、外径（Ｌ１０）、内径（Ｌ１１）、及び厚さ（Ｌ９）を有する。
【0105】
[00104]磁界発生装置（２３０／５３０）及び磁界発生装置（２４０／５４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、支持マトリクス（２３４／５３４）の底面と棒状双極子磁石（２４０／５４０）の上面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図２Ａ及び図５Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。支持マトリクス（２３４／５３４）の上面と当該支持マトリクス（２３４／５３４）に面する基板（２１０／５１０）の表面との間の距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１～およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２～およそ６ｍｍである。
【0106】
磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の第２の実施形態
[00105]第２の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、ｉ－３）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、並びに／又は本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備える。
[00105]第２の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、ｉ－３）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向を有する２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、並びに／又は本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備える。
【0107】
[00106]本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）は、ループ状磁極片（ｘ３３）であるのが好ましい。１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に配設されているのが好ましい。１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、（図２Ａ及び図６のＦｉｇ．６Ａに示すように）ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設されていてもよいし、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。磁極片は、軟磁性材料で構成された構造を示す。軟磁性材料は、低い保磁力及び高い飽和度を有する。好適な低保磁力・高飽和度材料は、１０００Ａ・ｍ－１未満の保磁力を有することにより、高速磁化及び減磁を可能にするが、その飽和度は、好ましくは少なくとも０．１テスラ、より好ましくは少なくとも１．０テスラ、さらにより好ましくは少なくとも２テスラである。本明細書に記載の低保磁力・高飽和度材料としては、（焼き鈍し鉄及びカルボニル鉄に由来する）軟磁性鉄、ニッケル、コバルト、マンガン亜鉛フェライト又はニッケル亜鉛フェライトのようなソフトフェライト、（パーマロイ型材料のような）ニッケル・鉄合金、コバルト・鉄合金、シリコン鉄、及びＭｅｔｇｌａｓ（登録商標）（鉄・ホウ素合金）のようなアモルファス金属合金、好ましくは純鉄及びシリコン鉄（電気鋼）のほか、コバルト・鉄及びニッケル・鉄合金（パーマロイ型材料）が挙げられるが、これらに限定されない。磁極片は、磁石により生成された磁界を方向付ける働きをする。
【0108】
[00107]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）並びに本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備える。単一の双極子磁石又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に配設されている。単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設されていてもよいし、ループ状双極子磁石（ｘ３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。
【0109】
[00108]別の実施形態によれば、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）並びに本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ若しくは複数のループ状磁極片（ｘ３３）を備える。１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ又は複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に独立して配設されているのが好ましい。
【0110】
[00109]別の実施形態によれば、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）、並びに本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ若しくは複数のループ状磁極片（ｘ３３）を備える。本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ若しくは複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に独立して配設されている。本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）並びに１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ若しくは複数のループ状磁極片（ｘ３３）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的又は非対称的に独立して配設されていてもよい。
【0111】
[00110]磁界発生装置（ｘ３０）が磁界発生装置（ｘ４０）の上に配置されていてもよいし、或いは、磁界発生装置（ｘ４０）がループ状磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されていてもよい。磁界発生装置（ｘ３０）は、磁界発生装置（ｘ４０）の上に配置されているのが好ましい。
【0112】
[00111]磁界発生装置（ｘ３０）と磁界発生装置（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、およそ０～およそ１０ｍｍ、好ましくはおよそ０～およそ３ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
【0113】
磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の第３の実施形態
[00112]第３の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備える。
[00112]第３の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、
ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備える。
【0114】
[00113]一実施形態によれば、磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）、並びに好ましくは１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）に関して本明細書に記載の材料で構成された本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ５０）を備える。１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）は、ループ状磁極片であってもよいし、中実状磁極片（すなわち、中央領域に前記磁極片の材料の欠けがない磁極片）であってもよく、好ましくは中実状磁極片、より好ましくはディスク状磁極片である。
【0115】
[00114]一実施形態によれば、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、基板（ｘ１０）の表面に対して実質的に平行な磁気軸及び半径方向を有する単一のループ状磁石、すなわち、上方（すなわち、基板（ｘ１０）側）から見た場合に磁気軸がループ状磁石のループの中央領域から周辺に向いた単一のループ状磁石、言い換えると、Ｎ極又はＳ極が半径方向に、ループ状双極子磁石のループの中央領域側を向いた単一のループ状磁石である。好適な一実施形態によれば、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）は、本明細書に記載のようなループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せであって、半径方向の磁化を有する。すなわち、各双極子磁石は、上方（すなわち、基板（ｘ１０）側）から見た場合に磁気軸がループ状磁石のループの中央領域から周辺に向く。言い換えると、Ｎ極又はＳ極が半径方向に、ループ状双極子磁石のループの中央領域側を向く。
【0116】
[00115]本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）は、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）であって、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、Ｎ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、Ｓ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、単一の双極子磁石（ｘ３２）、或いは、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）であって、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、当該２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、当該２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えるのが好ましい。
【0117】
[00116]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）並びに本明細書に記載の単一の双極子磁石（ｘ３２）若しくは２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備える。単一の双極子磁石又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状双極子磁石（ｘ３１）内又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に配設されている。単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設されていてもよいし、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で非対称的に配設されていてもよい。
【0118】
[00117]磁界発生装置（ｘ３０）及び磁界発生装置（ｘ４０）は、一方が他方の上に配置されていてもよい。磁界発生装置（ｘ４０）は、磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されているのが好ましい。本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）が磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）に備えられている場合、磁界発生装置（ｘ３０）は、１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置されているのが好ましい（例えば、図４参照）。磁界発生装置（ｘ３０）の底面と１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上面との間の距離（ｅ）は、およそ０～およそ５ｍｍ、好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
【0119】
[00118]支持マトリクス（ｘ３４）は、単一のループ状双極子磁石により規定されるとともに離隔したループ内又はループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ状構成の２つ以上の双極子磁石により規定されるとともに離隔したループ内に単一の双極子磁石（ｘ３２）又は２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を保持するようにしてもよい。
【0120】
[00119]磁界発生装置（ｘ３０）と磁界発生装置（ｘ４０）との間の距離（ｄ）は、およそ０～およそ１０ｍｍ、好ましくはおよそ０～およそ３ｍｍの範囲に含まれていてもよい。
【0121】
[00120]図３Ａ及び図３Ｂに示す一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のように、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、本明細書に記載の通り、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（ｘ４０）とを備え、磁界発生装置（ｘ４０）は、磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましい。
【0122】
[00121]図３Ａ及び図３Ｂは、磁界発生装置（３３０）及び磁界発生装置（３４０）を備え、本明細書に記載の第１の配向ステップ（ステップｂ））又は第２の配向ステップ（ステップｅ））に適した磁気アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）の一例を示している。
【0123】
[00122]図３Ａの磁気アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）は、磁界発生装置（３３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（３４０）を備える。図３Ａに示すように、磁界発生装置（３４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（３４０）の磁気軸は、基板（３１０）表面と実質的に平行である。
【0124】
【0125】
[00124]図３Ａの磁界発生装置（３３０）は、正方形状構成に配設された４つの双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（３３１）及び２つ以上、特に８つの双極子磁石（３３２）の組合せを備える。
【0126】
[00125]図３Ａに示すように、正方形状磁気装置であるループ状磁界発生装置（３３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基板（３１０）表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形状構成（３３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（３３４）の外部側を向いている。
【0127】
[00126]組合せの２つ以上、特に８つの双極子磁石（３３２）はそれぞれ、直径（Ａ７）及び厚さ（Ａ８）を有し、磁気軸が磁界発生装置（３４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基板（３１０）に面した状態で、基板（３１０）表面と実質的に垂直である。
【0128】
[00127]磁界発生装置（３３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（３４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁界発生装置（３３０）の上面と磁界発生装置（３４０）の底面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（３４０）の上面と当該磁界発生装置（３４０）に面する基板（３１０）の表面との間の距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１～およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２～およそ５ｍｍである。
【0129】
[00128]図４Ａ及び図４Ｂに示す別の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、ｉ）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、本明細書に記載の通り、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及び磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、本明細書に記載の通り、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）と、ｉｉｉ）本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）とを備え、磁界発生装置（ｘ４０）は、磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましく、磁界発生装置（ｘ３０）は、１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置される。
【0130】
[00129]図４Ａ及び図４Ｂは、磁界発生装置（４３０）、磁界発生装置（４４０）、並びに１つ若しくは複数の磁極片（４５０）を備え、本明細書に記載の第１の配向ステップ（ステップｂ））又は第２の配向ステップ（ステップｅ））に適した磁気アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）の一例を示している。
【0131】
[00130]図４Ａの磁気アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）は、磁界発生装置（４３０）の上に配設された単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（４４０）を備える。図４Ａに示すように、磁界発生装置（４４０）は、長さ（Ｂ１）、幅（Ｂ２）、及び厚さ（Ｂ３）を有する直方体であってもよい。磁界発生装置（４４０）の磁気軸は、基板（４１０）表面と実質的に平行である。
【0132】
【0133】
[00132]図４Ａの磁界発生装置（４３０）は、正方形状構成に配設された４つの双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（４３１）及び２つ以上、特に１９個の双極子磁石（４３２）の組合せを備える。
【0134】
[00133]図４Ａに示すように、正方形状磁気装置であるループ状磁界発生装置（４３１）を構成する４つの双極子磁石はそれぞれ、長さ（Ａ１）、幅（Ａ２）、及び厚さ（Ａ３）を有する直方体であってもよい。これら４つの双極子磁石はそれぞれ、基板（４１０）表面と実質的に平行な磁気軸を有するとともに、Ｎ極が半径方向に、正方形状構成（４３１）のループの中央領域側を向いており、Ｓ極が、支持マトリクス（４３４）の外部側を向いている。
【0135】
[00134]組合せの２つ以上、特に１９個の双極子磁石（４３２）はそれぞれ、長さ（Ａ８）及び直径（Ａ７）を有し、磁気軸が磁界発生装置（４４０）の磁気軸と実質的に垂直である。すなわち、Ｓ極が基板（４１０）に面した状態で、基板（４１０）表面と実質的に垂直である。
【0136】
[00135]図４Ａの磁気アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）は、１つ又は複数の磁極片（４５０）、特に直径（Ｃ１）及び厚さ（Ｃ２）を有する１つのディスク状磁極片（４５０）を備えており、磁界発生装置（４３０）が１つ又は複数の磁極片（４５０）の上に配置されている。
【0137】
[00136]磁界発生装置（４３０）及び単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（４４０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁界発生装置（４３０）の上面と磁界発生装置（４４０）の底面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍである（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（４４０）の上面と当該磁界発生装置（４４０）に面する基板（４１０）の表面との間の距離は、距離（ｈ）で示している。距離（ｈ）は、好ましくはおよそ０．１～およそ１０ｍｍ、より好ましくはおよそ０．２～およそ５ｍｍである。
【0138】
[00137]磁界発生装置（４３０）並びに１つ若しくは複数の磁極片（４５０）、特に１つのディスク状磁極片（４５０）は、直接接触しているのが好ましい。すなわち、磁界発生装置（４３０）の支持マトリクス（４３４）の底面とディスク状磁極片（４５０）の上面との間の距離（ｅ）は、およそ０ｍｍである（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。
【0139】
[00138]ループ状磁界発生装置（ｘ３１）及びループ状構成に配設されるとともに磁界発生装置（ｘ３０）に備えられた２つ以上の双極子磁石（ｘ３１）は、高保磁力材料（強磁性材料とも称する）で独立して構成されているのが好ましい。好適な高保磁力材料は、エネルギー積の最大値（ＢＨ）ｍａｘが少なくとも２０ｋＪ／ｍ３、好ましくは少なくとも５０ ｋＪ／ｍ３、より好ましくは少なくとも１００ ｋＪ／ｍ３、さらにより好ましくは少なくとも２００ ｋＪ／ｍ３の材料である。これらは、例えばアルニコ５（Ｒ１－１－１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１－１－２）、アルニコ５－７（Ｒ１－１－３）、アルニコ６（Ｒ１－１－４）、アルニコ８（Ｒ１－１－５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１－１－７）、及びアルニコ９（Ｒ１－１－６）等のアルニコ、式ＭＦｅ１２Ｏ１９のヘキサフェライト（例えば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３））、式ＭＦｅ２Ｏ４のハードフェライト（例えば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ２Ｏ４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４））（ただし、Ｍは二価金属イオン）、セラミック８（ＳＩ－１－５）から成る群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー接合磁性材料、ＲＥＣｏ５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ２ＴＭ１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ２ＴＭ１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）から成る群から選択される希土類磁性材料、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４から成る群から選択される材料で構成されているのが好ましい。磁気棒の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料から成る群、より好ましくはＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ及びＳｍＣｏ５から成る群から選択されるのが好ましい。特に好ましいのは、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＦｅ１２Ｏ１９）又はネオジム／鉄／ホウ素（Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ）粉末等の永久磁石充填剤をプラスチック系又はゴム系マトリクスに含む加工が容易な永久磁石複合材である。
【0140】
[00139]本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ３０）の単一の双極子磁石（ｘ３２）及び２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ状磁石及び２つ以上の双極子磁石に関して本明細書中に上述したような強磁性材料で独立して構成されているのが好ましい。
【0141】
[00140]磁界発生装置（ｘ４０）の棒状双極子磁石は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ状磁石及び２つ以上の双極子磁石の材料に関して本明細書中に上述したような強磁性材料で構成されているのが好ましい。
【0142】
[00141]ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の材料、双極子磁石（ｘ３２）の材料、１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）の材料（存在する場合）、磁界発生装置（ｘ４０）の材料、２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の材料、１つ若しくは複数の磁極片（ｘ５０）の材料（存在する場合）、並びに距離（ｄ）、（ｈ）、及び（ｅ）は、光学効果層（ｘ１０）の傾斜によりサイズが変化する１つ又は複数のループ状体の光学的印象を生成するため、磁界発生装置（ｘ３０）により生成された磁界及び磁界発生装置（ｘ４０）により生成された磁界の相互作用の結果としての磁界すなわち本明細書に記載の装置の結果としての磁界が必要な磁気的配向の生成、すなわち、第１の放射線硬化性コーティング組成物中の粒子の磁気配向パターン及び第２の放射線硬化性コーティング組成物中の粒子の磁気配向パターンの両者に適するように選択されている。
【0143】
[00142]本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を生成するための第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）及び／又は第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）は、例えば国際公開第２００５／００２８６６ Ａ１号及び国際公開第２００８／０４６７０２ Ａ１号に開示されているような彫刻磁性板をさらに備えていてもよい。彫刻磁性板は、磁界発生装置（ｘ３０）又は磁界発生装置（ｘ４０）と基板（ｘ１０）表面との間に位置付けられているため、磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）の磁界を局所的に修正する。このような彫刻板は、鉄（鉄ヨーク）で構成されていてもよい。或いは、このような彫刻板は、磁性粒子が分散した本明細書に記載のようなプラスチック材料（例えば、プラストフェライト等）で構成されていてもよい。
【0144】
[00143]本明細書に記載の通り、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を生成するとともに、光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与えるためのプロセスは、２つの独立した磁気配向ステップ（ステップｂ）及びステップｅ））を含むことにより、本明細書に記載の第１のコーティング層（ｘ２１）で構成された１つ若しくは複数の第１のパターン並びに本明細書に記載の第２のコーティング層（ｘ２２）で構成された１つ若しくは複数の第２のパターンを本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成し、第２のコーティング層（ｘ２２）の少なくとも一部が第１のコーティング層（ｘ２１）の上に配置される。本明細書に記載の通り、２つの磁気配向ステップ（ステップｂ）及びステップｅ））はそれぞれ、２つの異なる磁気アセンブリ（ｘ００－ａ及びｘ００－ｂ）を使用し、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ａ及びｘ００－ｂ）それぞれによって、前記光学効果層の傾斜によりサイズが変化するループ状体を示す光学効果層の生成が可能になるとともに、このように得られた前記ループ状体の形状が異なるため、都合が良い。前記光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化する１つ又は複数のループ状体の光学的印象は、ステップｂ）及びｅ）において取得され、ステップｃ）及びｆ）において固定／停止された特定の組合せ磁気配向パターンを使用することにより得られる。
【0145】
[00144]一方が第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）において第１の磁気配向ステップ（ｂ））中に使用され、他方が第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）において第２の磁気配向ステップ（ｅ））中に使用される磁界発生装置（ｘ４０）の２つの磁石は、磁場方向が反対である必要がある。すなわち、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向は、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対である。
【0146】
[00145]本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、第１の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に曝露するステップｂ）と、第２の放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップｅ）とを含み、前記第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は異なり、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向は、基板（ｘ１０）の基準フレーム内において、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界発生装置（ｘ４０）の磁場方向と反対であり、ステップｃ）（第１の放射線硬化性コーティング組成物の少なくとも一部の硬化）及びステップｄ）（第２の放射線硬化性コーティング組成物の塗布）は、前記ステップｂ）及びｅ）間に実行される。一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、ｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含み、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が異なる。或いは、ｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。或いは、ｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。
【0147】
[00146]別の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、ｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。或いは、ｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含み、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が異なる。或いは、ｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。
【0148】
[00147]別の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。或いは、ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉ）本明細書に記載の第２の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。或いは、ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含み、前記磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が異なる。
【0149】
[00148]好適な一実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、
ｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）、すなわち、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びに任意選択でｉ－３）本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、
ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）、すなわち、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びにｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであり、前記磁界発生装置（ｘ４０）が、本明細書に記載のような１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備えていてもよい、ステップと、
を含む。
ｉ）本明細書に記載の第１の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）、すなわち、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石又はループ状構成に配設され、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の双極子磁石の組合せであるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びに任意選択でｉ－３）本明細書に記載の１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、
ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）、すなわち、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びにｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであり、前記磁界発生装置（ｘ４０）が、本明細書に記載のような１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）をさらに備えていてもよい、ステップと、
を含む。
【0150】
[00149]第１の放射線硬化性コーティング組成物を第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に曝露するステップは、ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、好ましくは磁気軸が本明細書に記載の基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一のループ状双極子磁石、並びにｉ－３）単一のループ状双極子磁石（ｘ３１）又はループ状構成に配設された双極子磁石の組合せ内に独立して配設された１つ若しくは複数の磁極片（ｘ３３）、好ましくは１つ若しくは複数のループ状磁極片を備えた磁界発生装置（ｘ３０）を備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）によって実行されるのが好ましい。例えば図２Ａ、図２Ｂ、図５Ａ、及び図５Ｂに示すように、第１の放射線硬化性コーティング組成物を第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に曝露するステップは、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な本明細書に記載の単一のループ状、特にリング状双極子磁石であるループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ３３）、特に１つ又は複数のループ状磁極片を備えた本明細書に記載のような磁界発生装置（ｘ３０）であり、前記１つ又は複数のループ状、特にリング状磁極片（ｘ３３）がループ状磁界発生装置（ｘ３１）のループ内で対称的に配設された、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する本明細書に記載の２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）であり、２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）が本明細書に記載の１つ又は複数のスペーサ片（ｘ４２）により分離されていてもよく、磁界発生装置（ｘ３０）が上に配置された、磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）によって実行されるのがより好ましい。
【0151】
[00150]第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップは、ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びに本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載の通り、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである磁界発生装置（ｘ４０）と、任意選択でｉｉｉ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、好ましくは１つ又は複数のディスク状磁極片（ｘ５０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）によって実行されるのが好ましい。例えば図３Ａ、図３Ｂ、図４Ａ、又は図４Ｂに示すように、第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップは、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載の通り、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びにｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）であり、磁界発生装置（ｘ４０）が磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましい、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）、或いは、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、本明細書に記載の通り、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びにｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（ｘ４０）と、ｉｉｉ）本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、好ましくは本明細書に記載の１つ又は複数のディスク状磁極片（ｘ５０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）であり、磁界発生装置（ｘ４０）が磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましく、磁界発生装置（ｘ３０）が１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）の上に配置された、第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）によって実行されるのがより好ましい。
【0152】
[00151]別の実施形態によれば、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を本明細書に記載の基板（ｘ１０）上に生成するためのプロセスは、
ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。すなわち、第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のように、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有する本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）とを独立して備え、第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が異なる。
ｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）の磁界に第１の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、ｉｉ）本明細書に記載の第３の実施形態において説明するアセンブリから選択される第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に第２の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップとを含む。すなわち、第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）は、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のように、単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有する本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）とを独立して備え、第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ００－ｂ）が異なる。
【0153】
[00152]例えば図３Ａ及び図３Ｂに示すように、第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップは、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のように、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である磁界発生装置（ｘ４０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）によって実行されるのが好ましく、磁界発生装置（ｘ４０）は、磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましい。
【0154】
[00153]第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップは、ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）単一のループ状磁石又はループ状構成に配設された２つ以上の双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有する本明細書に記載のループ状磁界発生装置（ｘ３１）、並びにｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な単一の双極子磁石（ｘ３２）、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の双極子磁石（ｘ３２）、又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する単一のループ状磁石若しくは２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石又は磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行で、同じ磁界方向をそれぞれ有する２つ以上の棒状双極子磁石（ｘ４１）の組合せである本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）と、ｉｉｉ）本明細書に記載の１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、好ましくは本明細書に記載の１つ又は複数のディスク状磁極片（ｘ５０）とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）によって実行されるのが好ましい。例えば図４Ａ及び図４Ｂに示すように、第２の放射線硬化性コーティング組成物を第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）の磁界に曝露するステップは、ｉ）ｉ－１）本明細書に記載の支持マトリクス（ｘ３４）、ｉ－２）本明細書に記載のように、ループ状、特に正方形状構成に配設された２つ以上、特に４つの双極子磁石の組合せである半径方向の磁化を有するループ状磁界発生装置（ｘ３１）、及びｉ－３）磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に垂直な２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）を備えた磁界発生装置（ｘ３０）であり、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＮ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＮ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＮ極が基板（ｘ１０）表面側を向くか、又は、ループ状磁界発生装置（ｘ３１）を構成する２つ以上の双極子磁石のＳ極が前記ループ状磁界発生装置（ｘ３１）の周辺側を向く場合に、前記単一の双極子磁石（ｘ３２）のＳ極又は前記２つ以上の双極子磁石（ｘ３２）のうちの少なくとも１つのＳ極が基板（ｘ１０）表面側を向く、磁界発生装置（ｘ３０）と、ｉｉ）本明細書に記載のように、磁気軸が基板（ｘ１０）表面と実質的に平行な単一の棒状双極子磁石である本明細書に記載の磁界発生装置（ｘ４０）と、ｉｉｉ）１つ又は複数の磁極片（ｘ５０）、好ましくは１つ又は複数のディスク状磁極片とを備えた第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）によって実行されるのがより好ましく、磁界発生装置（ｘ４０）は、磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されるのが好ましい。
【0155】
[00154]本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）は、基板（ｘ１０）上に直接設けて、永久に残るようにしてもよい（例えば、紙幣用途の場合）。或いは、製造のための暫定的な基板（ｘ１０）上にＯＥＬ（ｘ２０）を設け、後でＯＥＬ（ｘ２０）を取り外すようにしてもよい。これにより、特にバインダ材料が流体状態のままである場合に、例えばＯＥＬ（ｘ２０）の製造が容易化される可能性がある。その後、コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させてＯＥＬ（ｘ２０）を製造したら、暫定基板（ｘ１０）をＯＥＬから取り外してもよい。
【0156】
[00155]或いは、ＯＥＬ（ｘ２０）又はＯＥＬ（ｘ２０）を備えた基板（ｘ１０）上に接着層が存在していてもよく、当該接着層は、ＯＥＬ（ｘ２０）が設けられた面と反対側の基板面に存在していてもよいし、ＯＥＬ（ｘ２０）と同じ面でＯＥＬ（ｘ２０）の上に存在していてもよい。したがって、ＯＥＬ（ｘ２０）又は基板（ｘ１０）に接着層が塗布されていてもよい。このような物品は、機械類や大きな労力を伴う印刷等のプロセスなく、あらゆる種類の文書又は他の物品若しくは品目に取り付けられるようになっていてもよい。或いは、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）を備えた本明細書に記載の基板（ｘ１０）は、独立した転写ステップにおいて文書又は物品に適用可能な転写箔の形態であってもよい。この目的のため、基板には剥離コーティングが設けられ、その上において、本明細書に記載の通り、ＯＥＬ（ｘ２０）が生成される。このように製造されたＯＥＬ（ｘ２０）上には、１つ又は複数の接着層を塗布するようにしてもよい。
【0157】
[00156]また、本明細書には、本明細書に記載のプロセスにより得られた２つ以上すなわち２つ、３つ、４つ等の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を備えた基板（ｘ１０）を記載する。
【0158】
[00157]また、本明細書には、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を備えた物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は装飾物体を記載する。これらの物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は装飾物体は、本発明に従って生成された２つ以上（例えば、２つ、３つ等）のＯＥＬ（ｘ２０）を備えていてもよい。
【0159】
[00158]前述の通り、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）は、装飾目的並びにセキュリティ文書の保護及び認証に用いられるようになっていてもよい。装飾要素又は装飾物体の代表例としては、高級品、化粧品パッケージ、自動車部品、電子／家電製品、家具、及びネイルラッカーが挙げられるが、これらに限定されない。
【0160】
[00159]セキュリティ文書としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。有価文書の代表例としては、紙幣、証書、チケット、小切手、証票、収入印紙及び納税印紙、契約書等、パスポート等の身分証明書類、身分証明書、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通乗車券又は証書等が挙げられ、紙幣、身分証明書類、権利付与書類、運転免許証、及びクレジットカードが好ましいが、これらに限定されない。用語「有価商品（ｖａｌｕｅ ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ ｇｏｏｄ）」は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食料品、電気／電子製品、織物又は宝飾品、すなわち偽造及び／又は違法複製に対する保護により、例えば本物の薬等のパッケージの内容物を保証すべき物品のパッケージ材料を表す。これらパッケージ材料の例としては、認証ブランドラベル、不正防止ラベル等のラベル及びシールが挙げられるが、これらに限定されない。なお、開示の基板、有価文書、及び有価商品は、本発明の範囲を制限することなく、専ら例示目的で示している。
【0161】
[00160]或いは、本明細書に記載のＯＥＬ（ｘ２０）は、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベル等の補助基板（ｘ１０）上に製造し、その結果、独立したステップにおいて、セキュリティ文書に転写されるようにしてもよい。
【実施例】
【0162】
[00161]図６のＦｉｇ．６Ａ～Ｆｉｇ．６Ｃに示す光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ２０）を生成するため、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの印刷層における非球状光学可変磁性顔料粒子の独立した磁気配向ステップにおいて、図２～図４に示す磁気アセンブリを使用するとともに、本発明に従って作成した。図４及び図５に示す磁気アセンブリの使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの印刷層における非球状光学可変磁性顔料粒子を配向させ、図７に示す比較光学効果層（ＯＥＬ）（７２０）を生成した。
【0163】
実施例Ｅ１～Ｅ３及び比較例Ｃ１の準備のための一般的プロセス
[00162]Ｔ９０スクリーンを用いた手動スクリーン印刷によって厚さがおよそ２０μｍの第１のコーティング層（ｘ２１）（１６ｍｍ×１６ｍｍ）の第一の単一パターンを形成することにより、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクを黒色のコマーシャルペーパー基板（ｘ１０）（Ｐａｐｉｅｒｆａｂｒｉｋ Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌによる信用本位ペーパーＢＮＰ（９０ｇ／ｍ２、５０×５０ｍｍ））に独立して塗布した（ステップａ））。第１のコーティング層（ｘ２１）の塗布した単一パターンを有するペーパー基板（ｘ１０）を第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）（図２及び図５）上に独立して配設した（ステップｂ））。このようにして得られた非球状光学可変顔料粒子の磁気配向パターンは、配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化（ステップｃ））によって少なくとも部分的に硬化させた。Ｔ９０シルクスクリーンを用いて、同じＵＶ硬化性スクリーン印刷インク（表１）を第１のコーティング層（ｘ２１）の第１の単一パターンに手動で独立して塗布する（ステップｄ））ことにより、厚さがおよそ２０μｍの第２のコーティング層（ｘ２２）（Ｅ１、Ｅ２（図６のＦｉｇ．６Ａ、Ｆｉｇ．６Ｂ））、及びＣ１（図７）については１６ｍｍ×１６ｍｍ、Ｅ３（図６のＦｉｇ．６Ｃ）については１０ｍｍ×１０ｍｍ）で構成された第２のパターンを形成した。第１の固化コーティング層（ｘ２１）で構成された第１のパターン及びコーティング層（ｘ２２）で構成された未固化の第２のパターンを有するペーパー基板（ｘ１０）は、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）とは異なる第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）（図３及び図４）上に独立して配設した（ステップｅ））。このようにして得られた非球状光学可変顔料粒子の磁気配向パターンは独立して、第２の配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化（ステップｆ））によって少なくとも部分的に硬化させた。
[00162]Ｔ９０スクリーンを用いた手動スクリーン印刷によって厚さがおよそ２０μｍの第１のコーティング層（ｘ２１）（１６ｍｍ×１６ｍｍ）の第一の単一パターンを形成することにより、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクを黒色のコマーシャルペーパー基板（ｘ１０）（Ｐａｐｉｅｒｆａｂｒｉｋ Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌによる信用本位ペーパーＢＮＰ（９０ｇ／ｍ２、５０×５０ｍｍ））に独立して塗布した（ステップａ））。第１のコーティング層（ｘ２１）の塗布した単一パターンを有するペーパー基板（ｘ１０）を第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）（図２及び図５）上に独立して配設した（ステップｂ））。このようにして得られた非球状光学可変顔料粒子の磁気配向パターンは、配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化（ステップｃ））によって少なくとも部分的に硬化させた。Ｔ９０シルクスクリーンを用いて、同じＵＶ硬化性スクリーン印刷インク（表１）を第１のコーティング層（ｘ２１）の第１の単一パターンに手動で独立して塗布する（ステップｄ））ことにより、厚さがおよそ２０μｍの第２のコーティング層（ｘ２２）（Ｅ１、Ｅ２（図６のＦｉｇ．６Ａ、Ｆｉｇ．６Ｂ））、及びＣ１（図７）については１６ｍｍ×１６ｍｍ、Ｅ３（図６のＦｉｇ．６Ｃ）については１０ｍｍ×１０ｍｍ）で構成された第２のパターンを形成した。第１の固化コーティング層（ｘ２１）で構成された第１のパターン及びコーティング層（ｘ２２）で構成された未固化の第２のパターンを有するペーパー基板（ｘ１０）は、第１の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ）とは異なる第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ｂ）（図３及び図４）上に独立して配設した（ステップｅ））。このようにして得られた非球状光学可変顔料粒子の磁気配向パターンは独立して、第２の配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化（ステップｆ））によって少なくとも部分的に硬化させた。
【表1】
【0164】
第１及び第２の磁気アセンブリ（ｘ００－ａ、ｘ１００－ｂ）の説明（図２～図５）
磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ）（図２Ａ及び図２Ｂ）
[00163]図２Ａにおいて模式的に示すように、磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ）（図２Ａ及び図２Ｂ）は、磁界発生装置（２４０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（２２１、２２１＋２２２）を有する基板（２１０）との間に配設された磁界発生装置（２３０）を備えるものとした。
磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ）（図２Ａ及び図２Ｂ）
[00163]図２Ａにおいて模式的に示すように、磁気アセンブリ（２００－ａ、２００－ｂ）（図２Ａ及び図２Ｂ）は、磁界発生装置（２４０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（２２１、２２１＋２２２）を有する基板（２１０）との間に配設された磁界発生装置（２３０）を備えるものとした。
【0165】
[00164]磁界発生装置（２３０）は、リング状双極子磁石（２３１）、リング状磁極片（２３３）、並びにリング状双極子磁石（２３１）及びリング状磁極片（２３３）を適所に維持する正方形状支持マトリクス（２３４）を備えるものとした。
【0166】
[00165]リング状双極子磁石（２３１）は、外径（Ａ１）がおよそ２６．１ｍｍ、内径（Ａ２）がおよそ１８．３ｍｍ、厚さ（Ａ５）がおよそ２ｍｍであるものとした。リング状双極子磁石（２３１）の磁気軸は、磁界発生装置（２４０）の磁気軸と実質的に垂直であり、Ｓ極が基板（２１０）に向いた状態で、基板（２１０）表面と実質的に垂直であるものとした。リング状双極子磁石（２３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０で構成した。
【0167】
[00166]リング状磁極片（２３３）は、外径（Ａ３）がおよそ１４ｍｍ、内径（Ａ４）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ａ５）がおよそ２ｍｍであるものとした。リング状磁極片（２３３）は、リング状磁界発生装置（２３１）と中心を位置合わせした。リング状磁極片（２３３）は、鋼Ｓ２３５で構成した。
【0168】
[00167]支持マトリクス（２３４）は、長さ（Ａ６）及び幅（Ａ７）がおよそ２９．９ｍｍ、厚さ（Ａ８）がおよそ３ｍｍであるものとした。支持マトリクス（２３４）は、ＰＯＭで構成した。図２Ｂ２に示すように、支持マトリクス（２３４）の底面には、リング状双極子磁石（２３１）及びリング状磁極片（２３３）を受容する深さ（Ａ５）がおよそ２ｍｍの２つの円形窪みを含むものとした。
【0169】
[00168]磁界発生装置（２４０）は、７つの棒状双極子磁石（２４１）及び６つのスペーサ片（２４２）を備えるものとした。図２Ａに示すように、７つの棒状双極子磁石（２４１）及び６つのスペーサ片（２４２）は、交互且つ非対称的に配設した。すなわち、２つの棒状双極子磁石（２４１）が１つのスペーサ片（２４２）と直接接触して隣り合い、その他５つの棒状双極子磁石がスペーサ片（２４２）と交互になるようにした。６つのスペーサ片（２４２）は、磁界発生装置（２４０）が磁界発生装置（２３０）の下方に正しく配置されるように使用した。７つの棒状双極子磁石（２４１）はそれぞれ、長さ（Ｂ１）がおよそ２９．９ｍｍ、幅（Ｂ２）がおよそ３ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。６つのスペーサ片（２４２）はそれぞれ、長さ（Ｂ４）がおよそ２０ｍｍ、幅（Ｂ５）がおよそ１．５ｍｍ、厚さ（Ｂ６）がおよそ６ｍｍであるものとした。７つの各棒状双極子磁石（２４１）の磁気軸はそれぞれ、基板（２１０）の表面と実質的に平行で、すべてが同じ方向を向くものとした。７つの棒状双極子磁石（２４１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成した。６つのスペーサ片（２４２）は、ＰＯＭで構成した。
【0170】
[00169]磁界発生装置（２３０）及び磁界発生装置（２４０）は、直接接触させた。すなわち、磁界発生装置（２３０）の底面と磁界発生装置（２４０）の上面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図２Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（２３０）及び磁界発生装置（２４０）は、互いに中心を位置合わせした。すなわち、磁界発生装置（２３０）の長さ（Ａ６）及び幅（Ａ７）の中央部は、磁界発生装置（２４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ７）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（２３０）の上面（すなわち、支持マトリクス（２３４）の上面）と当該磁界発生装置（２３０）に面する基板（２１０）の表面との間の距離（ｈ）は、およそ３．５ｍｍであるものとした。
【0171】
磁気アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）
[00170]図３Ａにおいて模式的に示すように、磁界発生アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）は、磁界発生装置（３３０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（３２１、３２１＋３２２）を有する基板（３１０）との間に配設された磁界発生装置（３４０）を備えるものとした。
[00170]図３Ａにおいて模式的に示すように、磁界発生アセンブリ（３００－ａ、３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）は、磁界発生装置（３３０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（３２１、３２１＋３２２）を有する基板（３１０）との間に配設された磁界発生装置（３４０）を備えるものとした。
【0172】
[00171]磁界発生装置（３３０）は、正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（３３１）、８つの双極子磁石（３３２）、及び支持マトリクス（３３４）を備えるものとした。図３Ａ及び図３Ｂにおいて模式的に示すように、８つの双極子磁石（３３２）は、第１の正方形及び第２の正方形それぞれの隅部に配設した。第１の正方形は、第２の正方形の入れ子となり、４つの棒状双極子磁石（３３１）の正方形状構成内に中心が配設されるものとした。
【0173】
[00172]図３Ａ及び図３Ｂに示すように、正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（３３１）はそれぞれ、長さ（Ａ１）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（３３１）は、支持マトリクス（３３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（３４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基板（３１０）表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、正方形状構成のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（３３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形状構成に配設された４つの双極子磁石（３３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（３３４）の中心と一致するものとした。正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（３３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４８で構成した。
【0174】
[00173]８つの双極子磁石（３３２）はそれぞれ、直径（Ａ７）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ８）がおよそ４ｍｍであるものとした。前記８つの双極子磁石（３３２）のうちの４つは、第１の正方形を構成するように、支持マトリクス（３３４）の中心周りの対角線上の４つの窪みに配設した。図３Ｂ１に示すように、８つの双極子磁石（３３２）のうちのその他の４つは、第２の正方形を構成するように、支持マトリクス（３３４）の対角線上の４つの窪みに配設した。８つの双極子磁石（３３２）それぞれの磁気軸は、Ｓ極が磁界発生装置（３４０）側を向いた状態で、基板（３１０）表面及び磁界発生装置（３４０）の磁気軸と実質的に垂直であるものとした。８個の双極子磁石（３３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成した。
【0175】
[00174]支持マトリクス（３３４）は、長さ（Ａ４）及び幅（Ａ５）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（３３４）は、ＰＯＭで構成した。図３Ｂ１及び図３Ｂ２に示すように、支持マトリクス（３３４）の上面には、各ラインに６つずつ６本のラインに配設され、深さ（Ａ８）がおよそ４ｍｍ、直径（Ａ７）がおよそ２ｍｍの３６個の窪みを含むものとし、これら３６個の窪みのうちの８つが、８つの双極子磁石（３３２）の受容に用いられ、深さ（Ａ３）がおよそ５ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ２ｍｍの窪みが、正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（３３１）の受容に用いられるものとした。２本の隣接ライン上に配設された２つの窪みの中心間の距離（Ａ９）は、およそ３ｍｍであるものとした。支持マトリクス（３３４）の対角線上に配設された２つの隣接窪みの中心間の距離（Ａ１０）は、およそ４．２ｍｍであるものとした。
【0176】
[00175]磁界発生装置（３４０）は、長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）がおよそ２９．９ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石であるものとした。棒状双極子磁石（３４０）の磁気軸は、基板（３１０）表面と平行であるものとした。棒状双極子磁石（３４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０ＵＨで構成した。
【0177】
[00176]磁界発生装置（３４０）及び磁界発生装置（３３０）は、直接接触させた。すなわち、磁界発生装置（３４０）の底面と磁界発生装置（３３０）の上面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図３Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（３４０）及び磁界発生装置（３３０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（３４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、磁界発生装置（３３０）の長さ（Ａ４）及び幅（Ａ５）の中央部と位置合わせした。磁界発生装置（３４０）の上面と当該磁界発生装置（３４０）に面する基板（３１０）の表面との間の距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
【0178】
磁気アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）
[00177]図４Ａにおいて模式的に示すように、磁界発生アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）は、磁界発生装置（４３０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（４２１、４２１＋４２２）を有する基板（４１０）との間に配設された磁界発生装置（４４０）を備えるものとした。磁界発生アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）は、ディスク状磁極片（４５０）をさらに備えるものとした。
[00177]図４Ａにおいて模式的に示すように、磁界発生アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）は、磁界発生装置（４３０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（４２１、４２１＋４２２）を有する基板（４１０）との間に配設された磁界発生装置（４４０）を備えるものとした。磁界発生アセンブリ（４００－ａ、４００－ｂ）は、ディスク状磁極片（４５０）をさらに備えるものとした。
【0179】
[00178]図４Ａ及び図４Ｂ１において模式的に示すように、磁界発生装置（４３０）は、正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（４３１）と、１９個の双極子磁石（４３２）（１８個の双極子磁石（４３２）が２列の太い「Ｖ」を構成するように配設し、１９番目の双極子磁石（４３２）を「Ｖ」の頂点に配置した）と、支持マトリクス（４３４）とを備えるものとした。
【0180】
[00179]図４Ａ及び図４Ｂに示すように、正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（４３１）はそれぞれ、長さ（Ａ１）がおよそ２５ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ３）がおよそ５ｍｍであるものとした。正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（４３１）は、支持マトリクス（４３４）において、それぞれの磁気軸が磁界発生装置（４４０）の磁気軸と実質的に平行且つ基板（４１０）表面と実質的に平行であり、Ｎ極が半径方向に、前記正方形状構成のループの中心領域側を向き、Ｓ極が支持マトリクス（４３４）の外部側すなわち環境側を向くように配置した。正方形状構成に配設された４つの双極子磁石（４３１）により形成された正方形の中心は、支持マトリクス（４３４）の中心と一致するものとした。正方形状構成に配設された４つの棒状双極子磁石（４３１）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４８で構成した。
【0181】
[00180]２列の太い「Ｖ」を構成するように配設された１９個の双極子磁石（４３２）及び「Ｖ」の頂点に配置された１９番目の双極子磁石（４３２）はそれぞれ、直径（Ａ７）がおよそ２ｍｍ、厚さ（Ａ８）がおよそ１ｍｍであるものとした。１９個の双極子磁石（４３２）それぞれの磁気軸は、Ｓ極が磁界発生装置（４４０）に面した状態で、基板（４１０）表面及び磁界発生装置（４４０）の磁気軸と実質的に垂直であるものとした。１９個の双極子磁石（４３２）はそれぞれ、ＮｄＦｅＢ Ｎ４８で構成した。
【0182】
[00181]支持マトリクス（４３４）は、長さ（Ａ４）及び幅（Ａ５）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ａ６）がおよそ６ｍｍであるものとした。支持マトリクス（４３４）は、ＰＯＭで構成した。図４Ｂ１及び図４Ｂ２に示すように、支持マトリクス（４３４）の表面には、各ラインに９つずつ５本のライン及び各ラインに８つずつ４本のラインに交互に配設され、深さ（Ａ８）がおよそ１ｍｍ、直径（Ａ７）がおよそ２ｍｍの７７個の窪みを含むものとし、これら７７個の窪みのうちの１９個が、１９個の双極子磁石（４３２）の受容に用いられ、深さ（Ａ３）がおよそ５ｍｍ、幅（Ａ２）がおよそ２ｍｍの窪みが、正方形状の磁界発生装置（４３１）の受容に用いられるものとした。長さ（Ａ４）に沿う２本の隣接ライン上に配設された２つの窪みの中心間の距離（Ａ９）は、およそ４ｍｍであるものとした。幅（Ａ５）に平行なライン上に配設された２つの窪みの中心間の距離（Ａ１０）は、およそ２．５ｍｍであるものとした。支持マトリクス（４３４）の窪みが９つのライン上の１番目の窪みの中心と窪みが８つのライン上の１番目の窪みの中心との間の距離（Ａ１１）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。窪みが９つの１番目のラインの中心と最も近い棒状双極子磁石（４３１）との間の距離（Ａ１２）及び（Ａ１３）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
【0183】
[00182]磁界発生装置（４４０）は、長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）がおよそ２９．９ｍｍ、厚さ（Ｂ３）がおよそ２ｍｍの棒状双極子磁石であるものとした。棒状双極子磁石（４４０）の磁気軸は、基板（４１０）表面と平行であるものとした。棒状双極子磁石（４４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０ＵＨで構成した。
【0184】
[00183]ディスク状磁極片（４５０）は、直径（Ｃ１）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｃ２）がおよそ２ｍｍであるものとした。ディスク状磁極片（４５０）は、鋼Ｓ２３５で構成した。
【0185】
[00184]磁界発生装置（４４０）及び磁界発生装置（４３０）は、直接接触させた。すなわち、磁界発生装置（４４０）の底面と磁界発生装置（４３０）の上面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。ディスク状磁極片（４５０）は、磁界発生装置（４３０）の支持マトリクス（４３４）の底面とディスク状磁極片の上面との間の距離（ｅ）がおよそ０ｍｍとなるように、磁界発生装置（４３０）の下方に配置した（図４Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（４４０）、磁界発生装置（４３０）、及びディスク状磁極片（４５０）は、互いに中心を合わせた。すなわち、磁界発生装置（４４０）の長さ（Ｂ１）及び幅（Ｂ２）の中央部は、磁界発生装置（４３０）の長さ（Ａ４）及び幅（Ａ５）の中央部並びにディスク状磁極片（４５０）の直径（Ｃ１）と位置合わせした。磁界発生装置（４４０）の上面と磁界発生装置（４４０）に面する基板（４１０）の表面との間の距離（ｈ）は、およそ１．５ｍｍであるものとした。
【0186】
磁気アセンブリ（５００－ａ、５００－ｂ）（図５Ａ及び図５Ｂ）
[00185]図５Ａにおいて模式的に示すように、磁気アセンブリ（５００）（図５Ａ～図５Ｂ２）は、磁界発生装置（５４０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（５２１、５２１＋５２２）を有する基板（５１０）との間に配設された磁界発生装置（５３０）を備えるものとした。
[00185]図５Ａにおいて模式的に示すように、磁気アセンブリ（５００）（図５Ａ～図５Ｂ２）は、磁界発生装置（５４０）と、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物（５２１、５２１＋５２２）を有する基板（５１０）との間に配設された磁界発生装置（５３０）を備えるものとした。
【0187】
[00186]磁気アセンブリ（５３０）は、国際公開第２０１７／０８０６９８ Ａ１号に開示の実施例６と同じであり、リング状双極子磁石（５３１）、ループ状磁極片（５３３）、及び支持マトリクス（５３４）を備えるものとした。
【0188】
[00187]リング状双極子磁石（５３１）は、外径（Ｌ７）がおよそ２６ｍｍ、内径（Ｌ８）がおよそ１６．５ｍｍ、厚さ（Ｌ９）がおよそ２ｍｍであるものとした。リング状双極子磁石（５３１）の磁気軸は、磁界発生装置（５４０）の磁気軸と実質的に垂直であり、Ｓ極が基板（５２０）に面した状態で、基板（５１０）表面と実質的に垂直であるものとした。リング状双極子磁石（５３１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４０で構成した。
【0189】
[00188]ループ状磁極片（５３３）は、外径（Ｌ１０）がおよそ１４ｍｍ、内径（Ｌ１１）がおよそ１０ｍｍ、厚さ（Ｌ９）がおよそ２ｍｍであるものとした。ループ状磁極片（５３３）は、ループ状磁界発生装置（５３１）と中心を位置合わせした。ループ状磁極片（５３３）は、鉄で構成した。
【0190】
[00189]支持マトリクス（５３４）は、長さ（Ｌ４）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｌ５）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｌ６）がおよそ３ｍｍであるものとした。支持マトリクス（５３４）は、ＰＯＭで構成した。図５Ｂ２に示すように、支持マトリクス（５３４）の底面には、リング状双極子磁石（５３１）及びループ状磁極片（５３３）を受容する深さ（Ｌ９）がおよそ２ｍｍの２つの円形窪みを含むものとした。
【0191】
[00190]リング状磁界発生装置（５３１）、ループ状磁極片（５３３）、及び支持マトリクス（５３４）は、（５３４）の長さ（Ｌ４）及び幅（Ｌ５）に沿って中心を位置合わせした。
【0192】
[00191]磁界発生装置（５４０）は、７つの棒状双極子磁石（５４１）及び６つのスペーサ片（５４２）を備えるものとした。図５Ａに示すように、７つの棒状双極子磁石（５４１）及び６つのスペーサ片（５４２）は、交互且つ非対称的に配設した。すなわち、２つの棒状双極子磁石（５４１）が１つのスペーサ片（５４２）と直接接触して隣り合い、その他５つの棒状双極子磁石がスペーサ片（５４２）と交互になるようにした。６つのスペーサ片（５４２）は、磁界発生装置（５４０）が磁気アセンブリ（５３０）の下方に正しく配置されるように使用した。７つの棒状双極子磁石（５４１）はそれぞれ、長さ（Ｌ１）がおよそ３０ｍｍ、幅（Ｌ２ａ）がおよそ３ｍｍ、厚さ（Ｌ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。６つのスペーサ片（５４２）はそれぞれ、長さがおよそ２０ｍｍ、幅（Ｌ２ｂ）がおよそ１．５ｍｍ、厚さ（Ｌ３）がおよそ６ｍｍであるものとした。７つの各棒状双極子磁石（５４１）の磁気軸は、基板（５１０）表面と実質的に平行であるものとした。７つの棒状双極子磁石（５４１）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２で構成した。６つのスペーサ片（５４２）は、ＰＯＭで構成した。磁場方向が磁界発生装置（５４０）の磁場方向と反対である点を除いて、磁界発生装置（５４０）は、磁界発生装置（２４０）（図２Ａ）と同じであるものとした。
【0193】
[00192]磁界発生装置（５３０）及び磁界発生装置（５４０）は、直接接触させた。すなわち、磁界発生装置（５３０）の底面と磁界発生装置（５４０）の上面との間の距離（ｄ）は、およそ０ｍｍであるものとした（図５Ａにおいては、図面の明瞭化のため、正確な縮尺では示していない）。磁界発生装置（５３０）の上面（すなわち、支持マトリクス（５３４）の上面）と磁界発生装置（５３０）に面する基板（５１０）の表面との間の距離（ｈ）は、およそ３．５ｍｍであるものとした。
【0194】
実施例Ｅ１（図６のＦｉｇ．６Ａ）：図２Ａ及び図２Ｂに示す磁気アセンブリを第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）として、図３Ａ及び図３Ｂに示す磁気アセンブリを第２の磁気アセンブリ（３００－ｂ）として使用するプロセス
[00193]実施例Ｅ１は、第１の配向ステップ（ステップｂ））に磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）を使用し、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。磁気アセンブリ（２００－ａ）の磁界発生装置（２４０）の磁場方向及び磁気アセンブリ（３００－ｂ）の磁界発生装置（３４０）の磁場方向が基板（６１０）に関して互いに反対となるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）の上に基板（６１０）を配設した。
[00193]実施例Ｅ１は、第１の配向ステップ（ステップｂ））に磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）を使用し、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。磁気アセンブリ（２００－ａ）の磁界発生装置（２４０）の磁場方向及び磁気アセンブリ（３００－ｂ）の磁界発生装置（３４０）の磁場方向が基板（６１０）に関して互いに反対となるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（３００－ｂ）（図３Ａ及び図３Ｂ）の上に基板（６１０）を配設した。
【0195】
[00194]図６のＦｉｇ．６Ａには、基板（６１０）を＋２０°～－６０°傾斜させて見られる様々な視角から、結果としてのＯＥＬ（６２０）を示している。結果としてのＯＥＬ（６２０）は、基板（６１０）の傾斜によって円のサイズが小さくなり、サイズが大きくなりながら正方形に変形され、その逆もまた同様である視覚的印象を与える。言い換えると、基板（６１０）の傾斜によって円が縮みながら変形され、その後、正方形が次第に大きくなり、その逆もまた同様である。
【0196】
実施例Ｅ２（図６のＦｉｇ．６Ｂ）：図２Ａ及び図２Ｂに示す磁気アセンブリを第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）として、図４Ａ及び図４Ｂに示す磁気アセンブリを第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）として使用するプロセス
[00195]実施例Ｅ２は、第１の配向ステップ（ステップｂ））に磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）を使用し、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。磁気アセンブリ（２００－ａ）の磁界発生装置（２４０）の磁場方向及び第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）の磁界発生装置（４４０）の磁場方向が基板（６１０）に関して互いに反対となるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）の上に基板（６１０）を配設した。
[00195]実施例Ｅ２は、第１の配向ステップ（ステップｂ））に磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）を使用し、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。磁気アセンブリ（２００－ａ）の磁界発生装置（２４０）の磁場方向及び第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）の磁界発生装置（４４０）の磁場方向が基板（６１０）に関して互いに反対となるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（２００－ａ）（図２Ａ及び図２Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）の上に基板（６１０）を配設した。
【0197】
[00196]図６のＦｉｇ．６Ｂには、基板（６１０）を＋２０°～－６０°傾斜させて見られる様々な視角から、結果としてのＯＥＬ（６２０）を示している。結果としてのＯＥＬ（６２０）は、基板（６１０）の傾斜によって円のサイズが小さくなり、サイズが大きくなりながら三角形に変形され、その逆もまた同様である視覚的印象を与えており、基板（６１０）の傾斜によって、円及び三角形の両者のサイズが変化する。言い換えると、基板（６１０）の傾斜によって円が縮みながら変形され、その後、三角形が次第に大きくなり、その逆もまた同様である。
【0198】
実施例Ｅ３（図６のＦｉｇ．６Ｃ）：図２Ａ及び図２Ｂに示す磁気アセンブリを第１の磁気アセンブリ（２００－ａ）として、図４Ａ及び図４Ｂに示す磁気アセンブリを第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）として使用するプロセス
[00197]第２のコーティング層（６２２）（１０ｍｍ×１０ｍｍ）で構成された第２の単一パターンが第１のコーティング層（６２１）（１６ｍｍ×１６ｍｍ）の第１の単一パターンよりも小さい点を除いて、実施例Ｅ３は、実施例Ｅ２と同様に準備した。
[00197]第２のコーティング層（６２２）（１０ｍｍ×１０ｍｍ）で構成された第２の単一パターンが第１のコーティング層（６２１）（１６ｍｍ×１６ｍｍ）の第１の単一パターンよりも小さい点を除いて、実施例Ｅ３は、実施例Ｅ２と同様に準備した。
【0199】
[00198]図６のＦｉｇ．６Ｃには、基板（６１０）を＋２０°～－６０°傾斜させて見られる様々な視角から、結果としてのＯＥＬ（６２０）を示している。結果としてのＯＥＬ（６２０）は、基板（６１０）の傾斜によって円のサイズが小さくなり、サイズが大きくなりながら三角形に変形され、その逆もまた同様である視覚的印象を与えており、基板（６１０）の傾斜によって、円及び三角形の両者のサイズが変化する。言い換えると、基板（６１０）の傾斜によって円が縮みながら変形され、その後、三角形が次第に大きくなり、その逆もまた同様である。
【0200】
比較例Ｃ１（図７）
[00199]比較例Ｃ１は、磁気アセンブリ（５００－ａ）（図５Ａ及び図５Ｂ）を使用するとともに、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。第１の磁気アセンブリ（５００－ａ）の磁界発生装置（５４０）の磁場方向及び第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）の磁界発生装置（４４０）の磁場方向が基板（７１０）に関して同じとなるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（５００－ａ）（図５Ａ及び図５Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）の上に基板（７１０）を配設した。
[00199]比較例Ｃ１は、磁気アセンブリ（５００－ａ）（図５Ａ及び図５Ｂ）を使用するとともに、第２の配向ステップ（ステップｅ））に磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）を使用することにより、上記のような一般的プロセスに従って準備した。第１の磁気アセンブリ（５００－ａ）の磁界発生装置（５４０）の磁場方向及び第２の磁気アセンブリ（４００－ｂ）の磁界発生装置（４４０）の磁場方向が基板（７１０）に関して同じとなるように、第１の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（５００－ａ）（図５Ａ及び図５Ｂ）及び第２の配向ステップに用いられる磁気アセンブリ（４００－ｂ）（図４Ａ及び図４Ｂ）の上に基板（７１０）を配設した。
【0201】
[00200]図７には、基板（７１０）を＋２０°～－６０°傾斜させて見られる様々な視角から、結果としての比較ＯＥＬ（７２０）を示している。結果としてのＯＥＬ（７２０）は、三角形が内接した円の視覚的印象を与えており、基板（７１０）の傾斜によって、円及び三角形の両者のサイズが大きくなる（或いは、サイズが小さくなる）。すなわち、光学効果層の傾斜によりサイズ及び形状が変化するループ状体の光学的印象を与えるＯＥＬではない。
【図1A】
【図1B】
【図2A】
【図2B1】
【図2B2】
【図3A】
【図3B1】
【図3B2】
【図4A】
【図4B1】
【図4B2】
【図5A】
【図5B1】
【図5B2】
【図6】
【図7】