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特許7289067MR誘導下超音波システムにおける改良された磁気共鳴(MR)性能
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-06-01
(45)【発行日】2023-06-09
(54)【発明の名称】MR誘導下超音波システムにおける改良された磁気共鳴(MR)性能
(51)【国際特許分類】
   A61B 5/055 20060101AFI20230602BHJP
   A61B 8/14 20060101ALI20230602BHJP
   A61B 17/22 20060101ALI20230602BHJP
【FI】
A61B5/055 350
A61B5/055 390
A61B8/14
A61B17/22 510
【請求項の数】 18
(21)【出願番号】P 2021571691
(86)(22)【出願日】2020-06-05
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-08-10
(86)【国際出願番号】 IB2020000458
(87)【国際公開番号】W WO2020245660
(87)【国際公開日】2020-12-10
【審査請求日】2022-01-19
(31)【優先権主張番号】62/858,129
(32)【優先日】2019-06-06
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/858,410
(32)【優先日】2019-06-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/862,996
(32)【優先日】2019-06-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/858,409
(32)【優先日】2019-06-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/862,995
(32)【優先日】2019-06-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/858,127
(32)【優先日】2019-06-06
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】508154863
【氏名又は名称】インサイテック リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100078282
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 秀策
(74)【代理人】
【識別番号】100113413
【弁理士】
【氏名又は名称】森下 夏樹
(74)【代理人】
【識別番号】100181674
【弁理士】
【氏名又は名称】飯田 貴敏
(74)【代理人】
【識別番号】100181641
【弁理士】
【氏名又は名称】石川 大輔
(74)【代理人】
【識別番号】230113332
【弁護士】
【氏名又は名称】山本 健策
(72)【発明者】
【氏名】シャピラ, ボアズ
【審査官】佐野 浩樹
(56)【参考文献】
【文献】特表2019-510599(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2011/0034800(US,A1)
【文献】特表2015-534488(JP,A)
【文献】国際公開第2012/137179(WO,A1)
【文献】特表2016-508808(JP,A)
【文献】特表2013-519495(JP,A)
【文献】ALIPOUR A. et al.,An inductively coupled ultra-thin, flexible, and passive RF resonator for MRI marking and guiding purposes: Clinical feasibility,MAGNETIC RESONANCE IN MEDICINE,2018年,Vol. 80, No. 1,p. 361-370,[検索日:2022.12.05], <DOI:https://doi.org/10.1002/mrm.26996 >
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
A61B 5/055、 8/00 - 8/15 、
13/00 -18/18 、
A61F 2/01 、
A61N 7/00 - 7/02
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも1つの伝送コイルおよび少なくとも1つの受信コイルを有するMRIユニットとの併用のための超音波トランスデューサであって、前記超音波トランスデューサは、
誘電層と、
前記誘電層の少なくと一部に共形化する第1の伝導層であって、前記第1の伝導層は、前記第1の伝導層の上または前記第1の伝導層を通して少なくとも1つの受動共振器を有し、前記少なくとも1つの受動共振器は、前記少なくとも1つの伝送コイルおよび/または前記少なくとも1つの受信コイルの視野内に最適化されたB および/またはB の磁場分布を達成するために選択される幾何学形状有する、第1の伝導層と
を備え、前記少なくとも1つの受動共振器が、前記第1の伝導層を通って、前記第1の伝導層の少なくとも一部を横断して延在する少なくとも1つの伸長スロットであるか、または、前記少なくとも1つの受動共振器が、ループ、双極子、または8字形として成形される、超音波トランスデューサ。
【請求項2】
前記最適化された磁場分布は、着目領域内の最大のB および/またはB の均質性である、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項3】
前記最適化された磁場分布は、着目領域内の最大のB および/またはB の感度である、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項4】
前記少なくとも1つの伸長スロットは、十字形構成にある一対の伸長スロットである、請求項に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項5】
前記誘電層および前記第1の伝導層は、略半球である、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項6】
前記第1の伝導から離間されているだけではなく前記誘電層共形化する第2の伝導をさらに備える、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項7】
前記少なくとも1つの伸長スロットは、メタ材料要素で充填される、請求項に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項8】
前記少なくとも1つの受動共振器は、10を超過する誘電率を有する材料から成り、前記超音波トランスデューサの表面に取り付けられる、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項9】
前記少なくとも1つの受動共振器は、双極子である、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項10】
前記少なくとも1つの受動共振器の幾何学形状、場所、または配向のうちの少なくとも1つは、調節可能である、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項11】
前記少なくとも1つの受動共振器は、誘電体媒体との界面において前記超音波トランスデューサの内部表面上に配置される、請求項に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項12】
前記第1の伝導層は、前記第1の伝導層の上にまたは前記第1の伝導層を通して少なくとも2つの受動共振器を有する、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項13】
少なくとも1つの受動共振器は、10を超過する誘電率を有し、前記超音波トランスデューサの表面に取り付けられ、少なくとも1つの受動共振器は、前記第1の伝導層を通して前記第1の伝導層少なくとも一部を横断して延在する少なくとも1つの伸長スロットである、請求項12に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項14】
少なくとも1つの受動共振器が、前記超音波トランスデューサの外部面積内に配置される、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項15】
前記外部面積は、患者の頭部を囲繞するように構成される底部リング表面である、請求項14に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項16】
前記少なくとも1つの受動共振器は、箔シートである、請求項15に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項17】
前記少なくとも1つの受動共振器は、メッシュである、請求項15に記載の超音波トランスデューサ。
【請求項18】
前記第1の伝導層は、モザイク方式においてタイル状に張り付けられる複数の離散伝導性要素を備える、請求項1に記載の超音波トランスデューサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
(関連出願の相互参照)
本願は、2019年6月7日に出願された米国仮特許出願第62/858,410号、2019年6月6日に出願された第62/858,127号、2019年6月6日に出願された第62/858,129号、2019年6月18日に出願された第62/862,995号、2019年6月7日に出願された第62/858,409号、および2019年6月18日に出願された第62/862,996号に対する優先権および利益を主張し、参照によってこれらの全体を本明細書に援用する。
【0002】
(発明の分野)
本発明は、概して、磁気共鳴誘導下(MR誘導下)集束超音波システムおよび方法に関する。
【背景技術】
【0003】
(背景)
集束超音波(すなわち、約20キロヘルツを上回る周波数を有する音響波)が、患者内の体内組織を撮像または療法的に処置するために使用されることができる。例えば、超音波は、腫瘍のアブレーションを伴う用途において使用され得、それによって、侵襲的外科手術、標的化薬物送達、血液脳関門の制御、血餅の溶解、および他の外科手術手技の必要性を排除する。腫瘍アブレーションの間、圧電セラミックトランスデューサが、患者の外部においてであるが、アブレートされるべき組織(すなわち、標的)に近接近して設置される。トランスデューサは、電子駆動信号を機械的振動に転換し、音響波の放出をもたらす。トランスデューサは、他のそのようなトランスデューサに加えて、それらが放出する超音波エネルギーが標的組織領域に対応する(または標的組織領域の内側の)「焦点区域」において集束ビームを集合的に形成するように、幾何学的に成形され、位置付けられ得る。代替的に、または、加えて、単一のトランスデューサが、その位相が各々独立して制御されることができる複数の個々に駆動されるトランスデューサ要素から形成され得る。そのような「位相化アレイ」トランスデューサは、トランスデューサの間の相対位相を調節することによって、焦点区域を異なる場所に操向することを促進する。本明細書で使用される場合、用語「要素」は、アレイ内の個々のトランスデューサまたは単一のトランスデューサの独立して駆動可能な部分のいずれかを意味する。磁気共鳴映像法(MRI)が、患者および標的を可視化し、それによって、超音波ビームを誘導するために使用され得る。
【0004】
MRIデバイスは、強い磁石を使用し、身体内の陽子をその場と整合させる強力な磁場を生産する。高周波(RF)電流が、次いで、患者を通してパルス化されると、陽子が、刺激され、RF場がオフにされると、1つ以上の受信コイルが、陽子が磁場と再整合するにつれて解放されるエネルギーを検出する。陽子が磁場と再整合するために要する時間および解放されるエネルギーの量は、環境および分子の化学的本質に依存する。これらの差異が、患者内の着目領域(ROI)の3D画像を再構築するために活用されることができる。
【0005】
モダリティ、すなわち、MRIと集束超音波との組み合わせは、特に、超音波トランスデューサが必然的に磁気要素内に配置されるため、MRIスキャナ下で生成されるMRI画像が、集束超音波を生成するトランスデューサ要素によって妨害されることができないまたはトランスデューサ要素と過度に相互作用することができないことを意味する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の実施形態は、B および/またはB の場分布を調節し、ROIにおける信号感度および均質性を改良する。本明細書において採用されるアプローチは、トランスデューサの外部表面、または、いくつかの場合には、トランスデューサの内部に沿った場改変特徴(例えば、スロットおよび/または双極子)の方略的な設置を含む。種々の実施形態では、場改変特徴は、受動共振器である(または受動共振器として挙動する)。
【0007】
故に、本発明のある側面は、少なくとも1つの伝送コイルおよび少なくとも1つの受信コイルとを有するMRIユニットとの併用のための超音波トランスデューサに関する。種々の実施形態では、超音波トランスデューサは、誘電層と、少なくともその一部に共形化し、その上にまたはそれを通して少なくとも1つの受動共振器を有する第1の伝導層を備え、受動共振器は、MRI伝送および/または受信コイルの視野内に最適化されたB および/またはB の磁場分布を達成するために選択される幾何学形状および寸法を有する。最適化された磁場分布は、着目領域内の最大のB および/またはB の均質性および/または感度であってもよい。
【0008】
いくつかの実施形態では、受動共振器(単数または複数)は、伝導層を通してその少なくとも一部を横断して延在する少なくとも1つの伸長スロットである。スロット(単数または複数)は、例えば、十字形構成にある一対のスロットであってもよい。いくつかの実施形態では、スロット(単数または複数)は、メタ材料要素で充填される。受動共振器(単数または複数)は、10を超過する誘電率を有する材料から成り、トランスデューサの表面に取り付けられてもよい。いくつかの実施形態では、受動共振器(単数または複数)は、双極子である。受動共振器の幾何学形状、場所、および/または配向が、調節可能であってもよい。いくつかの実施形態では、共振器(単数または複数)は、ループ、双極子、または8字形として成形される。受動共振器(単数または複数)は、誘電体媒体との界面においてトランスデューサの内部表面上に配置されてもよい。
【0009】
種々の実施形態では、誘電層および第1の伝導層は、略半球である。他の実施形態では、伝導層は、モザイク方式においてタイル状に張り付けられる複数の離散伝導性要素を備える。トランスデューサは、第1の伝導性領域から離間されているだけではなく誘電層にも共形化する少なくとも1つの付加的な伝導性領域をさらに備えてもよい。第1の伝導層は、その上にまたはそれを通して少なくとも2つの受動共振器を有してもよい。受動共振器のうちの少なくとも1つは、10を超過する誘電率を有してもよく、トランスデューサの表面に取り付けられてもよく、少なくとも1つの受動共振器は、伝導層を通して少なくともその一部を横断して延在する1つ以上の伸長スロットであってもよい。少なくとも1つの受動共振器が、トランスデューサの外部面積(例えば、患者の頭部を囲繞するように構成される底部リング表面)内に配置されてもよい。例えば、受動共振器(単数または複数)は、箔シートまたはメッシュであってもよい。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目1)
少なくとも1つの伝送コイルおよび少なくとも1つの受信コイルを有するMRIユニットとの併用のための超音波トランスデューサであって、前記超音波トランスデューサは、
誘電層と、
少なくともその一部に共形化し、その上またはそれを通して少なくとも1つの受動共振器を有する第1の伝導層であって、前記受動共振器は、前記MRI伝送および/または受信コイルの視野内に最適化されたB および/またはB の磁場分布を達成するために選択される幾何学形状および寸法を有する、第1の伝導層と
を備える、超音波トランスデューサ。
(項目2)
前記最適化された磁場分布は、着目領域内の最大のB および/またはB の均質性である、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目3)
前記最適化された磁場分布は、着目領域内の最大のB および/またはB の感度である、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目4)
前記少なくとも1つの受動共振器は、前記伝導層を通してその少なくとも一部を横断して延在する少なくとも1つの伸長スロットである、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目5)
前記少なくとも1つのスロットは、十字形構成にある一対のスロットである、項目4に記載の超音波トランスデューサ。
(項目6)
前記誘電層および第1の伝導層は、略半球である、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目7)
前記第1の伝導性領域から離間されているだけではなく前記誘電層にも共形化する少なくとも1つの付加的な伝導性領域をさらに備える、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目8)
前記少なくとも1つのスロットは、メタ材料要素で充填される、項目5に記載の超音波トランスデューサ。
(項目9)
少なくとも受動共振器は、10を超過する誘電率を有する材料から成り、前記トランスデューサの表面に取り付けられる、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目10)
少なくとも受動共振器は、双極子である、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目11)
前記少なくとも1つの受動共振器の幾何学形状、場所、または配向のうちの少なくとも1つは、調節可能である、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目12)
少なくとも1つの共振器は、ループ、双極子、または8字形として成形される、項目11に記載の超音波トランスデューサ。
(項目13)
前記少なくとも1つの受動共振器は、誘電体媒体との界面において前記トランスデューサの内部表面上に配置される、項目10に記載の超音波トランスデューサ。
(項目14)
前記第1の伝導層は、その上にまたはそれを通して少なくとも2つの受動共振器を有する、項目1に記載の超音波トランスデューサ。
(項目15)
少なくとも1つの受動共振器は、10を超過する誘電率を有し、前記トランスデューサの表面に取り付けられ、少なくとも1つの受動共振器は、前記伝導層を通して少なくともその一部を横断して延在する少なくとも1つの伸長スロットである、項目14に記載のトランスデューサ。
(項目16)
少なくとも1つの受動共振器が、前記トランスデューサの外部面積内に配置される、項目1に記載のトランスデューサ。
(項目17)
前記外部面積は、患者の頭部を囲繞するように構成される底部リング表面である、項目16に記載のトランスデューサ。
(項目18)
前記少なくとも1つの受動共振器は、箔シートである、項目17に記載のトランスデューサ。
(項目19)
前記少なくとも1つの受動共振器は、メッシュである、項目17に記載のトランスデューサ。
(項目20)
前記伝導層は、モザイク方式においてタイル状に張り付けられる複数の離散伝導性要素を備える、項目1に記載のトランスデューサ。
【図面の簡単な説明】
【0010】
前述および以下の詳細な説明は、図面と併せると、より容易に理解される。
【0011】
図1A図1Aは、種々の実施形態による、例示的集束超音波システムを図式的に図示する。
【0012】
図1B図1Bは、種々の実施形態による、MRIシステムを図示する。
【0013】
図1C図1Cは、より詳細にMRIデバイスの主要な動作コンポーネントを図式的に図示する。
【0014】
図2A図2Aおよび2Cは、それぞれ、本発明の実施形態による、2ピース型湾曲トランスデューサ設計およびモザイクトランスデューサ設計の斜視図である。
図2C図2Aおよび2Cは、それぞれ、本発明の実施形態による、2ピース型湾曲トランスデューサ設計およびモザイクトランスデューサ設計の斜視図である。
【0015】
図2B図2Bおよび2Dは、それぞれ、図2Aおよび2Cに示されるトランスデューサ幾何学形状から結果として生じる不均質性を図示する矢状方向頭蓋スライスである。
図2D図2Bおよび2Dは、それぞれ、図2Aおよび2Cに示されるトランスデューサ幾何学形状から結果として生じる不均質性を図示する矢状方向頭蓋スライスである。
【0016】
図2E図2Eは、多層トランスデューサ構築物の断面図である。
【0017】
図3図3Aは、2つのスロットを含む湾曲トランスデューサ設計の斜視図である。図3Bおよび3Cは、それぞれ、1mmの均一な幅と200mmおよび172mmの長さLとを有する2つの垂直十字形スロットを使用してシミュレーションを介して算出されるB 場を示す。図3Dは、異なるスロット長さから結果として生じるB 分布をグラフで描写する。
【0018】
図4B図4Bは、2つの双極子を含むモザイクトランスデューサ設計の斜視図である。
【0019】
図4A図4Aおよび4Cは、図4Bに示されるような、トランスデューサによって生産されるB 場を、双極子の有無別で図示する比較シミュレーションである。
図4C図4Aおよび4Cは、図4Bに示されるような、トランスデューサによって生産されるB 場を、双極子の有無別で図示する比較シミュレーションである。
【0020】
図5A図5Aは、双極子が下層表面上に配置されているトランスデューサの透明斜視図である。
【0021】
図5B図5Bは、シート共振器が下層表面上に配置されているトランスデューサの透明斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
最初に図1Aを参照すると、これは、例示的超音波システム100を図示し、例示的超音波システム100は、その中で組織を破壊してそれによって組織透磁率を増大させるために、集束音響エネルギービームを発生させ、標的領域に送達するためのものである。種々の実施形態では、システム100は、トランスデューサ要素104の位相化アレイ102と、位相化アレイ102を駆動するビーム形成器106と、ビーム形成器106と通信するコントローラ108と、入力電子信号をビーム形成器106に提供する周波数発生器110とを含む。
【0023】
アレイ102は、患者の身体の表面上にこれを設置するために適した湾曲(例えば、球状または放物線状)形状を有し得る、または、1つ以上の平面状または他の態様で成形された区分を含み得る。その寸法は、数ミリメートル~数十センチメートルの間で変動し得る。アレイ102のトランスデューサ要素104は、圧電セラミック要素であってもよく、要素104の間の機械的結合を減衰させるために適しているシリコーンゴムまたは任意の他の材料内に搭載されてもよい。圧電複合材料、または概して、電気エネルギーを音響エネルギーに転換することが可能な任意の材料もまた、使用されてもよい。トランスデューサ要素104への最大電力伝達を保証するために、要素104は、入力コネクタインピーダンスに合致する50Ωにおける電気共振のために構成されてもよい。
【0024】
トランスデューサアレイ102は、集束超音波ビームまたは場を集合的に生産するように個々のトランスデューサ要素104を駆動するビーム形成器106に結合される。n個のトランスデューサ要素に関して、ビーム形成器106は、n個のドライバ回路を含有して得、各々、増幅器118および位相遅延回路120を含む、または、増幅器118および位相遅延回路120から成る。各ドライバ回路は、トランスデューサ要素104のうちの1つを駆動する。ビーム形成器106は、例えば、Stanford Research Systemsから入手可能なモデルDS345発生器であり得る周波数発生器110から、典型的には0.1MHz~10MHzの範囲内の無線周波数(RF)入力信号を受信する。入力信号は、ビーム形成器106のn個の増幅器118および遅延回路120のためのn個のチャネルに分割されてもよい。いくつかの実施形態では、周波数発生器110は、ビーム形成器106と統合される。無線周波数発生器110およびビーム形成器106は、同一の周波数であるが異なる位相および/または異なる振幅において、トランスデューサアレイ102の個々のトランスデューサ要素104を駆動するように構成される。
【0025】
ビーム形成器106によって課される増幅または減衰係数α-αおよび位相偏移a-aは、標的領域上に超音波エネルギーを伝送して集束させる役割を果たし、トランスデューサ要素104と標的領域との間に位置する組織内に誘発される波歪曲を考慮する。増幅係数および位相偏移は、ソフトウェア、ハードウェア、ファームウェア、配線、またはそれらの任意の組み合わせを通して算出機能を提供し得るコントローラ108を使用して算出される。例えば、コントローラ108は、過度の実験を伴うことなく、標的領域において所望の焦点または任意の他の所望の空間場パターンを取得するために必要な位相偏移および増幅係数を判定するために、従来の様式でソフトウェアを用いてプログラムされる汎用目的もしくは特殊目的デジタルデータプロセッサを利用してもよい。ある実施形態では、算出は、トランスデューサ要素104と標的との間に位置する介在組織の特性(例えば、構造、厚さ、密度等)、および音響エネルギーの伝搬に及ぼすそれらの影響についての詳細な情報に基づく。そのような情報は、撮像機122から取得されてもよい。撮像機122は、下記に議論されるようなMRIデバイスであってもよい。
【0026】
図1Bは、例示的MRI装置122を図示する。装置122は、電磁石134のボア136内に静磁場を発生させる円筒形電磁石134(または永久磁石)を含んでもよい。MRIでは、身体組織内の核スピンが、外部磁場と相互作用し、核スピンの性質であるラーモア周波数ω=γB(式中、Bは、この場合では、外部磁場であり、γは、磁気回転比である)としても公知である特定の共鳴周波数を用いて磁場の周囲で歳差運動する。医療手技の間、患者が、可動支持テーブル138上のボア136の内側に設置される。患者内の着目領域(ROI)140(例えば、患者の頭部)が、電磁石134が数パーツパーミリオンの空間均質性を伴う静磁場Bを発生させる撮像領域142内に位置付けられてもよい。円筒形磁場勾配コイル144のセットもまた、ボア136内で患者を囲繞して提供されもよい。勾配コイル144は、所定の時間において、3つの相互に直交する方向に所定の大きさの磁場勾配を発生させる。場勾配が存在すると、異なる空間場所が、異なる歳差運動周波数と関連付けられ、それによって、MR画像にその空間分解能を与えることができる。MRIデータが、組織内のスピンシステムを磁気平衡から外すように励起し、励起されたスピンシステム信号を測定することのみによって、取得されることができる。スピンを励起するために、撮像領域142を囲繞するRF伝達コイル146が、周波数ωrfにおける成形されたRFパルスを撮像領域142の中に放出し、患者の組織に磁気共鳴(MR)応答信号を放出させる。成形されたRFパルスは、有限有効幅Δωrfを伴ってωrfを中心とする周波数応答プロファイルを導出する。ωrf近傍で有効幅Δωrf内で歳差運動するスピンのみが、RFパルスによって励起される。未加工MR応答信号が、RFコイル146によって感知され、MRコントローラ148にパスされ、これは、次いで、ユーザに表示され得るMR画像を算出する。代替的には、別個のMR伝送機コイルおよび受信機コイルが、使用されてもよい。MRI装置122を使用して入手される画像が、異なる組織の間の視覚コントラストおよび従来のX線技術を用いて可視化されることができない患者の解剖学的構造の詳細な内部ビューを放射線科医および医師に提供し得る。
【0027】
MRIコントローラ148は、パルスシーケンス、すなわち、磁場勾配およびRF励起パルスの相対タイミングおよび強度、および、応答検出周期を制御してもよい。MR応答信号は、従来の画像処理システムを使用して増幅され、調整され、未加工データにデジタル化され、当業者に公知である方法によって画像データのアレイにさらに変換される。画像データに基づいて、標的領域(例えば、腫瘍)が、識別されることができる。
【0028】
MRIデバイスの主要な動作コンポーネントが、図1Cにより詳細に図示される。例えば、強度が3Tであり得るメイン磁石134が、B場を生産し、スピンを整合させ、平衡を達成する。勾配コイル144は、x、y、およびz方向(すなわち、周波数、位相、およびスライスの符号化方向)における画像符号化を可能にする。RFコイル146は、信号を伝送および受信し、整合されたスピンを励起し、ROIからRF信号を受信する。患者がMRIスキャナ内に位置付けられるにつれて、組織は、磁場Mと整合するわずかな磁化を取得する。RF伝送(Tx)コイルが、主磁場Bに対して略垂直である小さい磁場Bを生産するRFパルスを発生させる。ほぼスピンの共鳴周波数を発振する垂直の磁場成分B のみが、事実上、正味磁化を主磁場とのその整合状態から離れるように回転させる。RFパルス(エネルギー)が強力であるほど、磁化が、より遠くに傾斜または反転する。RF受信(Rx)コイルは、電磁気誘発を介して誘発された電流内で結果として生じる歳差運動する磁化を検出する。誘発された電流は、MR信号であり、Rxコイルの視野(FOV)内の組織からの磁化の混合を表す。スキャナは、伝送機能および受信機能の両方のための複数のコイルを有してもよい。
【0029】
Txコイルは、主(静)磁場Bに対して垂直であるように設計される電磁B 場を発生させ、楕円形偏波モードにおいて共鳴周波数γBを発振する。歳差運動周波数は、電波の周波数範囲(MHz)に対応する。Bに対しても垂直である受信される電磁場は、B 場と称される。
【0030】
単一の「身体コイル」が、B 場を発生させてB 場を感知する、伝送コイルおよび受信コイルの役割を交互に果たすことができる。送達されるB 場は、均質な励起を助長するように、FOVにわたって均質であるべきであり、コイルは、(FOV面積より小さいまたはFOV面積に等しい)ROIを横断して高い感度を保有するべきである。身体コイルは、図1Bに示されるボア136内に患者が横たわった状態での動作のために構成される。ボア136内へのトランスデューサアレイ102の導入は、均質性および感度の両方を破壊させることができる。具体的には、トランスデューサアレイ102の幾何学形状およびその誘電性質(主に、高導電性成分および誘電性液体(例えば、水)から生じる)が、ボア136内での電磁エネルギーの空間分布を変動させ得、事実上、トランスデューサアレイ102が、周波数依存モードパターンを課す共振器空洞として作用する。
【0031】
頭蓋撮像に関して、超音波トランスデューサは、図2Aに示される2つの要素の湾曲半球200として、単純な構成を有し得、湾曲半球200は、狭い環状間隙によって底部スカート要素215から分離されたドーム状上部要素210を含む。代替的には、超音波トランスデューサは、図2Cに示されるように、半球225に近似するようにモザイク方式において配列されるタイル様要素220を備え得る、または、タイル様要素220から成り得る。
【0032】
いくつかの実施形態では、トランスデューサは、その厚さを通して1つを上回る高導電性層を含んでもよい。代表的構築物が、図2Eに示され、図2Eでは、トランスデューサ200は、水で充填されたチャンバ235をカプセル化して画定する4層膜230を有する。膜230は、例えば厚さが1mmであり得る最も内側のポリマー(例えば、シリコーン)層240と、2mmの厚さを有し得る第1の伝導(例えば、銅)層240と、再び厚さが1mmであり得る第2のポリマー層240と、0.1mmの厚さを有し得る第2の(かつ最も外側の)伝導層240とを含む。典型的には、スロットが、高導電性層の全てを通して延在し、そのため、図2Eに示される実施形態に関して、これは、層240、240を通して延在するが、必ずしもポリマー層240、240を通して延在しなくてもよい。いくつかの実施形態では、スロット(または切り欠き)は、λ未満のサイズ(λは、水中でのRF波長である)を伴うメタ材料構成要素(例えば、容量性要素および誘導性要素)等の受動共振器で充填されることができ、これは、誘電シェルのインピーダンスを変動させ、その中の電磁場分布を変動させる。
【0033】
高導電性材料と相互作用する電磁波が、反射される。半球の内面側からの反射が、図2Bに示されるように、ROIにおいて、不十分なB パターンを伴う定在波を生産する。本現象の簡略化された説明は、2つの層の間に定義される反射係数Γ、例えば、水の層および銅の層の場合では、
【数1】
を使用し、式中、ZおよびZは、それぞれ、水のインピーダンスおよび銅のインピーダンスである。Z>>Zであるため、反射は、約Γ=-1であり、これは、図2Bに示されるように、ドーム状要素210において最大B 強度とそれを下回る最小B 強度とを生産する反転された符号を伴う波の全反射を含意する。
【0034】
湾曲半球構成200を用いて特に有用であるある実施形態では、場破壊が、図3Aに示されるような高導電性(例えば、銅)層を通して1つ以上のスロット310を導入することによって、低減される。これは、事実上、半球200の内側と外側との間でのRF透過を可能にしてB場をトランスデューサの内側において再配列させるスロットアンテナを生成する。スロット310は、低伝導性材料(例えば、空気またはポリマー)で充填されてもよい。いくつかの実施形態では、スロットは、図3Aに示されるようなドーム状上部要素210の中、スカート要素215の中、または要素210および215の両方の中に導入される。
【0035】
図3Aに示されるように、修復条件下で高導電性シェルを通して十字形スロット310を切断することは、RF波が、トランスデューサの内側と外側との間の高導電性シェルを透過することを可能にする。スロットの最適な幾何学形状および長さが、所望のB パターンを達成するために、シミュレーションまたは実際の測定を通して、過度の実験なしに選択され得る。1mmの均一な幅と172mmの長さLとを有する2つの垂直十字形スロットを使用して、シミュレーションを介して算出された結果として生じるB 場が、図3Cに示される。(200mmのスロット長に関する結果が、図3Bに示される。)図3Dは、異なるスロット長Lから結果として生じるB 分布を図示し、故に、所望のパターンを達成するためにスロット幾何学形状を設計し、それらの中から選択することは、簡単である。特に、FOVまたはROI内に、比較的に平坦な(したがって、最大限に均質な)最左ピーク領域を有することが、所望され得る。
【0036】
目的は、トランスデューサ内のB および/またはB パターンを操作することであるが、隣接するトランスデューサ層(例えば、空気、銅、水)が合致されたインピーダンス値を有するとき、スロット幾何学形状と場分布との間の強力な依存が、観察される。線形スロット要素の効果が、カットオフ周波数を上回る電磁放射線を線形に偏波させる伝導性シートによって囲繞される線形スロットアンテナの効果として、定性的に概算されることができる。2つの垂直スロット310が、電磁放射線上に2つの垂直線形偏波を課し、伝送されるRF楕円偏波パルスB からまたはスピンシステム信号B からのいずれかで、源電磁波からの位相を維持する楕円偏波(EP)をもたらす。組み合わせられた身体コイルおよびスロットアンテナのTx/Rx信号が、B 、B に関して、干渉して新しいB 、B パターンを生産する2つのコヒーレント源をもたらす。スロットの長さは、楕円偏波を変化させるように調節されることができる。Txに関して、スロットは、FOVまたはROIにおいて受動「RFシミング」を課す。Rxに関して、それらは、ROIにおける信号感度および均質性を改良する。一般に、他のスロットまたは切り欠きが、トランスデューサの側面に沿って課され、B パターンをさらに操作することができる。いくつかの実施形態では、各スロットは、着目領域内での場分布を改良するように調節可能な幾何学形状を有する(例えば、スロットの一部が、伝導シートで被覆されることができる)。調節は、例えば、初期のMRI画像によってトリガされることができる。1つのアプローチでは、伝導シートが、所望の量のスロットが被覆されることができるように、ガイド内に摺動可能に据え付けられる。
【0037】
スロットアンテナ構成と同様に、受動共振器アプローチも、図4A~4Cに図示されるように、モザイクトランスデューサ設計等の他のトランスデューサ構成に適用可能である。モザイク構成は、身体コイルからのRFがトランスデューサ400を通して通過することを可能にするが、トランスデューサ400内の水と空気との間の境界が、RFを反射し、依然として、図2Dおよび4Aに図示されるように、トランスデューサ基部の中心において信号強度の不均一性を引き起こし得る。RF伝搬に関する簡略化された説明を使用すると、モザイクトランスデューサ400内の水と空気との間の反射係数は、
【数2】
であり、RFが、依然として、トランスデューサ内の定在波として挙動することを意味する。
【0038】
バビネの原理に基づいて、湾曲トランスデューサ内のスロットアンテナ、および、モザイクトランスデューサ内の双極子アンテナが、類似のRF放射線効果を呈する。故に、モザイクトランスデューサ400の表面に1つ以上の双極子410を追加することは、湾曲トランスデューサ上にスロットアンテナを追加することに類似する様式において、トランスデューサ挙動に影響を及ぼす。銅等の導電性材料から構成されるひも状部品または細片である双極子410は、B /B 場の均質性の領域をROIに向かって有益に偏移させる受動共振器としての役割を果たす。双極子の長さ、幅、および幾何学形状は、B /B 場の均質性を操作するために、簡単に調節されることができる。双極子410は、双極子下に接着剤またはポリマーの層を含むことによって、他の伝導層(例えば、銅あるいは他の金属または導電性材料)、タイル、および下層の誘電層から隔離され、トランスデューサから電気的に隔離されることができる。場の均質性を達成することに加えて、共振器が、実質的に、トランスデューサ200によって放出される超音波に対して透過性であるべきであることを理解されたい。これは、共振器幅を小さく(例えば、ミリメートル未満~数mmの幅の範囲に及ぶように)保つことによって、および/または、それらを超音波伝搬媒体から離れるように位置付けることによって、達成され得る。図2Eを参照すると、双極子は、非伝導層204の暴露された(内部)表面上に常駐してもよい。代替的には、双極子は、プラスチック(または他の誘電材料)によって隔離され、水と直接接触しないようにすることができる。
【0039】
いくつかの実施形態では、FOV内のRF場に影響を及ぼすループ幾何学形状(例えば、円、楕円、または8字形)および/または双極子(伸長された)形状および/または他の幾何学形状を伴う受動共振器のセットが、トランスデューサ200の表面に配置されることができる。この文脈では、受動共振器は、高い(例えば、>10)誘電率を有する要素を意味する。図5Aに図示されるような他の実施形態では、受動共振器(例えば、双極子410)が、トランスデューサの上側表面における受動共振器の代替としてまたはそれに加えて、患者の頭部を囲繞するトランスデューサ200の下層表面245(図2Eも参照)に沿って、追加されることができる。この場合には、下層表面245は、非伝導性(例えば、ポリマー)であり、双極子は、下層表面の(誘電性液体と接触している)内部または外部にあってもよい。別の代替物は、例えば、図5Bに示されるように、銅またはアルミニウム箔あるいはメッシュ250を使用して、下層表面245全体の内部または外部を伝導性にすることである。
【0040】
再び、受動共振器は、共振器の幾何学形状、場所、および/または配向が改変されてROI内の場分布を改良することができるように調節可能に構成され得る。調節は、例えば、初期のMRI画像によってトリガされることができる。1つのアプローチでは、これは、共振器を切断することによって、および/または、所望の挙動が達成されるまで軌道内でそれを移動させることによって、手動で行われ得る。上記に記載されるように、受動共振器は、適した材料でスロットを充填することによって、表面上のスロットアンテナパターンと組み合わせられ得る。
【0041】
いくつかの実施形態では、受動共振器は、容量性および誘導性構成要素等のメタ材料要素を含むことができ、RF波長λに関連するサイズを有してもよい。共振器は、誘電性の液体内で、および/または、シェルを囲繞する表面および/または切り欠きにおいて統合されることができる。前述の実施形態のうちのいずれかでは、受動共振器は、FOVにおけるB /B 場の均質性を制御する役割を果たす限り、能動共振器によって取って代わられることができる。共振器はまた、例えば、伝導層240にわたってポリマー最上層を伴うトランスデューサ200の上側領域上に常駐することもできる。RFがトランスデューサの外部を透過し得るとき、そのようなトランスデューサは、受動または能動のいずれの場合であっても、FOVにおけるトランスデューサ内のB /B 場の均質性に影響を及ぼし得る。
【0042】
本発明のある実施形態が、上記に説明される。しかしながら、本発明が、それらの実施形態に限定されず、むしろ、本明細書に明示的に説明されるものへの追加および修正もまた、本発明の範囲内に含まれることに明確に留意されたい。
図1A
図1B
図1C
図2A
図2B
図2C
図2D
図2E
図3
図4A
図4B
図4C
図5A
図5B