(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-06-12
(45)【発行日】2023-06-20
(54)【発明の名称】カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルと表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/20 20060101AFI20230613BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20230613BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20230613BHJP
H10K 50/84 20230101ALI20230613BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20230613BHJP
H10K 59/38 20230101ALI20230613BHJP
【FI】
G02B5/20 101
G02F1/1335 505
G09F9/30 349B
G09F9/30 349C
G09F9/30 365
H10K50/84
H10K59/10
H10K59/38
(21)【出願番号】P 2018545202
(86)(22)【出願日】2017-12-12
(86)【国際出願番号】 CN2017115655
(87)【国際公開番号】W WO2018209933
(87)【国際公開日】2018-11-22
【審査請求日】2020-11-06
(31)【優先権主張番号】201710353545.4
(32)【優先日】2017-05-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】BOE TECHNOLOGY GROUP CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】No.10 Jiuxianqiao Rd.,Chaoyang District,Beijing 100015,CHINA
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】王 ▲輝▼▲鋒▼
【審査官】横川 美穂
(56)【参考文献】
【文献】特開2012-124103(JP,A)
【文献】中国実用新案第203337948(CN,U)
【文献】特開2016-031513(JP,A)
【文献】中国特許出願公開第105140247(CN,A)
【文献】特開2009-258379(JP,A)
【文献】中国特許出願公開第105974636(CN,A)
【文献】国際公開第2011/045952(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 5/20
G02F 1/1335
G09F 9/30
H05B 33/00-33/28
H10K 50/00-102:20
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
カラーフィルム基板であって、サブ画素を複数含み、各前記サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素間に隔壁が設置されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在しており、
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第2方向に沿って配列され、前記第1方向と前記第2方向は交差しており、
前記隔壁は複数の部分を有し、前記隔壁の隣接する二つの部分の間に間隔が設けられており、前記間隔は前記第1方向における異なるサブ画素間にあり、
前記カラーフィルム基板は、同一色のサブ画素の間に支持体を更に含み、
前記支持体は前記第2方向に配置され互いに隣接する二つの間隔の間にあり、前記支持体は前記二つの間隔の間に位置し、前記二つの間隔のそれぞれは互いに離隔しており、
前記第2方向における前記隔壁の最大寸法は、前記第2方向における前記支持体の最大寸法よりも小さ
く、
前記第2方向における前記隔壁の最大寸法は、前記第1方向における前記間隔の最大寸法よりも小さい、カラーフィルム基板。
【請求項2】
前記隔壁の側壁に反射層が設置されている請求項1に記載のカラーフィルム基板。
【請求項3】
前記隔壁は不透光性樹脂材料を採用する請求項1又は2に記載のカラーフィルム基板。
【請求項4】
少なくとも2つの隔壁を含み、前記少なくとも2つの隔壁は略同じ高さを有する請求項1~3のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項5】
さらにベース基板を含み、
前記隔壁は台形状の断面を有し、前記台形は、上底辺が前記下底辺よりも前記ベース基板から離れており、前記下底辺の長さが前記上底辺の長さより大きい請求項1~4のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項6】
前記支持体は、高さが前記隔壁の高さ以上である請求項1~5のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項7】
さらにカラーフィルム積層を含み、
前記カラーフィルム積層は、色の異なる複数のカラーフィルムサブ層を含み、高さが前記カラーフィルタ層の高さより大きい請求項1~6のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板。
【請求項8】
前記隔壁は、前記カラーフィルム積層に設置され、前記カラーフィルム基板での正投影が前記カラーフィルム積層の前記カラーフィルム基板での正投影内に位置する請求項7に記載のカラーフィルム基板。
【請求項9】
カラーフィルム基板の製造方法であって、
サブ画素を複数形成することを含み、
各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素間に隔壁が形成されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在しており、
前記複数のサブ画素はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素は第2方向に沿って配列され、前記第1方向と前記第2方向は交差しており、
前記隔壁は複数の部分を有し、前記隔壁の隣接する二つの部分の間に間隔が設けられており、前記間隔は前記第1方向における異なるサブ画素間にあり、
前記カラーフィルム基板の製造方法は、同一色のサブ画素の間に支持体を形成することを更に含み、
前記支持体は前記第2方向に配置され互いに隣接する二つの間隔の間にあり、前記支持体は前記二つの間隔の間に位置し、前記二つの間隔のそれぞれは互いに離隔しており、
前記第2方向における前記隔壁の最大寸法は、前記第2方向における前記支持体の最大寸法よりも小さ
く、
前記第2方向における前記隔壁の最大寸法は、前記第1方向における前記間隔の最大寸法よりも小さい、カラーフィルム基板の製造方法。
【請求項10】
前記隔壁の側壁に反射層を形成することをさらに含む請求項9に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項11】
前記隔壁は不透光性樹脂材料を採用する請求項9又は10に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項12】
前記カラーフィルム基板は、少なくとも2つの隔壁を含み、前記少なくとも2つの隔壁は略同じ高さを有する請求項9~11のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項13】
さらにベース基板を含み、
前記隔壁は台形状の断面を有し、前記台形は、上底辺が下底辺よりも前記ベース基板から離れ、前記下底辺の長さが前記上底辺の長さより大きい請求項9~12のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板の製造方法。
【請求項14】
請求項1~8のいずれか1項に記載のカラーフィルム基板を備える表示パネル。
【請求項15】
さらにアレイ基板を含み、
前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板は張り合わせられ、
前記隔壁の高さが、前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板で形成されたセルのセルギャップより小さい請求項14に記載の表示パネル。
【請求項16】
請求項14~15のいずれか1項に記載の表示パネルを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
[関連出願の相互参照]
本特許出願は、2017年5月18日に提出した中国特許出願第201710353545.4号の優先権を主張し、ここで、上記中国特許出願に開示されている全内容を本発明の例示の一部として引用する。
【0002】
本発明の少なくとも一実施例は、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルと表示装置に関する。
【背景技術】
【0003】
有機発光ダイオード(Organic Light―Emitting Diode、OLED)デバイスは、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display、LCD)に比べて、自己発光が可能で、応答速度が高く、広視野角を有し、高輝度で、色が鮮やかで、軽量化や薄型化が実現される等の利点を有し、次の世代のディスプレイ技術であると考えられている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明の少なくとも一実施例は、漏れた光の光線による隣接するサブ画素の光色への影響を抑制できる、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルに関する。
【0005】
本発明の少なくとも一実施例は、サブ画素を複数含み、各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素間に隔壁が設置されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在している、カラーフィルム基板を提供する。
【0006】
本発明の少なくとも一実施例は、サブ画素を複数形成することを含み、各サブ画素はカラーフィルタ層を含み、前記カラーフィルタ層は該サブ画素を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素間に隔壁が形成されており、前記隔壁はそれにより仕切られているサブ画素間に連続的に延在している、カラーフィルム基板の製造方法をさらに提供する。
【0007】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかのカラーフィルム基板を備える表示パネルをさらに提供する。
【0008】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかの表示パネルを備える表示装置をさらに提供する。
【0009】
本発明の実施例の技術案を明瞭に説明するために、以下、実施例の図面を簡単に説明するが、勿論、以下の説明における図面は本発明の一部の実施例に関するものに過ぎず、本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【
図1】トップエミッションOLED表示パネルの断面模式図である。
【
図2】トップエミッションOLED表示パネルのアレイ基板の平面視模式図である。
【
図3】
図2のアレイ基板に対応したカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【
図4】別のトップエミッションOLED表示パネルのアレイ基板の平面視模式図である。
【
図5】
図4のアレイ基板に対応したカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【
図6】本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【
図7】本発明の一実施例による、
図6に示されるカラーフィルム基板を備える表示パネルの断面模式図(
図6に示されるカラーフィルム基板のAB部分断面図)である。
【
図8】本発明の一実施例による、
図6に示されるカラーフィルム基板を備える表示パネルの断面模式図(
図6に示されるカラーフィルム基板のCD部分断面図)である。
【
図9】一実施例によって提供された本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の断面模式図である。
【
図10】本発明の一実施例による、反射層を含むカラーフィルム基板で形成された表示パネルの漏れ光を減少させた場合の模式図である。
【
図11】一実施例によって提供された本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の平面視模式図である。
【
図12】本発明の一実施例による表示パネルの断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本発明の実施例の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下、本発明の実施例の図面を参照しながら、本発明の実施例の技術案を明瞭且つ完全に説明する。勿論、説明される実施例は、本発明の一部の実施例に過ぎず、すべての実施例ではない。説明される本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な労働をしない前提で得られるすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に入る。
【0012】
本発明に使用されている技術用語又は科学技術用語は、特別に定義されていない場合、当業者が理解できる一般的な意味を有する。本発明に使用されている「第1」、「第2」及び類似する用語は、異なる構成要素を区別するためのものに過ぎず、順番、数量又は重要度を示すものではない。同様に、「含む」又は「備える」等の類似する用語は、該用語の前に記載された素子又は部品が該用語の後に挙げられる素子又は物体及びそれらと同等のものをカバーするが、ほかの素子又は物体を排除しないことを意味する。「接続」又は「連結」等の類似する用語は、物理的又は機械的接続に限定されず、直接接続されるか間接的に接続されるかを問わず、電気的接続を含んでもよい。「上」、「下」、「左」、「右」等は、相対的な位置関係を示すだけであり、説明された対象の絶対的な位置が変わると、該相対的な位置関係も対応に変わる可能性がある。
【0013】
OLEDデバイスは、一般的に、陽極、発光機能層213及び陰極からなり、発光面に応じてボトムエミッションとトップエミッションの2種があり、トップエミッションデバイスは、大きな開口率を実現できるため、近年、盛んに研究されている。
【0014】
トップエミッションOLEDデバイスでは発光機能層(EL)の各膜層の厚さについて均一性が要求されるため、インクジェット印刷OLEDデバイスの場合は、トップエミッションのものが製造されにくく、トップエミッションデバイスの色域をさらに向上させるために、OLEDデバイスが、対応したカラーフィルタ(Color Filter、CF)層で対応した不純をフィルタリングされた後、特定のスペクトルを保留して、OLEDデバイスの単色の色純度を向上させ、さらにOLEDデバイスの色域を向上させる、OLEDとカラーフィルタの組み合わせる技術(OLED+CF)が開発されている。
【0015】
ところで、
図1に示されるように、カラーフィルム基板10の第1ベース基板101にブラックマトリックス102とカラーフィルタ層103とが設置されてもよく、各サブ画素0103はカラーフィルタ層103を含み、カラーフィルタ層103は、該サブ画素を透過する光が1種の色を表示させるように配置され、カラーフィルタ層103は、赤色フィルタ層1031、緑色フィルタ層1032及び青色フィルタ層1033を含んでもよい。光がサブ画素を透過して示す色に応じて、サブ画素0103は、赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素を含んでもよい。アレイ基板20は、発光ユニット2002を含み、発光ユニット2002は、第1電極210を含んでもよく、第1電極210は第2ベース基板201に設置されてもよい。第1電極210は、透明導電性酸化物、たとえば酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide、ITO)を採用してもよくが、それに限定されない。
図1では、発光ユニット2002の全構造が示されていない。
【0016】
図1に示されるように、トップエミッションOLEDデバイスにおいて、アレイ基板20及びカラーフィルム基板10が張り合わせられた後、両者の間に隙間があるため、各サブ画素(たとえば赤、緑、青)0103同士間が発光するときに光漏れが発生しやすくなって、色の干渉を引き起こす。本発明の実施例では、1つの画素に赤色、緑色及び青色の三原色のサブ画素が含まれることを例にして説明したが、それに限定限定されない。サブ画素はほかの色を採用してもよい。
【0017】
図1に示されるように、アレイ基板20とカラーフィルム基板10の間に隙間が存在するため、光漏れが発生する。θ1が入射角、θ2が出射角、空気の屈折率が1.0、ガラスの屈折率が1.5(第1ベース基板101をガラス基板にする場合を例に)であり、このように、θ1が41°であるとき、θ2は90°となり、つまり、入射角θ1>41°の場合は、光線が出射できず、光漏れが発生することがなく、入射角θ1が41°より小さい場合は、光が出射でき、光漏れが発生する。
【0018】
図1では、第1電極210に画素定義層(Pixel Definition Layer、PDL)が設置されてもよい。たとえば、
図1に示されるように、インクジェット印刷デバイスの場合、画素定義層は第1サブ画素定義層(第1サブPDL)211と第2サブ画素定義層(第2サブPDL)212の二層構造を含んでもよく、第1サブPDL211は、発光ユニット2002の実際発光面積を定義することに用いられ、高表面エネルギー材料、たとえばSiO2、Si3N4等を使用してもよい。第2サブPDL212はインクジェット印刷デバイスのインクを収納するものとして機能し、インクのサブ画素外への流出を防止するために、表面に高疎水性が具備する材料を使用してもよい。第2サブPDL212は、フッ素含有アクリル樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂等の材料を採用してもよい。
【0019】
蒸着デバイスの場合、特殊な表面特性を必要としないため、第2サブPDL212は、ポリイミド、アクリル樹脂、SiO2、セラミック等の材料を採用してもよい。
【0020】
図2に示されるように、アレイ基板は、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、TFT)2001と、OLEDサブ画素領域と、第1サブPDL211と、第2サブPDL212とを含む。内部補償回路の要求に応じて、2T1C、3T2C、3T1C等の構造が設置されてもよい。
図2に示されるように、TFT2001はサブ画素の長手方向に設置されてもよく、
図2中、各サブ画素の長手方向に沿って3つのTFT2001が設置される場合が示されている。OLEDサブ画素領域は、サブ画素の発光形状、位置及び大きさを定義することに用いられている。
【0021】
たとえば、PDLが形成された後、第1電極210に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔ブロッキング層、電子ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層等のうちの1層又は複数層を含んでなる発光機能層213が形成される。OLEDは、白色光を発光してカラーフィルタ層でカラーフィルタリングしてカラー表示をすることが可能である。
【0022】
たとえば、第2サブPDL212の幅は、5~30μm、好ましくは10μm、第2サブPDL212の厚さは、1~5μm、好ましくは1.5μm、第2サブPDL212の傾きは、40~60°、好ましくは45°であってもよい。
【0023】
図3に示されるように、カラーフィルム基板10に柱状の支持体0105が設置されてもよく、支持体0105は各サブ画素0103の四隅に設置されてもよい。
【0024】
たとえば、アレイ基板20とカラーフィルム基板10の間の隙間は、設備のラミネート能力によるが、10~15μm、好ましくは10μm程度であってもよく。
【0025】
たとえば、サブ画素の短手方向から見ると、隙間が15μm、第1サブPDL211の幅が13μmである場合、θ1の角度は約41°となり、このように、漏れた光の光線が出射できない程度である。設備の位置合わせの誤差が±5μmであることを考慮に入れると、θ1角度を>41°にするには、第2サブPDL212の幅が18μmより大きいことが必要であり、実際にサブ画素を設計するにあたり、開口率をできるだけ向上させるために、短手方向における第2サブPDL212の幅ができるだけ狭く設計され、光漏れを低減させるために、サブ画素の短手方向において、第2サブPDL212の最小幅は18μmであってもよい。
【0026】
勿論、開口率の向上と光漏れの低減を両立させることが不可能であるが、高解像度OLEDデバイスでは、光漏れと開口率をバランスよく考慮しなければならない。
【0027】
図4に示されるように、アレイ基板20において、TFT2001はサブ画素の短手方向に沿って設置され、
図5は、
図4に対応したカラーフィルム基板10の平面模式図である。カラーフィルム基板10に柱状の支持体0105が設置され、支持体0105は各サブ画素0103の四隅に設置されてもよい。カラーフィルム基板10において、各サブ画素0103はアレイ状に配列されてもよい。
【0028】
たとえば、
図4に示されるように、サブ画素の長手方向から見ると、TFT寸法が約幅50μmであり、18μmより大きいため、光漏れのリスクがなく、光漏れが発生しても、同一色のサブ画素であるため、色ズレの懸念がない。
【0029】
本発明の少なくとも一実施例はカラーフィルム基板を提供しており、
図6に示されるように、複数のサブ画素0103を含み、各サブ画素0103は光を透過してもよくに配置されるカラーフィルタ層103を含む。カラーフィルタ層103は、該サブ画素0103を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素0103の間に隔壁105が設置されており、隔壁105はそれにより仕切られているサブ画素0103の間に連続的に延在している。隔壁は支持と遮光の役割を果たすことができる。
図6中、8個のサブ画素0103が示されるが、本発明の実施例では、サブ画素の数はそれに限定されない。隔壁105はそれにより仕切られているサブ画素0103の間に連続的に延在しているとは、たとえば、それにより仕切られている少なくとも1つのサブ画素0103の間に連続的に延在していることであり、連続的に延在しているとは、たとえば間隔/断続がないことを意味する。
【0030】
本発明の少なくとも一実施例はカラーフィルム基板を提供しており、サブ画素0103の間に連続的に延在している隔壁が設置されることによって、発光ユニットから発光する光を特定のサブ画素に限定することができ、漏れた光の光線による隣接サブ画素の光色への影響を抑制することができ、異なるサブ画素同士間の色の干渉を回避できる。
【0031】
たとえば、
図6に示されるように、カラーフィルタ層103は、赤色フィルタ層1031、緑色フィルタ層1032及び青色フィルタ層1033を含んでもよいが、これらに限定されない。
【0032】
たとえば、隔壁105はストリップ状に分布してもよい。隔壁105は、光を遮断させる作用を果たすように、データラインの上方に設置されてもよい。たとえば、データラインはTFTに電気信号を印加するように配置されてもよい。たとえば、隔壁105の高さは、5~10μmであってもよく、第2サブPDL212の幅とフォトレジスト露光能力によって決定されるが、張り合わせ時に所望したセルギャップに応じて決定できる。隔壁105はストリップ状になるため、発光を特定のサブ画素内に効果的に限定させることができ、色の干渉が生じるリスクを解消できる。高さはたとえば第1ベース基板に垂直な方向での厚さを意味する。
【0033】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、
図6に示されるように、柱状(点状)の支持体0105をさらに含んでもよく、支持体0105は同一色のサブ画素0103の間に設置されてもよい。たとえば、より確実に支持するように、支持体0105は隣接サブ画素間における隔壁105が設置されていない位置に位置する。たとえば、支持体0105と隔壁105はそれぞれサブ画素の異なる辺に位置されてもよい。たとえば、点状の支持体0105は、TFT領域の上方に設置されてもよく、できるだけ大きな支持体0105を設置することが可能として、セルギャップを安定化させる作用を果たす。支持体0105の高さは隔壁105の高さより大きいであってもよく、これにより、支持体0105は主支持作用を果たし、隔壁105は補助的な支持作用を果たし、このように、カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート過程での隔壁105の変形を防止することができる。
【0034】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、
図6に示されるように、複数のサブ画素0103はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素0103は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素0103は第2方向に沿って配列され、第1方向において、隔壁105は、異なるサブ画素0103の間に間隔が有する。隔壁105の分離部位は間隔となる。カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート過程に、隔壁105の受ける力にムラが生じると変形しやすくなり、間隔が設置されると、ラミネート力を放出したり分散させたりすることができ、変形が発生しても、局所に限定されることができる。たとえば、第1方向は第2方向に垂直である。たとえば、第1方向は紙面に沿って垂直な方向であり、第2方向は紙面に沿って水平な方向である。
【0035】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、
図7に示されるように、第1ベース基板101をさらに含み、隔壁105は台形状の断面を有し、台形は、上底辺が下底辺よりも第1ベース基板101から離れ、下底辺の長さが上底辺の長さより大きい。台形状の断面を有する隔壁105は、カラーフィルム基板とアレイ基板とのラミネート際に、倒壊しにくい。
【0036】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、隔壁105は不透光性樹脂材料(吸光材料)を採用してもよい。それによって、漏れた光の光線が隔壁105を通過するときに吸収されて、隣接するサブ画素からの発光をなくす。光利用率をさらに向上させるために、隔壁105は高反射率材料を選択してもよい。
【0037】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板は、
図7に示されるように、少なくとも2つの隔壁105を含み、且つセルギャップに対する支持に寄与するように、略同じ高さを有する。たとえば、カラーフィルム基板は、異なる位置に位置する少なくとも2つの隔壁105を含む。たとえば、各隔壁105は略同じ高さを有する。略同じ高さは、たとえば、同じ高さの場合、又は高さ差と平均高さとの比が5%より小さいである場合を含む。たとえば、セルギャップに対する支持寄与するように、支持体0105と隔壁105も略同じ高さを有してもよい。支持体0105と隔壁105は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよい。なお、支持体0105の高さは隔壁105の高さより大きくてもよい。
【0038】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、
図7及び8に示されるように、カラーフィルム基板10はブラックマトリックス(Black Matrix、BM)102をさらに含んでもよく、各サブ画素0103を仕切るように、ブラックマトリックス102は隣接サブ画素0103の間に設置されてもよい。
【0039】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、
図7及び8に示されるように、カラーフィルム基板10はカラーフィルム積層1030をさらに含んでもよく、カラーフィルム積層1030は、色の異なるカラーフィルムサブ層10300を複数含み、カラーフィルムサブ層10300は、たとえば、赤色サブ層10301、緑色サブ層10302及び青色サブ層10301を含んでもよい。カラーフィルム積層1030は、不透光であるため、ブラックマトリックスの効果を奏することができる。カラーフィルム積層1030の高さはカラーフィルタ層103の高さより大きく、隔壁105はカラーフィルム積層1030に設置され、隔壁105のカラーフィルム基板での正投影がカラーフィルム積層1030のカラーフィルム基板10での正投影内に位置する。カラーフィルム積層1030は隣接サブ画素0103の間に設置されてもよい。
【0040】
それにより、カラーフィルム積層1030は、一部の隔壁105又は一部の支持体0105を代替することができ、本実施例によるカラーフィルム基板を備える表示パネルでは、隔壁105/支持体0105の高さは表示装置のセルギャップより小さくてもよく、これにより、隔壁105/支持体0105の強度を向上させることができる。たとえば、カラーフィルム積層1030の高さは隔壁105の高さ以上であってもよい。
【0041】
たとえば、カラーフィルムサブ層10300の厚さ(第1ベース基板101に垂直な方向での高さ)は、カラーフィルタ層103の厚さ以下であってもよい。たとえば、赤色サブ層10301、緑色サブ層10302及び青色サブ層10301はそれぞれ赤色フィルタ層1031、緑色フィルタ層1032及び青色フィルタ層1033の厚さと同じであってもよいが、それに限定されない。赤色サブ層10301、緑色サブ層10302及び青色サブ層10301はそれぞれ赤色フィルタ層1031、緑色フィルタ層1032及び青色フィルタ層1033の厚さ(第1ベース基板101に垂直な方向での高さ)より小さくてもよい。たとえば、赤色サブ層10301と赤色フィルタ層1031は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよく、緑色サブ層10302と緑色フィルタ層1032は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよく、青色サブ層10303と青色フィルタ層1033は、同じ材料を採用し、且つ同様な製造プロセスにより得られてもよい。異なる厚さのカラーフィルムサブ層10300とカラーフィルタ層103を製造する場合、マルチトーンマスクによって実現できる。
【0042】
図9に示されるように、本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、漏れた光の光線による当該サブ画素の効率の損失を減少させるために、隔壁105の側壁に、それに照射される光を反射させるように配置される反射層106が設置されている。
【0043】
たとえば、
図10に示されるように、反射層106に照射される光が反射されることで、発光ユニットの出射光の利用率を向上させる。反射層106は、隔壁105の反射率を向上させて、さらに発光ユニットからの光をこのサブ画素に反射させて出射させるように、反射可能な金属を採用してもよい。たとえば、効率を向上させるために、支持体0105の側壁にも反射層106が設置されてもよい。あるいは、反射層106は照射される光を吸収するように配置される吸光層に変更されてもよい。
【0044】
図11に示されるように、本発明の一実施例によるカラーフィルム基板では、光漏れを効果的に減少させるために、複数のサブ画素0103はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素0103は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素0103は第2方向に沿って配列され、隔壁105は第1方向に沿って連続的に延在している。すなわち、隔壁105は、第1ベース基板101の同一表面の一側(一端)から他側(他端)まで延在してもよい。
【0045】
本発明の少なくとも一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、サブ画素0103を複数形成することを含み、各サブ画素0103は、カラーフィルタ層103を含み、カラーフィルタ層103は該サブ画素0103を透過する光に1種の色を表示させるように配置され、色の異なる少なくとも2つの隣接サブ画素0103の間に隔壁105が形成されており、隔壁105はそれにより仕切られているサブ画素0103の間に連続的に延在している。
【0046】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁105の側壁に、それに照射される光を反射するように配置される反射層106が設置される。
【0047】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁105は不透光性樹脂材料を採用する。
【0048】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、隔壁105は、各位置で略同じ高さを有する。
【0049】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、第1ベース基板101をさらに含み、隔壁105は台形状の断面を有し、台形は、上底辺が下底辺よりも第1ベース基板101から離れる。たとえば、台形の下底辺の幅は10~15μm、台形の上底辺の幅は3~10μmであってもよい。
【0050】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、複数のサブ画素0103はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素0103は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素0103は第2方向に沿って配列され、隔壁105は第1方向に沿って連続的に延在している。
【0051】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法では、複数のサブ画素0103はアレイ状に配列され、同一色のサブ画素0103は第1方向に沿って延伸しており、色の異なるサブ画素0103は第2方向に沿って配列され、第1方向において、隔壁105は、異なるサブ画素0103の間に間隔を有する。それにより、隔壁105は、発光ユニットから発光する光を特定のサブ画素に限定することができ、漏れた光の光線による隣接するサブ画素の光色への影響を抑制することができ、異なるサブ画素間の色の干渉を回避できる。
【0052】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、支持体0105を形成することをさらに含み、支持体0105は、同一色のサブ画素0103の間に設置され、支持体0105と隔壁105は、略同じ高さを有してもよい。
【0053】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、カラーフィルム積層1030をさらに形成することを含み、カラーフィルム積層1030は、色の異なるカラーフィルムサブ層10300を複数含み、カラーフィルム積層1030の高さはカラーフィルタ層103の高さより大きい。
【0054】
本発明の一実施例によるカラーフィルム基板の製造方法は、下記ステップを含んでもよい。
【0055】
露光現像プロセスにより、第1ベース基板101にBM、カラーフィルタ層(R/G/B)103及び平坦層(Over Coating)104を形成し、次に、平坦層104の上方に支持体0105と隔壁105とを形成する。カラーフィルム基板は、支持体0105及び隔壁105の形状、高さ、位置を調整することによって、適切な支持、セルギャップ及び高さの均一性を実現できる。すなわち、BM→R→G→B→OC→隔壁105/支持体0105の構造とされてもよい。形成されたカラーフィルム基板は
図12に示されることが可能である。支持体0105と隔壁105の反射率を向上させるために、反射率の高い樹脂材料を選択してもよく、さらに反射特性を向上させるために隔壁105と支持体0105の外側に反射層を形成してもよい。
【0056】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネル12は、
図12に示されるように、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかのカラーフィルム基板を備える。
【0057】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネルは、
図12に示されるように、アレイ基板20をさらに含み、アレイ基板20とカラーフィルム基板10は張り合わせられ、隔壁105の高さHはアレイ基板20とカラーフィルム基板10で形成されたセルのセルギャップTより小さい。たとえば、セルギャップTはサブ画素0103に対応した位置でのセルの厚さである。たとえば、カラーフィルム積層1030の高さは隔壁105の高さ以上にしてもよい。たとえば、カラーフィルム積層1030と隔壁105の高さの比は1.5以下である。たとえば、セルギャップTが8μmである場合、カラーフィルム積層1030の高さを6μm(それぞれのサブ層は2μm)にしてもよく、、セルギャップを支持する役割を果たすのを4μmにしてもよく、隔壁105/支持体0105の高さを4μmにしてもよい。封止接着剤の充填及び調整に寄与するとともに、光漏れを抑制することができるように、セルギャップは構造に応じて調整されてもよい。
【0058】
たとえば、アレイ基板は下記方法で製造されてもよい。
(1)TFT層の製造
第2ベース基板201において、成膜、露光、エッチング、現像プロセスを繰り返して、厚さ1μm~100μmのTFTパターンを形成するステップを含む。一般的な成膜プロセスとして、スパッタリング法、プラズマ強化化学気相成長法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition、PECVD)、蒸着、スピンコート、ブレードコート、印刷、インクジェット印刷等を含む。
図12に、一代表的なTFT構造が示されており、第2ベース基板201から上へ、緩衝層202、ゲート203、ゲート絶縁層204、活性層205、エッチストップ層206、ソース・ドレイン層207(ソース2072とドレイン2071を含む)、パッシベーション層208、平坦層209、第1電極210が順に形成されている。
(2)PDL層の製造
第1電極210に第1サブPDL211と第2サブPDL212とを形成する。
(3)発光機能層213の製造
WOLED構造
ファインメタルマスク(Mask)を用いて大寸法OLEDパネルを製造することが困難であるため、トップエミッションOLEDデバイスは一般的にWOLEDデバイス構造を採用し、つまり、PDL層上に、オープンマスク(Open Mask)を用いて、発光機能層213と第2電極214を順に蒸着して、これにより面状の第2電極214を形成する。
【0059】
勿論、直接RGB三原色構造を形成して、次に面状陰極の構造を形成してもよく、成膜方式には、蒸着、インクジェット印刷等が含まれる。
【0060】
たとえば、発光ユニット2002は、第1電極210と、発光機能層213と、第2電極214とを含んでもよく、発光ユニット2002はサブ画素0103に一対一対応してもよい。
【0061】
表示パネルを形成するために、アレイ基板20とカラーフィルム基板10とが形成された後、真空ラミネートして張り合わせを行ってもよい。カラーフィルム基板とアレイ基板を真空下で張り合わせることによって、カラーフィルム基板とアレイ基板を正確に位置合わせすることが制御でき、たとえば両方間の位置合わせの誤差が±5μm内に制御され、光漏れの発生率を減少させることができる。
【0062】
本発明の少なくとも一実施例による表示パネルでは、カラーフィルム基板はカラーフィルム積層1030をさらに含み、カラーフィルム積層1030は、色の異なるカラーフィルムサブ層10300を複数含み、カラーフィルム積層1030の高さはカラーフィルタ層103の高さより大きく、隔壁105はカラーフィルム積層1030に設置され、隔壁105のカラーフィルム基板10での正投影がカラーフィルム積層1030のカラーフィルム基板10での正投影内に位置する。
【0063】
本発明の実施例において、カラーフィルム基板及びその製造方法、表示パネルでは、同一又は類似する部分を互いに参照すればよいため、重複説明を省略する。
【0064】
本発明の少なくとも一実施例は、本発明の少なくとも一実施例によるいずれかの表示パネルを備える表示装置を提供する。
【0065】
たとえば、表示装置は、OLED(Organic Light―Emitting Diode、有機発光ダイオード)ディスプレイ等の表示デバイス、及びこれら表示デバイスを備えるテレビ、デジタルカメラ、携帯電話、腕時計、タブレットコンピュータ、ノートパソコン、ナビゲータ等の任意の表示機能を有する製品又は部材であってもよい。
【0066】
次の点に注意する必要がある。
(1)別段の定義がない限り、本発明の実施例及び図面中、同一符号は同じ意味を有する。
(2)本発明の実施例の図面中、本発明の実施例に関する構造だけが示され、ほかの構造については通常の設計を参照すればよい。
(3)説明の便宜上、本発明の実施例を説明する図面中、層又は領域の厚さは拡大されている。なお、たとえば、層、膜、領域又は基板のような素子は別の素子の「上」又は「下」に位置すると表現する際、該素子は、別の素子の「上」又は「下」に「直接」位置してもよく、又は中間素子が介してもよい。
(4)矛盾がない限り、本発明の同一実施例及び異なる実施例における特徴を互いに組み合わせることができる。
【0067】
以上は、本発明の実施形態の例示に過ぎず、本発明の保護範囲はそれに限定されず、当業者が、本発明に開示された技術範囲を逸脱することなく、容易に想到し得る変更や置換はすべて本発明の保護範囲に属する。従って、本発明の保護範囲は特許請求の範囲による保護範囲を基準とする。