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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-06-16
(45)【発行日】2023-06-26
(54)【発明の名称】浴場排水浄化装置
(51)【国際特許分類】
C02F 1/44 20230101AFI20230619BHJP
B01D 61/04 20060101ALI20230619BHJP
C02F 1/28 20230101ALI20230619BHJP
C02F 1/461 20230101ALI20230619BHJP
【ＦＩ】
C02F1/44 A
B01D61/04
C02F1/28 D
C02F1/461 101Z
【請求項の数】
3
(21)【出願番号】P 2020106086
(22)【出願日】2020-06-19
(65)【公開番号】P2022000294
(43)【公開日】2022-01-04
【審査請求日】2021-05-10
(73)【特許権者】
【識別番号】399130304
【氏名又は名称】ゼオライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100197642
【弁理士】
【氏名又は名称】南瀬 透
(74)【代理人】
【識別番号】100099508
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 久
(74)【代理人】
【識別番号】100182567
【弁理士】
【氏名又は名称】遠坂 啓太
(72)【発明者】
【氏名】嶋村 謙志
【審査官】高橋 成典
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１８／０４９５７９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２００４／０１１８７８０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００３－０３９０７１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－２１７９７５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－０３９６３１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－２７５７６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－０９８３５５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０２Ｆ １／４４
１／４６ － １／４８
Ｂ０１Ｄ ６１／００ － ７１／８２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
浴場排水を被処理水として不純物を除去する逆浸透膜装置と、前記逆浸透膜装置から排出された不純物が濃縮された濃縮水からイオン化した不純物を電圧が印加された電極に吸着させて除去した電解処理水を、前記逆浸透膜装置に被処理水として戻す電解処理装置と、
前記被処理水を、前記逆浸透膜装置へ圧送する高圧ポンプと、
前記高圧ポンプへの被処理水にスケール防止剤を投入する混合装置と、
前記逆浸透膜装置からの処理水を浴場への補給水として再利用するために前記浴場に送水する送水ポンプとを備えた浴場排水浄化装置であり、
前記逆浸透膜装置の上流側に被処理水を貯留する貯留槽が設けられ、
前記電解処理装置は、前記電解処理水を前記被処理水として前記貯留槽へ送水する浴場排水浄化装置。
【請求項2】
前記貯留槽と前記逆浸透膜装置との間には、活性炭ろ過装置が設置された請求項１記載の浴場排水浄化装置。
【請求項3】
前記電解処理装置は、複数台が並列に設置され、前記複数台の電解処理装置に、濃縮水から電解処理水を生成する第１稼働状態と、前記電極の極性を反転して不純物を含む廃水を排出する第２稼働状態とのいずれかを指示して、１台以上の前記電解処理装置を前記第１稼働状態で動作させる制御盤を備えた請求項１または２に記載の浴場排水浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、逆浸透膜装置から排出された不純物が濃縮された濃縮水を温水のまま再利用することで、再加熱に必要な燃料を抑えつつ、水資源の節約を図る浴場排水浄化装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
プールや浴槽などの水槽からの水は、水浄化装置により浄化することで再利用される。
水浄化装置では、浄化のために様々な種類のろ過機が使用される。その中でも、ＲＯ膜とも称される逆浸透膜を用いた逆浸透膜装置は、逆浸透膜の孔が２ｎｍ以下で微小であることから、水の浄化には好適である。しかし、逆浸透膜装置では、逆浸透膜を通過することで不純物が除去された処理水の他に、逆浸透膜を通過できなかったために不純物が多く含まれた濃縮水が排水される。
従って、逆浸透膜装置は、常に濃縮水が捨てられるため、無駄が多く発生する。このような逆浸透膜装置を用いた水浄化装置に関して、特許文献１に記載されたものが知られている。
水浄化装置では、浄化のために様々な種類のろ過機が使用される。その中でも、ＲＯ膜とも称される逆浸透膜を用いた逆浸透膜装置は、逆浸透膜の孔が２ｎｍ以下で微小であることから、水の浄化には好適である。しかし、逆浸透膜装置では、逆浸透膜を通過することで不純物が除去された処理水の他に、逆浸透膜を通過できなかったために不純物が多く含まれた濃縮水が排水される。
従って、逆浸透膜装置は、常に濃縮水が捨てられるため、無駄が多く発生する。このような逆浸透膜装置を用いた水浄化装置に関して、特許文献１に記載されたものが知られている。
【0003】
特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法は、被処理水を貯留する、プールや浴場の浴槽などの大型の水槽から導入された被処理水に塩素イオンを含む電解質溶液を添加して電気化学反応によって滅菌する電解槽に、被処理水を水槽から導入し、滅菌処理後に水処理経路により水槽に還流させるものであり、被処理水に含まれる溶解性物質を濃縮装置の内部に設けられた逆浸透膜によって濃縮分離するものである。濃縮装置にて分離された各種有機物やイオン類が濃縮されて水質が低下した濃縮液は、貯留槽を介して電解槽にて導入される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２００３－３９０７１号公報
【文献】特開２０１３－１０８１０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法では、浴場の浴槽などの水槽から排出された被処理水を様々な処理を経て再度水槽へ戻しているため、温水のまま再利用することで、再加熱に必要な燃料を抑えることができるものと思われる。
しかし、特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法では、浸透膜によって濃縮分離する濃縮装置からの濃縮水が、貯留槽を介して電解槽にて導入され、電気化学反応によって滅菌する電解槽の滅菌処理後に水槽に還流させている。
そのため、特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法では、濃縮装置からの水質が低下した濃縮液が、電解槽を通って、水槽に還流するため、浄化が不十分である。そうなると被処理水の還流を繰り返すと、徐々に水槽の品質が低下してしまう。
濃縮装置から排出される濃縮液が十分に浄化できれば、濃縮水の再利用により、水の消費量を低減させることができる。
しかし、特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法では、浸透膜によって濃縮分離する濃縮装置からの濃縮水が、貯留槽を介して電解槽にて導入され、電気化学反応によって滅菌する電解槽の滅菌処理後に水槽に還流させている。
そのため、特許文献１に記載の水処理装置及び水処理方法では、濃縮装置からの水質が低下した濃縮液が、電解槽を通って、水槽に還流するため、浄化が不十分である。そうなると被処理水の還流を繰り返すと、徐々に水槽の品質が低下してしまう。
濃縮装置から排出される濃縮液が十分に浄化できれば、濃縮水の再利用により、水の消費量を低減させることができる。
【0006】
そこで本発明は、濃縮水を十分に浄化して、温水のまま再利用することで、水の消費量を低減させることが可能であり、再加熱に必要な燃料を抑えることが可能な浴場排水浄化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の浴場排水浄化装置は、浴場排水を被処理水として不純物を除去する逆浸透膜装置と、前記逆浸透膜装置から排出された不純物が濃縮された濃縮水からイオン化した不純物を電圧が印加された電極に吸着させて除去した電解処理水を、前記逆浸透膜装置に被処理水として戻す電解処理装置と、前記被処理水を、前記逆浸透膜装置へ圧送する高圧ポンプと、前記高圧ポンプへの被処理水にスケール防止剤を投入する混合装置と、前記逆浸透膜装置からの処理水を浴場への補給水として再利用するために前記浴場に送水する送水ポンプとを備えことを特徴としたものである。
【0009】
本発明によれば、逆浸透膜装置から不純物を含む濃縮水が排出されるが、濃縮水を再利用しようとして、そのまま逆浸透膜装置へ戻すと、不純物が大量に含まれるため、逆浸透膜装置にて早期に浄化機能が低下してしまうが、電解処理装置が、この濃縮水からイオン化した不純物を除去して電解処理水として逆浸透膜装置へ戻しているので、逆浸透膜装置への負担を過度に高めることなく、濃縮水を再利用することができる。
【0010】
前記逆浸透膜装置の上流側に被処理水を貯留する貯留槽が設けられ、前記電解処理装置は、電解処理水を前記貯留槽へ送水するものとすることができる。
被処理水を貯留する貯留槽に、電解処理水を戻すことにより、貯留槽から逆浸透膜装置への流量を調整することができるため、逆浸透膜装置への流量を安定させることができる。
被処理水を貯留する貯留槽に、電解処理水を戻すことにより、貯留槽から逆浸透膜装置への流量を調整することができるため、逆浸透膜装置への流量を安定させることができる。
【0011】
前記貯留槽と前記逆浸透膜装置との間には、活性炭ろ過装置が設置されたものとすることができる。逆浸透膜装置に送水される被処理水を前処理する活性炭ろ過装置が設置されているため、活性炭が被処理水から不純物を吸着して除去すると共に、脱臭、脱色を行うので、逆浸透膜装置への負担を軽減することができる。また、電解処理装置が浄化した電解処理水も、貯留槽を介して、再び、活性炭ろ過装置にて浄化されるので、電解処理水に対して浄化することができるため、逆浸透膜装置への負担を更に軽減することができる。
【0012】
前記電解処理装置は、複数台が並列に設置され、前記複数台の電解処理装置に、濃縮水から電解処理水を生成する第１稼働状態と、前記電極の極性を反転して不純物を含む廃水を排出する第２稼働状態とのいずれかを指示して、１台以上の前記電解処理装置を前記第１稼働状態で動作させる制御盤を備えたものとすることができる。
複数台の電解処理装置を設置して、制御盤が１台以上の電解処理装置に第１稼働状態で動作させることを指示し、残りの電解処理装置が第２稼働状態で動作することを指示する。そうすることで、電解処理装置が廃水を排出している期間に、他のいずれかの電解処理装置が第１稼働状態で電解処理水を生成している。そのため、電解処理水を止めることなく生成することができる。
複数台の電解処理装置を設置して、制御盤が１台以上の電解処理装置に第１稼働状態で動作させることを指示し、残りの電解処理装置が第２稼働状態で動作することを指示する。そうすることで、電解処理装置が廃水を排出している期間に、他のいずれかの電解処理装置が第１稼働状態で電解処理水を生成している。そのため、電解処理水を止めることなく生成することができる。
【発明の効果】
【0013】
本発明は、電解処理装置が、逆浸透膜装置からの濃縮水からイオン化した不純物を除去して電解処理水として逆浸透膜装置へ戻しているので、逆浸透膜装置への負担を過度に高めることなく、濃縮水を再利用することができる。よって、本発明は、濃縮水を十分に浄化して、温水のまま再利用することで、水の消費量を低減させることが可能であり、再加熱に必要な燃料を抑えることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【発明を実施するための形態】
【0015】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態１に係る水浄化装置を、図面に基づいて説明する。本実施の形態１に係る水浄化装置は、入浴施設に設置され、浴場からの排水を浄化して補給水として再利用する浴場排水浄化装置である。
図１に示す浴場排水浄化装置１０は、前処理部２０と、逆浸透膜処理部３０と、帰還用浄化部４０と、後処理部５０と、制御盤６０とを備えている。
本発明の実施の形態１に係る水浄化装置を、図面に基づいて説明する。本実施の形態１に係る水浄化装置は、入浴施設に設置され、浴場からの排水を浄化して補給水として再利用する浴場排水浄化装置である。
図１に示す浴場排水浄化装置１０は、前処理部２０と、逆浸透膜処理部３０と、帰還用浄化部４０と、後処理部５０と、制御盤６０とを備えている。
【0016】
（前処理部の構成）
まず、前処理部２０の構成について、図２に基づいて説明する。
図２に示すように、前処理部２０は、温水である浴場排水が被処理水となって貯留される排水槽２１と、排水槽２１に接続されたスクリーン２２と、スクリーン２２に接続された生物ろ過槽２３と、生物ろ過槽２３に曝気槽ポンプ２４を介して接続された液中膜槽２５とを備えている。
曝気槽ポンプ２４は、交互に運転されるために２基設置されている。
排水槽２１には、曝気用の排水散気ブロワ２１ａからの空気を散気する散気管２１ｂと、排水槽２１の被処理水を送水する２基の送水ポンプ２１ｃとが、槽内に配置されている。
まず、前処理部２０の構成について、図２に基づいて説明する。
図２に示すように、前処理部２０は、温水である浴場排水が被処理水となって貯留される排水槽２１と、排水槽２１に接続されたスクリーン２２と、スクリーン２２に接続された生物ろ過槽２３と、生物ろ過槽２３に曝気槽ポンプ２４を介して接続された液中膜槽２５とを備えている。
曝気槽ポンプ２４は、交互に運転されるために２基設置されている。
排水槽２１には、曝気用の排水散気ブロワ２１ａからの空気を散気する散気管２１ｂと、排水槽２１の被処理水を送水する２基の送水ポンプ２１ｃとが、槽内に配置されている。
【0017】
スクリーン２２は、幅狭なスリットが多数並んだ金属板に被処理水を通過させることで垢や髪の毛などを除去するものである。
生物ろ過槽２３には、曝気用の生物ろ過散気ブロワ２３ａからの空気を散気する散気管２３ｂが、槽内に配置されている
液中膜槽２５は、活性汚泥に含まれる好気性微生物により汚物を分解するものである。
液中膜槽２５には、槽内に空気を送気するために、交互に運転される２基の液中膜ブロワ２５ａが配置されている。また、液中膜槽２５には、槽内の被処理水を引き上げるために、並列に同時運転される２基の吸引ポンプ２５ｂが配置されている。
液中膜槽２５には、液中膜槽２５から流出された被処理水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ１１に、循環ポンプ２５ｃが設けられている。
液中膜槽２５は、原水メーターＭ１１および濁度計Ｍ１２が設けられた配管Ｐ１２を介して逆浸透膜処理部３０に接続されている。
生物ろ過槽２３には、曝気用の生物ろ過散気ブロワ２３ａからの空気を散気する散気管２３ｂが、槽内に配置されている
液中膜槽２５は、活性汚泥に含まれる好気性微生物により汚物を分解するものである。
液中膜槽２５には、槽内に空気を送気するために、交互に運転される２基の液中膜ブロワ２５ａが配置されている。また、液中膜槽２５には、槽内の被処理水を引き上げるために、並列に同時運転される２基の吸引ポンプ２５ｂが配置されている。
液中膜槽２５には、液中膜槽２５から流出された被処理水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ１１に、循環ポンプ２５ｃが設けられている。
液中膜槽２５は、原水メーターＭ１１および濁度計Ｍ１２が設けられた配管Ｐ１２を介して逆浸透膜処理部３０に接続されている。
【0018】
（逆浸透膜処理部の構成）
次に、逆浸透膜処理部３０の構成について、図３に基づいて説明する。
図３に示すように、逆浸透膜処理部３０は、前処理部２０の液中膜槽２５（図２参照）に接続された中継槽３１と、中継槽３１とろ過ポンプ３２を介して接続された活性炭ろ過装置３３と、活性炭ろ過装置３３に接続されたチェックフィルタ３４と、チェックフィルタ３４に接続された高圧ポンプ３５と、高圧ポンプ３５に接続された逆浸透膜装置３６とを備えている。
次に、逆浸透膜処理部３０の構成について、図３に基づいて説明する。
図３に示すように、逆浸透膜処理部３０は、前処理部２０の液中膜槽２５（図２参照）に接続された中継槽３１と、中継槽３１とろ過ポンプ３２を介して接続された活性炭ろ過装置３３と、活性炭ろ過装置３３に接続されたチェックフィルタ３４と、チェックフィルタ３４に接続された高圧ポンプ３５と、高圧ポンプ３５に接続された逆浸透膜装置３６とを備えている。
【0019】
中継槽３１は、前処理部２０（図２参照）からの被処理水を一時的に貯留する貯留槽である。また、中継槽３１には、帰還用浄化部４０からの処理水が送水される配管Ｐ３１が接続されている。
ろ過ポンプ３２は、通常時は交互に運転されるために２基設置されている。
活性炭ろ過装置３３（ろ過装置）は、活性炭により被処理水をろ過する。
チェックフィルタ３４は、筒状の芯材に何重にも糸を巻いた糸巻きフィルタがカートリッジフィルターとして内蔵されている。糸巻きフィルタは内側から外側に向かって不純物を通過させることにより捕捉する。
チェックフィルタ３４と高圧ポンプ３５との間の配管Ｐ２１には、スケール防止剤を投入するための混合装置３７からの配管が接続されている。
ろ過ポンプ３２は、通常時は交互に運転されるために２基設置されている。
活性炭ろ過装置３３（ろ過装置）は、活性炭により被処理水をろ過する。
チェックフィルタ３４は、筒状の芯材に何重にも糸を巻いた糸巻きフィルタがカートリッジフィルターとして内蔵されている。糸巻きフィルタは内側から外側に向かって不純物を通過させることにより捕捉する。
チェックフィルタ３４と高圧ポンプ３５との間の配管Ｐ２１には、スケール防止剤を投入するための混合装置３７からの配管が接続されている。
【0020】
逆浸透膜装置３６は、２ｎｍ以下の孔により、水を通過させるが不純物を通過させない、ＲＯ膜とも称される逆浸透膜に、圧力を掛けた被処理水を通過させることで、被処理水から不純物を除去するものである。
逆浸透膜装置３６は、被処理水から不純物が除去された水は処理水（浴槽給水）として排出され、逆浸透膜が通過できずに不純物が濃縮された水は濃縮水として排出される。
逆浸透膜装置３６の処理水が送水され、後処理部５０に接続される配管Ｐ２２には、ｐＨ調整剤と、減菌剤とを投入するための混合装置３８，３９からの配管が接続されている。この配管Ｐ２２には、ｐＨを測定するためのｐＨ計Ｍ２１と、電気伝導率を測定する導電率計Ｍ２２とが設けられている。
また、逆浸透膜装置３６からの濃縮水が送水される配管Ｐ２３には、帰還用浄化部４０が接続されている。
更に、逆浸透膜装置３６からの濃縮水が送水される配管Ｐ２４が高圧ポンプ３５の上流側に接続されている。
逆浸透膜装置３６は、被処理水から不純物が除去された水は処理水（浴槽給水）として排出され、逆浸透膜が通過できずに不純物が濃縮された水は濃縮水として排出される。
逆浸透膜装置３６の処理水が送水され、後処理部５０に接続される配管Ｐ２２には、ｐＨ調整剤と、減菌剤とを投入するための混合装置３８，３９からの配管が接続されている。この配管Ｐ２２には、ｐＨを測定するためのｐＨ計Ｍ２１と、電気伝導率を測定する導電率計Ｍ２２とが設けられている。
また、逆浸透膜装置３６からの濃縮水が送水される配管Ｐ２３には、帰還用浄化部４０が接続されている。
更に、逆浸透膜装置３６からの濃縮水が送水される配管Ｐ２４が高圧ポンプ３５の上流側に接続されている。
【0021】
（帰還用浄化部の構成）
次に、帰還用浄化部４０を図３に基づいて説明する。
図３に示すように、帰還用浄化部４０は、逆浸透膜処理部３０からの配管Ｐ２３に接続される電解処理装置４１を備えている。
配管Ｐ２３には、水流計Ｍ３１と、導電率計Ｍ３２とが設けられている。
また、電解処理装置４１からの電解処理水が送水される配管Ｐ３１には、導電率計Ｍ３３が設けられている。また、導電率計Ｍ３３が設けられた配管Ｐ３１の下流側には、電解処理装置４１からの廃水が下水放流される配管Ｐ３２が接続されている。
次に、帰還用浄化部４０を図３に基づいて説明する。
図３に示すように、帰還用浄化部４０は、逆浸透膜処理部３０からの配管Ｐ２３に接続される電解処理装置４１を備えている。
配管Ｐ２３には、水流計Ｍ３１と、導電率計Ｍ３２とが設けられている。
また、電解処理装置４１からの電解処理水が送水される配管Ｐ３１には、導電率計Ｍ３３が設けられている。また、導電率計Ｍ３３が設けられた配管Ｐ３１の下流側には、電解処理装置４１からの廃水が下水放流される配管Ｐ３２が接続されている。
【0022】
ここで、電解処理装置４１について説明する。
電解処理装置４１は、一対の電極に電圧を印加して、濃縮水に含まれるイオン性の不純物を、マイナスイオン化した不純物を正極に、プラスイオン化した不純物を負極に吸着させることで、電極間に流れる不純物が除去された水を電解処理水として排出するものである。
電解処理装置４１は、電極への電圧の極性を反転させることで、それぞれの電極から不純物を引きが剥がすことができる。
電解処理装置４１は、例えば、特許文献２に記載の電解処理装置が使用できる。
電解処理装置４１は、一対の電極に電圧を印加して、濃縮水に含まれるイオン性の不純物を、マイナスイオン化した不純物を正極に、プラスイオン化した不純物を負極に吸着させることで、電極間に流れる不純物が除去された水を電解処理水として排出するものである。
電解処理装置４１は、電極への電圧の極性を反転させることで、それぞれの電極から不純物を引きが剥がすことができる。
電解処理装置４１は、例えば、特許文献２に記載の電解処理装置が使用できる。
【0023】
この電解処理装置は、陽極及び陰極の両電極の間に溶存イオンを含有する原料水を流し、電圧を印加し、溶存イオンのうち陰イオン成分を陽極に、陽イオン成分を陰極に吸着して濃縮し、両電極を短絡させるか逆電流を流す等の方法により、濃縮されたイオンを各電極から脱着させる脱イオン装置（以下、「ＣＤＩ装置」という）と電解セルから構成された、というものである。
また、電解処理装置４１は、シオンテック社のスマート脱イオンシステム（Smart Deionization System：ＳＤＩ（商標））が使用できる。
また、電解処理装置４１は、シオンテック社のスマート脱イオンシステム（Smart Deionization System：ＳＤＩ（商標））が使用できる。
【0024】
（後処理部の構成）
次に、後処理部５０の構成について、図４に基づいて説明する。
図４に示す後処理部５０は、逆浸透膜処理部３０からの配管Ｐ２２からの処理水を再生水として貯留する処理水槽５１と、処理水槽５１と送水ポンプ５２を介して接続された二次処理水槽５３と、二次処理水槽５３と送水ポンプ５４ａを介して接続された熱交換器５５と、熱交換器５５に接続された温水槽５６と、温水槽５６からの温水を補給水Ｗ３として浴場に送水する送水ポンプ５７とを備えている。
次に、後処理部５０の構成について、図４に基づいて説明する。
図４に示す後処理部５０は、逆浸透膜処理部３０からの配管Ｐ２２からの処理水を再生水として貯留する処理水槽５１と、処理水槽５１と送水ポンプ５２を介して接続された二次処理水槽５３と、二次処理水槽５３と送水ポンプ５４ａを介して接続された熱交換器５５と、熱交換器５５に接続された温水槽５６と、温水槽５６からの温水を補給水Ｗ３として浴場に送水する送水ポンプ５７とを備えている。
【0025】
処理水槽５１は、一時的に処理水を貯留するものであり、市水補給弁５１ａを介して市水が補給される。
処理水槽５１には、処理水槽５１から流出された処理水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ４１に、減菌剤を投入するための混合装置５１ｂが接続されている。この循環管路Ｐ４１には、循環ポンプ５１ｃと残留塩素計Ｍ４１が設けられている。
二次処理水槽５３には、水位計５３ａが設置されている。二次処理水槽５３からの再生水を各浴槽の給水（浴槽給水Ｗ１）に使用するための送水ポンプ５４ｂが設けられている。
また、二次処理水槽５３からの再生水を、水風呂補給水Ｗ２としたり、浴場への補給水Ｗ３としたりするための送水ポンプ５４ｃが設けられている。
温水槽５６には、水位計５６ａが設置されている。
また、温水槽５６には、温水槽５６から流出された温水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ４２に、熱交換器５６ｂが設けられている。この循環管路Ｐ４２には、循環ポンプ５６ｃが設けられている。
処理水槽５１には、処理水槽５１から流出された処理水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ４１に、減菌剤を投入するための混合装置５１ｂが接続されている。この循環管路Ｐ４１には、循環ポンプ５１ｃと残留塩素計Ｍ４１が設けられている。
二次処理水槽５３には、水位計５３ａが設置されている。二次処理水槽５３からの再生水を各浴槽の給水（浴槽給水Ｗ１）に使用するための送水ポンプ５４ｂが設けられている。
また、二次処理水槽５３からの再生水を、水風呂補給水Ｗ２としたり、浴場への補給水Ｗ３としたりするための送水ポンプ５４ｃが設けられている。
温水槽５６には、水位計５６ａが設置されている。
また、温水槽５６には、温水槽５６から流出された温水が再び流入するように接続された循環管路Ｐ４２に、熱交換器５６ｂが設けられている。この循環管路Ｐ４２には、循環ポンプ５６ｃが設けられている。
【0026】
図１に示す制御盤６０は、各部に設置された計器からの信号に基づいて浴場排水浄化装置１０を全体制御するものである。
制御盤６０は、図２から図４に示すように、主制御盤６１と、屋内盤６２と、屋外盤６３（図４参照）とから構成されている。
主制御盤６１は、全体制御を行うための制御部が格納されている。
主制御盤６１は、水流計、水位計、導電率計、ｐＨ計からの信号に基づいて、各ブロアとポンプとに電源を供給する。
屋内盤６２は、液中膜槽２５を制御すると共に、主制御盤６１からの信号や電源を屋外盤６３へ中継する機能を有する。
制御盤６０は、図２から図４に示すように、主制御盤６１と、屋内盤６２と、屋外盤６３（図４参照）とから構成されている。
主制御盤６１は、全体制御を行うための制御部が格納されている。
主制御盤６１は、水流計、水位計、導電率計、ｐＨ計からの信号に基づいて、各ブロアとポンプとに電源を供給する。
屋内盤６２は、液中膜槽２５を制御すると共に、主制御盤６１からの信号や電源を屋外盤６３へ中継する機能を有する。
【0027】
以上のように構成された本発明の実施の形態１に係る浴場排水浄化装置の動作および使用状態について図面に基づいて説明する。
（前処理部での処理）
まず、図２に示すように、浴場排水からの被処理水は、排水槽２１に貯留される。排水槽２１に貯留された被処理水は、送水ポンプ２１ｃのよりスクリーン２２へ送水される。
スクリーン２２では、髪の毛や垢が金属板に形成されたスリットを通過することで除去される。
スクリーン２２から生物ろ過槽２３へ送水された被処理水は、好気性微生物により溶け込んだ不純物が分解され、除去される。
更に、生物ろ過槽２３から曝気槽ポンプ２４により送水された被処理水は、液中膜槽２５により活性汚泥に含まれた好気性微生物により不純物が分解され、除去される。
そして、吸引ポンプ２５ｂにより生物ろ過槽２３から逆浸透膜処理部３０へ、配管Ｐ１２を介して送水される。
（前処理部での処理）
まず、図２に示すように、浴場排水からの被処理水は、排水槽２１に貯留される。排水槽２１に貯留された被処理水は、送水ポンプ２１ｃのよりスクリーン２２へ送水される。
スクリーン２２では、髪の毛や垢が金属板に形成されたスリットを通過することで除去される。
スクリーン２２から生物ろ過槽２３へ送水された被処理水は、好気性微生物により溶け込んだ不純物が分解され、除去される。
更に、生物ろ過槽２３から曝気槽ポンプ２４により送水された被処理水は、液中膜槽２５により活性汚泥に含まれた好気性微生物により不純物が分解され、除去される。
そして、吸引ポンプ２５ｂにより生物ろ過槽２３から逆浸透膜処理部３０へ、配管Ｐ１２を介して送水される。
【0028】
（逆浸透膜処理部での処理）
図３に示すように、逆浸透膜処理部３０では、まず、中継槽３１に、前処理部２０からの被処理水が貯留される。中継槽３１からろ過ポンプ３２により送水された被処理水は、活性炭ろ過装置３３へ送水される。活性炭ろ過装置３３では、多孔質の活性炭により、被処理水中の有害物質および臭気物質等を吸着させ、除去して、脱色、脱臭する。
次に、チェックフィルタ３４に送水された被処理水は、チェックフィルタ３４の糸巻きフィルタにより、活性炭ろ過装置３３では除去できなかった不純物を除去する。こうすることで、逆浸透膜装置３６へ導入される前の被処理水からできるだけ不純物を除去することができる。
チェックフィルタ３４から高圧ポンプ３５に繋がる配管Ｐ２１には、混合装置３７によりスケール防止剤が投入される。
スケール防止剤が投入されることで、高圧ポンプ３５より下流の配管の内周壁に、被処理水に溶解したカルシウムが析出して付着して積層してしまうことを防止することができる。
図３に示すように、逆浸透膜処理部３０では、まず、中継槽３１に、前処理部２０からの被処理水が貯留される。中継槽３１からろ過ポンプ３２により送水された被処理水は、活性炭ろ過装置３３へ送水される。活性炭ろ過装置３３では、多孔質の活性炭により、被処理水中の有害物質および臭気物質等を吸着させ、除去して、脱色、脱臭する。
次に、チェックフィルタ３４に送水された被処理水は、チェックフィルタ３４の糸巻きフィルタにより、活性炭ろ過装置３３では除去できなかった不純物を除去する。こうすることで、逆浸透膜装置３６へ導入される前の被処理水からできるだけ不純物を除去することができる。
チェックフィルタ３４から高圧ポンプ３５に繋がる配管Ｐ２１には、混合装置３７によりスケール防止剤が投入される。
スケール防止剤が投入されることで、高圧ポンプ３５より下流の配管の内周壁に、被処理水に溶解したカルシウムが析出して付着して積層してしまうことを防止することができる。
【0029】
次に、高圧ポンプ３５が逆浸透膜装置３６へ送水される被処理水に圧力を掛ける。高圧ポンプ３５により圧力が掛かった状態の被処理水は、逆浸透膜装置３６へ圧送される。
逆浸透膜装置３６は逆浸透膜を通過して不純物が除去された処理水は、後処理部５０へ配管Ｐ２２を通じて送水される。
このとき、処理水には、ｐＨ調整剤が混合装置３８により混合され、減菌剤が混合装置３９により混合される。
逆浸透膜装置３６は逆浸透膜を通過して不純物が除去された処理水は、後処理部５０へ配管Ｐ２２を通じて送水される。
このとき、処理水には、ｐＨ調整剤が混合装置３８により混合され、減菌剤が混合装置３９により混合される。
【0030】
処理水が再生水として配管Ｐ２２を通じて後処理部５０に送水されるときに、ｐＨ計Ｍ２１によりｐＨ値が測定され、導電率計Ｍ２２により電気伝導率が測定される。
ｐＨ計Ｍ２１により測定されたｐＨ値に基づいて主制御盤６１は、図２に示すｐＨ調整剤を投入する混合装置３８を調整する。
また、導電率計Ｍ２２により測定された電気伝導率に基づいて主制御盤６１は、浄化度を高めるために、各ろ過槽での除去度を高めたり、不純物が含有される度合いが低い濃縮水の場合には、逆浸透膜装置３６からの濃縮水を、配管Ｐ２３により帰還用浄化部４０へ流さずに、配管Ｐ２４により高圧ポンプ３５の上流側に送水したりする。
ｐＨ計Ｍ２１により測定されたｐＨ値に基づいて主制御盤６１は、図２に示すｐＨ調整剤を投入する混合装置３８を調整する。
また、導電率計Ｍ２２により測定された電気伝導率に基づいて主制御盤６１は、浄化度を高めるために、各ろ過槽での除去度を高めたり、不純物が含有される度合いが低い濃縮水の場合には、逆浸透膜装置３６からの濃縮水を、配管Ｐ２３により帰還用浄化部４０へ流さずに、配管Ｐ２４により高圧ポンプ３５の上流側に送水したりする。
【0031】
（後処理部での処理）
図４に示すように、後処理部５０では、再生水が、まず第１次貯留槽としての処理水槽５１に貯留される。このとき水量が不足するようであれば、市水補給弁５１ａが開栓され、市水が補充される。
また、処理水槽５１から送水ポンプ５２により送水された再生水は、第１次貯留槽としての二次処理水槽５３に送水される。
二次処理水槽５３に貯留された再生水の温度が十分であれば、送水ポンプ５４ｂにより各浴槽へ送水される。
二次処理水槽５３に貯留された再生水の温度が低い場合でも、水風呂であれば使用できる。その場合には、送水ポンプ５４ｃにより水風呂補給水Ｗ２として送水したり、浴場の補給水Ｗ３として送水したりする。
そして、浴場で使用する補給水Ｗ３として温度が低い場合には、送水ポンプ５４ａにより送水される再生水を、熱交換器５５により循環する温水と熱交換されることにより加熱される。
図４に示すように、後処理部５０では、再生水が、まず第１次貯留槽としての処理水槽５１に貯留される。このとき水量が不足するようであれば、市水補給弁５１ａが開栓され、市水が補充される。
また、処理水槽５１から送水ポンプ５２により送水された再生水は、第１次貯留槽としての二次処理水槽５３に送水される。
二次処理水槽５３に貯留された再生水の温度が十分であれば、送水ポンプ５４ｂにより各浴槽へ送水される。
二次処理水槽５３に貯留された再生水の温度が低い場合でも、水風呂であれば使用できる。その場合には、送水ポンプ５４ｃにより水風呂補給水Ｗ２として送水したり、浴場の補給水Ｗ３として送水したりする。
そして、浴場で使用する補給水Ｗ３として温度が低い場合には、送水ポンプ５４ａにより送水される再生水を、熱交換器５５により循環する温水と熱交換されることにより加熱される。
【0032】
熱交換器５５により加熱された再生水は、温水槽５６に貯留される。温水槽５６では、再生水が循環管路Ｐ４２を循環ポンプ５６ｃにより循環することで、循環管路Ｐ４２に設けられた熱交換器５６ｂにより更に加熱される。
そして、十分に加熱された温水槽５６の貯留された再生水は、送水ポンプ５７により補給水Ｗ３として浴場に送水される。
そして、十分に加熱された温水槽５６の貯留された再生水は、送水ポンプ５７により補給水Ｗ３として浴場に送水される。
【0033】
（帰還用浄化部での処理）
次に、逆浸透膜処理部３０の逆浸透膜装置３６により不純物を含む水として排出された濃縮水の再生について説明する。
逆浸透膜装置３６から排出された濃縮水は、配管Ｐ２３により帰還用浄化部４０に送水される。
帰還用浄化部４０に送水された濃縮水は、配管Ｐ２３に設けられた水流計Ｍ３１により流量が測定され、導電率計Ｍ３２により電気伝導率が測定される。
そして、濃縮水が電解処理装置４１に送水されると、電解処理装置４１によりイオン化した不純物が除去される。
不純物が除去された濃縮水は電解処理水となって、配管Ｐ３１を介して中継槽３１に送水される。
次に、逆浸透膜処理部３０の逆浸透膜装置３６により不純物を含む水として排出された濃縮水の再生について説明する。
逆浸透膜装置３６から排出された濃縮水は、配管Ｐ２３により帰還用浄化部４０に送水される。
帰還用浄化部４０に送水された濃縮水は、配管Ｐ２３に設けられた水流計Ｍ３１により流量が測定され、導電率計Ｍ３２により電気伝導率が測定される。
そして、濃縮水が電解処理装置４１に送水されると、電解処理装置４１によりイオン化した不純物が除去される。
不純物が除去された濃縮水は電解処理水となって、配管Ｐ３１を介して中継槽３１に送水される。
【0034】
中継槽３１に戻った電解処理水は、被処理水と一緒に、再度、活性炭ろ過装置３３、チェックフィルタ３４を介して高圧ポンプ３５により逆浸透膜装置３６へ圧送される。
そして、上述したように逆浸透膜装置３６からの処理水が再生水となって配管Ｐ２２を介して後処理部５０へ送水される。
そして、上述したように逆浸透膜装置３６からの処理水が再生水となって配管Ｐ２２を介して後処理部５０へ送水される。
【0035】
このように、逆浸透膜装置３６から不純物を含む濃縮水が排出されるが、濃縮水を再利用しようとして、そのまま逆浸透膜装置３６へ戻すと、不純物が大量に含まれるため、逆浸透膜装置３６にて早期に逆浸透膜が劣化して浄化機能が低下してしまう。しかし、電解処理装置４１が、この濃縮水からイオン化した不純物を除去している。従って、電解処理装置４１は、逆浸透膜装置３６の逆浸透膜を通過できなかったイオン化した不純物を除去することができるので、濃縮水を浄化することができる。
電解処理装置４１は、濃縮水を浄化した電解処理水を、被処理水として逆浸透膜装置３６へ戻しているので、逆浸透膜装置３６への負担を過度に高めることなく、濃縮水を再利用することができる。
電解処理装置４１は、濃縮水を浄化した電解処理水を、被処理水として逆浸透膜装置３６へ戻しているので、逆浸透膜装置３６への負担を過度に高めることなく、濃縮水を再利用することができる。
【0036】
また、電解処理水は、逆浸透膜装置３６が被処理水を浄化して排出された濃縮水を電解処理装置４１により浄化したものであり、濃縮水は、温水である浴場排水を逆浸透膜装置３６に通過させたものであるため、市水より温度が高いので、市水を加熱して使用するよりエネルギーを節約することができる。
従って、浴場排水浄化装置１０は、濃縮水を十分に浄化して、温水のまま再利用することで、水の消費量を低減させることが可能であり、再加熱に必要な燃料を抑えることが可能である。
従って、浴場排水浄化装置１０は、濃縮水を十分に浄化して、温水のまま再利用することで、水の消費量を低減させることが可能であり、再加熱に必要な燃料を抑えることが可能である。
【0037】
被処理水を貯留する中継槽３１に、電解処理水を戻すことにより、中継槽３１から逆浸透膜装置３６への流量を調整することができるため、逆浸透膜装置３６への流量を安定させることができる。
【0038】
中継槽３１と、逆浸透膜装置３６との間には、活性炭ろ過装置３３が設置されているため、活性炭ろ過装置３３における活性炭が被処理水から不純物を吸着して除去すると共に、脱臭、脱色を行うので、逆浸透膜装置３６への負担を軽減することができる。また、電解処理装置４１が浄化した電解処理水も、中継槽３１を介して、再び、活性炭ろ過装置３３にて浄化されるので、電解処理水に対して浄化することができるため、逆浸透膜装置３６への負担を更に軽減することができる。
【0039】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２に係る浴場排水浄化装置を図面に基づいて説明する。
なお、図５においては、図１と同じ構成のものは同符号を付して説明を省略する。
図５に示す本実施の形態２に係る浴場排水浄化装置１１は、帰還用浄化部４０ｘに複数台の電解処理装置４１を設置したものである。
本実施の形態２では、電解処理装置４１を２台設置している。
本発明の実施の形態２に係る浴場排水浄化装置を図面に基づいて説明する。
なお、図５においては、図１と同じ構成のものは同符号を付して説明を省略する。
図５に示す本実施の形態２に係る浴場排水浄化装置１１は、帰還用浄化部４０ｘに複数台の電解処理装置４１を設置したものである。
本実施の形態２では、電解処理装置４１を２台設置している。
【0040】
電解処理装置４１は、濃縮水から電解処理水を生成する第１稼働状態で一定時間稼働させると、電極に不純物が蓄積されるため、不純物を電極から除去するには、電極の極性を反転して不純物を含む廃水を排出する第２稼働状態で動作する期間が必要になる。その期間では、電解処理装置にて電解処理水の生成ができない。
そこで、２台の電解処理装置４１を設置して、制御盤６０が、２台うちの一方の電解処理装置４１に第１稼働状態で動作させることを指示し、残りの他方の電解処理装置４１が第２稼働状態で動作することを指示する。
そうすることで、電解処理装置４１が廃水を排出している期間に、他のいずれかの電解処理装置４１が第１稼働状態で電解処理水を生成している。そのため、電解処理水の生成を止めることなく生成することができる。
なお、本実施の形態２では、２台の電解処理装置４１を交互に第１稼働状態と第２稼働状態とを切り替えてもよいが、２台同時に第１稼働状態で動作させながら、いずれか一方の電解処理装置４１を第２稼働状態で動作するように指示してもよい。
そこで、２台の電解処理装置４１を設置して、制御盤６０が、２台うちの一方の電解処理装置４１に第１稼働状態で動作させることを指示し、残りの他方の電解処理装置４１が第２稼働状態で動作することを指示する。
そうすることで、電解処理装置４１が廃水を排出している期間に、他のいずれかの電解処理装置４１が第１稼働状態で電解処理水を生成している。そのため、電解処理水の生成を止めることなく生成することができる。
なお、本実施の形態２では、２台の電解処理装置４１を交互に第１稼働状態と第２稼働状態とを切り替えてもよいが、２台同時に第１稼働状態で動作させながら、いずれか一方の電解処理装置４１を第２稼働状態で動作するように指示してもよい。
【産業上の利用可能性】
【0041】
本発明は、水を浄化する際に好適であり、入浴施設にて浴槽排水を浄化する際に最適である。
【符号の説明】
【0042】
１０，１１ 浴場排水浄化装置
２０ 前処理部
２１ 排水槽
２１ａ 排水散気ブロワ
２１ｂ 散気管
２１ｃ 送水ポンプ
２２ スクリーン
２３ 生物ろ過槽
２３ａ 生物ろ過散気ブロワ
２３ｂ 散気管
２４ 曝気槽ポンプ
２５ 液中膜槽
２５ａ 液中膜ブロワ
２５ｂ 吸引ポンプ
２５ｃ 循環ポンプ
３０ 逆浸透膜処理部
３１ 中継槽
３２ ろ過ポンプ
３３ 活性炭ろ過装置
３４ チェックフィルタ
３５ 高圧ポンプ
３６ 逆浸透膜装置
３７，３８，３９ 混合装置
４０，４０ｘ 帰還用浄化部
４１ 電解処理装置
５０ 後処理部
５１ 処理水槽
５１ａ 市水補給弁
５１ｂ 混合装置
５１ｃ 循環ポンプ
５２ 送水ポンプ
５３ 二次処理水槽
５３ａ 水位計
５４ａ，５４ｂ，５４ｃ 送水ポンプ
５５ 熱交換器
５６ 温水槽
５６ａ 水位計
５６ｂ 熱交換器
５６ｃ 循環ポンプ
５７ 送水ポンプ
６０ 制御盤
６１ 主制御盤
６２ 屋内盤
６３ 屋外盤
Ｍ１１ 原水メーター
Ｍ１２ 濁度計
Ｍ２１ ｐＨ計
Ｍ２２ 導電率計
Ｍ３１ 水流計
Ｍ３２，Ｍ３３ 導電率計
Ｍ４１ 残留塩素計
Ｐ１１，Ｐ４１，Ｐ４２ 循環管路
Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ２４，Ｐ３１，Ｐ３２ 配管
Ｗ１ 浴槽給水
Ｗ２ 水風呂補給水
Ｗ３ 補給水
２０ 前処理部
２１ 排水槽
２１ａ 排水散気ブロワ
２１ｂ 散気管
２１ｃ 送水ポンプ
２２ スクリーン
２３ 生物ろ過槽
２３ａ 生物ろ過散気ブロワ
２３ｂ 散気管
２４ 曝気槽ポンプ
２５ 液中膜槽
２５ａ 液中膜ブロワ
２５ｂ 吸引ポンプ
２５ｃ 循環ポンプ
３０ 逆浸透膜処理部
３１ 中継槽
３２ ろ過ポンプ
３３ 活性炭ろ過装置
３４ チェックフィルタ
３５ 高圧ポンプ
３６ 逆浸透膜装置
３７，３８，３９ 混合装置
４０，４０ｘ 帰還用浄化部
４１ 電解処理装置
５０ 後処理部
５１ 処理水槽
５１ａ 市水補給弁
５１ｂ 混合装置
５１ｃ 循環ポンプ
５２ 送水ポンプ
５３ 二次処理水槽
５３ａ 水位計
５４ａ，５４ｂ，５４ｃ 送水ポンプ
５５ 熱交換器
５６ 温水槽
５６ａ 水位計
５６ｂ 熱交換器
５６ｃ 循環ポンプ
５７ 送水ポンプ
６０ 制御盤
６１ 主制御盤
６２ 屋内盤
６３ 屋外盤
Ｍ１１ 原水メーター
Ｍ１２ 濁度計
Ｍ２１ ｐＨ計
Ｍ２２ 導電率計
Ｍ３１ 水流計
Ｍ３２，Ｍ３３ 導電率計
Ｍ４１ 残留塩素計
Ｐ１１，Ｐ４１，Ｐ４２ 循環管路
Ｐ１２，Ｐ２１，Ｐ２２，Ｐ２３，Ｐ２４，Ｐ３１，Ｐ３２ 配管
Ｗ１ 浴槽給水
Ｗ２ 水風呂補給水
Ｗ３ 補給水
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】