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特許7299619低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法
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  • 特許-低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法 図1
  • 特許-低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法 図2
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-06-20
(45)【発行日】2023-06-28
(54)【発明の名称】低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法
(51)【国際特許分類】
   B22D 18/04 20060101AFI20230621BHJP
   B22D 18/06 20060101ALI20230621BHJP
   B22D 18/08 20060101ALI20230621BHJP
   B22D 37/00 20060101ALI20230621BHJP
   B22D 46/00 20060101ALI20230621BHJP
   B22D 17/30 20060101ALI20230621BHJP
   B22D 17/32 20060101ALI20230621BHJP
【FI】
B22D18/04 Z
B22D18/06 509Z
B22D18/08 501Z
B22D37/00 A
B22D46/00
B22D17/30 D
B22D17/32
【請求項の数】 4
(21)【出願番号】P 2019217721
(22)【出願日】2019-12-02
(65)【公開番号】P2021087959
(43)【公開日】2021-06-10
【審査請求日】2022-08-05
(73)【特許権者】
【識別番号】000183945
【氏名又は名称】助川電気工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001922
【氏名又は名称】弁理士法人日峯国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】冨田 陸浩
(72)【発明者】
【氏名】鬼澤 達也
【審査官】祢屋 健太郎
(56)【参考文献】
【文献】特許第5639853(JP,B2)
【文献】特開昭62-289360(JP,A)
【文献】特開2016-124007(JP,A)
【文献】特開2014-104469(JP,A)
【文献】特開2012-145331(JP,A)
【文献】特開平09-178641(JP,A)
【文献】特開2011-189371(JP,A)
【文献】特開2016-215257(JP,A)
【文献】国際公開第2016/103369(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B22D 18/00
B22D 37/00
B22D 46/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
加熱保持された溶湯を鋳型内に注湯するためのストーク内に保持された前記溶湯の表面に存在する浮遊物を検出する方法であって、
前記ストークの外側に配置された第1センサを用いて前記溶湯を所定の位置で維持し、
前記鋳型を離型させてストークの上方に第2センサを差し入れて前記溶湯の表面の位置を測定し、
前記第1センサで維持した前記溶湯の位置と、前記第2センサで測定した前記溶湯の表面の位置の差から前記浮遊物の有無を判定する、
ことを特徴とする低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法。
【請求項2】
前記溶湯は、電磁ポンプによって前記ストーク内の所定の位置で維持され、
前記第1センサは、誘導式レベル計又は静電容量式レベル計である、
ことを特徴とする請求項1に記載の低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法。
【請求項3】
前記第2センサは、非接触式センサであり、前記溶湯の表面からの高さを基に当該表面の位置を測定する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法。
【請求項4】
前記第2センサを前記鋳型の湯口の内径範囲で移動させながら測定する、
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一に記載の低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、溶融金属を低圧鋳造する際にストーク内で一定の高さに維持された溶湯の表面に浮遊する酸化物や凝固物を検出する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
低圧鋳造では、保持炉にアルミニウム等の金属又は合金を融解させた溶融金属(溶湯)を加熱保持しておき、ストーク(給湯管)を通じて金型(鋳型)の湯口から金型内のキャビティ(空洞)内に低速かつ低圧で注湯し、充填された溶湯を指向性冷却することでキャビティと同一形状の鋳物が成形される。
【0003】
ストーク内は、金型に溶湯を充填する前後で充填開始する位置(湯面)が一定の高さとなるように電磁ポンプ等で維持されているが、金型を外して鋳物を取り出す際に、金型の湯口とストーク内湯面から湯口までに残った凝固物がストーク内の湯面に落下する場合がある。また、注湯に伴い溶湯がストーク内を上下動することにより、ストークの内壁面に酸化物が生じ、それが剥がれて湯面に落下する場合もある。
【0004】
湯面に落下した凝固物は時間とともに溶けて小さくなっていくが、表面に酸化膜が生じた凝固物やストークの内壁面から落下した酸化物などの浮遊物が存在していると、キャビティ内に浮遊物が巻き込まれ、内部欠陥などの原因となり、鋳物の強度を著しく低下させることにもなる。特許文献1に記載されているように、ストーク内で発生する酸化物等の異物が金型内に取り込まれることを防止する低圧鋳造方法の発明も開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特許第5639853号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献1に記載の発明は、ストークの下部に排出管が接続されその排出管の一端がストーク内で開口し、保持炉内で湯面が下がった状態において他端が保持炉の加圧室内のストーク外で加圧室側に開口する排出管を用いて、加圧室を減圧することによってストーク内に生じた酸化物等の異物を排出管によってストーク外へと排出しているが、異物の有無に関わらずストーク内の溶湯を排出し、ストーク内の湯面が下がるときに酸化物がストーク内面に付着してしまうとストーク内の酸化物がストーク外に排出できないという欠点がある。
【0007】
また、加圧室内を加圧してストーク内の溶湯を上昇させ、加圧室内を減圧して排出管から異物を排出しているが、電磁ポンプでストーク内の湯面を一定の高さに維持している場合、このような方法は困難である。湯面の高さを金型の湯口近傍に維持する理由は、ストーク内の溶湯の上下動の幅(面積)を少なくし、上下動するストーク内壁面に発生する酸化物を少なくして発生する酸化物の付着や巻込みを少なくする目的で行うものである。すなわち、電磁ポンプでストーク内の湯面を出来るだけ湯口に近い位置に維持して発生する酸化物を最小限にした状態で湯面に浮遊している異物を検知して必要に応じて除去した方が効率良い。
【0008】
そこで、本発明は、溶融金属を低圧鋳造する際にストーク内で常に一定の高さに維持された溶湯の表面に浮遊する酸化物や凝固物を検出する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記の課題を解決するために、本発明は、加熱保持された溶湯を鋳型内に注湯するためのストーク内に保持された前記溶湯の表面に存在する浮遊物を検出する方法であって、前記ストークの外側に配置された第1センサを用いて前記溶湯を所定の位置で電磁ポンプの出力を制御して維持し、前記鋳型を離型させてストークの中心付近上方に第2センサを横から差し入れて前記溶湯の表面の位置を測定し、前記第1センサで維持した前記溶湯の位置と、前記第2センサで測定した前記溶湯の表面の位置の差から前記浮遊物の有無を判定する、ことを特徴とする。
【0010】
前記低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、前記溶湯は、電磁ポンプによって前記ストーク内の所定の位置で維持され、前記第1センサは、誘導式レベル計又は静電容量式のレベル計である、ことを特徴とする。
【0011】
前記低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、前記第2センサは、光を利用した非接触式センサであり、前記溶湯の表面からの高さを基に当該表面の位置を測定する、ことを特徴とする。
【0012】
前記低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、前記第2センサを前記鋳型の湯口の内径範囲で移動させながら測定する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、溶融金属を低圧鋳造する前後においても常にストーク内で一定の高さに維持された溶湯の表面に浮遊する酸化物や凝固物を検出することができる。溶湯をストーク内に保持したまま簡単に浮遊物の有無を判定することができ、浮遊物が有ったときだけ除去すれば良い。また、キャビティ内に浮遊物が巻き込まれないので、内部欠陥を防止することができ、鋳物の強度を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
図1】本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、鋳型内に溶湯を注入する前の状態を示す図である。
図2】本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、鋳型内に溶湯を注入して凝固させた状態を示す図である。
図3】本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、上型を上昇させて凝固した鋳物を取り出した状態を示す図である。
図4】本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、上型と下型の間にセンサを横から差し入れた状態を示す図である。
図5】本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法において、ストーク内に保持されている溶湯の表面を測定した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する場合がある。
【実施例1】
【0016】
本発明である低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法について説明する。図1は、鋳型内に溶湯を注入する前の状態を示す図である。図2は、鋳型内に溶湯を注入して凝固させた状態を示す図である。図3は、上型を上昇させて凝固した鋳物を取り出した状態を示す図である。図4は、上型と下型の間にセンサを横から差し入れた状態を示す図である。図5は、ストーク内に保持されている溶湯の表面を測定した状態を示す図である。
【0017】
図1に示すように、鋳造装置100は、低圧鋳造における溶湯表面の浮遊物検出方法を使用するための装置であり、予めアルミニウム合金などの金属を溶解炉で溶融させ、保持炉で所定の温度に加熱された状態で貯留された溶湯400を、枠体110によって上方に向かって立てられたストーク200内に電磁ポンプ210等を使用して引き込み、誘導式レベル計220(第1センサ)等を用いて所定の高さで維持しておく。
【0018】
溶湯400は、アルミニウムやその合金などの金属を加熱して融解させた溶融金属であり、ストーク200を介して鋳型300内に注入して上型内の鋳物の上部から下方へ指向性冷却することにより、所望の形状の鋳物420として成形される。
【0019】
ストーク200は、(溶解)保持炉などから鋳型300に溶湯400を供給するための給湯管である。ストーク200の周りに電磁ポンプ210を配置して、上方に配置された鋳型300まで溶湯400を引き上げても良い。また、ストーク200の周りに誘導式レベル計220を配置して、溶湯400の湯面410を検知できるようにしておく。
【0020】
電磁ポンプ210は、溶湯400など導電性流体を圧送する管状のポンプである。例えば、管の周りに配置したコイルに三相交流電圧を印加して管内の流れ方向に移動磁界を発生させると、流体に誘導電流が流れて、移動磁界と誘導電流により移動磁界方向に推力が発生し、溶湯400を移動させたり、所定の高さまで持ち上げて維持したりする。
【0021】
誘導式レベル計220は、湯面410のレベルを非接触で計測する電磁誘導式センサである。誘導式レベル計220で湯面410の位置(高さ)を測定しながら、電磁ポンプ210の出力を調整することにより、ストーク200内の溶湯400の高さを一定に維持する。
【0022】
鋳型300は、昇降可能な上型310と、枠体110に断熱材350を介して固定された下型320を合わせることで、上下金型の凹面が重なり合った内部空間に鋳物420と同じ形状のキャビティ330が形成される。下型320の下面に空けられた湯口340にマウスピース360を取り付け、ストーク200内と連通させる。
【0023】
図2に示すように、ストーク200の上端は、鋳型300の湯口340に繋がっており、電磁ポンプ210によって溶湯400を上昇させることにより、鋳型300の湯口340からキャビティ330内に溶湯400が充填される。1ショット(射出)ごとにキャビティ330内を充填するのに必要な量の溶湯400が供給されるように、電磁ポンプ210を制御すれば良い。
【0024】
鋳型300に充填した後、溶湯400は、充填前と同様に、電磁ポンプ210によりストーク200内の所定の高さで維持される。鋳型300内の溶湯400は指向性冷却され、キャビティ330の内部形状で凝固して、鋳物420が成形される。なお、湯口340の下にはみ出した部分が足部430として残る。足部430は、鋳物420を鋳型300から取り出した後に、鋳ばり等と共に除去して、製品として仕上げれば良い。
【0025】
また、溶湯400が元の高さに戻った後、ストーク200内における湯面410と湯口340の間には、ストーク200の内壁に付着した溶湯400が酸化して酸化物500として残る場合がある。その酸化物500が内壁から剥離して落下すると、湯面410に浮遊物520として異物発生の原因となる。
【0026】
図3に示すように、鋳型300内で鋳物420が成形されたら、鋳型300を上型310と下型320に離型させて鋳物420を取り出す。上型310と共に鋳物420を持ち上げれば良いが、例えば、足部430の一部が湯口340に引っ掛かりちぎれて凝固片510が落下すると、湯面410に浮遊物520として異物発生の原因となる。
【0027】
図4に示すように、上型310を上昇させることにより生じた上型310と下型320との間隙から、鋳型300の外部から内部へ水平にスライドさせるように、非接触式センサ600(第2センサ)を差し入れる。非接触式センサ600は、湯口340の上方からストーク200内の湯面410を検出可能な位置に配置されれば良い。
【0028】
非接触式センサ600は、湯面410からの高さを測定する。例えば、ストーク200の上方から湯面410に対してレーザー光を垂直に照射して、その反射光の位相差などから距離を算出するレーザー測定器などを用いれば良い。
【0029】
非接触式センサ600は、湯口の内径範囲で移動しながら測定させても良い(図5参照)。ストーク200の中心だけでなく、その付近において検出可能となる。なお、ストーク200の端(内壁側)など湯口340に隠れて見えない部分については、測定角度を傾けて検出する等して高さを算出しても良い。
【0030】
図5に示すように、ストーク200内の湯面410の高さは、誘導式レベル計220及び電磁ポンプ210によって保持位置610で維持されている。また、非接触式センサ600は、実際に測定した湯面410からの高さを基に、測定位置620を算出する。このとき、湯面410に浮遊物520が存在していると、保持位置610と測定位置620との間に差が生じる。
【0031】
なお、溶湯400の高さは一定に維持されるので、鋳造前の予め浮遊物520のない状態の溶湯400の高さを非接触式センサ600で測定しておき、基準位置として記憶しておいても良い。すなわち、保持位置610を基準位置に合わせることにより、測定位置620との差を算出すれば良い。
【0032】
誘導式レベル計220で保持した溶湯400の保持位置610と、非接触式センサ600で測定した溶湯400の湯面410の測定位置620の差から、ストーク200内の溶湯400に存在する浮遊物520の有無を判定すれば良い。
【0033】
誘導式レベル計220は、湯面410に浮遊している浮遊物520には誘導電流が流れないことから、浮遊物520に対して不感であり、浮遊物520の有無で検出精度に影響が出ない。そのため、浮遊物520に影響なく基準液位を測定できる誘導式レベル計220を使用することが正確に測定する上で重要である。
【0034】
例えば、ストーク200の上部に光を利用した非接触式センサ600を2つ配置して、一方の非接触式センサ600でストーク200内の保持位置610を制御しつつ、もう一方の非接触式センサ600との差から浮遊物520の有無を判定する方法も考えられる。しかし、浮遊物520の無い状態の湯面410のレベルを測定する非接触式センサ600が、浮遊物520の表面を測定して湯面410を制御してしまう可能性もあるので、実際の浮遊物520の差が出てこない場合もある。
【0035】
ストーク200内の湯面410を電磁ポンプ210の出力調整で制御しない従来の方式では、ストーク200内の湯面410は鋳造サイクル毎に低下することになり、保持炉内の炉壁に炉内酸化物530が溜まると鋳造サイクル毎のストーク200内の湯面410の低下が一定にならない。すなわち、炉壁の液面付近で溶湯400が上下すると、炉内酸化物530が徐々に堆積していき、溶湯400の容量も変化して、1ショット毎の液位の変化量が一定でなくなる。
【0036】
そのため、光を利用した非接触式センサ600を2つ配置して、一方の非接触式センサ600でストーク200内の保持位置610を制御しつつ、もう一方の非接触式センサ600との差から浮遊物520の有無を判定する方法を用いても、ストーク200内の湯面410の浮遊物520と保持炉内の炉壁の炉内酸化物530によってストーク200内の湯面410の低下がランダムになるので、正確にストーク200内の湯面410に生じる浮遊物520の有無とその量を確定することができない。
【0037】
したがって、ストーク200内の湯面410の浮遊物520の有無とその量を測定し確認できるのは、ストーク200の一部に誘導式レベル計220を用いてストーク200の湯面410の保持を行い、かつ第2の非接触式センサ600にて下型320の湯口340からストーク200内の湯面410を測定する方式が確実にストーク200内の湯面410の浮遊物520の有無とその量を確認できることになる。
【0038】
本発明によれば、溶融金属を低圧鋳造する前後においても常にストーク内で一定の高さに維持された溶湯の表面に浮遊する酸化物や凝固物を検出することができる。溶湯をストーク内に保持したまま簡単に浮遊物の有無を判定することができ、浮遊物が有ったときだけ除去すれば良い。また、キャビティ内に浮遊物が巻き込まれないので、内部欠陥を防止することができ、鋳物の強度を維持することができる。
【0039】
以上、本発明の実施例を述べたが、これらに限定されるものではない。例えば、1回測定して浮遊物があると判定した後、数秒後に湯面に落ちた浮遊物が再度溶解する場合があるので、時間を置いて再測定するようにしても良い。
【符号の説明】
【0040】
100:鋳造装置
110:枠体
200:ストーク
210:電磁ポンプ
220:誘導式レベル計
300:鋳型
310:上型
320:下型
330:キャビティ
340:湯口
350:断熱材
360:マウスピース
400:溶湯
410:湯面
420:鋳物
430:足部
500:酸化物
510:凝固片
520:浮遊物
530:炉内酸化物
600:非接触式センサ
610:保持位置
620:測定位置
図1
図2
図3
図4
図5