特許 7307333 温水装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-07-04

(45)【発行日】2023-07-12

(54)【発明の名称】温水装置

(51)【国際特許分類】

   A47K 3/00 20060101AFI20230705BHJP

   F24H 15/196 20220101ALI20230705BHJP

   C02F 1/461 20230101ALI20230705BHJP

   C02F 1/28 20230101ALI20230705BHJP

【ＦＩ】

A47K3/00 E

A47K3/00 M

A47K3/00 J

A47K3/00 Q

F24H15/196 301L

C02F1/461 Z

C02F1/28 D

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2019154887

(22)【出願日】2019-08-27

(65)【公開番号】P2021029734

(43)【公開日】2021-03-01

【審査請求日】2022-07-05

(73)【特許権者】

【識別番号】000004709

【氏名又は名称】株式会社ノーリツ

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】吉村 雅也

【審査官】油原 博

(56)【参考文献】

【文献】特開２００６－１４５１１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－００２６６９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ４７Ｋ ３／００

Ｆ２４Ｈ １５／１９６

Ｃ０２Ｆ １／４６１

Ｃ０２Ｆ １／２８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

湯水を供給する給湯管路と、
浴槽水を循環させる循環管路と、
前記給湯管路と前記循環管路とを接続している注湯管路と、
湯水を除菌する添加物を発生させる添加物発生装置と、
前記添加物を除去するフィルタと、
前記浴槽水を前記循環管路に循環させるためのポンプとを備え、
前記注湯管路は、前記給湯管路に接続されている第１管路と、前記循環管路と前記第１管路とを接続している第２管路及び第３管路と、第１弁部とを有し、
前記第２管路と前記循環管路との接続位置である第１位置は、前記第３管路と前記循環管路との接続位置である第２位置よりも前記ポンプで前記浴槽水を前記循環管路に循環させる際の上流側にあり、
前記循環管路は、前記第１位置と前記第２位置との間に配置されている第２弁を有し、
前記第１弁部は、前記第１管路と前記第２管路との間で通水可能な第１状態と、前記第１管路と前記第３管路との間で通水可能な第２状態と、前記第２管路と前記第３管路との間で通水可能な第３状態とを切り替え可能に構成されており、
前記第２弁は、前記第１位置と前記第２位置との間で通水を可能な第４状態と、前記第１位置と前記第２位置との間で通水不能な第５状態とを切り替え可能に構成されており、
前記添加物発生装置は、前記第２管路及び前記第３管路を通って前記第１位置から前記第２位置へと向かう経路上において、前記フィルタよりも前記第１位置の近くにある、温水装置。

【請求項2】

前記添加物発生装置は、前記第２管路に配置されている、請求項１に記載の温水装置。

【請求項3】

前記添加物発生装置は、前記第１位置に配置されている、請求項１又は請求項２に記載の温水装置。

【請求項4】

前記フィルタは、前記第３管路に配置されている、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項5】

前記第３管路は、前記第２位置からの通水を不能にするとともに、前記第２位置への通水を可能になる逆止弁を含み、
前記逆止弁は、前記経路上において、前記フィルタよりも前記第２位置の近くにある、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項6】

前記給湯管路から供給される湯水は、塩素を含み、
前記フィルタは、前記塩素をさらに除去するように構成されている、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項7】

前記添加物発生装置は、前記添加物として、オゾンを発生させる、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項8】

前記フィルタは、活性炭フィルタである、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項9】

制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記給湯管路から供給される湯水により前記循環管路の洗浄を行う際に前記第１弁部を前記第１状態に切り替えるとともに、前記第２弁を前記第４状態に切り替え、前記浴槽水を前記循環管路に循環させる際に前記第１弁部を前記第３状態に切り替えるとともに、前記第２弁を前記第５状態に切り替える、請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の温水装置。

【請求項10】

前記制御部は、前記給湯管路から供給される湯水の浴槽への注湯を行う際に前記第１弁部を前記第２状態に切り替えるとともに、前記第２弁を前記第４状態に切り替えるように構成されている、請求項９に記載の温水装置。

【請求項11】

前記制御部は、前記給湯管路から供給される湯水の浴槽への注湯を行う際に、前記第１弁部及び前記第２弁をそれぞれ前記第１状態及び前記第４状態に切り替えるとともに、前記添加物発生装置の動作を停止させる、請求項９に記載の温水装置。

【請求項12】

前記添加物発生装置及び前記フィルタは、前記第２管路に配置されている、請求項１に記載の温水装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、温水装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１（特開２００９－１５６４７０号公報）には、風呂給湯システムが記載されている。特許文献１に記載されている風呂給湯システムは、湯水を供給する給湯管路と、浴槽水を循環させる循環管路と、給湯管路と循環管路とを接続している湯張り管とを有している。湯張り管には、銀（Ａｇ）イオン発生装置が配置されている。

【0003】

特許文献１に記載されている風呂給湯システムにおいては、浴槽水が排水された際に、循環管路の洗浄が行われる。循環管路の洗浄の際には、給湯管路及び湯張り管を介して循環管路に湯水が供給されるとともに、銀イオン発生装置が動作される。そのため、特許文献１に記載されている風呂給湯システムによると、銀イオン発生装置から発生した銀イオンを含む湯水により、循環管路の洗浄を行うことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００９－１５６４７０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１に記載されている風呂給湯システムでは、銀イオン発生装置の配置上、循環管路を介して浴槽水を循環させる（追い焚き動作を行う）際に、銀イオン発生装置から発生した銀イオンにより浴槽水を除菌することはできない。また、銀イオン等の添加物が循環管路を流れる浴槽水に加えられたとしても、浴槽水が浴槽に戻る前に添加物が除去されないと、種々の弊害は発生するおそれがある（例えば、浴槽水に銀イオンが含まれていると、銀イオンが酸化されて浴槽に付着し、浴槽が黒ずむおそれがある）。

【0006】

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものである。より具体的には、本発明は、添加物が加えられた湯水により循環管路の洗浄が可能であるとともに、浴槽水を循環させる際に浴槽に添加物を残存させることなく添加物による浴槽水の除菌が可能である温水装置を提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一態様に係る温水装置は、湯水を供給する給湯管路と、浴槽水を循環させる循環管路と、給湯管路と循環管路とを接続している注湯管路と、湯水を除菌する添加物を発生させる添加物発生装置と、添加物を除去するフィルタと、浴槽水を循環管路に循環管路に循環させるためのポンプとを備える。注湯管路は、給湯管路に接続されている第１管路と、循環管路と第１管路とを接続している第２管路及び第３管路と、第１弁部とを有している。第２管路と循環管路との接続位置である第１位置は、第３管路と循環管路との接続位置である第２位置よりもポンプで浴槽水を循環管路に循環させる際の上流側にある。循環管路は、第１位置と第２位置との間に配置されている第２弁を含む。第１弁部は、第１管路と第２管路との間で通水可能な第１状態と、第１管路と第３管路との間で通水可能な第２状態と、第２管路と第３管路との間で通水可能な第３状態とを切り替え可能に構成されている。第２弁は、第１位置と第２位置との間で通水可能な第４状態と、第１位置と第２位置との間で通水不能な第５状態とを切り替え可能に構成されている。添加物発生装置は、第２管路及び第３管路を通って第１位置から第２位置へと向かう経路上においてフィルタよりも第１位置の近くにある。

【0008】

上記の温水装置において、添加物発生装置は、第２管路に配置されていてもよい。上記の温水装置において、フィルタは、第３管路に配置されていてもよい。

【0009】

上記の温水装置において、添加物発生装置は、第１位置に配置されていてもよい。フィルタは、第３管路に配置されていてもよい。

【0010】

上記の温水装置において、第３管路は、第２位置からの通水を不能にするとともに、第２位置への通水を可能になる逆止弁を含んでいてもよい。逆止弁は、経路上においてフィルタよりも第２位置の近くにあってもよい。

【0011】

上記の温水装置において、給湯管路から供給される湯水は、塩素を含んでいてもよい。フィルタは、塩素をさらに除去するように構成されていてもよい。

【0012】

上記の温水装置において、添加物発生装置は、添加物として、オゾンを発生させてもよい。上記の温水装置において、フィルタは、活性炭フィルタであってもよい。

【0013】

上記の温水装置は、制御部をさらに備えていてもよい。制御部は、給湯管路から供給される湯水により循環管路の洗浄を行う際に第１弁部を第１状態に切り替えるとともに、第２弁を第４状態に切り替え、浴槽水を循環管路に循環させる際に第１弁部を第３状態に切り替えるとともに、第２弁を第５状態に切り替えてもよい。

【0014】

上記の温水装置において、制御部は、給湯管路から供給される湯水の浴槽への注湯を行う際に第１弁部を第２状態に切り替えるとともに、第２弁を第４状態に切り替えるように構成されていてもよい。

【0015】

上記の温水装置において、制御部は、給湯管路から供給される湯水の浴槽への注湯を行う際に第１弁部及び第２弁をそれぞれ第１状態及び第４状態に切り替えるとともに、添加物発生装置の動作を停止させてもよい。

【0016】

上記の温水装置において、添加物発生装置及びフィルタは、第２管路に配置されていてもよい。

【発明の効果】

【0017】

本発明の一態様に係る温水装置によると、添加物が加えられた湯水により循環管路の洗浄が可能になるとともに、浴槽水を循環させる際に浴槽に添加物を残存させることなく添加物による浴槽水の除菌が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】実施形態に係る温水装置の模式図である。

【図2】実施形態に係る温水装置の機能ブロック図である。

【図3】実施形態の第１変形例に係る温水装置の模式図である。

【図4】実施形態の第２変形例に係る温水装置の模式図である。

【図5】実施形態の第３変形例に係る温水装置の模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

実施形態の詳細を、図面を参照しながら説明する。以下の図面においては、同一又は相当する部分に同一の参照符号を付し、重複する説明は繰り返さない。

【0020】

（実施形態に係る温水装置の構成）
以下に、実施形態に係る温水装置の構成を説明する。

【0021】

図１に示されるように、実施形態に係る温水装置は、給湯管路１と、循環管路２と、注湯管路３と、添加物発生装置４と、フィルタ５とを有している。実施形態に係る温水装置は、ポンプ７と、水位センサ８とをさらに有している。図１中において図示は省略されているが、実施形態に係る温水装置は、さらに、制御部９ａと、操作部９ｂとを有している（図２参照）。

【0022】

給湯管路１は、湯水を供給するための管路である。給湯管路１は、一方端において、上水道に接続されている。給湯管路１は、他方端において、カラン等に接続されている。なお、上水道から供給される湯水には、塩素が含まれている。給湯管路１は、熱交換器１１を有している。熱交換器１１は、熱交換器１１を流れる湯水とバーナ１１ａから発生する燃焼ガスとの間で熱交換を行う。バーナ１１ａは、例えば、ブンゼンバーナである。

【0023】

循環管路２は、浴槽１０に貯留されている湯水（以下において、「浴槽水」とする）を循環させるための管路である。循環管路２は、一方端及び他方端において、循環アダプタ６に接続される。より具体的には、循環管路２の一方端は循環アダプタ６の吸入口に接続され、循環管路２の他方端は循環アダプタ６の吐出口に接続される。

【0024】

循環管路２は、戻り管路２１と、往き管路２２と、熱交換器２３と、第２弁２４とを有している。戻り管路２１は、一方端において循環アダプタ６の吸入口に接続され、他方端において熱交換器２３に接続されている。往き管路２２は、一方端において熱交換器２３に接続されており、他方端において循環アダプタ６の吐出口に接続される。熱交換器２３は、熱交換器２３を流れる湯水とバーナ２３ａから発生する燃焼ガスとの間で熱交換を行う。バーナ２３ａは、例えば、ブンゼンバーナである。

【0025】

第２弁２４は、後述する第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２との間にある循環管路２（戻り管路２１）に配置されている。第２弁２４は、第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２との間の通水可能な状態（第４状態）と、第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２との間で通水不能な状態（第５状態）とを切り替え可能に構成されている。第２弁２４は、例えば、ボールバルブ型の二方弁であり、当該二方弁の通水状態は、ステッピングモータ等により切り替え可能になっている。

【0026】

注湯管路３は、給湯管路１と循環管路２とを接続している。注湯管路３は、第１弁部３１と、第１管路３２と、第２管路３３と、第３管路３４と、逆止弁３５と、注湯弁３６とを有している。第１弁部３１は、第１弁３１ａにより構成されている。

【0027】

第１管路３２は、給湯管路１に接続されている。第２管路３３は、第１管路３２と循環管路２とを接続している。より具体的には、第２管路３３は、第１管路３２と戻り管路２１とを接続している。第３管路３４は、第１管路３２と循環管路２とを接続している。より具体的には、第３管路３４は、第１管路３２と戻り管路２１とを接続している。第１弁３１ａは、第１管路３２と第２管路３３及び第３管路３４とが接続されている位置に配置されている。このことを別の観点から言えば、第２管路３３及び第３管路３４は、第１弁３１ａにより第１管路３２に接続されている。

【0028】

第２管路３３と循環管路２（戻り管路２１）とが接続されている位置を、「第１位置Ｐ１」という。また、第３管路３４と循環管路２（戻り管路２１）とが接続されている位置を、「第２位置Ｐ２」という。第１位置Ｐ１は、第２位置Ｐ２よりも浴槽水をポンプ７で循環管路２に循環させる際の上流側にある。

【0029】

第１弁部３１（より具体的には、第１弁３１ａ）は、第１管路３２と第２管路３３との間で通水可能な状態（第１状態）と、第１管路３２と第３管路３４との間で通水可能な状態（第２状態）と、第２管路３３と第３管路３４との間で通水可能な状態（第３状態）とを切り替え可能に構成されている。第１弁３１ａは、例えばボールバルブ型の三方弁であり、当該三方弁の通水状態は、ステッピングモータ等により切り替え可能になっている。

【0030】

逆止弁３５は、第３管路３４に配置されている。逆止弁３５は、第２位置Ｐ２からの通水が不能とされている一方、第２位置Ｐ２への通水が可能になっている。逆止弁３５は、フィルタ５よりも第２位置Ｐ２の近くにある。

【0031】

注湯弁３６は、第１管路３２に配置されている。注湯弁３６が開閉されることにより、第１管路３２が通水可能になる。注湯弁３６は、例えば、電磁弁により構成されている。

【0032】

添加物発生装置４は、湯水を除菌するための添加物を発生させる装置である。添加物発生装置４から発生する添加物は、オゾン（Ｏ_３）である。添加物発生装置４は、第２管路３３に配置されている。添加物発生装置４は、第２管路３３の内部に差し込まれた一対の電極間に電圧を印加することにより第２管路３３を流れる湯水にオゾンを発生させる。なお、添加物発生装置４は、オゾンを発生させる装置に限られない。添加物発生装置４は、例えば、添加物として銀イオンを発生させてもよい。

【0033】

フィルタ５は、第３管路３４に配置されている。すなわち、添加物発生装置４は、第２管路３３及び第３管路３４を通って第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２へと向かう経路上において、フィルタ５よりも第１位置Ｐ１の近くに配置されている。フィルタ５は、添加物発生装置４から発生した添加物を除去可能に構成されている。フィルタ５は、湯水中に含まれている塩素を除去可能に構成されていてもよい。フィルタ５は、例えば、活性炭フィルタである。

【0034】

循環アダプタ６は、浴槽１０に取り付けられている。循環アダプタ６は、浴槽１０に貯留されている浴槽水を吸入する吸入口と、循環管路２を循環した浴槽水が浴槽１０へと吐出される吐出口とを有している。

【0035】

ポンプ７は、循環管路２に配置されている。より具体的には、ポンプ７は、第１位置Ｐ１よりも循環アダプタ６の吸入口に近い位置において、戻り管路２１に配置されている。ポンプ７が駆動されることにより、循環アダプタ６の吸入口から戻り管路２１へと浴槽水が吸入される。

【0036】

水位センサ８は、循環管路２に配置されている。より具体的には、水位センサ８は、戻り管路２１に配置されている。水位センサ８は、浴槽１０に貯留されている浴槽水の水位を検知する。水位センサ８は、循環管路２（戻り管路２１）における湯水の圧力を検知することにより、浴槽１０に貯留されている浴槽水の水位を検知する。

【0037】

制御部９ａは、例えば、マイクロコントローラにより構成されている。図２に示されるように、制御部９ａは、第２弁２４、第１弁３１ａ（第１弁部３１）、注湯弁３６、ポンプ７及び水位センサ８に接続されている。制御部９ａは、さらに、バーナ１１ａ及びバーナ２３ａにも接続されている。

【0038】

操作部９ｂは、温水装置が行う動作に関する指示が入力可能に構成されている。この動作には、湯張り動作及び追い焚き動作が含まれる。操作部９ｂは、制御部９ａに接続されており、操作部９ｂに入力された指示に対応する信号が制御部９ａへと入力される。

【0039】

＜変形例＞
以下に、実施形態の第１変形例、第２変形例及び第３変形例に係る温水装置の構成を説明する。ここでは、実施形態に係る温水装置の構成と異なる点を主に説明し、重複する説明は繰り返さないものとする。

【0040】

図３に示されるように、実施形態の第１変形例に係る温水装置において、添加物発生装置４及びフィルタ５は、第２管路３３に配置されている。添加物発生装置４は、フィルタ５よりも第１位置Ｐ１の近くにある。図４に示されるように、実施形態の第２変形例に係る温水装置において、添加物発生装置４は、第１位置Ｐ１に配置されており、フィルタ５は、第３管路３４に配置されている。

【0041】

すなわち、添加物発生装置４が第２管路３３及び第３管路３４を通って第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２へと向かう経路上においてフィルタ５よりも第１位置Ｐ１の近くに配置されていれば、添加物発生装置４及びフィルタ５の配置は、限定されない。

【0042】

図５に示されるように、実施形態の第３変形例に係る温水装置において、第１弁部３１は、第３弁３１ｂと、第４弁３１ｃと、第５弁３１ｄにより構成されている。第３弁３１ｂは第１管路３２に配置されており、第４弁３１ｃは第２管路３３に配置されており、第５弁３１ｄは第３管路３４に配置されている。第３弁３１ｂ、第４弁３１ｃ及び第５弁３１ｄは、例えばボールバルブ型の二方弁である。実施形態の第３変形例に係る温水装置において、第１弁部３１は、第３弁３１ｂ及び第４弁３１ｃを開状態にするとともに、第５弁３１ｄを閉状態とすることにより第１状態になり、第３弁３１ｂ及び第５弁３１ｄを開状態とするとともに、第４弁３１ｃを閉状態とすることにより第２状態になり、第４弁３１ｃ及び第５弁３１ｄを開状態とするとともに、第３弁３１ｂを閉状態とすることにより第３状態になる。

【0043】

（実施形態に係る温水装置の動作）
以下に、実施形態に係る温水装置の動作を説明する。

【0044】

＜湯張り動作＞
操作部９ｂに湯張り操作の指示が入力されることにより、制御部９ａは、湯張り動作を開始する。湯張り動作が行われている際、制御部９ａは、バーナ１１ａを動作するように制御しているため、給湯管路１の一方端から供給された湯水は、熱交換器１１を流れる際にバーナ１１ａから発生する燃焼ガスとの間で熱交換を行うことにより、昇温される。

【0045】

湯張り動作が行われている際、制御部９ａは、注湯弁３６を開状態に制御している。また、湯張り動作が行われている際、制御部９ａは、第１弁３１ａを第２状態に制御しているとともに、第２弁２４を第４状態に制御している。そのため、給湯管路１から供給される湯水は、第１弁３１ａ、第１管路３２、第３管路３４及び逆止弁３５を介して、第２位置Ｐ２から循環管路２に供給される。給湯管路１から供給される湯水に含まれる塩素は、第３管路３４を流れる際に、フィルタ５により除去される。

【0046】

塩素が除去されて循環管路２に供給された湯水は、循環管路２（戻り管路２１、熱交換器２３及び往き管路２２）を介して、循環アダプタ６の吸入口及び吐出口から、浴槽１０に供給される。以上のように湯張り動作が行われる。

【0047】

なお、湯張り動作が行われている際、制御部９ａは、第１弁３１ａ及び第２弁２４をそれぞれ第１状態及び第４状態に制御するとともに、添加物発生装置４を停止するように制御していてもよい。これにより、塩素が除去されていない湯水を浴槽１０に供給することができる。

【0048】

＜追い焚き動作＞
操作部９ｂに追い焚き動作の指示が入力されることにより、制御部９ａは、追い焚き動作を開始する。追い焚き動作が行われている際、制御部９ａは、注湯弁３６を閉状態に制御している。また、追い焚き動作が行われている際、制御部９ａは、第１弁３１ａを第３状態に制御しているとともに、第２弁２４を第５状態に制御している。そのため、制御部９ａがポンプ７を動作させることにより循環アダプタ６の吸入口から戻り管路２１へと吸入された浴槽水は、第２管路３３、第１弁３１ａ及び第３管路３４を通って第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２へと流れる。

【0049】

追い焚き動作が行われている際、制御部９ａは、添加物発生装置４を動作するように制御している。そのため、浴槽水が第２管路３３を流れる際に、浴槽水に添加物が加えられることにより、浴槽水の除菌が行われる。また、浴槽水が第３管路３４を流れる際に、加えられた添加物がフィルタ５により除去される。

【0050】

第２位置Ｐ２に達した浴槽水は、戻り管路２１の残部、熱交換器２３及び往き管路２２を流れて浴槽１０へと戻る。追い焚き動作が行われている際、制御部９ａは、バーナ２３ａを動作するように制御しているため、浴槽水は、熱交換器２３を流れる際に、バーナ２３ａから発生する燃焼ガスとの間で熱交換を行うことにより昇温される。

【0051】

以上のように追い焚き動作が行われるため、循環管路２を循環して浴槽１０に戻った浴槽水は、除菌が行われているとともに、添加物が除去されている。なお、実施形態に係る温水装置は、追い焚き動作によらず浴槽水を循環管路２を介して循環させる（循環動作）こともできる。循環動作は、制御部９ａがバーナ２３ａを停止するように制御している点を除き、追い焚き動作と同様である。

【0052】

＜洗浄動作＞
浴槽水が浴槽１０から排水されて浴槽１０に貯留されている浴槽水の水位が所定の閾値以下になったことを水位センサ８によって検知されると、制御部９ａは、循環管路２の洗浄動作を開始する。

【0053】

循環管路２の洗浄動作が行われている際、制御部９ａは、注湯弁３６を開状態に制御している。また、循環管路２の洗浄動作が行われている際、制御部９ａは、第１弁３１ａ及び第２弁２４をそれぞれ第１状態及び第４状態に制御している。そのため、給湯管路１から供給された湯水は、第１管路３２、第１弁３１ａ及び第２管路３３を介して、循環管路２に供給される。さらに、循環管路２の洗浄動作が行われている際、制御部９ａは、添加物発生装置４を動作するように制御している。そのため、湯水が第２管路３３を流れる際に、添加物が湯水に加えられている。

【0054】

循環管路２に供給された湯水は、循環管路２（戻り管路２１、熱交換器２３及び往き管路２２）を介して、循環アダプタ６の吸入口及び吐出口から、浴槽１０に供給される。なお、循環管路２の洗浄動作が行われている際、制御部９ａは、バーナ１１ａを停止するように制御しているため、給湯管路１から供給される湯水は、昇温されていない。

【0055】

以上のように循環管路２の洗浄動作が行われるため、添加物及び塩素を含んでいる湯水により、循環管路２を洗浄することができる。

【0056】

＜変形例＞
以下に、実施形態の第１変形例及び第２変形例に係る温水装置の動作を説明する。ここでは、実施形態に係る温水装置の動作と異なる点を主に説明し、重複する説明は繰り返さないものとする。

【0057】

実施形態の第１変形例に係る温水装置においては、湯張り動作が行われている際に、制御部９ａが第１弁３１ａ及び第２弁２４をそれぞれ第１状態及び第４状態に制御しているため、湯水は、第１管路３２、第１弁３１ａ及び第２管路３３を介して循環管路２に供給される。また、実施形態の第１変形例に係る温水装置においては、湯張り動作が行われている際に、制御部９ａが添加物発生装置４を停止するように制御している。そのため、実施形態の第１変形例に係る温水装置の湯張り動作でも、塩素が除去された湯水が浴槽１０に供給される。

【0058】

実施形態の第１変形例に係る温水装置における追い焚き動作は、浴槽水が第２管路３３を流れる際に添加物の除去が行われる点を除き、実施形態に係る温水装置の追い焚き動作と同様である。

【0059】

実施形態の第１変形例に係る温水装置における洗浄動作は、湯水が第２管路３３を流れる際にフィルタ５により塩素の除去が行われるため、循環管路２を流れる湯水が塩素を含んでいない。この点を除き、実施形態の第１変形例に係る温水装置における洗浄動作は、実施形態に係る温水装置の洗浄動作と同様である。

【0060】

実施形態の第２変形例に係る温水装置における湯張り動作、追い焚き動作及び洗浄動作は、実施形態に係る温水装置における湯張り動作、追い焚き動作及び洗浄動作とそれぞれ同様である。

【0061】

実施形態の第３変形例に係る温水装置における湯張り動作、追い焚き動作及び洗浄動作は、実施形態に係る温水装置における湯張り動作、追い焚き動作及び洗浄動作とそれぞれ同様である。

【0062】

（実施形態に係る温水装置の効果）
以下に、実施形態に係る温水装置の効果を説明する。

【0063】

実施形態に係る温水装置の追い焚き動作においては、浴槽水が第２管路３３を通過する際に、添加物発生装置４から発生した添加物により浴槽水を除菌することが可能であるとともに、浴槽水が第３管路３４を通過する際に、浴槽水から当該添加物をフィルタ５により除去することが可能である。

【0064】

実施形態に係る温水装置の洗浄動作においては、湯水が第２管路３３を通過する際に、湯水に添加物発生装置４から発生した添加物が加えられるため、当該添加物及び塩素を含んでいる湯水、すなわち除菌力の高い湯水により循環管路２の洗浄を行うことが可能である。その結果、添加物がオゾンである場合には浴槽水にオゾン臭が残らず、添加物が銀イオンである場合には浴槽１０が黒ずみにくい。

【0065】

このように、実施形態に係る温水装置によると、添加物が加えられた湯水により循環管路２の洗浄が可能であるとともに、浴槽水の循環を行う際に浴槽１０に添加物を残存させることなく添加物による浴槽水の除菌が可能である。

【0066】

実施形態に係る温水装置の給湯動作においては、湯水が第３管路３４を通過する際に、フィルタ５により湯水から塩素が除去されるため、浴槽１０に塩素が除去された湯水を供給することが可能である。また、実施形態に係る温水装置の給湯動作においては、湯水を第２管路３３に流すとともに、その際に添加物発生装置４を動作させないことにより、通常の湯水を浴槽１０に供給することができる。このように、実施形態に係る温水装置によると、給湯動作を行う際に湯水から塩素を除去するか否かを選択することが可能である。

【0067】

添加物発生装置４が発生させる添加物がオゾンであり、フィルタ５が活性炭フィルタである場合、添加物がフィルタ５によく吸着されるため、添加物の除去をフィルタ５により効率よく行うことができる。

【0068】

なお、実施形態の第１変形例に係る温水装置の効果は、洗浄動作において、循環管路２を洗浄する湯水が塩素を含まない点を除いて、実施形態に係る温水装置の効果と同様である。また、実施形態の第２変形例に係る温水装置の効果は、実施形態に係る温水装置の効果と同様である。さらに、実施形態の第３変形例に係る温水装置の効果は、実施形態に係る温水装置の効果と同様である。

【0069】

以上のように本発明の実施形態について説明を行ったが、上述の実施形態を様々に変形することも可能である。また、本発明の範囲は、上述の実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更を含むことが意図される。

【産業上の利用可能性】

【0070】

上記の実施形態は、洗浄動作、追い焚き動作及び給湯動作を行う温水装置に特に有利に適用される。

【符号の説明】

【0071】

１ 給湯管路、２ 循環管路、３ 注湯管路、４ 添加物発生装置、５ フィルタ、６ 循環アダプタ、７ ポンプ、８ 水位センサ、９ａ 制御部、９ｂ 操作部、１０ 浴槽、１１ 熱交換器、１１ａ バーナ、２１ 管路、２２ 往き管路、２３ 熱交換器、２３ａ バーナ、２４ 第２弁、３１ 第１弁部、３１ａ 第１弁、３１ｂ 第３弁、３１ｃ 第４弁、３１ｄ 第５弁、３２ 第１管路、３３ 第２管路、３４ 第３管路、３５ 逆止弁、３６ 注湯弁、Ｐ１ 第１位置、Ｐ２ 第２位置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】