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特許7320039多層グラフェンの直接成長方法およびそれを用いた極紫外線露光用ペリクルの製造方法
発明の名称 多層グラフェンの直接成長方法およびそれを用いた極紫外線露光用ペリクルの製造方法
出願人 コリア エレクトロニクス テクノロジ インスティチュート （識別番号 503257778）
特許公開件数ランキング 4997 位（1件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 4093 位（1件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-7320039
公報発行日 2023年8月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7320039
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