特許7320416フォトマスク基板の修正方法、フォトマスク基板の製造方法、フォトマスク基板の処理方法、フォトマスク基板、フォトマスクの製造方法、及び基板処理装置

発明の名称　フォトマスク基板の修正方法、フォトマスク基板の製造方法、フォトマスク基板の処理方法、フォトマスク基板、フォトマスクの製造方法、及び基板処理装置

出願人　ＨＯＹＡ株式会社　（識別番号 113263）

　　　　特許公開件数ランキング 638 位（14件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 371 位（23件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7320416

公報発行日　2023年8月3

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7320416

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