特許 7322293 １，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物及びそれから調製された光学樹脂

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-07-28

(45)【発行日】2023-08-07

(54)【発明の名称】１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物及びそれから調製された光学樹脂

(51)【国際特許分類】

   C07C 265/14 20060101AFI20230731BHJP

   C07C 263/20 20060101ALI20230731BHJP

   C07C 209/68 20060101ALI20230731BHJP

   C07C 211/18 20060101ALI20230731BHJP

   C07C 263/10 20060101ALI20230731BHJP

   C08G 18/38 20060101ALI20230731BHJP

   C08G 18/75 20060101ALI20230731BHJP

   G02B 1/04 20060101ALI20230731BHJP

   G02C 7/00 20060101ALI20230731BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20230731BHJP

【ＦＩ】

C07C265/14

C07C263/20

C07C209/68

C07C211/18

C07C263/10

C08G18/38 076

C08G18/75 010

G02B1/04

G02C7/00

C07B61/00 300

【請求項の数】 11

(21)【出願番号】P 2022524141

(86)(22)【出願日】2020-07-07

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-12-22

(86)【国際出願番号】 CN2020100732

(87)【国際公開番号】W WO2021103550

(87)【国際公開日】2021-06-03

【審査請求日】2022-04-25

(31)【優先権主張番号】201911199670.X

(32)【優先日】2019-11-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】521147204

【氏名又は名称】万華化学集団股▲フン▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＷＡＮＨＵＡ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ． １７， Ｔｉａｎｓｈａｎ Ｒｄ， ＹＥＤＡ， Ｙａｎｔａｉ ２６４０００ Ｓｈａｎｄｏｎｇ， Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】100110423

【弁理士】

【氏名又は名称】曾我 道治

(74)【代理人】

【識別番号】100111648

【弁理士】

【氏名又は名称】梶並 順

(74)【代理人】

【識別番号】100122437

【弁理士】

【氏名又は名称】大宅 一宏

(74)【代理人】

【識別番号】100209495

【弁理士】

【氏名又は名称】佐藤 さおり

(72)【発明者】

【氏名】朱付林

(72)【発明者】

【氏名】季健峰

(72)【発明者】

【氏名】王鵬

(72)【発明者】

【氏名】李文濱

(72)【発明者】

【氏名】陳杰

(72)【発明者】

【氏名】王▲ジャオ▼

(72)【発明者】

【氏名】呉謙

(72)【発明者】

【氏名】陳浩

(72)【発明者】

【氏名】尚永華

(72)【発明者】

【氏名】黎源

【審査官】中村 政彦

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１３－０４８８０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１９／１３２４９１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１５／０４６３７０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１５／０１６１４８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特表２００６－５０４８４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－２５９１６７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０７Ｃ ２６３／００

Ｃ０７Ｃ ２０９／００

Ｃ０７Ｃ ２１１／００

Ｃ０７Ｃ ２６５／００

Ｃ０８Ｇ １８／００

Ｇ０２Ｂ １／００

Ｇ０２Ｃ ７／００

Ｃ０７Ｂ ６１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物であって、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの重量に基づいて、
ａ）６５％～９５％重量のトランス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと、
ｂ）０を超え、且つ≦０．５％重量の１，４－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンとを含み、
前記１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンは、シス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと、トランス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンとを含み、
前記１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの重量に基づいて、０を超え、且つ≦６００ｐｐｍの１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンを含む、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項2】

前記１，４－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの含有量は、０．０２％重量～０．５％重量であることを特徴する請求項１に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項3】

前記１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの重量に基づいて、０．１ｐｐｍ～６００ｐｐｍの１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンを含む、ことを特徴する請求項１に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項4】

前記組成物の調製方法は、（１）１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料を塩化水素と混合して１，３－シクロヘキシルジメチルアミン塩酸塩を調製する塩形成工程と、（２）１，３－シクロヘキシルジメチルアミン塩酸塩をホスゲンとイソシアネート化反応させ、生成物は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンとを含むイソシアネート化工程と、（３）工程（２）に記載の生成物を精製し、前記１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物を調製する精製工程とを含む、ことを特徴する請求項１又は２に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項5】

前記１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料において、１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料の重量に基づいて、トランス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミンの含有量は５０％～９５％重量であり、シス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミンの含有量は５％～５０％重量である、ことを特徴する請求項４に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項6】

前記１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料において、１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料の重量に基づいて、トランス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミンの含有量は６５％～９５％重量であり、シス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミンの含有量は５％～３５％重量である、ことを特徴する請求項５に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項7】

前記１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料の調製方法は、１，３－シクロヘキシルジメチルアミン（トランス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン：シス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン＝５０：５０）を、ルテニウム／アルミナ触媒の触媒作用下で、水素絶対圧力が４～６ＭＰａ、温度が２００～２２０℃で１～４時間異性化反応させるステップを含む、ことを特徴する請求項５又は６に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物。

【請求項8】

請求項１～７のいずれか一項に記載の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物とポリチオール化合物とを含む原料から重合して調製される、光学樹脂。

【請求項9】

前記ポリチオール化合物は脂肪族ポリチオール、芳香族ポリチオール、複素環含有ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む脂肪族ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む芳香族ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む複素環含有ポリチオールの１種又は複数種を含む、ことを特徴する請求項８に記載の光学樹脂。

【請求項10】

前記ポリチオール化合物は、１，２－ビス［（２－メルカプトエチル）チオ］－３－メルカプトプロパン、ビス（メルカプトメチル）－３，６，９－トリチア－１，１１－ウンデカンジチオール、ペンタエリトリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオナート）、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン及び２－メルカプトエタノールの１種又は複数種を含む、ことを特徴する請求項９に記載の光学樹脂。

【請求項11】

請求項８～１０のいずれか一項に記載の光学樹脂により製造された、レンズ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はイソシアネートの分野に関し、具体的には、光学樹脂に用いられる１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物に関する。

【背景技術】

【0002】

光学樹脂は、ガラス、飛行機、自動車用ガラス及びレンズ、プリズムなどの光学素子の作製に広く使用されている。

【0003】

光学樹脂の中でポリウレタン系樹脂は最も重要な１種であり、このような樹脂はポリチオール化合物とイソシアネート化合物を用いて重合反応させて得られる。このような光学樹脂は屈折率が高く、耐衝撃性、染色性、加工性などの特性に優れている。且つ、ポリウレタンレンズシートは屈折率が高いため、レンズシートを非常に薄くし、より美しくすることができ、これは、将来のレンズシートの発展トレンドである。

【0004】

しかしながら、ポリウレタンレンズシートは、重合過程で原料における不純物又は異性体の影響で樹脂が白濁して不透明になり、光学的に変形し、レンズシートの品質が不合格となることが多い。

【0005】

したがって、レンズシート重合の原料及び過程を制御し、主にイソシアネート原料を制御することにより、白濁及び光学変形の発生を低減する必要がある。

【0006】

米国特許ＵＳ５５７６４１２は、イソシアネート加水分解塩素を３００ｐｐｍ未満に制御することにより、変色しにくく光透過率の高いレンズシート樹脂を得ることができることを開示しており、中国特許ＣＮ１０２５１６４８７は、イソシアネートとポリチオールにおける水分含有量を１０～３００ｐｐｍに制御することにより、脈理及び白濁が生じない光学材料を得ることができることを開示している。

【発明の概要】

【0007】

本発明の目的は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物及びそれから調製された光学樹脂を提供することにある。原料の１，３－ＨＸＤＩにおける１，４－ＨＸＤＩ及びシス－トランス異性体の含有量を制御し、好ましくは、１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量をさらに制御することにより、白濁及び光学変形が生じない高性能の光学樹脂を得ることができる。

【0008】

上記の目的を実現するために、本発明で採用される技術案は次の通りである。
本発明は１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物であって、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン（１，３－ＨＸＤＩ）の重量に基づいて、
ａ）６５％～９５％重量のトランス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと、
ｂ）０を超え、且つ≦０．５％重量、好ましくは０．０２％重量～０．５％重量の１，４－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン（１，４－ＨＸＤＩ）とを含み、
前記１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンは、シス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと、トランス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンとを含む１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物を提供する。

【0009】

好ましい技術案として、本発明に係る１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの重量に基づいて、０を超え、且つ≦６００ｐｐｍ、好ましくは０．１ｐｐｍ～６００ｐｐｍの１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサン

【化1】

を含む。

【0010】

本発明に係る１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物の調製方法は、（１）１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料を塩化水素と混合して１，３－シクロヘキシルジメチルアミン塩酸塩を調製する塩形成工程と、（２）１，３－シクロヘキシルジメチルアミン塩酸塩をホスゲンとイソシアネート化反応させ、生成物は、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンとを含むイソシアネート化工程と、（３）上記生成物を精製し、本発明に係る１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物を調製する精製工程とを含む。

【0011】

好ましい技術案として、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物における１，４－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの含有量、シス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン及びトランス－１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサンの含有量は、１，３－シクロヘキサンジメチルアミン原料の組成を制御することにより実現可能であり、１，３－シクロヘキサンジメチルアミンは水素雰囲気下で触媒を介してシス－トランス異性体の割合を調整可能であり、１，３－シクロヘキサンジメチルアミン原料の重量に基づいて、トランス－１，３－シクロヘキサンジメチルアミンの含有量は５０％～９５％重量、シス－１，３－シクロヘキサンジメチルアミンの含有量は５％～５０％重量であり、好ましくは、トランス－１，３－シクロヘキサンジメチルアミンの含有量は６５％～９５％重量、シス－１，３－シクロヘキサンジメチルアミンの含有量は５％～３５％重量である。また、１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物を精製工程で精留して分離することによりシス－トランス異性体の割合も調整可能である。

【0012】

好ましい技術案として、前記１，３－シクロヘキサンジメチルアミン原料の調製方法は、１，３－シクロヘキシルジメチルアミン（トランス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン：シス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン＝５０：５０）を、ルテニウム／アルミナ触媒の触媒作用下で、水素絶対圧力が４～６ＭＰａ、温度が２００～２２０℃で１～４時間異性化反応させるステップを含む。

【0013】

好ましい技術案として、１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサン含有量は、精製工程における精留条件を制御することにより実現される。

【0014】

本発明は、本発明に係る１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物を用いてポリチオール化合物と重合した光学樹脂をさらに提供する。

【0015】

光学樹脂の調製方法では、イソシアネート組成物をポリチオール化合物と混合してから重合して光学樹脂を得る。

【0016】

本発明に係るポリチオール化合物は脂肪族ポリチオール、芳香族ポリチオール、複素環含有ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む脂肪族ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む芳香族ポリチオール、メルカプト基に加えて硫黄原子を含む複素環含有ポリチオールの１種又は複数種を含む。

【0017】

特に好ましくは、１，２－ビス［（２－メルカプトエチル）チオ］－３－メルカプトプロパン、ビス（メルカプトメチル）－３，６，９－トリチア－１，１１－ウンデカンジチオール、ペンタエリトリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオナート）、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン及び２－メルカプトエタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種のポリチオール化合物を使用する。

【0018】

好ましくは、光学樹脂の調製方法は重合触媒の存在下で行われ、前記重合触媒は、好ましくは有機スズ系化合物であり、ジブチルスズジクロリド、ジメチルスズジクロリドなどのジアルキルスズハライド（ｄｉａｌｋｙｌｔｉｎ ｈａｌｉｄｅ）系、ジメチル二酢酸スズ、ジブチルジオクチル酸スズ、ジブチルスズジラウレートなどのジアルキルジカルボン酸スズ系が挙げられる。

【0019】

また、目的に応じて、前記光学樹脂の製造方法では、鎖延長剤、架橋剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、油溶染料、充填剤、離型剤などの各種の助剤を選択的に添加する。

【0020】

ポリウレタン系樹脂から形成された光学材料は、一般に射出成形重合を用いて製造される。具体的には、ポリチオール化合物とイソシアネート化合物を混合し、適切な助剤を選択的に添加する。必要に応じて、この混合液（重合性組成物）を適切な方法で脱泡した後、光学材料用射出成形型に注入し、通常は低温から高温にかけて徐々に加熱して重合させる。次に、離型して光学材料を得る。

【0021】

本発明は、本発明に係る光学樹脂により製造されたレンズを提供する。

【0022】

イソシアネートとポリチオールの重合速度はレンズシート樹脂に大きな影響を与え、重合速度が速すぎると、樹脂は光学歪み及び気泡を発生し、重合速度が遅すぎると、樹脂の不透明及び白濁を引き起こしやすい。

【0023】

本発明者らは、驚くべきことに、１，３－ＨＸＤＩの１，４－ＨＸＤＩの含有量及びシス－１，３－ＨＸＤＩ、トランス－１，３－ＨＸＤＩの含有量は重合速度に大きな影響を与え、１，３－ＨＸＤＩにおける１，４－ＨＸＤＩ及びシス－１，３－ＨＸＤＩ、トランス－１，３－ＨＸＤＩの含有量を特定の範囲に制御することにより、透明度が良好で光学歪みのないレンズシート樹脂を得ることができることを見出した。

【0024】

また、微量の１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの存在は、重合反応をより安定させることができるが、１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量が高すぎると、組成物の総官能基の平均数が減少するため、重合の不均一をもたらし、ポリマーの構造に影響を及ぼし、光学歪みの発生を容易にもたらす。

【0025】

本発明の技術案は以下の有益な効果を有する。
本発明の１，３－ジイソシアネートメチルシクロヘキサン組成物は、１，４－ＨＸＤＩの含有量、トランス－１，３－ＨＸＤＩの含有量及び１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量が前記特定の範囲内にあるため、調製された光学樹脂によるレンズシートの光学歪み及び白濁の発生率はいずれも２％未満である。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの水素核磁気スペクトルである。

【図2】１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの炭素核磁気スペクトルである。

【発明を実施するための形態】

【0027】

以下の実施例は、本発明に係る方法をさらに説明しているが、本発明は、列挙される実施例に限定されず、本発明の特許請求の範囲内の他のいずれの公知の変更も含むべきである。

【0028】

本発明の異性体の含有量及び微量の不純物はガスクロマトグラフＡｇｉｌｅｎｔ ７８９０で測定した。ガスクロマトグラフの分析パラメータは次の通りである。（１）カラム：ＤＢ－５（３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍ）、（２）サンプル注入量：０．５μＬ、（３）スプリット比：１／３０、（４）サンプル注入口温度：２６０℃、（５）カラム流速：１．５ｍＬ／ｍｉｎ、（６）プログラム昇温：１００℃で１分間保持し、１０℃／ｍｉｎで２８０℃まで昇温し、２０分間保持し、（７）ＦＩＤ検出器温度：２８０℃、（８）水素流速：４０ｍＬ／ｍｉｎ、空気流速：４００ｍＬ／ｍｉｎ。

【0029】

本発明の粘度テストはＢｒｏｏｋｆｉｌｅｄローター粘度計でテストした。

【0030】

本発明の核磁気分析はＢｒｕｋｅｒ ４００ＭＨｚでテストした。

【0031】

光学歪みの発生率：光学歪みとは、樹脂の組成が異なるため、局所的な屈折率と周囲の通常の屈折率が異なる現象を指した。高圧水銀灯下で１００枚のレンズを目視観察し、縞模様のレンズを確認して光学歪みのあるレンズと判定し、光学歪みの発生率を計算した。

【0032】

白濁の発生率：高圧水銀灯下で１００枚のレンズを目視観察し、混濁したレンズを確認して白濁のあるレンズと判定し、白濁の発生率を計算した。

【0033】

重合速度：重合性組成物を作製する時を０時間として、５時間後の粘度を指標として評価した。

【0034】

１，３－シクロヘキシルジメチルアミンの異性化
攪拌器、温度計、ガス供給管を備えたステンレス鋼反応釡に、１０００ｇの１，３－シクロヘキシルジメチルアミン（東京ケミカル、トランス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン：シス－１，３－シクロヘキシルジメチルアミン＝５０：５０）、１６ｇのルテニウム／アルミナ触媒（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）、１０００ｇのヘプタンを加え、反応釜内を水素で３回置き換え、５００ｒｐｍの撹拌下で、２１０℃、水素絶対圧力５ＭＰａで１～４時間反応させ、反応が終了して室温まで冷却し、触媒を濾過して除去した。溶媒を除去し、精留して分離し、１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料を得た。反応時間に応じて、以下の１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料をそれぞれ得た。

【0035】

【表1】

【0036】

１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの構造の決定
ステンレス反応釡において、１４２０ｇの１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料（Ｂ）を１２２４０ｇのｏ－ジクロロベンゼンに溶解し、８００Ｌ／ｈの速度で塩化水素ガスを導入し、塩形成反応を行い、温度＜３０℃に制御し、塩形成完了した後に、乳白色の粘稠物を得て、１５０℃まで昇温し、５００Ｌ／ｈの速度でホスゲンを導入し、光化学反応を行い、未反応のホスゲンを凝縮して回収した後に、アルカリ洗浄システムに入れて破壊した。反応液を清澄化し、光化学反応が完了した後に、窒素を導入して未反応のホスゲンを追い出し、続いて溶媒を除去した後、１，３－ＨＸＤＩ粗体を得た。

【0037】

５００ｇの１，３－ＨＸＤＩ粗体を１９０℃で２時間熱処理し、得られたサンプルを精留して分離してから、精留塔の中部から材料を供給し、塔頂操作圧力が１００ｐａであり、塔底のリボイラー温度が１４０℃であり、この時、塔頂温度が１１０℃であり、還流比を２０：１に制御し、安定状態に達した後に、塔頂から２５ｇの軽質成分を抽出した。気相分析によると、該軽質成分に不純物が含まれ、１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサン９９．０％で、核磁気データは次の通りである。^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）δ ３．４０－３．３６（ｍ，１Ｈ）、３．１９－３．１５（ｍ，１Ｈ）、１．６１－１．４０（ｍ，７Ｈ）、１．２７－１．２４（ｍ，３Ｈ）、０．９５－０．９７（ｄ，３Ｈ）；^１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：δ １２２．７、５３．６、３９．１、３４．４、３１．８、３１．５、３１．２、２１．０、２０．６。

【0038】

実施例１
ステンレス反応釡において、１４２０ｇの１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料（Ｂ）を１２２４０ｇのｏ－ジクロロベンゼンに溶解し、８００Ｌ／ｈの速度で塩化水素ガスを導入し、塩形成反応を行い、温度＜３０℃に制御し、塩形成完了した後に、乳白色の粘稠物を得て、１５０℃まで昇温し、５００Ｌ／ｈの速度でホスゲンを導入し、光化学反応を行い、未反応のホスゲンを凝縮して回収した後に、アルカリ洗浄システムに入れて破壊した。反応液を清澄化し、光化学反応が完了した後に、窒素を導入して未反応のホスゲンを追い出し、続いて溶媒を除去した後、１，３－ＨＸＤＩ粗体を得た。

【0039】

次に、内径２０ｍｍ、長さ１５００ｍｍの内部に規則充填物を充填したガラス精留塔を用いて、得られた１，３－ＨＸＤＩ粗体を精留し、予熱器で１，３－ＨＸＤＩ粗体を１２０℃まで予熱し、次に精留塔の中部から材料を供給し、塔頂操作圧力が１００ｐａであり、塔底のリボイラー温度が１４５℃であり、この時、塔頂温度が１１５℃であり、還流比を３０：１に制御し、安定状態に達した後に、塔頂から１，３－ＨＸＤＩ組成物を抽出した。気相分析によると、組成物における１，３－ＨＸＤＩの重量に基づいて計算し、組成物における１，４－ＨＸＤＩの含有量が０．１ｗｔ％、１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量が１０ｐｐｍであり、且つ１，３－ＨＸＤＩにおけるトランス異性体は７５％を占めた。

【0040】

２５℃で５３．７ｇの上記調製された１，３－ＨＸＤＩ組成物、触媒としての０．０７５ｇのジブチルスズジクロリド、０．１０ｇの酸性リン酸エステル（Ｓｔｅｐａｎ公司、製品名Ｚｅｌｅｃ ＵＮ）、０．０５ｇの紫外線吸収剤（共同薬品社製、製品名ＢｉｏＳｏｒｂ ５８３）を混合して溶解した。さらに、４８ｇの１，２－ビス［（２－メルカプトエチル）チオ］－３－メルカプトプロパン（京博化工）を加えて混合し、均一な混合液（重合性組成物）を形成した。均一な混合溶液を作製する時を０時間として、５時間後の粘度を測定した。

【0041】

２５℃で５３．７ｇの１，３－ＨＸＤＩ組成物、０．０７５質量部（即ち、０．０７５ｇ）の触媒としてのジブチルスズジクロリド、０．１０質量部（即ち、０．１０ｇ）の酸性リン酸エステル（Ｓｔｅｐａｎ公司、製品名Ｚｅｌｅｃ ＵＮ）、０．０５質量部（即ち、０．０５ｇ）の紫外線吸収剤（共同薬品社製、製品名ＢｉｏＳｏｒｂ ５８３）を混合して溶解した。さらに、４８質量部（即ち、４８ｇ）の１，２－ビス［（２－メルカプトエチル）チオ］－３－メルカプトプロパン（京博化工）を加えて混合し、均一な混合液（重合性組成物）を形成した。この均一な混合液を６００Ｐａで１時間脱泡した後、１μｍのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）フィルターで濾過した。次に、直径７５ｍｍ、４Ｄガラス型及び粘着テープからなるレンズ用射出成形型に注入した。この射出成形型をオーブンに入れ、４０℃で２時間保持し、４時間かけて５０℃まで昇温させて２時間保持し、３時間かけて６０℃まで昇温させて２時間保持した。さらに３時間かけて７０℃まで昇温させて２時間保持し、３時間かけて１００℃まで昇温させて、さらに１時間かけて１３０℃まで昇温させて２時間保持した。重合終了後に、射出成形型をオーブンから取り出し、離型してレンズを得た。次に、得られたレンズを１２０℃で３時間アニーリングした。同様の方法で１００枚のレンズを作製し、脈理の発生率（即ち、光学歪みの発生率）、白濁の発生率を計算した。結果は表２のとおりである。

【0042】

実施例２～６、比較例１～５
１，３－シクロヘキシルジメチルアミン原料を変更し、異なる還流比を調整することにより、下記表２のとおり、異なる指標のサンプルを得た。

【0043】

【表2】

【0044】

表２における「トランス－１，３－ＨＸＤＩの含有量／％」とは、１，３－ＨＸＤＩの重量に基づくトランス－１，３－ＨＸＤＩの含有量を指している。
「１，４－ＨＸＤＩの含有量／％」とは、１，３－ＨＸＤＩの重量に基づく１，４－ＨＸＤＩの含有量を指している。
「１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量／ｐｐｍ」とは、１，３－ＨＸＤＩの重量に基づく１－イソシアネートメチル－３－メチルシクロヘキサンの含有量を指している。

【図1】

【図2】