(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-08-07
(45)【発行日】2023-08-16
(54)【発明の名称】蒸着用マスク
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20230808BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20230808BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20230808BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
H05B33/14 A
H05B33/10
【請求項の数】
13
(21)【出願番号】P 2019064273
(22)【出願日】2019-03-28
(65)【公開番号】P2019214783
(43)【公開日】2019-12-19
【審査請求日】2022-01-21
(31)【優先権主張番号】10-2018-0067675
(32)【優先日】2018-06-12
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】512187343
【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】１， Ｓａｍｓｕｎｇ－ｒｏ， Ｇｉｈｅｕｎｇ－ｇｕ， Ｙｏｎｇｉｎ－ｓｉ， Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ， Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】110002619
【氏名又は名称】弁理士法人ＰＯＲＴ
(72)【発明者】
【氏名】キム サンフン
(72)【発明者】
【氏名】リ スンジン
【審査官】篠原 法子
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２００６／０２７８３０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１５－０２８２１４（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１８／００６５１４３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１２／０３２５１４３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１２－１３２０９６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１２７４４１（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国特許出願公開第１０７４３５１３１（ＣＮ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１７／０１７９３９０（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８
Ｈ０５Ｂ ３３／００－３３／２８
Ｈ０５Ｂ ４４／００
Ｈ０５Ｂ ４５／６０
Ｈ１０Ｋ ５０／００－９９／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数のパターン孔が配列されたパターン部が配置されるパターニング領域と、第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、
前記パターン部は、
第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、
第２パターン孔が設けられ、前記第１方向で前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置される複数の第２パターン部と、を含み、
前記第１パターン孔のうち互いに隣接する前記第１パターン孔間の最小距離と定義される第１距離より、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する前記第２パターン孔間の最小距離と定義される第２距離のほうが大きく、
前記第１パターン孔のそれぞれの大きさは、前記第２パターン孔のそれぞれの大きさと同じであり、
前記第２パターン孔は、前記第１方向に複数行で設けられ、
偶数行の前記第２パターン孔は、奇数行の前記第２パターン孔に対して、前記第１方向に交差する第２方向にシフトしている蒸着用マスク。
【請求項2】
前記第２距離は、２０μｍ以上である請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項3】
前記第２パターン部のそれぞれは、前記ボンディング領域に隣接し、前記第２パターン孔が設けられた第１部分と、
前記第１部分と前記第１パターン部との間に設けられ、前記第１パターン孔が設けられた第２部分と、を含む請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項4】
複数のパターン孔が配列されたパターン部が配置されるパターニング領域と、
第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、
前記パターン部は、
第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、
第２パターン孔が設けられ、前記第１方向で前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置される複数の第２パターン部と、を含み、
前記第１パターン孔のうち互いに隣接する前記第１パターン孔間の最小距離と定義される第１距離より、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する前記第２パターン孔間の最小距離と定義される第２距離のほうが大きく、
前記第２パターン部のそれぞれは、
前記ボンディング領域に隣接し、前記第２パターン孔が設けられた第１部分と、
前記第１部分と前記第１パターン部との間に設けられ、前記第１パターン孔が設けられた第２部分と、を含み、
前記第２パターン部のそれぞれは、
前記第１部分と前記ボンディング領域との間に配置される第３パターン孔が設けられた第３部分を更に含み、
前記第３パターン孔のうち互いに隣接する前記第３パターン孔間の最小距離と定義される第３距離は、前記第２距離より大きい蒸着用マスク。
【請求項5】
前記第１パターン部は、前記第１方向に離隔して配列され、前記第１パターン孔が定義される複数の蒸着部と、
隣接する前記蒸着部の間に配置される少なくとも一つの遮断部と、を含む請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項6】
前記遮断部の開口率は、前記蒸着部のそれぞれの開口率より小さい請求項５に記載の蒸着用マスク。
【請求項7】
前記遮断部の開口率は０である請求項６に記載の蒸着用マスク。
【請求項8】
複数のパターン孔が配列されたパターン部が配置されるパターニング領域と、
第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、
前記パターン部は、
第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、
第２パターン孔が設けられ、前記第１方向で前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置される複数の第２パターン部と、を含み、
前記第１パターン孔のうち互いに隣接する前記第１パターン孔間の最小距離と定義される第１距離より、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する前記第２パターン孔間の最小距離と定義される第２距離のほうが大きく、
前記第１パターン部は、
前記第１方向に離隔して配列され、前記第１パターン孔が定義される複数の蒸着部と、
隣接する前記蒸着部の間に配置される少なくとも一つの遮断部と、を含み、
前記遮断部の開口率は、前記蒸着部のそれぞれの開口率より小さく、
前記遮断部に複数の第４パターン孔が設けられ、前記第４パターン孔のそれぞれの大きさは前記第１パターン孔のそれぞれの大きさと同じである蒸着用マスク。
【請求項9】
前記第４パターン孔のうち互いに隣接する前記第４パターン孔間の最小距離は、前記第２距離以上である請求項８に記載の蒸着用マスク。
【請求項10】
複数のパターン孔が配列されたパターン部が配置されるパターニング領域と、
第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、
前記パターン部は、
第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、
第２パターン孔が設けられ、前記第１方向で前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置される複数の第２パターン部と、を含み、
前記第１パターン孔のうち互いに隣接する前記第１パターン孔間の最小距離と定義される第１距離より、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する前記第２パターン孔間の最小距離と定義される第２距離のほうが大きく、
前記第１パターン部は、
前記第１方向に離隔して配列され、前記第１パターン孔が定義される複数の蒸着部と、
隣接する前記蒸着部の間に配置される少なくとも一つの遮断部と、を含み、
前記遮断部の開口率は、前記蒸着部のそれぞれの開口率より小さく、
前記遮断部に複数の第４パターン孔が設けられ、前記第４パターン孔のそれぞれの大きさは前記第１パターン孔のそれぞれの大きさより小さい蒸着用マスク。
【請求項11】
前記第４パターン孔のうち互いに隣接する前記第４パターン孔間の最小距離は、前記第１距離と同じである請求項１０に記載の蒸着用マスク。
【請求項12】
前記第１方向で前記ボンディング領域の両端と隣接して配置されるカッティング部を更に含み、前記カッティング部のそれぞれは、前記第１パターン孔が定義されたダミーパターン部を含む請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項13】
前記カッティング部のそれぞれに、前記第１方向の外側から内側に凹んだクランピング溝が定義される請求項１２に記載の蒸着用マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は蒸着用マスク及びそれを含むマスク組立体に関し、蒸着の精密度及び均一度が向上する蒸着用マスク及びそれを含むマスク組立体に関する。
【背景技術】
【0002】
表示装置のうち、有機発光表示装置は自発光型素子が用いられた表示装置であって、視野が広くコントラストが優秀なだけでなく、応答速度が速いという長所を有するため、次世代装置として注目を浴びている。このような有機発光表示装置は、互いに対向する電極の間に少なくとも発光層を含む中間層を有する。前記中間層は様々な方法で生成されるが、そのうちの一つの方法が蒸着法である。蒸着法を利用して有機発光表示装置を製造するためには、基板が形成される薄膜のパターンと同じパターンの開口部を有する蒸着用マスク、例えば、ファインメタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を基板に密着させ、蒸着物質を蒸着用マスクを介して基板に蒸着して所望のパターンの薄膜を形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】米国特許第１０，０８３，９９７号明細書
【文献】韓国特許第１０－２０１５－００９６５９０号公報
【文献】韓国特許第１０－２０１７－０１０２１４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、蒸着の精密度及び均一度が向上された蒸着用マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の実施例による蒸着用マスクは、複数のパターン孔が配列されたパターン部が配置されるパターニング領域と、第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、前記パターン部は、第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、第２パターン孔が設けられ、前記第１方向で前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置される複数の第２パターン部と、を含み、前記第１パターン孔のうち互いに隣接する前記第１パターン孔間の最小距離と定義される第１距離より、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する前記第２パターン孔間の最小距離と定義される第２距離のほうが大きい。
【0006】
前記第１パターン孔のそれぞれの大きさは、前記第２パターン孔のそれぞれの大きさと同じである。
【0007】
前記第２距離は、２０μｍ以上である。
【0008】
前記第２パターン部のそれぞれは、前記ボンディング領域に隣接し、前記第２パターン孔が設けられた第１部分と、前記第１部分と前記第１パターン部との間に設けられ、前記第１パターン孔が設けられた第２部分と、を含む。
【0009】
前記第１部分に少なくとも２行以上の第２パターン孔が設けられる。
【0010】
前記第２パターン部のそれぞれは、前記第１部分と前記ボンディング領域との間に配置される第３パターン孔が設けられた第３部分を更に含み、前記第３パターン孔のうち互いに隣接する前記第３パターン孔間の最小距離と定義される第３距離は、前記第２距離より大きい。
【0011】
前記第１パターン部は、前記第１方向に離隔して配列され、前記第１パターン孔が定義される複数の蒸着部と、隣接する前記蒸着部の間に配置される少なくとも一つの遮断部と、を含む。
【0012】
前記遮断部の開口率は、前記蒸着部のそれぞれの開口率より低い。
【0013】
前記遮断部の開口率は０である。
【0014】
前記遮断部に複数の第４パターン孔が設けられ、前記第４パターン孔のそれぞれの大きさは前記第１パターン孔のそれぞれの大きさと同じである。
【0015】
前記第４パターン孔のうち互いに隣接する前記第４パターン孔間の最小距離は、前記第２距離以上である。
【0016】
前記遮断部に複数の第４パターン孔が設けられ、前記第４パターン孔のそれぞれの大きさは前記第１パターン孔のそれぞれの大きさより小さい。
【0017】
前記第４パターン孔のうち互いに隣接する前記第４パターン孔間の最小距離は、前記第１距離と同じである。
【0018】
前記遮断部の開口率は、前記蒸着部のそれぞれの開口率と同じである。
【0019】
前記遮断部の前記第１方向幅は、前記第２パターン部の前記第１方向幅とは異なる。
【0020】
前記第１パターン孔間の最大距離は、前記第２距離と同じである。
【0021】
前記第１方向で前記ボンディング領域の両端と隣接して配置されるカッティング部を更に含み、前記カッティング部のそれぞれは、前記第１パターン孔が定義されたダミーパターン部を含む。
【0022】
前記カッティング部のそれぞれに、前記第１方向の外側から内側に凹んだクランピング溝が定義される。
【0023】
本発明の実施例によるマスク組立体は、フレームセットと、前記フレームセットの中に安着され、それぞれが第１方向に延長された複数の蒸着用マスクと、を含み、前記フレームセットは、枠状を有する支持フレームと、前記第１方向と交差する第２方向に延長されて前記第１方向に配列され、前記第２方向両端が前記支持フレームに締結される複数の支持台と、を含み、前記蒸着用マスクのそれぞれは、前記第１方向両端に定義され、前記支持フレームに固定される複数のボンディング領域と、前記ボンディング領域の間に定義され、所定の間隔を置いて一定に配置される複数のパターン孔が設けられたパターン部が配置されるパターニング領域と、を含み、前記パターン部は、前記パターン部の中心に配置され、複数の第１パターン孔が設けられた第１パターン部と、前記第１方向において前記第１パターン部の両端と前記ボンディング領域との間に配置され、それぞれの少なくとも一部の領域に複数の第２パターン孔が設けられた複数の第２パターン部と、を含み、前記第２パターン孔のうち互いに隣接する第２パターン孔間の最小距離は、前記第１パターン孔のうち互いに隣接する第１パターン孔間の最小距離より大きい。
【0024】
前記第１パターン孔のそれぞれの大きさは、前記第２パターン孔のそれぞれの大きさと同じである。
【0025】
前記支持台は、前記第１方向に配列され、前記第１パターン部の一部と重畳する少なくとも一つの第１支持台と、前記支持台のうち前記第１方向の最外殻に配置され、前記蒸着用マスクのそれぞれの前記第２パターン部と重畳する第２支持台と、を含む。
【0026】
前記第１パターン部は、前記第１方向に離隔して配列され、前記第１パターン孔が設けられた複数の蒸着部と、前記蒸着部との間に配置され、前記第１支持台と重畳する少なくとも一つの遮断部と、を含む。
【0027】
前記第２支持台のそれぞれの第１方向の幅は、前記第１支持台のそれぞれの前記第１方向の幅とは異なる。
【0028】
前記ボンディング領域開口率は０である。
【0029】
前記支持フレームの前記第２方向内側のそれぞれに前記第１方向に配列される複数の結合溝が設けられ、前記複数の結合溝に前記支持台の両端が挿入される。
【0030】
前記第２パターン孔のうち互いに隣接する第２パターン孔間の最小距離は、２０μｍ以上である。
【0031】
前記第２パターン部に少なくとも２行以上の第２パターン孔が設けられる。
【0032】
本発明の実施例による蒸着用マスクは、所定の間隔を置いて一定に配列され、大きさが同じ複数のパターン孔が設けられたパターニング領域と、第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、前記パターニング領域において、前記ボンディング領域と隣接する一部の領域に設けられた前記パターン孔のうち互いに隣接するパターン孔間の最小距離は、前記パターニング領域で前記一部の領域を除いた領域に定義された前記パターン孔のうち互いに隣接するパターン孔間の最小距離より大きい。
【0033】
本発明の実施例による蒸着用マスクは、所定の間隔を置いて一定に配列され、複数のパターン孔が設けられたパターン部を含むパターニング領域と、第１方向で前記パターニング領域の両端と隣接して配置される複数のボンディング領域と、を含み、前記パターン部は、第１配列関係を有して配列されるパターン孔が設けられた第１パターン部と、少なくとも一部の領域に第２配列関係を有して配列されるパターン孔が設けられた複数の第２パターン部と、を含み、前記第２配列間系を有して配列される前記パターン孔間の最小距離は、前記第１配列間系を有して配列される前記パターン孔間の最小距離より大きい。
【0034】
前記第２配列関係を有して配列される前記パターン孔間の最小距離は、２０μｍ以上である。
【0035】
前記パターン孔のそれぞれの直径は、１７μｍ以上２２μｍ以下である。
【0036】
前記第２配列関係を有して配列される前記パターン孔は、少なくとも２行以上に設けられている。
【発明の効果】
【0037】
本発明の実施例によると、蒸着工程の蒸着の精密度及び均一度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【0038】
【図1】本発明の一実施例によるマスク組立体の斜視図である。
【図3】カッティング部が切断されたマスク組立体の斜視図である。
【図4】本発明の実施例による蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【図5】蒸着用マスクの平面図である。
【図9】本発明の他の実施例による第２パターン部の拡大図である。
【図10】本発明の他の実施例による第２パターン部の拡大図である。
【図12】本発明の他の実施例による遮断部の拡大図である。
【図13】本発明の他の実施例による遮断部の拡大図である。
【図14】本発明の他の実施例による遮断部の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【0039】
本発明の利点及び特徴、及びそれらを達成する方法は、添付した図面と共に詳細に後述する実施例を参照すると明確になるはずである。しかし、本発明は以下に開示される実施例に限らず、互いに異なる様々な形態に実現されるはずである。但し、本実施例は本発明の開示が完全になるように、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであって、本発明は特許請求の範囲によって定義されるのみである。明細書全体にわたって、同じ参照符号は同じ構成要件を指す。
【0040】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」と称されるのは、他の素子または層の直上だけでなく、中間に他の層または他の素子を介在する場合を全て含む。
【0041】
素子が「直上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ ｏｎ）」または「すぐ上」と称されるのは、中間に他の素子または他の層を介在しないことを示す。「及び／または」は、言及されたアイテムのそれぞれ及び一つ以上の全ての組み合わせを含む。
【0042】
空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは、図面に示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は、図面に示されている方向に加えて、使用時または動作時に互いに異なる方向を含む用語して理解すべきである。明細書全体にわたって、同じ参照符号は同じ構成要素を指す。
【0043】
たとえ第１、第２などが多様な素子、構成要素及び／またはセクションを述べるために使用されても、これらの素子、構成要素及び／またはセクションはこれらの用語に限らないことはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用されるものである。よって、以下で言及する第１素子、第１構成要素または第１セクションは、本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素、または第２セクションであってもよいことはもちろんである。
【0044】
本明細書において、記述する実施例は本発明の理想的な概略図である平面図及び断面図を参照して説明される。よって、製造技術及び／または許容誤差などによって例示図の形態が変更され得る。よって、本発明の実施例は、図示した特定の形態に限らず、製造工程によって生成される形態の変化も含む。よって、図面で例示した領域は概略的な属性を有し、図面で例示された領域の模様は素子の領域の特定の形態を例示するためのものであって、発明の範疇を制限するためのものではない。
【0045】
以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例をより詳細に説明する。
【0046】
【0047】
図１乃至図３を参照すると、本発明の実施例によるマスク組立体１００は、後述する対象基板ＳＵＢ（図４）に有機物を蒸着する工程に使用される。例示的に、マスク組立体１００は有機発光素子（図示せず）を製作するための有機物蒸着工程に使用されてもよい。
【0048】
本発明の実施例によるマスク組立体１００は、フレームセット１０及び複数の蒸着用マスク２０を含む。
【0049】
マスク組立体１００は、支持フレーム１１及び複数の支持台１２、１３を含む。支持フレーム１１は、四角枠状を有する。支持フレーム１１の中央にフレーム開口ＦＯＰが定義される。
【0050】
図１乃至図３に示した支持フレーム１１は、第１方向ＤＲ１に短辺を有し、平面上において、第１方向ＤＲ１と交差する第２方向ＤＲ２に長辺を有する矩形を有する。しかし、本発明は、本実施形態に係る支持フレーム１１の形状に限定されない。後述する蒸着用マスク２０の大きさ及び個数に応じて、支持フレーム１１の第１方向ＤＲ１及び第２方向ＤＲ２のそれぞれにおける長さが決定される。
【0051】
支持台１２、１３のそれぞれは棒状を有する。支持台１２、１３のそれぞれは第２方向ＤＲ２に延長される。支持台１２、１３は第１方向ＤＲ１に沿って配列される。支持台１２、１３は支持フレーム１１の内側に配置され、フレーム開口ＦＯＰを複数個に区画する。支持台１２、１３は後述する蒸着用マスク２０を支持する役割を有する。
【0052】
【0053】
複数の第１支持台１２は、第１方向ＤＲ１に沿って所定間隔を置いて配列される。２つの第２支持台１３は、支持台１２、１３のうち第１方向ＤＲ１で最外殻に配置される。つまり、２つの第２支持台１３の間に複数の第１支持台１２が配列される。
【0054】
本実施例によると、支持台１２、１３間の距離は一定である。しかし、本発明はこれに限定されない。例示的に、後述する対象基板ＳＵＢ（図４）の上に蒸着しようとする領域の大きさ及び形状応じて支持台１２、１３間の距離を異なるように設定してもよい。
【0055】
本実施例によると、第１支持台１２の第１方向ＤＲ１の幅は、第２支持台１３の第１方向幅ＤＲ１の幅とは異なる。図１乃至図３では、第２支持台１３の第１方向ＤＲ１の幅が第１支持台１２の第１方向ＤＲ１の幅より大きい場合が例示されている。しかし、本発明は、本実施形態に係る第１支持台１２及び第２支持台１３の第１方向ＤＲ１の幅の大きさに限定されない。第１支持台１２及び第２支持台１３の第１方向ＤＲ１の幅は、後述する対象基板ＳＵＢ（図４）の上に蒸着しようとする領域の大きさ及び形状に応じて異なるように設定されてもよい。
【0056】
本実施例によると、フレーム開口ＦＯＰと隣接する支持フレーム１１の内側のうち、第２方向ＤＲ２で向かい合う内側に複数の結合溝ＧＲが設けられる。結合溝ＧＲは、第２方向ＤＲ２で向かい合うように対をなす。複数対の結合溝ＧＲは第１方向ＤＲ１に配列される。
【0057】
複数対の結合溝ＧＲは支持台１２、１３と一対一に対応する。支持台１２、１３のそれぞれの両端は、一対の結合溝ＧＲに締結されて支持フレーム１１に固定される。
【0058】
本実施例によると、第２支持台１３は支持フレーム１１の第１方向ＤＲ１内側と接触する。つまり、支持フレーム１１の第１方向ＤＲ１内側と第２フレーム１３との間には開口が形成されない。
【0059】
本実施例では支持台１２、１３が支持フレーム１１に形成された結合溝ＧＲに挿入される構成が説明されているが、本発明は、本実施形態に係る支持台１２、１３と支持フレーム１１の結合方式に限定されない。
【0060】
蒸着用マスク２０は、フレームセット１０の上に安着される。本実施例によると、フレームセット１０の支持台１２、１３のそれぞれの上面は、支持フレーム１１の上面と同じ平面上に配置される。よって、蒸着用マスク２０がフレームセット１０の上に安定的に安着される。
【0061】
蒸着用マスク２０は第１方向ＤＲ１に延長される。蒸着用マスク２０は第２方向ＤＲ２に配列される。
【0062】
蒸着用マスク２０のそれぞれは、マスクユニット２１及び複数のカッティング部２２を含む。
【0063】
マスクユニット２１は第１方向ＤＲ１に延長される。マスクユニット２１は、フレームセット１０によって実質的に支持される部分である。つまり、マスクユニット２１の第１方向ＤＲ１両端は、支持フレーム１１の前記長辺の一部と重畳する。支持フレーム１１の前記長辺の一部と重畳するマスクユニット２１の領域は、溶接工程のようなボンディング工程を介して維持フレーム１１の前記長辺の一部にボンディングされる。
【0064】
カッティング部２２は、マスクユニット２１の第１方向ＤＲ１の両端に隣接して配置される。例示的に、カッティング部２２はマスクユニット２１の第１方向ＤＲ１の両端に接続されてもよい。つまり、マスクユニット２１は２つのカッティング部２２の間に配置されてもよい。カッティング部２２はフレームセット１０と接触しない。
【0065】
本実施例によると、フレームセット１０の上に安着される前の蒸着マスク２０のそれぞれは、固定部材（図示せず）によって支持される。例示的に、固定部材（図示せず）はクランプ（Ｃｌａｍｐ）であってもよい。蒸着用マスク２０のそれぞれの両端に配置されたカッティング部２２のそれぞれが固定部材（図示せず）に固定されることで、蒸着用マスク２０が支持される。また、固定部材（図示せず）はカッティング部２２のそれぞれを固定すると共に蒸着用マスク２０に引張力を加える。前記引張力の方向は第１方向ＤＲ１と平行する。
【0066】
本実施例によると、マスクユニット２１と支持フレーム１１との間のボンディング工程が完了した後、カッティング部２２が切断される。図３では、カッティング部２２が切断されたマスク組立体１００Ａが示されている。つまり、切断工程が完了したマスク組立体１００Ａはフレームセット１０及びマスクユニット２１のみを含む。以下、図５乃至図８において、蒸着用マスク２０に関して詳細に後述する。
【0067】
図４は、本発明の実施例による蒸着装置を概略的に示す断面図である。
【0068】
【0069】
詳しくは、本発明の実施例による蒸着装置１０００は、チャンバＣＨＢ、蒸着源Ｓ、ステージＳＴＧ、移動プレートＰＰ、及びマスク組立体１００Ａを含む。蒸着源Ｓ、ステージＳＴＧ、移動プレートＰＰ、及びマスク組立体１００Ａは、チャンバＣＨＢ内に配置される。
【0070】
チャンバＣＨＢは密閉空間を形成する。チャンバＣＨＢは少なくとも一つのゲートＧＴを備える。ゲートＧＴを介してチャンバＣＨＢが開閉される。マスク組立体１００Ａ及び対象基板ＳＵＢは、チャンバＣＨＢに備えられたゲートＧＴを介して出入する。
【0071】
蒸着源Ｓは、チャンバＣＨＢ内の下部に配置される。蒸着源Ｓは蒸着物質を含む。この際、蒸着物質は昇華または気化が可能な物質であって、無機物、金属、また有機物のうち一つ以上を含む。本実施例による蒸着源Ｓは、有機発光素子（図示せず）を製作するための有機物を含む場合を例示的に説明している。
【0072】
ステージＳＴＧは蒸着源Ｓの上部に配置される。ステージＳＴＧの上にマスク組立体１００Ａが安着される。マスク組立体１００Ａは蒸着源Ｓに対向する。図３に示したマスク組立体１００ＡのＩ－Ｉ'線の断面が図４に示されている。ステージＳＴＧは、マスク組立体１００Ａの支持フレーム１１と重畳してマスク組立体１００Ａを支持する。ステージＳＴＧは、支持フレーム１１に設けられたフレーム開口ＦＯＰ（図１及び図２）と重畳しない。つまり、ステージＳＴＧは蒸着源Ｓから基板ＳＵＢに供給される蒸着物質の移動経路の外側に配置される。
【0073】
マスク組立体１００Ａの上には対象基板ＳＵＢが配置される。マスク組立体１００Ａのマスクユニット２１が含むパターンによって、対象基板ＳＵＢに有機物が蒸着される。
【0074】
本実施例によると、移動プレートＰＰが対象基板ＳＵＢをマスク組立体１００Ａの上に整列させる。例示的に、移動プレートＰＰは、静電気力または磁気力を発生して対象基板ＳＵＢを移動させてもよい。移動プレートＰＰは上下または左右に移動可能である。
【0075】
本実施例の他の実施例による移動プレートＰＰは、対象基板ＳＵＢをマスク組立体１００Ａの上に固定する機能を有する。対象基板ＳＵＢが移動プレートＰＰによってマスク組立体１００Ａに固定されることで、蒸着工程の精密性が向上する。
【0076】
本実施例によると、蒸着源Ｓの蒸着物質は昇華または気化されて、マスク組立体１００Ａのマスクユニット２１及び基板ＳＵＢに供給される。マスクユニット２１によって遮断された基板ＳＵＢの上の領域には蒸着物質が供給されない。
【0077】
図５は、蒸着用マスクの平面図である。
【0078】
上述したように、本発明の実施例による蒸着用マスク２０は、マスクユニット２１及び複数のカッティング部２２を含む。
【0079】
図５を参照すると、マスクユニット２１は第１方向ＤＲ１に配列される複数の領域を含む。詳しくは、マスクユニット２１は、マスクユニット２１の中央に定義されるパターニング領域ＰＡ及び複数のボンディング領域ＢＡを含む。ボンディング領域ＢＡは、第１方向ＤＲ１でパターニング領域ＰＡの両端と隣接して配置される。例示的に、ボンディング領域ＢＡは第１方向ＤＲ１でパターニング領域ＰＡの両端に接続されてもよい。
【0080】
【0081】
ボンディング領域ＢＡのそれぞれは、上述した支持フレーム１１の長辺の一部と重畳する。つまり、ボンディング領域ＢＡのそれぞれの第１方向ＤＲ１の幅は、支持フレーム１１の長辺の第１方向ＤＲ１の幅と同じである。ボンディング領域ＢＡには前記パターン孔（図示せず）が設けられていない。つまり、前記ボンディング領域ＢＡのそれぞれの開口率は０である。
【0082】
パターン部ＰＴは、第１パターン部ＰＴ１及び複数の第２パターン部ＰＴ２を含む。本実施例によると、第１パターン部ＰＴ１及び第２パターン部ＰＴ２のそれぞれに複数のパターン孔（図示せず）が設けられている。
【0083】
第１パターン部ＰＴ１は、複数の蒸着部ＡＴ及び少なくとも一つの遮断部ＮＡＴを含む。詳しくは、例示的に、図５に示したように、第１パターン部ＰＴ１はＮ個の蒸着部ＡＴ及びＮ－１個の遮断部ＮＡＴを含む。
【0084】
蒸着部ＡＴは第１方向ＤＲ１に離隔して配列される。蒸着部ＡＴのそれぞれは、上述した対象基板ＳＵＢ（図４）の上に蒸着物質が実質的に蒸着される領域と対応する。つまり、蒸着部ＡＴはマスク組立体１００Ａによって露出される領域を含む。
【0085】
遮断部ＮＡＴのそれぞれは、隣接する蒸着部ＡＴの間に配置される。つまり、遮断部ＮＡＴのそれぞれは、蒸着部ＡＴを隣接する蒸着部ＡＴから隔離する。遮断部ＮＡＴは、上述した第１支持台１２（図１及び図２）によってカバーされ、蒸着工程の際に蒸着物質が提供されない領域を含む。
【0086】
本実施例によると、蒸着部ＡＴ及び遮断部ＮＡＴのそれぞれに、所定の距離を置いて一定に配列される複数のパターン孔（図示せず）が設けられている。つまり、蒸着部ＡＴ及び遮断部ＮＡＴのそれぞれに配列される複数のパターン孔（図示せず）は第１配列関係を有する。蒸着部ＡＴ及び遮断部ＮＡＴのそれぞれは第１開口率を有する。例示的に、蒸着部ＡＴ及び遮断部ＮＡＴのそれぞれに第１パターン孔（図示せず）が設けられてもよい。以下、図６乃至図８においてより詳細に後述する。
【0087】
第２パターン部ＰＴ２は、第１方向ＤＲ１で第１パターン部ＰＴ１の両端に配置される。第２パターン部ＰＴ２のそれぞれは、第１パターン部ＰＴ１の両端とボンディング領域ＢＡとの間に配置される。例示的に、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれは第１パターン部ＰＴ１の両端とボンディング領域ＢＡとを連結してもよい。詳しくは、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれは第１パターン部ＰＴ１の最外殻に配置される蒸着部ＡＴとボンディング領域ＢＡを連結する。第２パターン部ＰＴ２のそれぞれは、上述した第２支持台１３（図１及び図２）によってカバーされ、蒸着工程の際に蒸着物質が提供されない領域を含む。
【0088】
本実施例によると、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれの第１方向ＤＲ１の幅は、遮断部ＮＡＴのそれぞれの第１方向幅ＤＲ１の幅とは異なる。図５では、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれの第１方向ＤＲ１の幅が遮断部ＮＡＴのそれぞれの幅より大きい場合が例示的に示されている。しかし、本発明は、本実施形態に係る第２パターン部ＰＴ２のそれぞれ及び遮断部ＮＡＴの第１方向ＤＲ１の幅の大きさに限定されない。第２パターン部ＰＴ２のそれぞれ及び遮断部ＮＡＴの第１方向ＤＲ１の幅は、対象基板ＳＵＢ（図４）の上に蒸着しようとする領域の大きさ及び形状に応じて異なるように設定されてもよい。
【0089】
本実施例によると、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれに所定の距離を置いて一定に配列される複数のパターン孔（図示せず）が設けられている。第２パターン部ＰＴ２のそれぞれに配列される複数のパターン孔（図示せず）の一部は第２配列関係を有する。第２パターン部ＰＴ２のそれぞれの少なくとも一部は第２開口率を有する。例示的に、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれに第２パターン孔（図示せず）が設けられてもよい。以下、図６乃至図８においてより詳細に後述する。
【0090】
カッティング部２２のそれぞれは、マスクユニット２１の第１方向ＤＲ１の外側に配置される。つまり、マスクユニット２１の両端はカッティング部２２と接続される。
【0091】
カッティング部２２は、カッティング部２２のそれぞれの第１方向ＤＲ１の外側に配置される複数のクランピング部ＣＰを含む。クランピング部ＣＰは、上述した固定部材（図示せず）によって固定される。
【0092】
本実施例によると、クランピング部ＣＰの間にクランピング溝ＣＧが設けられている。クランピング溝ＣＧは、第１方向ＤＲ１で蒸着用マスク２０の外側から内側に凹んだ形状を有する。図５では、クランピング溝ＣＧの内周面が曲面を含むように示されている。この場合、蒸着用マスク２０に加えられる引張力によって蒸着用マスク２０が変形する又は破損する現象を緩和することができる。
【0093】
本実施例によるカッティング部２２のそれぞれは、ダミーパターン部ＤＰを更に含む。ダミーパターン部ＤＰは、マスクユニット２１のボンディング領域ＢＡと隣接する。例示的に、ダミーパターン部ＤＰはマスクユニット２１のボンディング領域ＢＡと連結されてもよい。つまり、ダミーパターン部ＤＰは、クランピング部ＣＰとボンディング領域ＢＡとの間に配置されてもよい。
【0094】
本実施例によると、ダミーパターン部ＤＰに複数のパターン孔（図示せず）が設けられている。本発明は、本実施形態に係るダミーパターン部ＤＰに設けられたパターン孔（図示せず）の個数、形状、及び配列関係、またはダミーパターン部ＤＰの開口率に限定されない。例示的に、ダミーパターン部ＤＰは蒸着部ＡＴと同じ開口率を有する。つまり、ダミーパターン部ＤＰに第１配列関係を有する第１パターン孔（図示せず）が設けられている。
【0095】
ダミーパターン部ＤＰは、クランピング部ＣＰからパターン部ＰＴに伝達される引張力を吸収する機能を有する。よって、ダミーパターン部ＤＰは、蒸着用マスク２０に印加される引張力によってパターン部ＰＴに変形が発生する現象を緩和することができる。
【0096】
本実施例では、カッティング部２２のそれぞれが一つのダミーパターン部ＤＰを含む構成が開示されているが、本発明は、本実施形態に係るカッティング部２２が含むダミーパターン部ＤＰの個数に限定されない。
【0097】
【0098】
図６乃至図８を参照すると、本発明の実施例による第１パターン部ＰＴ１は第１開口率を有する。詳しくは、第１パターン部ＰＴ１に複数の第１パターン孔Ｈ１が設けられている。第１パターン孔Ｈ１は、第１パターン部ＰＴ１が占める蒸着マスク２０の領域の上でマトリックス状に配列される。第１パターン孔Ｈ１のそれぞれの大きさ及び形状は、上述した対象基板ＳＵＢの上に区画される一つのセルの大きさに対応する。つまり、対象基板ＳＵＢの上に蒸着しようとするパターンの大きさに応じて、第１パターン孔Ｈ１の直径が異なるように設計される。例示的に、第１パターン孔Ｈ１のそれぞれの直径は、約１７μｍ以上２２μｍ以下であってもよい。
【0099】
図７では、第１パターン孔Ｈ１のそれぞれの形状が八角形である場合を示している。しかし、これ以外にも本発明の他の実施例による第１パターン孔Ｈ１のそれぞれは、多角形、円形、または楕円形など、多様な形状を有してもよい。
【0100】
第１パターン孔Ｈ１は第１配列関係を有する。つまり、第１パターン孔Ｈ１のうち互いに隣接する第１パターン孔Ｈ１間の最小距離は第１距離Ｄ１と定義される。本実施例によると、第１距離Ｄ１は約１５μｍ乃至１８μｍである。
【0101】
本実施例によると、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれの少なくとも一部の領域に複数の第２パターン孔Ｈ２が設けられている。
【0102】
詳しくは、第２パターン部ＰＴ２のそれぞれは第１部分ＡＲ１及び第２部分ＡＲ２を含む。第１部分ＡＲ１及び第２部分ＡＲ２は第１方向に配列される。第１部分ＡＲ１は第２部分ＡＲ２より第１方向ＤＲ１でマスクユニット２１の外側に配置される。つまり、第１部分ＡＲ１はボンディング領域ＢＡと隣接して配置される。第２部分ＡＲ２は第１部分ＡＲ１と第１パターン部ＰＴ１との間に配置される。例示的に、第２部分ＡＲ２は第１部分ＡＲ１と第１パターン部とを連結してもよい。
【0103】
第１部分ＡＲ１は第２開口率を有する。第２開口率は第１開口率より小さい。詳しくは、第１部分ＡＲ１には複数の第２パターン孔Ｈ２が定義される。第２パターン孔Ｈ２は、第１部分ＡＲ１が占める蒸着マスク２０の領域の上で複数の行をなす。第１部分ＡＲ１の第１方向ＤＲ１の幅は、第２パターン孔Ｈ２の行の個数に応じて異なり得る。本実施例によると、第１部分ＡＲ１に少なくとも２行以上の第２パターン孔Ｈ２が設けられている。第２パターン孔Ｈ２の行は第１方向ＤＲ１に配列され、互いに交互に配置される。第２パターン孔Ｈ２のそれぞれの大きさ及び形状は、第１パターン孔Ｈ１のそれぞれの大きさ及び形状と同じである。
【0104】
本実施例によると、第２パターン孔Ｈ２は第２配列関係を有する。第２パターン孔Ｈ２のうち互いに隣接する第２パターン孔Ｈ２間の最小距離は第２距離Ｄ２と定義される。本実施例によると、第２距離Ｄ２は第１距離Ｄ１より大きい。例示的に、第２距離Ｄ２は約２０μｍ以上であってもよい。
【0105】
第２部分ＡＲ２には複数の第１パターン孔Ｈ１が定義される。つまり、第２部分ＡＲ２に配列されたパターン孔Ｈ１は第１配列関係を有する。第１パターン孔Ｈ１は、第２部分ＡＲ２が占める蒸着マスク２０の領域の上でマトリックス状に配列される。本実施例において、第２部分ＡＲ２の開口率は第１パターン部ＰＴ１の開口率と同じである。つまり、第２部分ＡＲ２に定義された第１パターン孔Ｈ１間の最小距離は約１５μｍ乃至１８μｍである。
【0106】
本実施例において、第１パターン部ＰＴ１及び第２部分ＡＲ２のそれぞれの第１パターン孔Ｈ１間の最大距離（図７において斜め方向に位置する第１パターン孔Ｈ１間の距離）は第２距離Ｄ２と同じである。
【0107】
本発明の実施例とは異なり、パターン部ＰＴが第２パターン部ＰＴ２を含まない場合、つまり、パターン部ＰＴが第２パターン部ＰＴ２の第１部分ＡＲ１を含まない場合、第１開口率を有するパターン部ＰＴは、開口率が０であるボンディング領域ＢＡと直接接続される。この場合、ボンディング領域ＢＡとパターン部ＰＴの開口率の差によって、クランピング部ＣＰにおいて発生した引張力が伝達される過程でボンディング領域ＢＡとパターン部ＰＴとの間の境界領域にストレスが発生する。それによって、ボンディング領域ＢＡと隣接するパターン部ＰＴの第１パターン孔Ｈ１が変形される、又は蒸着用マスク２０がフレームセット１０の上でアライメントずれを起こす恐れがある。しかし、本発明の実施例によると、パターン部ＰＴが第１開口率より小さい第２開口率を有する第２パターン部ＰＴ２を含む、つまり、第２パターン部ＰＴ２がボンディング領域ＢＡと第１パターン部ＰＴ１との間に配置されるため、ボンディング領域ＢＡとパターン部ＰＴとの間の境界領域にストレスが集中する現象が緩和される。
【0108】
結果的に、本実施例によると、蒸着用マスクの耐久性が向上されて、蒸着工程の蒸着の精密度及び均一度が向上する。
【0109】
【0110】
説明の便宜上、本発明の上記実施例とは異なる点を中心に説明するが、省略された部分は本発明の上記実施例と同様の特徴を有する。また、上述した構成要素に関しては図面符号を併記し、前記構成要素に関する重複説明は省略する。図９及び図１０のそれぞれは、図６に示した領域に対応する。
【0111】
図９を参照すると、本発明の他の実施例による蒸着用マスク２０－１の第２パターンＰＴ２－１のそれぞれは第１部分ＡＲ１のみを含む。つまり、本実施例による第２パターン部ＰＴ２－１は上述した第２部分ＡＲ２を含まない。第１部分ＡＲ１に関する構成は上述した第１部分ＡＲ１の構成と同じであるため、説明を省略する。
【0112】
図１０及び図１１を参照すると、本発明の他の実施例による蒸着用マスク２０-２の第２パターンＰＴ２－２のそれぞれは第３部分ＡＲ３を更に含む。つまり、第２パターン部ＰＴ２－２のそれぞれは第１乃至第３部分ＡＲ１～ＡＲ３を含む。
【0113】
本実施例による第３部分ＡＲ３は第３開口率を有する。第３開口率は第２開口率より小さい。詳しくは、第３部分ＡＲ３には複数の第３パターン孔Ｈ３が設けられている。第３パターン孔Ｈ３は、第３部分ＡＲ３が占める蒸着マスク２０－２の領域の上でマトリックス状に配列される。第３パターン孔Ｈ３のそれぞれの大きさ及び形状は、第１パターン孔Ｈ１及び第２パターン孔Ｈ２のそれぞれの大きさ及び形状と同じである。
【0114】
本実施例によると、第３パターン孔Ｈ３は第３配列関係を有する。第３パターン孔Ｈ３のうち互いに隣接する第３パターン孔Ｈ３間の最小距離は第３距離Ｄ３と定義される。本実施例によると、第３距離Ｄ３は第２距離Ｄ２より大きい。例示的に、第３距離Ｄ３は約５０μｍ以上であってもよい。本実施例によると、パターン部ＰＴ２－２とボンディング領域ＢＡとの間の境界にストレスが集中する形状をより効果的に緩和することができる。
【0115】
説明の便宜上、本発明の上記実施例とは異なる点を中心に説明するが、省略された部分は本発明の上記実施例と同様の特徴を有する。
【0116】
【0117】
説明の便宜上、本発明の上記実施例とは異なる点を中心に説明するが、省略された部分は本発明の上記実施例と同様の特徴を有する。また、上述した構成要素に関しては図面符号を併記し、前記構成要素に関する重複説明は省略する。図１２及び図１４は、図５に示した領域Ｂに対応する。
【0118】
【0119】
図１２に示したように、本発明の他の実施例による蒸着用マスク２０－３の遮断部ＮＡＴ－３のそれぞれはパターン孔を含まない。つまり、本実施例による遮断部ＮＡＴ－３のそれぞれの開口率は０である。この際、蒸着部ＡＴのそれぞれは第１開口率を有する。つまり、蒸着部ＡＴのそれぞれには第１配列関係を有する第１パターン孔Ｈ１が設けられている。第１パターン孔Ｈ１に関する構成は上述した実施例における第１パターン孔Ｈ１の構成と同じであるため、説明を省略する。
【0120】
また、図１３に示したように、本発明の他の実施例による蒸着用マスク２０－４の遮断部ＮＡＴ－４のそれぞれは、第１開口率より小さい第４開口率を有する。この際、蒸着部ＡＴのそれぞれは第１開口率を有する。詳しくは、遮断部ＮＡＴ－４のそれぞれには複数の第４パターン孔Ｈ４が設けられ、蒸着部ＡＴのそれぞれには第１パターン孔Ｈ１が設けられている。第１パターン孔Ｈ１に関する構成は上述した実施例における第１パターン孔Ｈ１の構成と同じであるため、説明を省略する。
【0121】
第４パターン孔Ｈ４は、遮断部ＮＡＴ－４のそれぞれが占める蒸着マスク２０－４の領域の上で複数の行をなす。複数の行は第１方向ＤＲ１に配列され、互いに交互に配置される。本実施例において、第４パターン孔Ｈ４のそれぞれの大きさ及び形状は、第１及び第３パターン孔Ｈ１、Ｈ３のそれぞれの大きさ及び形状と同じである。
【0122】
第４パターン孔Ｈ４は第４配列関係を有する。第４パターン孔Ｈ４のうち互いに隣接する第４パターン孔Ｈ４間の最小距離は第４距離（図示せず）と定義される。本実施例によると、第４距離（図示せず）は第１距離Ｄ１より大きい。例示的に、第４距離（図示せず）は第２距離Ｄ２より大きいか同じであってもよい。つまり、第４距離Ｄ４は約２０μｍ以上であってもよい。
【0123】
また、図１４に示したように、本発明の他の実施例による蒸着用マスク２０-５の遮断部ＮＡＴ－５のそれぞれは、第１開口率より小さい第４開口率を有する。詳しくは、遮断部ＮＡＴ－５のそれぞれには複数の第４パターン孔Ｈ４が設けられ、蒸着部ＡＴのそれぞれには第１パターン孔Ｈ１が設けられている。第１パターン孔Ｈ１に関する構成は上述した実施例における第１パターン孔Ｈ１の構成と同じであるため、説明を省略する。
【0124】
第４パターン孔Ｈ４は、遮断部ＮＡＴ－４のそれぞれが占める蒸着マスク２０－５の領域の上でマトリックス状を有する。本実施例によると、第４パターン孔Ｈ４のそれぞれの大きさは、第１及び第３パターン孔Ｈ３のそれぞれの大きさより小さい。また、第４パターン孔Ｈ４のうち互いに隣接する第４パターン孔Ｈ４の上の最小距離は第１距離Ｄ１（図６）と同じである。
【0125】
これまで実施例を参照して説明したが、該当技術分野における熟練した当業者は、下記特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更し得ることを理解できるはずである。また、本発明の開示された実施例は本発明の技術思想を限定するためのものではなく、下記特許請求の範囲及びそれと同等な範囲内にある全ての技術思想は本発明の権利範囲に含まれると解釈すべきである。
【符号の説明】
【0126】
１０００：状着装置
１００、１００Ａ：マスク組立体
１０：フレームセット
１１：支持フレーム
１２：第１支持台
１３：第２支持台
ＧＲ：結合溝
ＣＨＢ：チャンバ
ＧＴ：ゲート
ＰＰ：移動プレート
ＳＴＧ：ステージ
Ｓ：蒸着源
２０：蒸着用マスク
２１：マスクユニット
２２：カッティング部
ＣＰ：クランピング部
ＣＧ：クランピング溝
ＢＡ：ボンディング領域
ＰＡ：パターニング領域
ＰＴ：パターン部
ＤＰ：ダミーパターン部
ＰＴ１：第１パターン部
ＰＴ２：第２パターン部
ＡＴ：蒸着部
ＮＡＴ：遮断部
ＡＲ１：第１部分
ＡＲ２：第２部分
Ｈ２：パターン孔
１００、１００Ａ：マスク組立体
１０：フレームセット
１１：支持フレーム
１２：第１支持台
１３：第２支持台
ＧＲ：結合溝
ＣＨＢ：チャンバ
ＧＴ：ゲート
ＰＰ：移動プレート
ＳＴＧ：ステージ
Ｓ：蒸着源
２０：蒸着用マスク
２１：マスクユニット
２２：カッティング部
ＣＰ：クランピング部
ＣＧ：クランピング溝
ＢＡ：ボンディング領域
ＰＡ：パターニング領域
ＰＴ：パターン部
ＤＰ：ダミーパターン部
ＰＴ１：第１パターン部
ＰＴ２：第２パターン部
ＡＴ：蒸着部
ＮＡＴ：遮断部
ＡＲ１：第１部分
ＡＲ２：第２部分
Ｈ２：パターン孔
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】