特許 7328203 マスク

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-08-07

(45)【発行日】2023-08-16

(54)【発明の名称】マスク

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20230808BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20230808BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20230808BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04 A

H05B33/10

H05B33/14 A

【請求項の数】 15

(21)【出願番号】P 2020500799

(86)(22)【出願日】2018-11-14

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2021-03-11

(86)【国際出願番号】 CN2018115435

(87)【国際公開番号】W WO2019134446

(87)【国際公開日】2019-07-11

【審査請求日】2021-11-10

(31)【優先権主張番号】201810002735.6

(32)【優先日】2018-01-02

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(73)【特許権者】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(72)【発明者】

【氏名】朱 ▲海▼彬

(72)【発明者】

【氏名】王 ▲偉▼杰

(72)【発明者】

【氏名】▲張▼ 峰杰

(72)【発明者】

【氏名】姜 博

【審査官】西田 彩乃

(56)【参考文献】

【文献】中国実用新案第２０５４２０５２７（ＣＮ，Ｕ）

【文献】米国特許出願公開第２０１８／００８０１１４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２０１８／０２０２０３４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００５－１６５０１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１９／０３８８６１（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／０４

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

Ｈ１０Ｋ ５０／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の方向に沿って延びる複数の第１の支持遮蔽シートと、第２の方向に沿って延びる複数の第２の支持遮蔽シートとを含み、前記第２の支持遮蔽シートと前記第１の支持遮蔽シートは、それぞれ垂直に交差するように分布するマスクであって、
各前記第２の支持遮蔽シート及び各前記第１の支持遮蔽シートの少なくとも１つは、第１の予め設定された面におけるその延在方向に平行な側辺に薄化領域が設けられ、前記薄化領域は、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に沿って延び、前記薄化領域の厚さは、前記薄化領域以外の他の領域の厚さより小さく、前記第１の予め設定された面は、前記マスクによってマスク蒸着を行うときに、前記第２の支持遮蔽シートと前記第１の支持遮蔽シートの堆積材料に向かう面であり、
前記薄化領域は、前記第１の予め設定された面から離れる方向に沿って窪んだシート状凹部構造であり、前記薄化領域は、互いに間隔を空けた複数の第１のリブ部をさらに備え、各前記第１のリブ部の底端は、前記シート状凹部構造に接続されて前記薄化領域の幅方向に延び、前記第１のリブ部の１つの側面は、前記シート状凹部構造の一部の底面に重なる、
マスク。

【請求項2】

マスクフレームをさらに含み、各前記第２の支持遮蔽シートおよび各前記第１の支持遮蔽シートは、前記マスクフレームに接続された２つの端部と、２つの前記端部の間に位置する中間部とを有し、
前記第１の方向に平行な方向において、前記第１の支持遮蔽シートの前記薄化領域の長さは、前記第１の支持遮蔽シートの前記中間部の長さと等しく、前記第２の方向に平行な方向において、前記第２の支持遮蔽シートの前記薄化領域の長さは、前記第２の支持遮蔽シートの前記中間部の長さと等しい、
請求項１に記載のマスク。

【請求項3】

前記第１の方向に垂直な方向における前記第１の支持遮蔽シートの前記薄化領域の幅は、０.５～５ｍｍであり、前記第２の方向に垂直な方向における前記第２の支持遮蔽シートの前記薄化領域の幅は、０.５～５ｍｍである、
請求項１または２に記載のマスク。

【請求項4】

前記薄化領域の厚さは、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの厚さの１／６から２／３である、
請求項１から３のいずれか一項に記載のマスク。

【請求項5】

前記薄化領域の前記第１の予め設定された面への正投影は、長方形または台形である、
請求項１から４のいずれか一項に記載のマスク。

【請求項6】

前記シート状凹部構造は、前記底面と、前記底面に垂直に接続され互いに対向する第１の側面と第２の側面と、前記第１の側面と前記第２の側面とを接続する第３の側面とを含み、ここで、前記第１の側面は前記第２の側面に対向し、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直し、
前記底端は、前記シート状凹部構造の前記第３の側面に固定され、前記第３の側面に垂直な方向に沿って延びる、
請求項１に記載のマスク。

【請求項7】

前記第３の側面に垂直な方向における前記第１のリブ部の長さは、前記第３の側面に垂直な方向における前記シート状凹部構造の長さ以下である、
請求項６に記載のマスク。

【請求項8】

前記第１のリブ部における前記第３の側面に対向する先端と前記シート状凹部構造における前記第３の側面に対向する側辺との距離は、０.１～３ｍｍである、
請求項６または７に記載のマスク。

【請求項9】

前記第１のリブ部の前記シート状凹部構造の前記底面への正投影は、台形、正方形、半円形、または半楕円形である、
請求項６から８のいずれか一項に記載のマスク。

【請求項10】

前記第１のリブ部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向における前記第１のリブ部の幅は、１～６ｍｍである、
請求項６から９のいずれか一項に記載のマスク。

【請求項11】

前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートには、その延在方向に平行な１つの側面の予め設定された位置に、Ｕ型溝を有する表示パネルの前記Ｕ型溝を遮蔽するためのＵ型突出部がさらに設けられる、
請求項６から１０のいずれか一項に記載のマスク。

【請求項12】

前記Ｕ型突出部の堆積材料に向かう表面には、前記Ｕ型突出部の周辺にも前記薄化領域が設けられる、
請求項１１に記載のマスク。

【請求項13】

前記Ｕ型突出部は、互いに間隔を空けた１つ以上の第２のリブ部を含み、各前記第２のリブ部の一端は、前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートに固定され、前記Ｕ型突出部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直な方向に沿って延び、前記Ｕ型突出部には複数の第２のリブ部が設けられる場合、隣接する前記第２のリブ部の間にも薄化領域が設けられる、
請求項１１または１２に記載のマスク。

【請求項14】

前記第２のリブ部の前記第１の予め設定された面への正投影は、正方形、半円形、半楕円形、または逆台形である、
請求項１３に記載のマスク。

【請求項15】

前記Ｕ型突出部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直な方向における前記Ｕ型突出部の長さは、１～５ｃｍである、
請求項１１から１４のいずれか一項に記載のマスク。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施例は、マスクに関するものである。

【0002】

（関連する出願の援用）
本特許出願は、２０１８年０１月０２日に中国特許庁に提出された発明の名称「マスク」であって、出願番号第２０１８１０００２７３５.６号の中国特許出願の優先権を主張し、その全ての内容は参照により本明細書に援用する。

【背景技術】

【0003】

フラットパネルディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）は、市場の主流製品になり、フラットパネルディスプレイの種類もますます多くなり、例えば、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｅｄ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）および電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＥＤ）などがある。

【0004】

従来技術のマスクには、支持遮蔽シートのエッジの真直度が悪く、画素位置の遮蔽精度が低く、蒸着陰影領域が大きいため、高画素密度を有する表示パネルに対する高精細マスクを実現できない。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明の実施例は、マスクの支持遮蔽シートのエッジの真直度および画素位置の遮蔽精度を向上し、蒸着陰影面積を低減することにより、高画素密度を有する表示パネルに対する高精細マスクを実現するためのマスクを提供する。

【0006】

本発明の実施例は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の支持遮蔽シートと、第２の方向に沿って延びる複数の第２の支持遮蔽シートとを含み、前記第２の支持遮蔽シートと前記第１の支持遮蔽シートは、それぞれ垂直に交差するように分布するマスクであって、

【0007】

各前記第２の支持遮蔽シート及び各前記第１の支持遮蔽シートの少なくとも１つは、第１の予め設定された面におけるその延在方向に平行な側辺に薄化領域が設けられ、前記薄化領域は、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に沿って延び、前記薄化領域の厚さは、前記薄化領域以外の他の領域の厚さより小さく、前記第１の予め設定された面は、前記マスクによってマスク蒸着を行うときに、前記第２の支持遮蔽シートと前記第１の支持遮蔽シートの堆積材料に向かう面であるマスクに関する。

【0008】

例えば、前記マスクは、マスクフレームをさらに含み、各前記第２の支持遮蔽シートおよび各前記第１の支持遮蔽シートは、前記マスクフレームに接続された２つの端部と、２つの前記端部の間に位置する中間部とを有し、

【0009】

前記第１の方向に平行な方向において、前記第１の支持遮蔽シートの前記薄化領域の長さは、前記第２の支持遮蔽シートの前記中間部の長さと等しく、前記第２の方向に平行な方向において、前記第２の支持遮蔽シートの前記薄化領域の長さは、前記第１の支持遮蔽シートの前記中間部の長さと等しい。

【0010】

例えば、前記第１の方向に垂直な方向における前記第１の支持遮蔽シートの前記薄化領域の幅は、約０.５～５ｍｍであり、前記第２の方向に垂直な方向における前記第２の支持遮蔽シートの前記薄化領域の幅は、約０.５～５ｍｍである。

【0011】

例えば、前記薄化領域の厚さは、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの厚さの約１／６から２／３である。

【0012】

例えば、前記薄化領域の前記第１の予め設定された面への正投影は、長方形または台形である。

【0013】

例えば、前記薄化領域は、窪んだシート状の階段構造であり、前記階段構造は、底面と、前記底面に垂直に接続され対向する第１の側面と第２の側面と、前記第１の側面と前記第２の側面とを接続する第３の側面とを含み、ここで、前記第１の側面は前記第２の側面に対向し、前記薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直し、

【0014】

前記薄化領域には、互いに間隔を空けた複数の第１のリブ部がさらに設けられ、各前記第１のリブ部の底端は、前記階段構造の前記第３の側面に固定され、前記第３の側面に垂直な方向に沿って延び、前記第１のリブ部の１つの側面は、前記階段構造の前記底面の一部にも重なる。

【0015】

例えば、前記第３の側面に垂直な方向における前記第１のリブ部の長さは、前記第３の側面に垂直な方向における前記階段構造の長さ以下である。

【0016】

例えば、前記第１のリブ部における前記第３の側面に対向する先端と前記階段構造における前記第３の側面に対向する側辺との距離は、約０.１～３ｍｍである。

【0017】

例えば、前記第１のリブ部の前記階段構造の前記底面への正投影は、台形、正方形、半円形、または半楕円形である。

【0018】

例えば、前記第１のリブ部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向における前記第１のリブ部の幅は、約１～６ｍｍである。

【0019】

例えば、前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートには、その延在方向に平行な１つの側面の予め設定された位置に、Ｕ型溝を有する表示パネルの前記Ｕ型溝を遮蔽するためのＵ型突出部がさらに設けられる。

【0020】

例えば、前記Ｕ型突出部の堆積材料に向かう表面には、前記Ｕ型突出部の周辺にも前記薄化領域が設けられる。

【0021】

例えば、前記Ｕ型突出部は、互いに間隔を空けた１つ以上の第２のリブ部を含み、各前記第２のリブ部の一端は、前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートに固定され、前記Ｕ型突出部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直な方向に沿って延び、前記Ｕ型突出部には複数の第２のリブ部が設けられる場合、隣接する前記第２のリブ部の間にも薄化領域が設けられる。

【0022】

例えば、前記第２のリブ部の前記第１の予め設定された面への正投影は、正方形、半円形、半楕円形、または逆台形である。

【0023】

例えば、前記Ｕ型突出部が存在する前記第２の支持遮蔽シートまたは前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に垂直な方向における前記Ｕ型突出部の長さは、約１～５ｃｍである。

【0024】

当業者が本開示の実施例をより明確に理解できるように、以下、図面を参照して本開示の実施例をより詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0025】

【図1】マスクによるマスク蒸発の概略図である。

【図2】マスクの第２の支持遮蔽シート又は第１の支持遮蔽シートによる画素の遮蔽の概略図である。

【図3】本発明の実施例によるマスクの概略構成図である。

【図4】本発明の実施例による別のマスクの概略構成図である。

【図5a】蒸着時における第２の支持遮蔽シート又は第１の支持遮蔽シートによる遮蔽の概略図。

【図5b】本発明の一実施例に係る蒸着時における第２の支持遮蔽シート又は第１の支持遮蔽シートによる遮蔽の概略図。

【図6a】第２の支持遮蔽シート又は第１の支持遮蔽シートによる画素の遮蔽の概略図である。

【図6b】本発明の一実施例に係る第２の支持遮蔽シート又は第１の支持遮蔽シートによる画素の遮蔽の概略図である。

【図7a】本発明の実施例によるマスクの第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図7b】本発明の実施例によるマスクの第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図7c】本発明の実施例によるマスクの第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図8】本発明の実施例による第１のリブ部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【図9a】本発明の実施例による第１のリブ部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図9b】本発明の実施例による第１のリブ部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図9c】本発明の実施例による第１のリブ部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの異なる視点での概略構成図である。

【図10a】本発明の実施例による異なる形状の第１のリブ部の概略構成図である。

【図10b】本発明の実施例による異なる形状の第１のリブ部の概略構成図である。

【図10c】本発明の実施例による異なる形状の第１のリブ部の概略構成図である。

【図10d】本発明の実施例による異なる形状の第１のリブ部の概略構成図である。

【図11】本発明の実施例による突出部が設けられたマスクの概略構成図である。

【図12a】本発明の実施例による突出部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【図12b】本発明の実施例による突出部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【図12c】本発明の実施例による突出部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【図12d】本発明の実施例による突出部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【図12e】本発明の実施例による突出部が設けられた第１の支持遮蔽シート又は第２の支持遮蔽シートの概略構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下、本開示の実施例における技術的手段について、本開示の実施例における図面を参照して明確かつ完全に説明する。説明された実施例は、全ての実施例ではなく、本開示の実施例の一部であることは明らかである。本開示の実施例に基づいて、当業者が創造的な労働をしないことを前提として取得された他のすべての実施例は、本開示の保護の範囲に属する。

【0027】

ここで使用される技術用語または科学用語は、特に定義されない限り、本開示の属する技術分野において一般的な技能を有する者に理解される通常の意味であるべきである。本開示で使用される「第一」、「第二」および類似の用語は、任意の順序、数量または重要性を表すものではなく、単に異なる構成要素を区別するために用いられる。「含む」または「含有する」などの類似の用語とは、この用語の前に現れる要素または対象物が、他の要素または対象物を排除することなく、この用語の後に列挙された要素または対象物及びその均等物をカバーすることを意味する。「上」「下」などは相対位置関係のみを表し、説明された対象物の絶対位置が変化すると、当該相対位置関係もそれに応じて変更され得る。

【0028】

発明者は、マスクについて、支持遮蔽シートのエッジにおいて真直度が悪く、画素位置の遮蔽精度が低く、蒸着陰影領域が大きく、高画素密度を有する表示パネルに対する高精細マスクの実現に影響を及ぼす問題があることに気づいた。

【0029】

図１および図２を参照すると、ＯＬＥＤは製造過程において、蒸着マスクとして、高精度メタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ、ＦＭＭ）または開口マスク（Ｏｐｅｎ Ｍａｓｋ）を採用し、蒸発源５の発光材料１６をディスプレイパネル７の対応する開口領域に蒸着し、マスクはＯＬＥＤ製品の製造に重要な役割を果たす。ＦＭＭ Ｍａｓｋの製造に使用される第１の支持遮蔽シート１３（ｈｏｗｌｉｎｇ ｓｈｅｅｔ）および第２の支持遮蔽シート１４（ｃｏｖｅｒ ｓｈｅｅｔ）は、支持マスクシート２（ｄｉｖｉｄｅｄ ｓｈｅｅｔ）として機能することに加えて、第１の支持遮蔽シート１３（ｈｏｗｌｉｎｇ ｓｈｅｅｔ）および第２の支持遮蔽シート１４は、マスクフレーム１に固定されて、支持マスクシート２上の画素２０を遮蔽する役割を果たし、したがって、第２の支持遮蔽シート１４及び第１の支持遮蔽シート１３に高いエッジ位置精度が要求され、ＯＬＥＤ製品にとって、画素遮蔽領域のエッジから表示（ＡＡ）領域のエッジまでのプロセスマージンは、通常１～２行の画素幅であり、今後の画素密度（ＰＰＩ）がより高い製品にについて、画素遮蔽幅のプロセスマージンは減少し続け、これは、第２の支持遮蔽シート１４と第１の支持遮蔽シート１３の真直度に対する要求がより厳しくなり、第１の支持遮蔽シートと第２の支持遮蔽シーの蒸着陰影遮蔽領域がより小さくなることが要求され、したがって、蒸着不良を引き起こすことがない。

【0030】

図３を参照すると、本発明の実施例は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の支持遮蔽シート４と、第２の方向に沿って延びる複数の第２の支持遮蔽シート３とを含み、第１の支持遮蔽シート４と第２の支持遮蔽シート３は、それぞれ垂直に交差するように分布するマスクを提供する。

【0031】

各第１の支持遮蔽シート４及び各第２の支持遮蔽シート３の少なくとも１つは、第１の予め設定された面におけるその延在方向に平行な側辺に薄化領域が設けられる。例えば、図３に示すように、支持遮蔽シートの２つの側辺に薄化領域５が設けられ、薄化領域５は、当該薄化領域５が存在する第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３の延在方向に沿って延びている。薄化領域５の厚さは、薄化領域５以外の他の領域の厚さより小さく、例えば、他の領域は、同一の第１の支持遮蔽シート４の両側の２つの薄化領域間の対向領域であってもよい。第１の予め設定された面は、マスクによってマスク蒸着を行うときに、第１の支持遮蔽シート４と第２の支持遮蔽シート３の少なくとも１つの堆積材料に向かう面である。

【0032】

なお、図３は、第１の方向を縦方向とし、第２の方向を横方向とした例であり、実施の際に、第１の方向は横方向で、第２の方向は縦方向でもよい。なお、図４を参照すると、マスクは、マスクフレーム１をさらに含み、マスクフレーム１にはマスクシート２が設けられ、マスクシート２には蒸着用の複数の開口（図４には図示せず）が設けられ、第２の支持遮蔽シート３は、マスクシート２のエッジ画素を遮蔽する役割を果たすことができ、その延在方向はマスクシート２の延在方向と同じであり、第１の支持遮蔽シート４は、マスクシート２を支持する役割を果たすことができ、その延在方向はマスクシート２の延在方向に垂直であり、マスクシート２の画素の一部を遮蔽する役割を果たすこともできる。例えば、第２の支持遮蔽シート３及び第１の支持遮蔽シート４は、マスクフレーム１に溶接される。

【0033】

実施の際に、図３に示すように、各第１の支持遮蔽シート４および各第２の支持遮蔽シート３は、マスクフレーム１に接続された２つの端部６と、２つの端部６の間に位置する中間部７とを有する。第１の方向に平行な方向において、第１の支持遮蔽シート４の薄化領域の長さは、当該第１の支持遮蔽シート４の中間部７の長さと等しい。第２の方向に平行な方向において、第２の支持遮蔽シート３の薄化領域５の長さは、当該第２の支持遮蔽シート３の中間部７の長さと等しい。すなわち、薄化領域５は、主にマスクシート２のエッジ画素を遮蔽するために設けられ、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４とマスクフレーム１との良好な固定性を実現するために、マスクフレーム１に接続された端部６には、薄化領域５を設けなくてもよい。

【0034】

本発明の実施例によるマスクは、第１の方向に沿って延びる複数の第１の支持遮蔽シート４と、第２の方向に沿って延びる複数の第２の支持遮蔽シート３とを含み、各第１の支持遮蔽シート４及び各第２の支持遮蔽シート３の少なくとも１つは、第１の予め設定された面におけるその延在方向に平行な側辺に薄化領域５が設けられ、薄化領域５は、当該薄化領域５が存在する第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３の延在方向に沿って延びる。薄化領域５の厚さは、薄化領域５以外の他の領域の厚さより小さい。薄化領域５が設けられたので、エッチングプロセスによって第１の支持遮蔽シートまたは第２の支持遮蔽シートを作製する場合、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４のエッジの真直度を向上させることができる。第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３の薄化領域５の配置について、図５ａ～５ｂおよび図６ａ～６ｂを参照する。図５ａは、蒸着中の第１の支持遮蔽シート１３または第２の支持遮蔽シートの遮蔽効果である。図５ｂは、本発明の実施例の蒸着中の第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シートの遮蔽効果である。図５ａと図５ｂから分かるように、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートの厚さは一般的に薄く、通常はマイクロメートルレベルであるので、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートに薄化領域をさらに設定すると、図５ｂのｂ１をより小さくし、薄化領域の幅（図５ｂのｂ２、すなわち、当該第２の支持遮蔽シートの延在方向に垂直な方向における薄化領域の幅）をマイクロメートルレベルに設定すると、図５ｂのａ２の角度を図中のａ１の角度よりはるかに大きくする。角ａ１はマスクによる蒸着時に存在する蒸着角であり、蒸着角の存在は表示パネル上の蒸着が必要な領域に材料が蒸着されないようにするため、なるべく避ける必要があり、一方、ａ２の角度は図中のａ１の角度よりはるかに大きい場合、蒸着中の蒸着角の制限を解消することができ、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３の厚さによる陰影遮蔽領域Ｓ２を以前より薄化されていないときのＳ１より小さくすることができる。図６ａは、マスクによる画素の遮蔽の概略図であり、図６ｂは、本発明の実施例に係るマスクによる画素の遮蔽の概略図であり、実際のマスクプロセスにおいて、第２の支持遮蔽シート３のエッジまたは第１の支持遮蔽シート４のエッジと表示領域ＡＡとの間には、通常に少なくとも２列（または２行）の画素のプロセスマージンを残る必要があり、表示パネルのＰＰＩが向上すると、２列の画素の距離は、明らかにＰＰＩが低い表示パネルの２列の画素の距離よりも小さく、すなわち、設計に要求されたプロセスマージンｄ２は現有のｄ１より小さく、より高い精度のマスクが必要であり、一方、本発明の実施例によるマスクは、エッジの真直度がよく、精度制御が正確であり、画素位置の遮蔽精度を向上させ、蒸着の陰影遮蔽領域を低減させ、高画素密度を有する表示パネルに対するマスクを実現できる。

【0035】

第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４の概略構成図をより明確に示すために、図７ａ～図７ｃで単一の第２の支持遮蔽シート３の拡大概略構成図が示された。図７ａは平面図であり、図７ｂは正面図であり、図７ｃはＡＡ'に沿った断面図である。例えば、第２の方向に垂直な方向（すなわち、図７ａの縦方向に垂直な方向）における第２の支持遮蔽シート３の薄化領域５の幅は、約０.５～５ｍｍであり、第１の方向に垂直な方向における第１の支持遮蔽シートの薄化領域の幅は、約０.５～５ｍｍである。第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３については、マスクシート２を支持し、マスクフレーム１に接続する必要があり、一定の支持強度が必要である。本発明の実施例において、第１の支持遮蔽シート４の薄化領域５の幅は、約０.５～５ｍｍであり、第２の支持遮蔽シート３の薄化領域５の幅は、約０.５～５ｍｍであり、この結果、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３は、高画素密度を有する表示パネルに対する高精細マスクを実現するとともに、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４の一定の支持強度を維持することができ、蒸着材料の堆積が多すぎると、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４が下垂することにより、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４のエッジ位置精度の偏差が大きすぎて、特定の画素を遮蔽できないことが防止される。

【0036】

例えば、薄化領域５の厚さは、当該薄化領域５が存在する第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３の厚さの約１／６から２／３である。本発明の実施例において、薄化領域５の厚さは、当該薄化領域５が存在する第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３の厚さの約１／６から２／３であることにより、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３は、高画素密度を有する表示パネルに対する高精細マスクを実現することができる。

【0037】

例えば、薄化領域５の第１の予め設定された面への正投影は、長方形または台形である。例えば、長方形の長辺または台形の長辺は、最終的な第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートのエッジとして機能する。

【0038】

実施の際に、図８、図９ａ、図９ｂ、および図９ｃを参照する。図８は、第２の支持遮蔽シート３の薄化領域が階段構造８である立体構造図であり、図９ａは平面図であり、図９ｂは正面図であり、図９ｃはＡＡ'に沿った断面図である。薄化領域は、窪んだシート状の階段構造８であり、階段構造８は、底面８０と、底面８０に垂直に接続され対向する第１の側面８１と第２の側面（図示せず）と、第１の側面８１と第２の側面とを接続する第３の側面８３とを含む。第１の側面８１は第２の側面に対向し、当該薄化領域５が存在する第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３の延在方向に垂直する。薄化領域５には、互いに間隔を空けた複数の第１のリブ部９がさらに設けられ、各第１のリブ部９の底端は、階段構造８の第３の側面８３に固定され、第３の側面８３に垂直な方向に沿って延び、第１のリブ部９の１つの側面は、階段構造８の底面８０の一部にも重なる。本発明の実施例において、薄化領域５には、互いに間隔を空けた複数の第１のリブ部９がさらに設けられ、各第１のリブ部９の底端は、階段構造８の第３の側面８３に固定され、第３の側面８３に垂直な方向に沿って延び、第１のリブ部９の１つの側面は、階段構造８の底面８０の一部にも重なり、この結果、第１のリブ部９の設計により、第２の支持遮蔽シート３又は第１の支持遮蔽シート４のエッジの薄化領域５の強度を高めることができ、蒸着材料の堆積が多すぎると、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４の薄化領域６のエッジが下垂することにより、第２の支持遮蔽シート３または第１の支持遮蔽シート４のエッジ位置精度の偏差が大きすぎて、特定の画素を遮蔽できないことが防止される。

【0039】

例えば、図１０ａ～１０ｄに示すように、第１のリブ部９の階段構造８の底面８０への正投影は、略台形、正方形、半楕円形、または半円形である。実施の際に、第３の側面８３に垂直な方向における第１のリブ部９の長さは、第３の側面８３に垂直な方向における階段構造８の長さ以下である。例えば、第１のリブ部９における第３の側面８３に対向する先端と階段構造８における第３の側面に対向する側辺との距離ｄ３は、０.１～３ｍｍである。本発明の実施例において、第３の側面８３に垂直な方向における第１のリブ部９の長さは、第３の側面８３に垂直な方向における階段構造８の長さ以下であり、この結果、第１のリブ部９が設けられた箇所も、エッジの真直度がよくて、第１の支持遮蔽シート４又は第２の支持遮蔽シート３による高画素密度を有する表示パネルの遮蔽作用に影響を及ぼさない。

【0040】

実施の際に、第１のリブ部９の当該第１のリブ部９が存在する第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３の延在方向における幅は、約１～６ｍｍである。第１のリブ部９が略台形又は半円形である場合、この幅は、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３の延在方向における距離が最大になる２点間の距離を指し、例えば図１０ａ～１０ｄにおける円形の直径である。

【0041】

実施の際に、表示パネルには、一般的に、頂部にＵ型溝を有するフルスクリーンのような特殊形状のＯＬＥＤスクリーンが設けられ、すなわち、表示パネルは徐々にフルスクリーンデザインになり、一方、フルスクリーンの上端または下端にＵ型溝が設けられ、例えば、当該Ｕ型溝は、赤外線レンズ、フラッドライト検知素子、距離センサー、周囲光センサー、スピーカー、マイク、カメラ、ドットマトリックスプロジェクターなどを配置するために使用されている。例えば、図１１及び図１２ａ～１２ｅに示すように、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３には、その延在方向に平行な１つの側面の予め設定された位置に、Ｕ型溝を有する表示パネルのＵ型溝を遮蔽するためのＵ型突出部１０がさらに設けられる。表示パネルのＵ型溝の設計のため、一般に当該Ｕ型溝の領域に対してマスクにはより高精度のマスクが必要であり、本発明の実施例では、第１の支持遮蔽シート４または第２の支持遮蔽シート３には、その延在方向に平行な１つの側面の予め設定された位置に、Ｕ型突出部１０がさらに設けられ、この結果、このタイプの表示パネルのＵ型溝の領域に対する高精度マスクを満たすことができる。

【0042】

なお、図１１は、Ｕ型溝を有する４つの表示パネルを１つのマスクで作製できる例を示す図であり、すなわち、各表示パネルには１つのＵ型溝が設けられ、相応的に、第１の支持遮蔽シート４には２つのＵ型突出部１０が設けられ、実施の際に、１つのマスクでＵ型溝を有する複数の表示パネルを作製でき、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートに複数のＵ型突出部１０が設けられることもできるが、本発明の実施例はこれに限定されない。

【0043】

例えば、図１２ａ～１２ｅに示すように、Ｕ型突出部１０の堆積材料に向かう表面には、周辺にも薄化領域５が設けられる。例えば、薄化領域５の幅、厚さは、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートにおける他の位置の薄化領域の設置と同様であってもよく、ここでは説明しない。

【0044】

例えば、各Ｕ型突出部１０は、互いに間隔を空けた１つ以上の第２のリブ部１１を含み、各第２のリブ部１１の一端は、第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）に固定され、当該Ｕ型突出部１０が存在する第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）の延在方向に垂直な方向に沿って延び、Ｕ型突出部１０には複数の第２のリブ部１１が設けられる場合、隣接する第２のリブ部１１の間にも薄化領域５が設けられる。第２のリブ部１１は、主に、Ｕ型突出部１０の支持強度を支える役割を果たす。実際の表示パネルのＵ型溝の長さが異なるため、対応するマスクにおけるＵ型突出部１０の第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）に平行な方向への延在長さも異なる。第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）に平行な方向におけるＵ型突出部１０の延在長さが短い場合、支持作用を強化する第２のリブ部１１を１個設けることができ、すなわち、Ｕ型突出部１０は、１つの第２のリブ部１１及び当該第２のリブ部１１の周辺に設けられた薄化領域５を含む。第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）に平行な方向におけるＵ型突出部１０の延在長さが長い場合、Ｕ型突出部１０の支持強度をより良好に防止するために、複数の別個の第２のリブ部１１を設けてもよく、この場合には、Ｕ型突出部１０は、間隔を空けた複数の第２のリブ部１１、隣接する２つのリブ部１１の間の薄化領域５、および各第２のリブ部１１の外側の薄化領域５を含む。ただし、Ｕ型突出部１０がいくつの第２のリブ部１１を含むかにかかわらず、Ｕ型突出部１０自体は、一体的に連結された一体化構造である必要があり、すなわち、当該Ｕ型突出部１０の遮蔽作用の下で、表示パネルに対応するＵ型溝を形成する必要がある。

【0045】

例えば、第２のリブ部１１の第１の予め設定された面への正投影は、正方形、半円形、半楕円形、または逆台形である。

【0046】

例えば、Ｕ型突出部１０の当該Ｕ型突出部が存在する第２の支持遮蔽シート３（または第１の支持遮蔽シート）の延在方向に垂直な方向における長さは、約１～５ｃｍである。

【0047】

本発明の実施例によるマスクは、第１の方向に沿って延びる複数の第１の支持遮蔽シートと、第２の方向に沿って延びる複数の第２の支持遮蔽シートとを含み、各前記第２の支持遮蔽シート及び各前記第１の支持遮蔽シートの少なくとも１つは、第１の予め設定された面におけるその延在方向に平行な側辺に薄化領域が設けられ、前記薄化領域は、当該薄化領域が存在する前記第２の支持遮蔽シート又は前記第１の支持遮蔽シートの延在方向に沿って延び、前記薄化領域の厚さは、前記薄化領域以外の他の領域の厚さより小さく、薄化領域が設けられたので、エッチングプロセスによって第１の支持遮蔽シートまたは第２の支持遮蔽シートを作製する場合、第１の支持遮蔽シートまたは第２の支持遮蔽シートのエッジの真直度を向上させることができ、一方、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートの良いエッジ真直度により、高画素密度を有する表示パネルに対する遮蔽を実現することができ、そして、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートの薄化領域の配置によって、蒸着角の制限を解消することができ、第２の支持遮蔽シートまたは第１の支持遮蔽シートの厚さによる陰影遮蔽領域を以前より薄化されていないときより小さくすることができ、画素位置の遮蔽精度を向上させ、蒸着の陰影遮蔽領域を低減させ、高画素密度を有する表示パネルに対するマスクを実現できる。

【0048】

上記は本開示の例示的な実施形態に過ぎないが、本開示の保護範囲はこれに限定されない。当業者が本開示によって開示された技術範囲内で容易に想到した変化または置換は、本開示の保護範囲内に含まれるべきである。

【符号の説明】

【0049】

１ マスクフレーム
２ マスクシート
３ 第２の支持遮蔽シート
４ 第１の支持遮蔽シート
５ 蒸発源
６ 端部
８ 階段構造
９ 第１のリブ部
１０ Ｕ型突出部
１１ 第２のリブ部
１３ 第１の支持遮蔽シート
１４ 第２の支持遮蔽シート
１６ 発光材料
２０ 画素
８０ 底面
８１ 第１の側面
８３ 第３の側面

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5a】

【図5b】

【図6a】

【図6b】

【図7a】

【図7b】

【図7c】

【図8】

【図9a】

【図9b】

【図9c】

【図10a】

【図10b】

【図10c】

【図10d】

【図11】

【図12a】

【図12b】

【図12c】

【図12d】

【図12e】