特許7328313磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-08-07
(45)【発行日】2023-08-16
(54)【発明の名称】磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
(51)【国際特許分類】
C03C 3/087 20060101AFI20230808BHJP
C03C 3/085 20060101ALI20230808BHJP
C03C 3/091 20060101ALI20230808BHJP
G11B 5/73 20060101ALI20230808BHJP
G11B 5/84 20060101ALI20230808BHJP
G11B 5/82 20060101ALI20230808BHJP
【ＦＩ】
C03C3/087
C03C3/085
C03C3/091
G11B5/73
G11B5/84 C
G11B5/82
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2021208305
(22)【出願日】2021-12-22
(62)【分割の表示】P 2020519646の分割
【原出願日】2019-05-14
(65)【公開番号】P2022046613
(43)【公開日】2022-03-23
【審査請求日】2022-05-02
(31)【優先権主張番号】P 2018094428
(32)【優先日】2018-05-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000113263
【氏名又は名称】ＨＯＹＡ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000109
【氏名又は名称】弁理士法人特許事務所サイクス
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 浩一
(72)【発明者】
【氏名】橋本 和明
【審査官】田中 永一
(56)【参考文献】
【文献】特開２００８－１６９０６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－１８８６０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－６４９１５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－７７３４８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－０２３４２０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－１７６０５６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－０２９０１０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－１２０６７７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１５／０３３８００（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１８／０８８５６３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１５／１６２８４５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特許第６６９４０７４（ＪＰ，Ｂ２）
【文献】国際公開第２０１４／０３４２５１（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００６－０８２９８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－２６３５７４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－２６７７６９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－０６３８３１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０３Ｃ ３／００ － ３／３２
Ｇ１１Ｂ ５／７３
Ｇ１１Ｂ ５／８４
Ｇ１１Ｂ ５／８２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体基板は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～９．００モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯ含有量が１４モル％以下（ただし１４モル％を除く）、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）が９．００モル％以下、
であり、
比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスからなる磁気記録媒体基板である磁気記録媒体。
【請求項2】
磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体基板は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～９．００モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯ含有量が１４モル％以下（ただし１４モル％を除く）、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）が９．００モル％以下、
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３、
であり、
ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスからなる磁気記録媒体基板である磁気記録媒体。
【請求項3】
前記非晶質の酸化物ガラスのＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、１３モル％以上である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項4】
前記非晶質の酸化物ガラスの１００～３００℃における平均線膨張係数は、４０×１０-7～７０×１０-7／℃の範囲である、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項5】
前記非晶質の酸化物ガラスのＣａＯ含有量は、０～１８モル％の範囲である、請求項１～４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項6】
前記非晶質の酸化物ガラスのＢａＯとＳｒＯの合計含有量は、０～２モル％の範囲である、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項7】
前記非晶質の酸化物ガラスのＬｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は、２．５～９．００モル％の範囲である、請求項１～６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項8】
前記非晶質の酸化物ガラスのＳｎＯ2とＣｅＯ2の合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）は、０．０５～２モル％の範囲である、請求項１～７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項9】
前記非晶質の酸化物ガラスのＣｅＯ2含有量に対するＳｎＯ2含有量のモル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）は、０．１以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか１項に記載の磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を含む磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ハードディスク等の磁気記録媒体用の基板（磁気記録媒体基板）としては、従来、アルミニウム合金製の基板が用いられていた。しかし、アルミニウム合金製基板については、変形しやすい、研磨後の基板表面の平滑性が十分ではない等の点が指摘されている。そのため現在では、ガラス製の磁気記録媒体基板が広く用いられている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１０－６４９２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する工程では、通常、高温での成膜が行われるか、または成膜後に高温で熱処理が行われる。したがって、磁気記録媒体基板用のガラスには、高温処理に耐え得る高い耐熱性を有すること、具体的には高いガラス転移温度を有することが求められる。
【0005】
更に、磁気記録媒体の薄板化や記録密度の高密度化に伴い、スピンドルモータの回転中における磁気記録媒体の反りやたわみの一層の低減や、磁気記録媒体の実用強度に対する要求も高まっている。これら要求に対応するためには、磁気記録媒体基板用のガラスの剛性が高いこと、具体的にはヤング率が高いことが望ましい。
【0006】
以上の通り、磁気記録媒体基板用のガラスには、耐熱性および剛性に優れることが望まれる。
【0007】
そこで本発明の一態様は、耐熱性および剛性に優れる磁気記録媒体基板用ガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一態様は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
であり、
比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス（以下、「ガラスＡ」とも記載する。）、
に関する。
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
であり、
比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス（以下、「ガラスＡ」とも記載する。）、
に関する。
【0009】
また、本発明の一態様は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３、
であり、
ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス（以下、「ガラスＢ」とも記載する。）、
に関する。
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３、
であり、
ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス（以下、「ガラスＢ」とも記載する。）、
に関する。
【0010】
ガラスＡおよびガラスＢは、上記ガラス組成を有し、ガラス転移温度が６５０℃以上の高い耐熱性とヤング率が９０ＧＰａ以上の高い剛性を有する。
【発明の効果】
【0011】
本発明の一態様によれば、耐熱性および剛性に優れる磁気記録媒体基板用ガラスを提供することができる。更に、一態様によれば、上記磁気記録媒体基板用ガラスからなる磁気記録媒体基板、およびこの基板を含む磁気記録媒体を提供することもできる。更に一態様によれば、磁気記録装置用ガラススペーサを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0012】
［磁気記録媒体基板用ガラス］
ガラスＡおよびＢは、上記ガラス組成を有し、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラスである。
ガラスＡおよびＢは、上記ガラス組成を有し、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラスである。
【0013】
ガラスＡおよびＢは、非晶質のガラスであって、かつ酸化物ガラスである。非晶質のガラスとは、結晶化ガラスとは異なり、結晶相を含まず、昇温によりガラス転移現象を示すガラスである。また、酸化物ガラスとは、ガラスの主要ネットワーク形成成分が酸化物であるガラスである。
以下、ガラスＡおよびＢについて、更に詳細に説明する。特記しない限り、説明されている事項は、ガラスＡおよびガラスＢの両ガラスについて適用される。
以下、ガラスＡおよびＢについて、更に詳細に説明する。特記しない限り、説明されている事項は、ガラスＡおよびガラスＢの両ガラスについて適用される。
【0014】
＜ガラス組成＞
本発明および本明細書では、ガラス組成を、酸化物基準のガラス組成で表示する。ここで「酸化物基準のガラス組成」とは、ガラス原料が熔融時にすべて分解されてガラス中で酸化物として存在するものとして換算することにより得られるガラス組成をいうものとする。また、特記しない限り、ガラス組成はモル基準（モル％、モル比）で表示するものとする。
本発明および本明細書におけるガラス組成は、例えばＩＣＰ－ＡＥＳ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）等の方法により求めることができる。定量分析は、ＩＣＰ－ＡＥＳを用い、各元素別に行われる。その後、分析値は酸化物表記に換算される。ＩＣＰ－ＡＥＳによる分析値は、例えば、分析値の±５％程度の測定誤差を含んでいることがある。したがって、分析値から換算された酸化物表記の値についても、同様に±５％程度の誤差を含んでいることがある。
また、本発明および本明細書において、構成成分の含有量が０％または含まないもしくは導入しないとは、この構成成分を実質的に含まないことを意味し、この構成成分の含有量が不純物レベル程度以下であることを指す。不純物レベル程度以下とは、例えば、０．０１％未満であることを意味する。
本発明および本明細書では、ガラス組成を、酸化物基準のガラス組成で表示する。ここで「酸化物基準のガラス組成」とは、ガラス原料が熔融時にすべて分解されてガラス中で酸化物として存在するものとして換算することにより得られるガラス組成をいうものとする。また、特記しない限り、ガラス組成はモル基準（モル％、モル比）で表示するものとする。
本発明および本明細書におけるガラス組成は、例えばＩＣＰ－ＡＥＳ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ａｔｏｍｉｃ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）等の方法により求めることができる。定量分析は、ＩＣＰ－ＡＥＳを用い、各元素別に行われる。その後、分析値は酸化物表記に換算される。ＩＣＰ－ＡＥＳによる分析値は、例えば、分析値の±５％程度の測定誤差を含んでいることがある。したがって、分析値から換算された酸化物表記の値についても、同様に±５％程度の誤差を含んでいることがある。
また、本発明および本明細書において、構成成分の含有量が０％または含まないもしくは導入しないとは、この構成成分を実質的に含まないことを意味し、この構成成分の含有量が不純物レベル程度以下であることを指す。不純物レベル程度以下とは、例えば、０．０１％未満であることを意味する。
【0015】
以下に、ガラスＡおよびＢのガラス組成について説明する。
【0016】
ＳｉＯ2は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラス安定性を向上させる働きを有する。また、ＳｉＯ2は、化学的耐久性の向上にも寄与する成分である。ガラスＡおよびＢにおけるＳｉＯ2含有量は、剛性向上の観点から、８０％以下であり、７５％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６６％以下であることが更に好ましく、６４％以下であることが一層好ましく、６３％以下であることがより一層好ましく、６２％以下であることが更に一層好ましい。また、ガラスＡおよびＢにおけるＳｉＯ2含有量は、化学的耐久性の維持の観点から、５６％以上であり、５７％以上であることが好ましく、５８％以上であることがより好ましく、５９％以上であることが更に好ましく、６０％以上であることが一層好ましい。
【0017】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスのネットワーク形成成分であり、耐熱性を向上させる働きを有する。また、Ａｌ2Ｏ3は、化学的耐久性を向上させる働きも有する。ガラスＢにおいて、Ａｌ2Ｏ3は必須成分である。耐熱性および化学的耐久性向上の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＡｌ2Ｏ3の含有量は、５％以上であることが好ましく、８％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましく、１２％以上であることが一層好ましく、１３％以上であることがより一層好ましい。また、ガラス安定性向上の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＡｌ2Ｏ3の含有量は、２０％以下であることが好ましく、１８％以下であることがより好ましく、１７％以下であることが更に好ましく、１６％以下であることが一層好ましく、１５．５％以下であることがより一層好ましい。
【0018】
ガラスＡおよびＢにおいて、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の合計含有量（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）は、化学的耐久性を維持する観点から６５％以上であることが好ましく、６７％以上であることがより好ましく、６９％以上であることが更に好ましく、７０％以上であることが一層好ましく、７２％以上であることがより一層好ましく、７４％以上であることがより一層好ましい。また、剛性向上の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の合計含有量（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）は８０％以下であることが好ましく、７８％以下であることがより好ましく、７７％以下であることが更に好ましく、７６％以下であることが一層好ましく、７５％以下であることがより一層好ましい。
【0019】
Ｂ2Ｏ3は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラスの比重を低下させる成分であり、熔融性を向上させる成分でもある。他方、Ｂ2Ｏ3は、熔融時に揮発しやすく、ガラス成分比率を不安定にしやすい。また、過剰導入により、化学的耐久性を低下させる傾向がある。以上の点から、ガラスＡおよびＢにおけるＢ2Ｏ3の含有量は、０～４％とする。Ｂ2Ｏ3の含有量は、３．００％以下であることが好ましく、２．００％以下であることがより好ましく、１．５０％以下であることが更に好ましく、１．００％以下であることが一層好ましく、０．５０％以下であることがより一層好ましく、０．３０％以下であることが更に一層好ましい。また、Ｂ2Ｏ3の含有量は、０．００％以上であることが好ましく、０．０５％以上であることがより好ましく、０．１０％以上であることが更に好ましく、０．１５％以上であることが一層好ましい。
【0020】
アルカリ土類金属酸化物であるＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの中で、ＭｇＯは、ガラスのヤング率を高める働き、熱膨張係数を大きくする働き、ならびにガラスの熔融性や成形性を良化する働きを有する。比弾性率について詳細は後述する。一態様では、ＭｇＯは必須成分である。上記の働きを良好に得る観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＭｇＯの含有量は、３％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、７％以上であることが更に好ましく、８％以上であることが一層好ましく、９％以上であることがより一層好ましい。また、ガラス安定性を維持する観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＭｇＯの含有量は２８％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２２％以下であることが更に好ましく、２０％以下であることが一層好ましく、１８％以下であることがより一層好ましく、１６％以下であることが更に一層好ましく、１５％以下であることがなお一層好ましく、１４％以下であることが更により一層好ましい。
【0021】
ガラスＡおよびＢにおけるＣａＯの含有量は０％以上である。ＣａＯも、ガラスのヤング率および比弾性率を高める働き、熱膨張係数を大きくする働き、ならびにガラスの熔融性や成形性を良化する働きを有する。これらの働きを良好に得る観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＣａＯの含有量は、２％以上であることが好ましく、３％以上であることがより好ましく、４％以上であることが更に好ましく、５％以上であることが一層好ましい。また、化学的耐久性を維持する観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＣａＯの含有量は１８％以下であることが好ましく、１５％以下であることがより好ましく、１２％以下であることが一層好ましく、１０％以下であることがより一層好ましく、８％以下であることがより一層好ましく、７％以下であることが更に一層好ましい。
【0022】
ガラスＡおよびＢにおけるＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）は、剛性向上の観点から９％以上であり、１１％以上であることが好ましく、１３％以上であることがより好ましく、１５％以上であることが更に好ましく、１６％以上であることが一層好ましく、１７％以上であることがより一層好ましい。また、ガラス安定性の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）は４０％以下であり、３５％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましく、２７％以下であることが更に好ましく、２５％以下であることが一層好ましく、２３％以下であることがより一層好ましく、２１％以下であることが更に一層好ましく、２０％以下であることがなお一層好ましい。
【0023】
ガラスＡおよびＢにおけるＭｇＯ含有量に対するＣａＯ含有量のモル比（ＣａＯ／ＭｇＯ）は、ヤング率および比弾性率を高める観点ならびにガラス安定性の向上の観点から、２．５以下であることが好ましく、２．３以下であることがより好ましく、２．１以下であることが更に好ましく、１．９以下であることが一層好ましく、１．６以下であることがより一層好ましく、１．４以下であることが更に一層好ましく、１．１以下であることが更により一層好ましく、１．０以下であることがなお一層好ましい。また、モル比（ＣａＯ／ＭｇＯ）は、０以上であり、ガラス安定性向上の観点からは０．０５以上であることが好ましく、０．１００以上であることがより好ましく、０．１２０以上であることが更に好ましく、０．１５０以上であることが一層好ましい。
【0024】
ＳｒＯは、ガラスの熔融性、成形性およびガラス安定性を良化し、熱膨張係数を大きくする働きを有する。化学的耐久性の維持、低比重化および原料コストの低減の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＳｒＯの含有量は０～２％であることが好ましい。ＳｒＯの含有量のより好ましい範囲は０～１．５％、更に好ましい範囲は０～１％であり、一層好ましい範囲は０～０．５％である。一態様では、ＳｒＯを含有しないこと、即ちＳｒＯの含有量が０％であることが好ましい。
【0025】
ＢａＯおよびＳｒＯは、いずれもガラスの比重を上昇させる成分である。ガラスの低比重化の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＢａＯおよびＳｒＯの合計含有量（ＢａＯ＋ＳｒＯ）は０～２％であることが好ましく、０～１．５％であることがより好ましく、０～１％であることが更に好ましく、０～０．５％であることが一層好ましい。一態様では、ＢａＯおよびＳｒＯを含有しないこと、即ちＢａＯおよびＳｒＯの合計含有量（ＢａＯ＋ＳｒＯ）が０％であることが好ましい。
【0026】
ＢａＯもガラスの熔融性、成形性およびガラス安定性を良化し、熱膨張係数を大きくする働きを有する。化学的耐久性の維持、低比重化および原料コストの低減の観点からは、ガラスＡおよびＢにおけるＢａＯ含有量は０～２％であることが好ましく、０～１．５％であることがより好ましく、０～１．０％であることが更に好ましく、０～０．５％であることが一層好ましい。一態様では、ＢａＯを含有しないこと、即ちＢａＯの含有量が０％であることが好ましい。
【0027】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＢａＯ含有量のモル比（ＢａＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））は、剛性向上、低比重化、高比弾性率化およびガラス安定性向上の観点から、０．１以下であることが好ましく、０．０８以下であることがより好ましく、０．０６以下であることが更に好ましく、０．０４以下であることが一層好ましく、０．０３以下であることがより一層好ましく、０．０２以下であることが更に一層好ましく、０．０１以下であることが更により一層好ましい。一態様では、モル比（ＢａＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））は０であることが好ましい。
【0028】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＭｇＯ含有量のモル比（ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））は、ガラス安定性の向上の観点から、１以下であることが好ましく、０．８以下であることがより好ましく、０．７５以下であることが更に好ましい。また、モル比（ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））は、ヤング率および比弾性率を高める観点ならびにガラス安定性の向上の観点から、０．３以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．６５以上であることが一層好ましい。
【0029】
ガラスＡおよびＢにおけるアルカリ土類金属酸化物の合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、ガラスの熔融性の向上、安定性の向上の観点から９％以上であることが好ましく、１１％以上であることがより好ましく、１３％以上であることが更に好ましく、１４％以上であることが一層好ましく、１６％以上であることがより一層好ましい。また、ガラスの化学的耐久性の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるアルカリ土類金属酸化物の合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は４０％以下であることが好ましく、３５％以下であることがより好ましく、３０％以下であることが更に好ましく、２８％以下であることが一層好ましく、２５％以下であることがより一層好ましく、２２％以下であることが更に一層好ましく、２１％以下であることがなお一層好ましく、２０％以下であることが更により一層好ましい。
【0030】
アルカリ土類金属酸化物の中で、ＭｇＯはガラスのヤング率および比弾性率を高める働きを有し、かつ比重の増大を抑えることに寄与する成分でもある。したがって、ＭｇＯは、ガラスの高ヤング率化、高比弾性率化および低比重化のために非常に有用な成分であり、特に高ヤング率化および低比重化に有効である。また、ＣａＯもガラスのヤング率および比弾性率を高める働きを有し、比重の増大を抑えることに寄与する成分でもあり、かつガラスの熱膨張係数を大きくするためにも有効な成分である。一方、ＳｒＯとＢａＯは比重や原料コストを増大させる。以上の観点から、ガラスＡおよびＢにおいて、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＭｇＯおよびＣａＯの合計含有量のモル比｛（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）｝は、０．７～１であることが好ましい。上記モル比の下限については、０．７５０以上であることがより好ましく、０．８００以上であることが更に好ましく、０．８５０以上であることが一層好ましく、０．９００以上であることがより一層好ましく、０．９２５以上であることが更に一層好ましく、０．９５０以上であることが更により一層好ましく、０．９７５以上であることがなお一層好ましく、０．９８０以上であることがなおより一層好ましい。
【0031】
Ｌｉ2Ｏは、アルカリ金属酸化物の中でもガラスの熔融性および成形性を向上させる働きが強く、また、ヤング率を増加させて磁気記録媒体基板に好適な剛性を付与させるために好適な成分である。更に、Ｌｉ2Ｏは、比抵抗を低くする役割を有する成分でもある。比抵抗について、詳細は後述する。Ｌｉ2Ｏは、熱膨張係数を大きくする成分でもある。また、ガラスＡおよびＢを化学強化用のガラスとする場合は、化学強化時のイオン交換を担う成分でもある。他方、Ｌｉ2Ｏは、ガラス転移温度を低下させる成分でもある。以上の働きを考慮し、ガラスＡおよびＢにおけるＬｉ2Ｏの含有量は、１～１０％とする。Ｌｉ2Ｏの含有量の下限については、２％以上であることが好ましく、３％以上であることがより一層好ましく、４％以上であることが更に好ましく、４．２％以上であることが一層好ましい。また、Ｌｉ2Ｏの含有量の上限については、８％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、６％以下であることが更に好ましく、５％以下であることが一層好ましい。
【0032】
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＬｉ2Ｏ含有量のモル比（Ｌｉ2Ｏ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））は、ガラス転移温度の低下を抑制する観点から、０．４以下であることが好ましく、０．３７以下であることがより好ましく、０．３５以下であることが更に好ましく、０．３２以下であることが一層好ましく，０．３０以下であることがより一層好ましい。また、モル比（Ｌｉ2Ｏ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））は、ガラスの熔融性の向上、泡の発生の抑制および比抵抗を低くする観点から０．０３以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．０８以上であることが更に好ましく、０．１０以上であることが一層好ましく、０．１５以上であることがより一層好ましく、０．２０以上であることが更に一層好ましく、０．２１以上であることがなお一層好ましい。
【0033】
Ｎａ2Ｏは、ガラスの熔融性および成形性を向上させ、熱膨張係数を大きくし、清澄時にはガラスの粘性を低下させて泡切れを促進させる働きを有する成分である。また、ガラスＡおよびＢを化学強化用のガラスとする場合は、化学強化時のイオン交換を担う成分でもある。以上の働きを考慮し、ガラスＡおよびＢにおけるＮａ2Ｏの含有量は、０～１０％であることが好ましく、０～８％であることがより好ましく、０～７％であることが更に好ましく、０～６％であることが一層好ましく、０～５％であることがより一層好ましく、０～３％であることが更に一層好ましく、０～１％であることが更により一層好ましい。
【0034】
Ｌｉ2Ｏ含有量に対するＮａ2Ｏ含有量のモル比（Ｎａ2Ｏ／Ｌｉ2Ｏ）は、剛性向上の観点から、５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましく、２以下であることが更に好ましく、１以下であることが一層好ましく、０．５以下であることがより一層好ましい。一態様では、モル比（Ｎａ2Ｏ／Ｌｉ2Ｏ）は、０であることができる。
【0035】
Ｋ2Ｏも、ガラスの熔融性および成形性を向上させる働きを有するとともに熱膨張係数を大きくする成分である。他方、過剰に導入すると化学的耐久性、特に耐酸性を低下させる傾向があり、ガラス基板としたときの基板表面からのアルカリ溶出が増大し、析出したアルカリが磁気記録層等の膜物性に影響を及ぼす可能性がある。以上の点を考慮し、ガラスＡおよびＢにおけるＫ2Ｏの含有量は０～５％であることが好ましく、０～３％であることがより好ましく、０～２％であることが更に好ましく、０～１％であることが一層好ましい。一態様では、Ｋ2Ｏを含有しないことが好ましい。
【0036】
Ｌｉ2Ｏ含有量、Ｎａ2Ｏ含有量およびＫ2Ｏ含有量については、ガラスの熔融性の向上の観点から、４×Ｌｉ2Ｏ含有量、２×Ｎａ2Ｏ含有量およびＫ2Ｏ含有量の和（４Ｌｉ2Ｏ＋２Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は８％以上であることが好ましい。また、上記の和（４Ｌｉ2Ｏ＋２Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）が８％以上であることは、比抵抗を低くするうえでも好ましい。以上の観点から、上記の和は、１０％以上であることがより好ましく、１２％以上であることが更に好ましく、１４％以上であることが一層好ましく、１６％以上であることがより一層好ましく、１７％以上であることが更に一層好ましく、１７．３％以上であることが更により一層好ましく、１７．５％以上であることがなお一層好ましく，１７．８％以上であることがなおより一層好ましい。また、ガラス転移温度を高める観点から、４×Ｌｉ2Ｏ含有量、２×Ｎａ2Ｏ含有量およびＫ2Ｏ含有量の和（４Ｌｉ2Ｏ＋２Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は、２７％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２３％以下であることが更に好ましく、２１％以下であることが一層好ましく、２０％以下であることがより一層好ましく、１９％以下であることが更により一層好ましい。
【0037】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量に対するＳｉＯ2含有量のモル比（ＳｉＯ2／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））は、ガラス転移温度を高める観点から４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、８以上であることが更に好ましく、１０以上であることが一層好ましく、１０．５以上であることがより一層好ましい。また、モル比（ＳｉＯ2／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））は、ガラスの熔融性向上および剛性向上の観点から、２２以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましく、１７以下であることが更に好ましく、１５以下であることが一層好ましく、１４以下であることがより一層好ましい。
【0038】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量に対するＬｉ2Ｏ含有量のモル比（Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））は、ヤング率および比弾性率を高め、溶解性を向上し、比抵抗を低くする観点から、０．１０以上であることが好ましく、０．３０以上であることがより好ましく、０．５０以上であることが更に好ましく、０．７０以上であることが一層好ましく、０．８０以上であることがより一層好ましく、０．９０以上であることが更に一層好ましく、０．９５以上であることがなお一層好ましい。一態様では、モル比（Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））は１であることができる。
【0039】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量に対するＮａ2Ｏ含有量のモル比（Ｎａ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））は０以上であることができ、ヤング率や比弾性率の低下を抑制する観点から５以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることがより好ましく、０．８以下であることが更に好ましく、０．５以下であることが一層好ましい。
【0040】
５×Ｌｉ2Ｏ含有量、３×Ｎａ2Ｏ含有量、３×Ｋ2Ｏ含有量、２×Ｂ2Ｏ3含有量、ＭｇＯ含有量、２×ＣａＯ含有量、３×ＳｒＯ含有量およびＢａＯ含有量の和（５Ｌｉ2Ｏ＋３Ｎａ2Ｏ＋３Ｋ2Ｏ＋２Ｂ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋２ＣａＯ＋３ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、熱膨張係数を大きくする観点から、３２％以上であることが好ましく、３５％以上であることがより好ましく、３８％以上であることが更に好ましく、４０％以上であることが一層好ましく、４２％以上であることがより一層好ましく、４４％以上であることが更に一層好ましい。また、ガラス転移温度を高める観点から、上記の和（５Ｌｉ2Ｏ＋３Ｎａ2Ｏ＋３Ｋ2Ｏ＋２Ｂ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋２ＣａＯ＋３ＳｒＯ＋ＢａＯ）は５８％以下であることが好ましく、５６％以下であることがより好ましく、５４％以下であることが更に好ましく、５２％以下であることが一層好ましく、５１％以下であることがより一層好ましく、５０％以下であることが更に一層好ましい。
【0041】
ＭｇＯとＬｉ2Ｏの合計含有量に対するＣａＯとＮａ2Ｏの合計含有量のモル比（（ＣａＯ＋Ｎａ2Ｏ）／（ＭｇＯ＋Ｌｉ2Ｏ））は、ガラス安定性の向上の観点からは０以上であることが好ましく、０．０３以上であることがより好ましく、０．０５以上であることが更に好ましく、０．１０以上であることが一層好ましく、０．１５以上であることがより一層好ましく、０．２０以上であることが更に一層好ましく、０．２５以上であることが更により一層好ましい。また、モル比（（ＣａＯ＋Ｎａ2Ｏ）／（ＭｇＯ＋Ｌｉ2Ｏ））は、ヤング率や比弾性率の低下を抑制する観点からは２．５以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１．５以下であることが更に好ましく、１．０以下であることが一層好ましく、０．８以下であることがより一層好ましく、０．６以下であることが更に一層好ましい。
【0042】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏは、ガラスの熔融性および成形性を向上させ、熱膨張係数を大きくする成分である。これら成分の働きを良好に得る観点から、ガラスＡおよびＢにおけるアルカリ金属酸化物の合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は２．５％以上であることが好ましく、３％以上であることがより好ましく、３．５％以上であることが更に好ましく、４％以上であることが一層好ましい。一方、ガラスの耐熱性および化学的耐久性を維持する観点から、ガラスＡおよびＢにおけるアルカリ金属酸化物の合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は１０％以下であることが好ましく、８％以下であることがより好ましく、７％以下であることが更に好ましく、６％以下であることが一層好ましく、５％以下であることがより一層好ましい。なおガラスがアルカリ金属酸化物を２種以上含有することにより、混合アルカリ効果によって、ガラス表面からのアルカリの溶出を低減ないし防止する効果を得ることができる。
【0043】
ＴｉＯ2は、ガラス安定性や化学的耐久性を向上させると共に、剛性を向上させる働きを有するが、過剰に導入するとガラスの液相温度が上昇し、耐失透性の悪化や比重の上昇を招く場合がある。したがって、ガラスＡおよびＢにおけるＴｉＯ2の含有量は０～１０％であることが好ましく、０～８％であることがより好ましく、０～６％であることが更に好ましく、０～４％であることが一層好ましく、０～３％であることがより一層好ましく、０～２％であることが更により一層好ましく、０～１％であることがなお一層好ましい。
【0044】
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＴｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計含有量のモル比（（ＴｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））は、泡の発生の抑制、化学的耐久性の向上およびガラスの高硬度化の観点から、０．３５以上であることが好ましく、０．４００以上であることがより好ましく、０．４４０以上であることが更に好ましく、０．５００以上であることが一層好ましく、０．６４０以上であることがより一層好ましい。また、モル比（（ＴｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））は、ガラス安定性の向上、高比弾性率化および低比重化の観点から、２以下であることが好ましく、１．８００以下であることがより好ましく、１．６００以下であることが更に好ましく、１．４００であることが一層好ましく、１．２００以下であることがより一層好ましく、１．０００以下であることが更に一層好ましい。
【0045】
ＺｒＯ2は、化学的耐久性を向上させる働きを有すると共に、剛性を向上させる働きも有する。ただし、過剰導入によりガラスの熔融性が低下し、原料の熔け残りが生じる場合がある。したがって、ガラスＡおよびＢにおけるＺｒＯ2の含有量は、０～５％であることが好ましく、０～３％であることがより好ましく、０～２％であることが更に好ましく、０～１％であることが一層好ましく、０～０．５％であることがより一層好ましい。一態では、ＺｒＯ2の含有量は０．００％であることができる。
【0046】
ＭｇＯ含有量、０．７×ＣａＯ含有量、Ｌｉ2Ｏ含有量、ＴｉＯ2含有量およびＺｒＯ2含有量の和（ＭｇＯ＋０．７ＣａＯ＋Ｌｉ2Ｏ＋ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2）は、高比弾性率化の観点から１６％以上であることが好ましく、１８％以上であることがより好ましく、１９％以上であることが更に好ましく、２０％以上であることが一層好ましく、２１％以上であることがより一層好ましい。また、上記の和（ＭｇＯ＋０．７ＣａＯ＋Ｌｉ2Ｏ＋ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2）は、ガラス安定性の低下抑制およびガラス転移温度の低下抑制の観点からは、４０％以下であることが好ましく、３５％以下であることがより好ましく、３０％以下であることが更に好ましく、２８％以下であることが一層好ましく、２５％以下であることがより一層好ましい。
【0047】
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）は、化学的耐久性の向上の観点から、ガラスＢにおいて、２以上であり、３以上であることが好ましく、３．５以上であることがより好ましく、４以上であることが一層好ましい。また、モル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）は、剛性の向上および高比弾性率化の観点から、ガラスＢにおいて、１３以下であり、１０以下であることが好ましく、９以下であることがより好ましく、８以下であることが更に好ましく、７以下であることが一層好ましく、６以下であることがより一層好ましい。ガラスＡにおいて、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）は、化学的耐久性の向上の観点から、２以上であることが好ましく、剛性の向上および高比弾性率化の観点から、１３以下であることが好ましい。ガラスＡにおけるＡｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）のより好ましい範囲については、ガラスＢに関する上記記載を参照できる。
【0048】
ＺｎＯは、熔融性を向上させると共に剛性を向上させる働きを有するが、過剰導入によって液相温度が上昇する。以上の観点から、ガラスＡおよびＢにおけるＺｎＯの含有量は、０～５％であることが好ましく、０～３％であることがより好ましく、０～２％であることが更に好ましく、０～１％であることが一層好ましく、０～０．５％であることがより一層好ましい。一態様では、ＺｎＯ含有量は０．００％であることができる。
【0049】
Ｐ2Ｏ5は、ガラスＡおよびＢに導入可能であるが、過剰導入により化学的耐久性が低下する傾向があるため、ガラスＡおよびＢにおけるＰ2Ｏ5の含有量は０～２％であることが好ましい。Ｐ2Ｏ5の含有量は、０～１％であることがより好ましく、０～０．５％であることが更に好ましい。一態様では、Ｐ2Ｏ5含有量は０．００％であることができる。
【0050】
ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、１．５×Ｎａ2Ｏ含有量、１．５×Ｋ2Ｏ含有量、２×ＳｒＯ含有量、３×ＢａＯ含有量およびＺｎＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋１．５Ｎａ2Ｏ＋１．５Ｋ2Ｏ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ＋ＺｎＯ）は、剛性向上の観点から、８６％以下であることが好ましく、８４％以下であることがより好ましく、８２％以下であることが更に好ましく、８０％以下であることが一層好ましく、７８％以下であることがより一層好ましく、７７％以下であることが更に一層好ましい。
【0051】
ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、Ｎａ2Ｏ含有量、Ｋ2Ｏ含有量、ＣａＯ含有量、２×ＳｒＯ含有量および３×ＢａＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋ＣａＯ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ）は、高比弾性率化の観点から、９２％以下であることが好ましく、９０％以下であることがより好ましく、８８％以下であることが更に好ましく、８６％以下であることが一層好ましく、８５％以下であることがより一層好ましい。
【0052】
Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＰ2Ｏ5の合計含有量に対するＰ2Ｏ5含有量のモル比（Ｐ2Ｏ5／（Ｂ2Ｏ3＋ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5））は、ガラス安定性の向上、剛性の向上、高比弾性率化および化学的耐久性の向上の観点から、０．００５以下であることが好ましく、０．００３以下であることがより好ましく、０．００２以下であることが更に好ましく、０．００１以下であることが一層好ましい。一態様では、モル比（Ｐ2Ｏ5／（Ｂ2Ｏ3＋ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5））は、０であることができる。
【0053】
ガラスＡおよびＢは、清澄効果を得る観点から、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2およびＳｂ2Ｏ3からなる群から選ばれる一種以上を含むことができる。一態様では、ＳｎＯ2とＣｅＯ2の合計含有量は０％であることができる。他の一態様では、ガラスＡおよびＢは、ＳｎＯ2および／またはＣｅＯ2を含むことができ、ＳｎＯ2とＣｅＯ2の合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）が０．０５～２％であることが好ましい。ＳｎＯ2とＣｅＯ2の合計含有量が０．０５％以上であることにより、十分な清澄効果を得ることができ、泡の残存を低減ないし抑制することができる。また、合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）が２％以下であることにより、ガラス熔解時に熔融ガラスが吹き上がり生産性が低下することを防ぐことができる。合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）の下限については、０．１０％以上であることが好ましく、０．２０％以上であることがより好ましく、０．２５％以上であることが更に好ましく、０．３０％以上であることが一層好ましく、０．３５％以上であることがより一層好ましく、０．４０％以上であることが更に一層好ましい。また、合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）の上限については、１．５％以下であることが好ましく、１．２％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることが更に好ましく、０．７０％以下であることが一層好ましく、０．６５％以下であることがより一層好ましく、０．６０％以下であることが更に一層好ましく、０．５５％以下であることがなお一層好ましく、０．５０％以下であることが更になお一層好ましい。
【0054】
ＳｎＯ2は、ガラスの熔融温度が比較的高い状態（１４００～１６００℃程度の温度域）での清澄を促進させる働きを有する。Ｓｂ2Ｏ3や亜砒酸等の環境に悪影響を及ぼす清澄剤の使用が制限される中、熔融温度の高いガラスの泡の除去をするために、一態様では、ガラスＡおよびＢにＳｎＯ2を導入することが好ましい。ＳｎＯ2の含有量は、清澄効果を得る観点から、０．０１％以上であることが好ましく、０．０５％以上であることがより好ましく、０．１０％以上であることが更に好ましく、０．１５％以上であることが一層好ましく、０．２０％以上であることがより一層好ましい。また、ＳｎＯ2の含有量は、２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることが更に好ましく、０．８％以下であることが一層好ましく、０．５％以下であることがより一層好ましい。
【0055】
ＣｅＯ2は、ＳｎＯ2と同様にガラスの清澄作用を示す成分である。ＣｅＯ2は、ガラスの熔融温度が比較的低い状態（１２００～１４００℃程度の温度域）で酸素を取り込んでガラス成分として定着させる働きがあるため、一態様では、清澄剤としてガラスＡおよびＢにＣｅＯ2を導入することが好ましい。ＣｅＯ2の含有量は、清澄効果を得る観点から、０．０１％以上であることが好ましく、０．０５％以上であることがより好ましく、０．０８％以上であることが更に好ましく、０．１０％以上であることが一層好ましい。また、ＣｅＯ2の含有量は、２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることが更に好ましく、０．８％以下であることが一層好ましく、０．５％以下であることがより一層好ましく、０．３％以下であることが更に一層好ましい。ＳｎＯ2とＣｅＯ2を共存させることにより、広い温度域での清澄作用を得ることができるので、一態様では、ガラスＡおよびＢは、ＳｎＯ2およびＣｅＯ2の両方を含むことが好ましい。
【0056】
Ｓｂ2Ｏ3は、環境負荷低減の観点から、使用を控えることが望ましい。ガラスＡおよびＢにおけるＳｂ2Ｏ3の含有量は、０～０．５％の範囲であることが好ましい。Ｓｂ2Ｏ3の含有量は、０．３％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることが更に好ましく、０．０５％以下であることが一層好ましく、０．０２％以下であることがより一層好ましく、Ｓｂ2Ｏ3を含まないことが特に好ましい。
【0057】
ＣｅＯ2が含まれる場合、ＣｅＯ2含有量に対するＳｎＯ2含有量のモル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）は、０以上であることができ、０．１以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましく、０．５以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが一層好ましく、０．９以上であることがより一層好ましく、１．０以上であることが更に一層好ましく、１．２以上であることがなお一層好ましく、１．４以上であることが更になお一層好ましい。また、モル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）は、７以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましく、４以下であることが一層好ましく、３．５以下であることがより一層好ましく、３．０以下であることが更に一層好ましく、２．５以下であることがなお一層好ましく、２．３以下であることが更になお一層好ましく、２．１以下、１．９以下、１．８以下または１．７以下であることが更になおより一層好ましい。
比抵抗に関して後述するように、ガラス熔融時に通電加熱を行う態様において、比抵抗が低いガラスは好ましい。比抵抗が低いガラスは通電加熱時に炉内の温度を下げて熔融させることができる。炉内の温度を下げると、ＳｎＯ2と比べて低温で清澄効果をより良好に発揮することができるＣｅＯ2の含有量のＳｎＯ2の含有量に対する割合を高めること、即ちモル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）を小さくすることが好ましい。
比抵抗に関して後述するように、ガラス熔融時に通電加熱を行う態様において、比抵抗が低いガラスは好ましい。比抵抗が低いガラスは通電加熱時に炉内の温度を下げて熔融させることができる。炉内の温度を下げると、ＳｎＯ2と比べて低温で清澄効果をより良好に発揮することができるＣｅＯ2の含有量のＳｎＯ2の含有量に対する割合を高めること、即ちモル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）を小さくすることが好ましい。
【0058】
ガラスＡおよびＢのＦｅの含有量は、質量基準で表示される酸化物基準のガラス組成において、Ｆｅ2Ｏ3に換算して、１質量％以下、０．７質量％以下、０．５質量％以下、０．４質量％以下、０．３質量％以下、０．１質量％以下、０．０７質量％以下、０．０５質量％以下、０．０４質量％以下、または０．０３質量％以下であることができる。一態様では、ガラスＡおよびＢは、Ｆｅを含有しないこと（上記含有量が０質量％であること）ができる。また、ガラスＡおよびＢは、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｙｂ、Ｍｎ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｍｏ、ＨｏおよびＥｒからなる群から選ばれる一種以上を含むこともできる。
【0059】
Ｐｂ、ＣｄおよびＡｓは、環境に悪影響を与える物質なので、これらの導入は避けることが好ましい。
【0060】
ガラスＡおよびＢは、所定のガラス組成が得られるように、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、水酸化物等のガラス原料を秤量、調合し、十分混合して、熔融容器内で、例えば１４００～１６００℃の範囲で加熱、熔解し、清澄、攪拌して十分泡切れがなされた均質化した熔融ガラスを成形することにより作製することができる。例えば、ガラス原料を熔解槽において１４００～１５５０℃で加熱して熔解し、得られた熔融ガラスを清澄槽において昇温して１４５０～１６００℃に保持した後、降温して１２００～１４００℃でガラスを流出し成形することが好ましい。ガラスの加熱は、通電加熱により行ってもよく、通電加熱以外の加熱方式によって行ってもよい。
【0061】
＜ガラス物性＞
ガラスＡおよびＢは、以上記載した組成調整を行うことにより、以下に記載する各種ガラス物性を有することができる。
ガラスＡおよびＢは、以上記載した組成調整を行うことにより、以下に記載する各種ガラス物性を有することができる。
【0062】
（ガラス転移温度）
先に記載したように、磁気記録媒体基板は、通常、基板上に磁気記録層を形成する工程で高温処理に付される。例えば、磁気記録媒体の高密度記録化のために近年開発されている磁気異方性エネルギーが高い磁性材料を含む磁気記録層を形成するためには、通用、高温で成膜が行われるか、または成膜後に高温で熱処理が行われる。磁気記録媒体基板がこのような高温処理に耐え得る耐熱性を有さないと、高温処理において高温に晒されて基板の平坦性が損なわれてしまう。これに対し、ガラスＡおよびＢは、耐熱性の指標であるガラス転移温度（以下、「Ｔｇ」とも記載する。）が６５０℃以上である。ガラス転移温度が６５０℃以上である高い耐熱性を有するガラスからなる基板であれば、高温処理後にも優れた平坦性を維持することができる。ただし、ガラスＡおよびＢは、高温処理を必要とする磁性材料を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体の基板用ガラスに限定されるものではなく、各種磁性材料を備えた磁気記録媒体の作製に用いることができる。ガラス転移温度は、６６０℃以上であることが好ましく、６７０℃以上であることがより好ましく、６７５℃以上であることが更に好ましく、６８０℃以上であることが一層好ましく、６８５℃以上であることがより一層好ましく、６８７℃以上であることが更に一層好ましい。また、ガラス転移温度の上限は、例えば７７０℃程度または７５０℃程度であるが、ガラス転移温度が高いほど耐熱性の観点から好ましいため、特に限定されるものではない。
先に記載したように、磁気記録媒体基板は、通常、基板上に磁気記録層を形成する工程で高温処理に付される。例えば、磁気記録媒体の高密度記録化のために近年開発されている磁気異方性エネルギーが高い磁性材料を含む磁気記録層を形成するためには、通用、高温で成膜が行われるか、または成膜後に高温で熱処理が行われる。磁気記録媒体基板がこのような高温処理に耐え得る耐熱性を有さないと、高温処理において高温に晒されて基板の平坦性が損なわれてしまう。これに対し、ガラスＡおよびＢは、耐熱性の指標であるガラス転移温度（以下、「Ｔｇ」とも記載する。）が６５０℃以上である。ガラス転移温度が６５０℃以上である高い耐熱性を有するガラスからなる基板であれば、高温処理後にも優れた平坦性を維持することができる。ただし、ガラスＡおよびＢは、高温処理を必要とする磁性材料を含む磁気記録層を有する磁気記録媒体の基板用ガラスに限定されるものではなく、各種磁性材料を備えた磁気記録媒体の作製に用いることができる。ガラス転移温度は、６６０℃以上であることが好ましく、６７０℃以上であることがより好ましく、６７５℃以上であることが更に好ましく、６８０℃以上であることが一層好ましく、６８５℃以上であることがより一層好ましく、６８７℃以上であることが更に一層好ましい。また、ガラス転移温度の上限は、例えば７７０℃程度または７５０℃程度であるが、ガラス転移温度が高いほど耐熱性の観点から好ましいため、特に限定されるものではない。
【0063】
（ヤング率）
先に記載した磁気記録媒体の剛性向上に対する要求に対応するために、磁気記録媒体基板用ガラスは高い剛性を有することが望ましい。この点に関して、ガラスＡおよびＢは、剛性の指標であるヤング率が９０ＧＰａ以上である。９０ＧＰａ以上のヤング率を示す高い剛性を有する磁気記録媒体基板用ガラスによれば、スピンドルモータの回転中の基板変形を抑制することができるため、基板変形に伴う磁気記録媒体の反りやたわみも抑制することができる。ガラスＡおよびＢのヤング率は、９１ＧＰａ以上であることが好ましく、９２ＧＰａ以上であることがより好ましく、９３ＧＰａ以上であることが更に好ましく、９４ＧＰａ以上であることが一層好ましく、９５ＧＰａ以上であることがより一層好ましい。ヤング率の上限は、例えば１２０ＧＰａ程度であるが、ヤング率が高いほど剛性が高く好ましいため特に限定されるものではない。
先に記載した磁気記録媒体の剛性向上に対する要求に対応するために、磁気記録媒体基板用ガラスは高い剛性を有することが望ましい。この点に関して、ガラスＡおよびＢは、剛性の指標であるヤング率が９０ＧＰａ以上である。９０ＧＰａ以上のヤング率を示す高い剛性を有する磁気記録媒体基板用ガラスによれば、スピンドルモータの回転中の基板変形を抑制することができるため、基板変形に伴う磁気記録媒体の反りやたわみも抑制することができる。ガラスＡおよびＢのヤング率は、９１ＧＰａ以上であることが好ましく、９２ＧＰａ以上であることがより好ましく、９３ＧＰａ以上であることが更に好ましく、９４ＧＰａ以上であることが一層好ましく、９５ＧＰａ以上であることがより一層好ましい。ヤング率の上限は、例えば１２０ＧＰａ程度であるが、ヤング率が高いほど剛性が高く好ましいため特に限定されるものではない。
【0064】
（比重）
ガラスＡの比重は、２．７５以下である。また、ガラスＢの比重は、２．７５以下であることが好ましい。ガラスＡおよびＢについて、比重は、２．７３以下であることがより好ましく、２．７０以下であることが更に好ましく、２．６８以下であることが一層好ましく、２．６４以下であることがより一層好ましく、２．６２以下であることが更に一層好ましく、２．６０以下であることがなお一層好ましい。磁気記録媒体基板用ガラスの低比重化により、磁気記録媒体基板を軽量化することができ、更には磁気記録媒体の軽量化、これにより磁気記録再生装置（一般にＨＤＤ（ハードディスクドライブ）と呼ばれる。）の消費電力抑制が可能になる。比重の下限は、例えば２．４０程度であるが、比重が低いほど好ましいため特に限定されるものではない。
ガラスＡの比重は、２．７５以下である。また、ガラスＢの比重は、２．７５以下であることが好ましい。ガラスＡおよびＢについて、比重は、２．７３以下であることがより好ましく、２．７０以下であることが更に好ましく、２．６８以下であることが一層好ましく、２．６４以下であることがより一層好ましく、２．６２以下であることが更に一層好ましく、２．６０以下であることがなお一層好ましい。磁気記録媒体基板用ガラスの低比重化により、磁気記録媒体基板を軽量化することができ、更には磁気記録媒体の軽量化、これにより磁気記録再生装置（一般にＨＤＤ（ハードディスクドライブ）と呼ばれる。）の消費電力抑制が可能になる。比重の下限は、例えば２．４０程度であるが、比重が低いほど好ましいため特に限定されるものではない。
【0065】
（比弾性率）
比弾性率は、ガラスのヤング率を密度で除したものである。ここで密度とはガラスの比重に、ｇ／ｃｍ3という単位を付けた値と考えればよい。より変形しにくい基板を提供する観点から、ガラスＡおよびＢの比弾性率は３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましく、３２ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましく、３３ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが更に好ましく、３４ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが一層好ましく、３５ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより一層好ましい。比弾性率の上限は、例えば４０ＭＮｍ／ｋｇ程度であるが、比弾性率が高いほど好ましいため特に限定されるものではない。
比弾性率は、ガラスのヤング率を密度で除したものである。ここで密度とはガラスの比重に、ｇ／ｃｍ3という単位を付けた値と考えればよい。より変形しにくい基板を提供する観点から、ガラスＡおよびＢの比弾性率は３０ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましく、３２ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましく、３３ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが更に好ましく、３４ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが一層好ましく、３５ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより一層好ましい。比弾性率の上限は、例えば４０ＭＮｍ／ｋｇ程度であるが、比弾性率が高いほど好ましいため特に限定されるものではない。
【0066】
（熱膨張係数）
磁気記録媒体を組み込んだＨＤＤは、中央部分をスピンドルモータのスピンドルおよびクランプで押さえて磁気記録媒体そのものを回転させる構造となっている。そのため、磁気記録媒体基板とスピンドル部分を構成するスピンドル材料の各々の熱膨張係数に大きな差があると、使用時に周囲の温度変化に対してスピンドルの熱膨張・熱収縮と磁気記録媒体基板の熱膨張・熱収縮にずれが生じてしまい、結果として磁気記録媒体が変形してしまう現象が生じる。このような現象が生じると書き込んだ情報をヘッドが読み出せなくなってしまい、記録再生の信頼性が低下する原因となる。したがって磁気記録媒体基板用のガラスには、スピンドル材料（例えばステンレス等）と同程度の適度な熱膨張係数を有することが望ましい。一般にＨＤＤのスピンドル材料は、１００～３００℃の温度範囲において７０×１０-7／℃以上の平均線膨張係数（熱膨張係数）を有するものであり、磁気記録媒体基板用ガラスの１００～３００℃における平均線膨張係数が４０×１０-7／℃以上であれば、スピンドル材料との熱膨張係数の差が少なく磁気記録媒体の信頼性向上に寄与することができる。ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（以下、「α」とも記載する。）は４０×１０-7／℃以上であることが好ましく、４１×１０-7／℃以上であることがより好ましく、４２×１０-7／℃以上であることが更に好ましく、４３×１０-7／℃以上であることが一層好ましく、４４×１０-7／℃以上であることがより一層好ましく、４５×１０-7／℃以上であることが更に一層好ましい。また、ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（α）は、７０×１０-7／℃以下であることが好ましく、６８×１０-7／℃以下であることがより好ましく、６５×１０-7／℃以下であることが更に好ましく、６３×１０-7／℃以下であることが一層好ましく、６０×１０-7／℃以下であることがより一層好ましく、５７×１０-7／℃以下であることが更に一層好ましく、５５×１０-7／℃以下であることがなお一層好ましく、５３×１０-7／℃以下であることが更になお一層好ましく、５０×１０-7／℃以下であることが更になおより一層好ましい。一態様では、ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（α）は、４８×１０-7／℃未満であることができ、４７×１０-7／℃以下であることもできる。
磁気記録媒体を組み込んだＨＤＤは、中央部分をスピンドルモータのスピンドルおよびクランプで押さえて磁気記録媒体そのものを回転させる構造となっている。そのため、磁気記録媒体基板とスピンドル部分を構成するスピンドル材料の各々の熱膨張係数に大きな差があると、使用時に周囲の温度変化に対してスピンドルの熱膨張・熱収縮と磁気記録媒体基板の熱膨張・熱収縮にずれが生じてしまい、結果として磁気記録媒体が変形してしまう現象が生じる。このような現象が生じると書き込んだ情報をヘッドが読み出せなくなってしまい、記録再生の信頼性が低下する原因となる。したがって磁気記録媒体基板用のガラスには、スピンドル材料（例えばステンレス等）と同程度の適度な熱膨張係数を有することが望ましい。一般にＨＤＤのスピンドル材料は、１００～３００℃の温度範囲において７０×１０-7／℃以上の平均線膨張係数（熱膨張係数）を有するものであり、磁気記録媒体基板用ガラスの１００～３００℃における平均線膨張係数が４０×１０-7／℃以上であれば、スピンドル材料との熱膨張係数の差が少なく磁気記録媒体の信頼性向上に寄与することができる。ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（以下、「α」とも記載する。）は４０×１０-7／℃以上であることが好ましく、４１×１０-7／℃以上であることがより好ましく、４２×１０-7／℃以上であることが更に好ましく、４３×１０-7／℃以上であることが一層好ましく、４４×１０-7／℃以上であることがより一層好ましく、４５×１０-7／℃以上であることが更に一層好ましい。また、ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（α）は、７０×１０-7／℃以下であることが好ましく、６８×１０-7／℃以下であることがより好ましく、６５×１０-7／℃以下であることが更に好ましく、６３×１０-7／℃以下であることが一層好ましく、６０×１０-7／℃以下であることがより一層好ましく、５７×１０-7／℃以下であることが更に一層好ましく、５５×１０-7／℃以下であることがなお一層好ましく、５３×１０-7／℃以下であることが更になお一層好ましく、５０×１０-7／℃以下であることが更になおより一層好ましい。一態様では、ガラスＡおよびＢの１００～３００℃における平均線膨張係数（α）は、４８×１０-7／℃未満であることができ、４７×１０-7／℃以下であることもできる。
【0067】
（ガラス安定性）
ガラスＡおよびＢは、高いガラス安定性を示すことができる。ガラス安定性の評価方法としては、詳細を後述する１３００℃１６時間保持テストおよび１２５０℃１６時間保持テストを挙げることができる。１３００℃１６時間保持テストにおいて評価結果Ａであることが好ましく、１３００℃１６時間保持テストにおいて評価結果Ａであって、かつ１２５０℃１６時間保持テストにおいて評価結果ＡまたはＢであることがより好ましく、両保持テストにおいて評価結果Ａであることが更に好ましい。
ガラスＡおよびＢは、高いガラス安定性を示すことができる。ガラス安定性の評価方法としては、詳細を後述する１３００℃１６時間保持テストおよび１２５０℃１６時間保持テストを挙げることができる。１３００℃１６時間保持テストにおいて評価結果Ａであることが好ましく、１３００℃１６時間保持テストにおいて評価結果Ａであって、かつ１２５０℃１６時間保持テストにおいて評価結果ＡまたはＢであることがより好ましく、両保持テストにおいて評価結果Ａであることが更に好ましい。
【0068】
（泡密度）
ガラスＡおよびＢは、先に記載した組成調整により、泡の低減も可能である。磁気記録媒体基板用のガラスでは、泡を低減できることは望ましい。これは、以下の理由による。近年の高密度記録化の進行に伴い、データの書き込みや読み取りのためのヘッド（磁気ヘッド）と磁気記録媒体の表面との距離（「フライングハイト」と呼ばれる。）を狭小化することが望まれている。しかし、磁気記録媒体用のガラス基板の表面に泡に起因する凹凸が存在すると、磁気記録媒体の表面にこの凹凸が反映され、磁気記録媒体の表面平滑性は低下してしまう。表面平滑性に劣る磁気記録媒体の表面に磁気ヘッドを近接させると、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面に接触して磁気ヘッドが破損するおそれがあるため、接触を防ぐためにフライングハイトをある程度確保せざるを得ない。以上の点から、磁気記録媒体基板用のガラスには、フライングハイトを狭小化するために、高い表面平滑性を有する磁気記録媒体を作製すべく泡を低減することが望まれる。ガラス中の泡に関しては、単位質量あたりの泡の密度が、光学顕微鏡（倍率４０～１００倍）により観察される直径０．０３ｍｍ超の泡の密度として、好ましくは５０個／ｋｇ未満であり、より好ましくは２０個／ｋｇ未満であり、更に好ましくは１０個／ｋｇ未満であり、一層好ましくは２個／ｋｇ以下であり、最も好ましくは０個／ｋｇである。
ガラスＡおよびＢは、先に記載した組成調整により、泡の低減も可能である。磁気記録媒体基板用のガラスでは、泡を低減できることは望ましい。これは、以下の理由による。近年の高密度記録化の進行に伴い、データの書き込みや読み取りのためのヘッド（磁気ヘッド）と磁気記録媒体の表面との距離（「フライングハイト」と呼ばれる。）を狭小化することが望まれている。しかし、磁気記録媒体用のガラス基板の表面に泡に起因する凹凸が存在すると、磁気記録媒体の表面にこの凹凸が反映され、磁気記録媒体の表面平滑性は低下してしまう。表面平滑性に劣る磁気記録媒体の表面に磁気ヘッドを近接させると、磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面に接触して磁気ヘッドが破損するおそれがあるため、接触を防ぐためにフライングハイトをある程度確保せざるを得ない。以上の点から、磁気記録媒体基板用のガラスには、フライングハイトを狭小化するために、高い表面平滑性を有する磁気記録媒体を作製すべく泡を低減することが望まれる。ガラス中の泡に関しては、単位質量あたりの泡の密度が、光学顕微鏡（倍率４０～１００倍）により観察される直径０．０３ｍｍ超の泡の密度として、好ましくは５０個／ｋｇ未満であり、より好ましくは２０個／ｋｇ未満であり、更に好ましくは１０個／ｋｇ未満であり、一層好ましくは２個／ｋｇ以下であり、最も好ましくは０個／ｋｇである。
【0069】
（比抵抗）
ガラスＡおよびＢは、先に記載した組成調整により、比抵抗を低くすることも可能である。比抵抗が低いガラスは、ガラス熔融時に通電加熱を行う態様において、熔融炉（例えばレンガ製）を侵食し難いか侵食が少ない点で好ましい。通電加熱時に熔融炉へ電気が流れると熔解炉が浸食されてしまうが、熔解炉中のガラスの比抵抗が高いと、熔解炉に電気が流れ易くなる。熔融炉が浸食されると、熔融炉からガラスが漏れることや、熔融炉が浸食されて生じた成分がガラスに混入すること等が起こり得る。したがって、熔解炉の侵食を抑制できることは好ましい。比抵抗が低いことの指標としては、比抵抗ρの自然対数ｌｎρを採用することができる。ガラスＡおよびＢは、一態様では、１４５０℃での比抵抗ρ（単位：Ω・ｃｍ）の自然対数ｌｎρ（無単位）が、３．２０以下であることが好ましく、３．００以下であることがより好ましく、２．９０以下であることが更に好ましく、２．８０以下であることが一層好ましく、２．７０以下であることがより一層好ましく、２．６８以下であることが更に一層好ましく、２．６５以下であることがなお一層好ましい。また、１４５０℃での比抵抗ρの自然対数ｌｎρは、例えば１以上であることができる。
ガラスＡおよびＢは、先に記載した組成調整により、比抵抗を低くすることも可能である。比抵抗が低いガラスは、ガラス熔融時に通電加熱を行う態様において、熔融炉（例えばレンガ製）を侵食し難いか侵食が少ない点で好ましい。通電加熱時に熔融炉へ電気が流れると熔解炉が浸食されてしまうが、熔解炉中のガラスの比抵抗が高いと、熔解炉に電気が流れ易くなる。熔融炉が浸食されると、熔融炉からガラスが漏れることや、熔融炉が浸食されて生じた成分がガラスに混入すること等が起こり得る。したがって、熔解炉の侵食を抑制できることは好ましい。比抵抗が低いことの指標としては、比抵抗ρの自然対数ｌｎρを採用することができる。ガラスＡおよびＢは、一態様では、１４５０℃での比抵抗ρ（単位：Ω・ｃｍ）の自然対数ｌｎρ（無単位）が、３．２０以下であることが好ましく、３．００以下であることがより好ましく、２．９０以下であることが更に好ましく、２．８０以下であることが一層好ましく、２．７０以下であることがより一層好ましく、２．６８以下であることが更に一層好ましく、２．６５以下であることがなお一層好ましい。また、１４５０℃での比抵抗ρの自然対数ｌｎρは、例えば１以上であることができる。
【0070】
［磁気記録媒体基板］
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板は、ガラスＡまたはガラスＢからなる。
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板は、ガラスＡまたはガラスＢからなる。
【0071】
磁気記録媒体基板は、ガラス原料を加熱することにより熔融ガラスを調製し、この熔融ガラスをプレス成形法、ダウンドロー法またはフロート法のいずれかの方法により板状に成形し、得られた板状のガラスを加工する工程を経て製造することができる。例えば、プレス成形方法では、ガラス流出パイプから流出する熔融ガラスを所定体積に切断し、所要の熔融ガラス塊を得て、これをプレス成形型でプレス成形して薄肉円盤状の基板ブランクを作製する。次いで、得られた基板ブランクに中心孔を設けたり、内外周加工、両主表面にラッピング、ポリッシングを施す。次いで、酸洗浄およびアルカリ洗浄を含む洗浄工程を経て、ディスク状の基板を得ることができる。
【0072】
上記磁気記録媒体基板は、一態様では、表面および内部の組成が均質である。ここで、表面および内部の組成が均質とは、イオン交換が行われていない（即ち、イオン交換層を有さない）ことを意味する。例えば、磁気記録媒体を組み込んだＨＤＤ（ハードディスクドライブ）が外部衝撃を受け難い環境下で用いられる場合等において、イオン交換層を有さない磁気記録媒体基板を用いることができる。なお、イオン交換層を有さない磁気記録媒体基板は、イオン交換処理を施していないため、製造コストを大幅に低減できる。
【0073】
また、上記磁気記録媒体基板は、一態様では、表面の一部または全部に、イオン交換層を有する。イオン交換層は圧縮応力を示すため、イオン交換層の有無は、主表面に対して垂直に基板を破断し、破断面においてバビネ法により応力プロファイルを得ることによって確認することができる。「主表面」とは、基板の磁気記録層が設けられる面または設けられている面である。こうした面は、磁気記録媒体基板の表面のうち、最も面積の広い面であることから、主表面と呼ばれ、ディスク状の磁気記録媒体の場合、ディスクの円形状の表面（中心孔がある場合は中心孔を除く。）に相当する。また、イオン交換層の有無は、基板表面からアルカリ金属イオンの深さ方向の濃度分布を測定する方法等によっても確認することができる。
【0074】
イオン交換層は、高温下、基板表面にアルカリ塩を接触させ、このアルカリ塩中のアルカリ金属イオンと基板中のアルカリ金属イオンを交換させることにより形成することができる。イオン交換（「強化処理」、「化学強化」とも呼ばれる。）については、公知技術を適用することができ、一例として、ＷＯ２０１１／０１９０１０Ａ１の段落００６８～００６９を参照できる。
【0075】
上記磁気記録媒体基板は、例えば厚みが１．５ｍｍ以下、好ましくは１．２ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下であり、厚みの下限は好ましくは０．３ｍｍである。また、上記磁気記録媒体基板は、好ましくは中心孔を有するディスク形状である。
【0076】
上記磁気記録媒体基板は、非晶質ガラスからなる。非晶質ガラスによれば、結晶化ガラスと比べて基板に加工したとき優れた表面平滑性を実現できる。
【0077】
［磁気記録媒体］
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体に関する。
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体に関する。
【0078】
磁気記録媒体は、磁気ディスク、ハードディスク等と呼ばれ、各種磁気記録再生装置、例えば、デスクトップパソコン、サーバ用コンピュータ、ノート型パソコン、モバイル型パソコンなどの内部記憶装置（固定ディスクなど）、画像および／または音声を記録再生する携帯記録再生装置の内部記憶装置、車載オーディオの記録再生装置などに好適である。本発明および本明細書において、「磁気記録再生装置」とは、磁気的に情報の記録を行うこと、磁気的に情報の再生を行うこと、の一方または両方が可能な装置をいうものとする。
【0079】
磁気記録媒体は、例えば、磁気記録媒体基板の主表面上に、主表面に近いほうから順に、少なくとも付着層、下地層、磁性層（磁気記録層）、保護層、潤滑層が積層された構成になっている。
例えば、磁気記録媒体基板を、真空引きを行った成膜装置内に導入し、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）マグネトロンスパッタリング法にてＡｒ雰囲気中で、磁気記録媒体基板の主表面上に付着層から磁性層まで順次成膜する。付着層としては例えばＣｒＴｉ、下地層としては例えばＲｕやＭｇＯを含む材料を用いることができる。なお、適宜、軟磁性層やヒートシンク層を追加してもよい。上記成膜後、例えばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によりＣ2Ｈ4を用いて保護層を成膜し、同一チャンバ内で、表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより、磁気記録媒体を形成することができる。その後、例えばＰＦＰＥ（ポリフルオロポリエーテル）をディップコート法により保護層上に塗布することにより、潤滑層を形成することができる。
例えば、磁気記録媒体基板を、真空引きを行った成膜装置内に導入し、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）マグネトロンスパッタリング法にてＡｒ雰囲気中で、磁気記録媒体基板の主表面上に付着層から磁性層まで順次成膜する。付着層としては例えばＣｒＴｉ、下地層としては例えばＲｕやＭｇＯを含む材料を用いることができる。なお、適宜、軟磁性層やヒートシンク層を追加してもよい。上記成膜後、例えばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によりＣ2Ｈ4を用いて保護層を成膜し、同一チャンバ内で、表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより、磁気記録媒体を形成することができる。その後、例えばＰＦＰＥ（ポリフルオロポリエーテル）をディップコート法により保護層上に塗布することにより、潤滑層を形成することができる。
【0080】
磁気記録媒体のより一層の高密度記録化のためには、磁気記録層は、磁気異方性エネルギーの高い磁性材料を含むことが好ましい。この点から好ましい磁性材料としては、Ｆｅ－Ｐｔ系磁性材料またはＣｏ－Ｐｔ系磁性材料を挙げることができる。なおここで「系」とは、含有することを意味する。即ち、上記磁気記録媒体は、磁気記録層としてＦｅおよびＰｔ、またはＣｏおよびＰｔを含む磁気記録層を有することが好ましい。かかる磁性材料を含む磁気記録層およびその成膜方法については、ＷＯ２０１１／０１９０１０Ａ１の段落００７４および同公報の実施例の記載を参照できる。また、そのような磁気記録層を有する磁気記録媒体は、エネルギーアシスト記録方式と呼ばれる記録方式による磁気記録装置に適用することが好ましい。エネルギーアシスト記録方式の中で、近接場光等の照射により磁化反転をアシストする記録方式は熱アシスト記録方式、マイクロ波によりアシストする記録方式はマイクロ波アシスト記録方式と呼ばれる。それらの詳細については、ＷＯ２０１１／０１９０１０Ａ１の段落００７５を参照できる。なお、磁気記録層を形成するための磁性材料として、従来のＣｏＰｔＣｒ系材料を用いてもよい。
【0081】
ところで近年、磁気ヘッドへＤＦＨ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｌｙｉｎｇ Ｈｅｉｇｈｔ）機構を搭載させることにより、磁気ヘッドの記録再生素子部と磁気記録媒体表面との間隙の大幅な狭小化（低浮上量化）を達成し、更なる高記録密度化を図ることが行われている。ＤＦＨ機構とは、磁気ヘッドの記録再生素子部の近傍に極小のヒーター等の加熱部を設けて、素子部周辺のみを媒体表面方向に向けて突き出す機能である。こうすることで、磁気ヘッドと媒体の磁気記録層との距離（フライングハイト）が近づくため、より小さい磁性粒子の信号も拾うことができるようになり、更なる高記録密度化を達成することが可能となる。しかしその一方で、磁気ヘッドの素子部と媒体表面との間隙（フライングハイト）が極めて小さくなる。磁気記録媒体基板の表面に泡に起因する凹凸が存在すると、磁気記録媒体の表面にこの凹凸が反映され、磁気記録媒体の表面平滑性は低下してしまう。先に記載したように、表面平滑性に劣る磁気記録媒体表面に磁気ヘッドを近接させると、磁気ヘッドが磁気記録媒体表面に接触して磁気ヘッドが破損するおそれがあるため、接触を防ぐためにフライングハイトをある程度確保せざるを得ない。以上の点から、磁気記録媒体基板には、高い表面平滑性を有する磁気記録媒体を作製すべく基板の泡を低減することが望まれる。基板の泡を低減することは、フライングハイトの狭小化を可能にするからである。上記磁気記録媒体基板は、好ましくは泡が低減されているため、かかる基板を備えた上記磁気記録媒体は、フライングハイトが極狭小化されたＤＦＨ機構を搭載した磁気記録装置にも好適である。
【0082】
上記磁気記録媒体基板（例えば磁気ディスク基板）、磁気記録媒体（例えば磁気ディスク）とも、その寸法に特に制限はないが、例えば、高記録密度化が可能であるため媒体および基板を小型化することも可能である。例えば、公称直径２．５インチは勿論、更に小径（例えば１インチ、１．８インチ）、または３インチ、３．５インチ等の寸法のものとすることができる。また、板厚については、例えば０．３～２ｍｍとすることができるが、ガラスＡおよびＢは、耐熱性および剛性に優れるため、薄板化に適する。
薄板化することによりＨＤＤの磁気記録媒体の搭載枚数を増やすことができ、これによりＨＤＤの記録容量を高めることができる。この観点から、板厚は、公称値で０．６３５ｍｍ以下とすると好ましく、０．５５０ｍｍ以下とするとより好ましく、０．５００ｍｍ以下とすると更に好ましく、０．４００ｍｍ以下とすると一層好ましい。
薄板化することによりＨＤＤの磁気記録媒体の搭載枚数を増やすことができ、これによりＨＤＤの記録容量を高めることができる。この観点から、板厚は、公称値で０．６３５ｍｍ以下とすると好ましく、０．５５０ｍｍ以下とするとより好ましく、０．５００ｍｍ以下とすると更に好ましく、０．４００ｍｍ以下とすると一層好ましい。
【0083】
［磁気記録再生装置用ガラススペーサ］
本発明の一態様は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
であり、
比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
に関する。
本発明の一態様は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
であり、
比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
に関する。
【0084】
また、本発明の一態様は、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３、
であり、
ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
に関する。
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、
Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、
Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、
ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、
Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３、
であり、
ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
に関する。
【0085】
磁気記録媒体は、磁気記録再生装置において、情報を磁気的に記録および／または再生するために用いることができる。磁気記録再生装置は、通常、磁気記録媒体をスピンドルモータのスピンドルに固定するため、および／または、複数の磁気記録媒体の間の距離を保つために、スペーサを備えている。近年、かかるスペーサとして、ガラススペーサを用いることが提案されている。このガラススペーサにも、磁気記録媒体基板用のガラスについて先に詳述した理由と類似の理由から、耐熱性および剛性に優れることが望まれる。これに対し、上記ガラスは、先にガラスＡおよびＢについて詳述した通り、優れた耐熱性および剛性を有することができるため、磁気記録再生装置用ガラススペーサとして好適である。
【0086】
磁気記録再生装置用のスペーサはリング状の部材であって、ガラススペーサの構成、製造方法等の詳細は公知である。また、ガラススペーサの製造方法については、磁気記録媒体基板用ガラスの製造方法および磁気記録媒体基板の製造方法に関する上記記載も参照できる。また、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置用ガラススペーサのガラス組成、ガラス特性等のその他の詳細については、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録媒体に関する上記記載を参照できる。
なお、磁気記録再生装置用ガラススペーサは、上記ガラスからなることもでき、または上記ガラスの表面に導電性膜等の膜を一層以上設けた構成であることもできる。例えば、磁気記録媒体の回転時に生じる静電気を除去するために、ガラススペーサの表面に、メッキ法、浸漬法、蒸着法、スパッタリング法等によりＮｉＰ合金等の導電性膜を形成することができる。また、ガラススペーサは、研磨加工により表面平滑性を高くすることができ（例えば、平均表面粗さが１μｍ以下）、これにより磁気記録媒体とスペーサとの密着度を強めて位置ずれの発生を抑制することができる。
なお、磁気記録再生装置用ガラススペーサは、上記ガラスからなることもでき、または上記ガラスの表面に導電性膜等の膜を一層以上設けた構成であることもできる。例えば、磁気記録媒体の回転時に生じる静電気を除去するために、ガラススペーサの表面に、メッキ法、浸漬法、蒸着法、スパッタリング法等によりＮｉＰ合金等の導電性膜を形成することができる。また、ガラススペーサは、研磨加工により表面平滑性を高くすることができ（例えば、平均表面粗さが１μｍ以下）、これにより磁気記録媒体とスペーサとの密着度を強めて位置ずれの発生を抑制することができる。
【0087】
［磁気記録再生装置］
本発明の一態様は、
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体；および
本発明の一態様にかかるガラススペーサ、
の少なくとも一方を含む磁気記録再生装置、
に関する。
本発明の一態様は、
本発明の一態様にかかる磁気記録媒体；および
本発明の一態様にかかるガラススペーサ、
の少なくとも一方を含む磁気記録再生装置、
に関する。
【0088】
磁気記録再生装置は、少なくとも１つの磁気記録媒体と、少なくとも１つのスペーサを含み、更に、通常、磁気記録媒体を回転駆動させるためのスピンドルモータと、磁気記録媒体に対して情報の記録および／または再生を行うための少なくとも１つの磁気ヘッドを含む。
上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つの磁気記録媒体として本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含むことができ、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を複数含むこともできる。上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つのスペーサとして本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことができ、本発明の一態様にかかるガラススペーサを複数含むこともできる。磁気記録媒体の熱膨張係数とスペーサの熱膨張係数との差が小さいことは、両者の熱膨張係数の差に起因して生じ得る現象、例えば、磁気記録媒体の歪み、磁気記録媒体の位置ずれによる回転時の安定性の低下等、の発生を抑制する観点から好ましい。この観点から、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つの磁気記録媒体として、また複数の磁気記録媒体が含まれる場合にはより多くの磁気記録媒体として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含み、かつ、少なくとも１つのスペーサとして、また複数のスペーサが含まれる場合にはより多くのスペーサとして、本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことが好ましい。また、例えば、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、磁気記録媒体に含まれる磁気記録媒体基板を構成するガラスと、ガラススペーサを構成するガラスとが、同一のガラス組成を有するものであることができる。
上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つの磁気記録媒体として本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含むことができ、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を複数含むこともできる。上記の本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つのスペーサとして本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことができ、本発明の一態様にかかるガラススペーサを複数含むこともできる。磁気記録媒体の熱膨張係数とスペーサの熱膨張係数との差が小さいことは、両者の熱膨張係数の差に起因して生じ得る現象、例えば、磁気記録媒体の歪み、磁気記録媒体の位置ずれによる回転時の安定性の低下等、の発生を抑制する観点から好ましい。この観点から、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、少なくとも１つの磁気記録媒体として、また複数の磁気記録媒体が含まれる場合にはより多くの磁気記録媒体として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含み、かつ、少なくとも１つのスペーサとして、また複数のスペーサが含まれる場合にはより多くのスペーサとして、本発明の一態様にかかるガラススペーサを含むことが好ましい。また、例えば、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、磁気記録媒体に含まれる磁気記録媒体基板を構成するガラスと、ガラススペーサを構成するガラスとが、同一のガラス組成を有するものであることができる。
【0089】
本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体および本発明の一態様にかかるガラススペーサの少なくとも一方を含むものであればよく、その他の点については磁気記録再生装置に関する公知技術を適用することができる。一態様では、磁気ヘッドとして、磁化反転をアシスト（磁気信号の書き込みを補助）するためのエネルギー源（例えばレーザー光源等の熱源、マイクロ波等）と、記録素子部と、再生素子部とを有するエネルギーアシスト磁気記録ヘッドを用いることができる。このような、エネルギーアシスト磁気記録ヘッドを含むエネルギーアシスト記録方式の磁気記録再生装置は、高記録密度かつ高い信頼性を有する磁気記録再生装置として有用である。また、レーザー光源等を有する熱アシスト磁気記録ヘッドを備えた熱アシスト記録方式等のエネルギーアシスト記録方式の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体の製造時には、磁気異方性エネルギーが高い磁性材料を含む磁気記録層を磁気記録媒体基板上に形成することが行われる場合がある。このような磁気記録層を形成するためには、通常、高温で成膜が行われるか、または成膜後に高温で熱処理が行われる。このような高温での処理に耐え得る高い耐熱性を有し得る磁気記録媒体基板として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板は好ましい。ただし、本発明の一態様にかかる磁気記録再生装置は、エネルギーアシスト方式の磁気記録再生装置に限定されるものではない。
【実施例】
【0090】
以下に、本発明を実施例により更に詳細に説明する。ただし、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【0091】
［実施例Ｎｏ．１～Ｎｏ．７６］
下記表に示す組成のガラスが得られるように、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、水酸化物等の原料を秤量し、混合して調合原料とした。この調合原料を熔融槽に投入して１４００～１６００℃の範囲で加熱、熔解して得られた熔融ガラスを、清澄槽において１４００～１５５０℃で６時間保持した後、温度を低下（降温）させて１２００～１４００℃の範囲に１時間保持してから熔融ガラスを成形して、下記評価のためのガラス（非晶質の酸化物ガラス）を得た。上記加熱は、通電加熱等の各種加熱方式により行うことができる。
下記表に示す組成のガラスが得られるように、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、水酸化物等の原料を秤量し、混合して調合原料とした。この調合原料を熔融槽に投入して１４００～１６００℃の範囲で加熱、熔解して得られた熔融ガラスを、清澄槽において１４００～１５５０℃で６時間保持した後、温度を低下（降温）させて１２００～１４００℃の範囲に１時間保持してから熔融ガラスを成形して、下記評価のためのガラス（非晶質の酸化物ガラス）を得た。上記加熱は、通電加熱等の各種加熱方式により行うことができる。
【0092】
［評価方法］
（１）ガラス転移温度（Ｔｇ）、平均線膨張係数（α）
各ガラスのガラス転移温度Ｔｇおよび１００～３００℃における平均線膨張係数αを、熱機械分析装置（ＴＭＡ；Ｔｈｅｒｍｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて測定した。
（１）ガラス転移温度（Ｔｇ）、平均線膨張係数（α）
各ガラスのガラス転移温度Ｔｇおよび１００～３００℃における平均線膨張係数αを、熱機械分析装置（ＴＭＡ；Ｔｈｅｒｍｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いて測定した。
【0093】
（２）ヤング率
各ガラスのヤング率を超音波法にて測定した。
各ガラスのヤング率を超音波法にて測定した。
【0094】
（３）比重
各ガラスの比重をアルキメデス法にて測定した。
各ガラスの比重をアルキメデス法にて測定した。
【0095】
（４）比弾性率
上記（２）で得られたヤング率および（３）で得られた比重から、比弾性率を算出した。
上記（２）で得られたヤング率および（３）で得られた比重から、比弾性率を算出した。
【0096】
（５）ガラス安定性
各ガラス１００ｇを白金製の坩堝に入れて、炉内温度を１２５０℃または１３００℃に設定した加熱炉内に各坩堝を投入し、炉内温度を維持したまま１６時間放置（保持テスト）した。１６時間経過後、加熱炉内から坩堝を取り出し、坩堝内のガラスを耐火物上に移して室温まで冷却し、各ガラスの結晶の有無を光学顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）して結晶が確認されない。
Ｂ：光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）して結晶が確認されるが、目視観察で結晶が確認されない。
Ｃ：目視観察で結晶が確認される。
各ガラス１００ｇを白金製の坩堝に入れて、炉内温度を１２５０℃または１３００℃に設定した加熱炉内に各坩堝を投入し、炉内温度を維持したまま１６時間放置（保持テスト）した。１６時間経過後、加熱炉内から坩堝を取り出し、坩堝内のガラスを耐火物上に移して室温まで冷却し、各ガラスの結晶の有無を光学顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）して結晶が確認されない。
Ｂ：光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）して結晶が確認されるが、目視観察で結晶が確認されない。
Ｃ：目視観察で結晶が確認される。
【0097】
（６）泡密度ランクの評価
上記で得られた熔融ガラスから厚さ約１．２ｍｍのガラス板（基板ブランク）を作製した。このガラス板の表面を平坦かつ平滑に研磨し、研磨面からガラス内部を光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）し、直径が０．０３ｍｍ超の泡（以下、単に「泡」と記載する。）の数をカウントした。拡大観察した領域に相当するガラスの質量で、カウントした泡の数を割ったものを泡の密度とした。
泡密度ランクを、上記方法で求めた泡の密度に応じてＳランク～Ｆランクで評価した。具体的には、泡密度が０個／ｋｇのものをＳランク、泡が存在し、泡密度が２個／ｋｇ以下のものをＡランク、泡密度が２個／ｋｇ超１０個／ｋｇ未満のものをＢランク、泡密度が１０個／ｋｇ以上２０個／ｋｇ未満のものをＣランク、泡密度が２０個／ｋｇ以上５０個／ｋｇ未満のものをＤランク、泡密度が５０個／ｋｇ以上８０個未満のものをＥランク、泡密度が８０個／ｋｇ以上のものをＦランクとした。
上記で得られた熔融ガラスから厚さ約１．２ｍｍのガラス板（基板ブランク）を作製した。このガラス板の表面を平坦かつ平滑に研磨し、研磨面からガラス内部を光学顕微鏡で拡大観察（倍率４０～１００倍）し、直径が０．０３ｍｍ超の泡（以下、単に「泡」と記載する。）の数をカウントした。拡大観察した領域に相当するガラスの質量で、カウントした泡の数を割ったものを泡の密度とした。
泡密度ランクを、上記方法で求めた泡の密度に応じてＳランク～Ｆランクで評価した。具体的には、泡密度が０個／ｋｇのものをＳランク、泡が存在し、泡密度が２個／ｋｇ以下のものをＡランク、泡密度が２個／ｋｇ超１０個／ｋｇ未満のものをＢランク、泡密度が１０個／ｋｇ以上２０個／ｋｇ未満のものをＣランク、泡密度が２０個／ｋｇ以上５０個／ｋｇ未満のものをＤランク、泡密度が５０個／ｋｇ以上８０個未満のものをＥランク、泡密度が８０個／ｋｇ以上のものをＦランクとした。
【0098】
（７）比抵抗ρ（１４５０℃）の自然対数ｌｎρ
比抵抗測定対象のガラスを熔融して温度ｔ℃の熔融ガラスを調製し、この熔融ガラスの電気伝導度σ（単位：Ｓ／ｃｍ）を、Ｐｔ－Ｒｈ製の環状電極（電極間距離１５ｍｍ）を使用し、電圧５０ｍＶ、周波数２０ｋＨｚの条件において測定した。セル定数は、基準溶液として濃度１ｍｏｌ／ｄｍ3のＫＣｌ溶液（温度２５℃）を使用して決定した。１２００℃程度～１６００℃程度の温度範囲において、２５～４５℃程度の温度間隔で、各温度ｔについて電気伝導度σを求め、求められたσをアレニウスプロットして得られた直線から、１４５０℃におけるσを求めた。こうして求められた１４５０℃でのσから、比抵抗ρ＝１／σの式により、１４５０℃における比抵抗ρを求め、求められたρの自然対数ｌｎρを算出した。
比抵抗測定対象のガラスを熔融して温度ｔ℃の熔融ガラスを調製し、この熔融ガラスの電気伝導度σ（単位：Ｓ／ｃｍ）を、Ｐｔ－Ｒｈ製の環状電極（電極間距離１５ｍｍ）を使用し、電圧５０ｍＶ、周波数２０ｋＨｚの条件において測定した。セル定数は、基準溶液として濃度１ｍｏｌ／ｄｍ3のＫＣｌ溶液（温度２５℃）を使用して決定した。１２００℃程度～１６００℃程度の温度範囲において、２５～４５℃程度の温度間隔で、各温度ｔについて電気伝導度σを求め、求められたσをアレニウスプロットして得られた直線から、１４５０℃におけるσを求めた。こうして求められた１４５０℃でのσから、比抵抗ρ＝１／σの式により、１４５０℃における比抵抗ρを求め、求められたρの自然対数ｌｎρを算出した。
【0099】
以上の結果を下記表に示す。
【0100】
【表1】
【0101】
【表2】
【0102】
【表3】
【0103】
【表4】
【0104】
【表5】
【0105】
【表6】
【0106】
【表7】
【0107】
【表8】
【0108】
【表9】
【0109】
【表10】
【0110】
上記表に示す結果から、実施例の磁気記録媒体基板用ガラスは、いずれも耐熱性および剛性に優れることが確認された。更に、実施例の磁気記録媒体基板用ガラスは、低比重であり、適度な熱膨張係数を有することも確認された。
ガラス安定性に関して、上記方法により行われる保持テストにおいて、より低い温度で評価結果が良好なほど、熔融状態で結晶が析出しにくいガラスであり、成形温度を下げて成形することができる。成形温度を下げるほど、発熱体、炉体、パイプ等の成形装置の構成部材の寿命を延ばすことができる。特に、プレス成形により基板ブランクを作製する場合には、成形温度は低いほど好ましい。また、成形温度を下げることができれば、ガラス粘度を上げて成形することができるため、揮発、脈理および成形泡の発生を抑制することができる。
また、上記表に示す実施例のガラスは、いずれも泡密度ランクがＳ、ＡまたはＢであり、泡の発生が抑制されていることも確認された。
ガラス安定性に関して、上記方法により行われる保持テストにおいて、より低い温度で評価結果が良好なほど、熔融状態で結晶が析出しにくいガラスであり、成形温度を下げて成形することができる。成形温度を下げるほど、発熱体、炉体、パイプ等の成形装置の構成部材の寿命を延ばすことができる。特に、プレス成形により基板ブランクを作製する場合には、成形温度は低いほど好ましい。また、成形温度を下げることができれば、ガラス粘度を上げて成形することができるため、揮発、脈理および成形泡の発生を抑制することができる。
また、上記表に示す実施例のガラスは、いずれも泡密度ランクがＳ、ＡまたはＢであり、泡の発生が抑制されていることも確認された。
【0111】
［磁気記録媒体基板の作製］
（１）基板ブランクの作製
次に、下記方法ＡまたはＢにより、円盤状の基板ブランクを作製した。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを得ることができる。
（方法Ａ）
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを流出パイプから一定流量で流出するとともにプレス成形用の下型で受け、下型上に所定量の熔融ガラス塊が得られるよう流出した熔融ガラスを切断刃で切断した。そして熔融ガラス塊を載せた下型をパイプ下方から直ちに搬出し、下型と対向する上型および胴型を用いて、直径６６ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの薄肉円盤状にプレス成形した。プレス成形品を変形しない温度にまで冷却した後、型から取り出してアニールし、基板ブランクを得た。なお、上述の成形では複数の下型を用いて流出する熔融ガラスを次々に円盤状の基板ブランクに成形した。
（方法Ｂ）
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを円筒状の貫通孔が設けられた耐熱性鋳型の貫通孔に上部から連続的に鋳込み、円柱状に成形して貫通孔の下側から取り出した。取り出したガラスをアニールした後、マルチワイヤーソーを用いて円柱軸に垂直な方向に一定間隔でガラスをスライス加工し、円盤状の基板ブランクを作製した。
なお、本実施例では上述の方法Ａ、Ｂを採用したが、円盤状の基板ブランクの製造方法としては、下記方法Ｃ、Ｄも好適である。また、下記方法Ｃ、Ｄは、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクの製造方法としても好適である。
（方法Ｃ）
上述の実施例の熔融ガラスをフロートバス上に流し出し、シート状のガラスに成形（フロート法による成形）し、次いでアニールした後にシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
（方法Ｄ）
上述の実施例の熔融ガラスをオーバーフローダウンドロー法（フュージョン法）によりシート状のガラスに成形、アニールし、次いでシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
（１）基板ブランクの作製
次に、下記方法ＡまたはＢにより、円盤状の基板ブランクを作製した。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを得ることができる。
（方法Ａ）
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを流出パイプから一定流量で流出するとともにプレス成形用の下型で受け、下型上に所定量の熔融ガラス塊が得られるよう流出した熔融ガラスを切断刃で切断した。そして熔融ガラス塊を載せた下型をパイプ下方から直ちに搬出し、下型と対向する上型および胴型を用いて、直径６６ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの薄肉円盤状にプレス成形した。プレス成形品を変形しない温度にまで冷却した後、型から取り出してアニールし、基板ブランクを得た。なお、上述の成形では複数の下型を用いて流出する熔融ガラスを次々に円盤状の基板ブランクに成形した。
（方法Ｂ）
清澄、均質化した上述の実施例の熔融ガラスを円筒状の貫通孔が設けられた耐熱性鋳型の貫通孔に上部から連続的に鋳込み、円柱状に成形して貫通孔の下側から取り出した。取り出したガラスをアニールした後、マルチワイヤーソーを用いて円柱軸に垂直な方向に一定間隔でガラスをスライス加工し、円盤状の基板ブランクを作製した。
なお、本実施例では上述の方法Ａ、Ｂを採用したが、円盤状の基板ブランクの製造方法としては、下記方法Ｃ、Ｄも好適である。また、下記方法Ｃ、Ｄは、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクの製造方法としても好適である。
（方法Ｃ）
上述の実施例の熔融ガラスをフロートバス上に流し出し、シート状のガラスに成形（フロート法による成形）し、次いでアニールした後にシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
（方法Ｄ）
上述の実施例の熔融ガラスをオーバーフローダウンドロー法（フュージョン法）によりシート状のガラスに成形、アニールし、次いでシートガラスから円盤状のガラスをくり貫いて基板ブランクを得ることもできる。
【0112】
（２）ガラス基板の作製
上述の各方法で得られた基板ブランクの中心に貫通孔をあけて、外周、内周の研削加工を行い、円盤の主表面をラッピング、ポリッシング（鏡面研磨加工）して直径６５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの磁気ディスク用ガラス基板に仕上げた。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを、磁気記録再生装置用ガラススペーサに仕上げることができる。
上記で得られたガラス基板は、１．７質量％の珪弗酸（Ｈ2ＳｉＦ）水溶液、次いで、１質量％の水酸化カリウム水溶液を用いて洗浄し、次いで純水ですすいだ後に乾燥させた。実施例のガラスから作製した基板の表面を拡大観察したところ、表面荒れなどは認められず、平滑な表面であった。
上述の各方法で得られた基板ブランクの中心に貫通孔をあけて、外周、内周の研削加工を行い、円盤の主表面をラッピング、ポリッシング（鏡面研磨加工）して直径６５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの磁気ディスク用ガラス基板に仕上げた。また、同様の方法により、磁気記録再生装置用ガラススペーサ作製のためのガラスブランクを、磁気記録再生装置用ガラススペーサに仕上げることができる。
上記で得られたガラス基板は、１．７質量％の珪弗酸（Ｈ2ＳｉＦ）水溶液、次いで、１質量％の水酸化カリウム水溶液を用いて洗浄し、次いで純水ですすいだ後に乾燥させた。実施例のガラスから作製した基板の表面を拡大観察したところ、表面荒れなどは認められず、平滑な表面であった。
【0113】
［磁気記録媒体（磁気ディスク）の作製］
以下の方法により、実施例のガラスから得られたガラス基板の主表面上に、付着層、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に形成し、磁気ディスクを得た。
以下の方法により、実施例のガラスから得られたガラス基板の主表面上に、付着層、下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層をこの順に形成し、磁気ディスクを得た。
【0114】
まず、真空引きを行った成膜装置を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にて、Ａｒ雰囲気中で、付着層、下地層および磁気記録層を順次成膜した。
【0115】
このとき、付着層は、厚さ２０ｎｍのアモルファスＣｒＴｉ層となるように、ＣｒＴｉターゲットを用いて成膜した。続いて、下地層としてＭｇＯからなる１０ｎｍ厚の層を形成した。また、磁気記録層は、厚さ１０ｎｍのＦｅＰｔまたはＣｏＰｔのグラニュラー層となるように、ＦｅＰｔＣまたはＣｏＰｔＣターゲットを用いて成膜温度２００～４００℃にて成膜した。
【0116】
磁気記録層までの成膜を終えた磁気ディスクを成膜装置から加熱炉内に移しアニールした。アニール時の加熱炉内の温度は、５００～７００℃の範囲とした。このアニール処理によって、Ｌ10規則構造のＣｏＰｔ系合金やＦｅＰｔ系合金の磁性粒子が形成される。なお、上記に限らず、Ｌ10規則構造が生じるように加熱すればよい。
【0117】
続いて、エチレンを材料ガスとしたＣＶＤ法により水素化カーボンからなる保護層を３ｎｍ形成した。この後、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）を用いてなる潤滑層をディップコート法により形成した。潤滑層の膜厚は１ｎｍであった。
以上の製造工程により、磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクを、ＤＦＨ機構を備えたハードディスクドライブに搭載し、磁気ディスクの主表面上の記録用領域に、１平方インチあたり１０００ギガビットの記録密度で磁気信号を記録および再生したところ、磁気ヘッドと磁気ディスク表面が衝突する現象（クラッシュ障害）は確認されなかった。
以上の製造工程により、磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクを、ＤＦＨ機構を備えたハードディスクドライブに搭載し、磁気ディスクの主表面上の記録用領域に、１平方インチあたり１０００ギガビットの記録密度で磁気信号を記録および再生したところ、磁気ヘッドと磁気ディスク表面が衝突する現象（クラッシュ障害）は確認されなかった。
【0118】
また、実施例のガラスを用いて以上の製造工程により得られたガラススペーサの表面にＮｉＰ合金の導電性膜を形成したもの（ＮｉＰ合金膜付きガラススペーサ）を、ＤＦＨ機構を備えたハードディスクドライブに搭載し、本発明の一態様にかかるガラス（ガラスＡまたはガラスＢ）とは異なる材料の基板を用いて別途準備した磁気ディスクの主表面上の記録用領域に、１平方インチあたり１０００ギガビットの記録密度で磁気信号を記録および再生したところ、 磁気ヘッドと磁気ディスク表面が衝突する現象（クラッシュ障害）は確認されなかった。
【0119】
また、本発明の一態様にかかる同一のガラス材料を用いて、上記にて製造された磁気ディスクおよび上記にて製造されたＮｉＰ合金膜付きガラススペーサを、ＤＦＨ機構を備えたハードディスクドライブに搭載し、磁気ディスクの主表面上の記録用領域に、１平方インチあたり１０００ギガビットの記録密度で磁気信号を記録および再生したところ、磁気ヘッドと磁気ディスク表面が衝突する現象（クラッシュ障害）は確認されなかった。ここで、上記磁気ディスクに含まれるガラス基板および上記ガラススペーサは同一のガラス材料からなるので、上述の熱膨張係数の差に起因して生じ得る現象が起きないことは明白である。
【0120】
本発明の一態様によれば、高密度記録化に適する磁気記録媒体を提供することができる。
【0121】
最後に、前述の各態様を総括する。
【0122】
一態様によれば、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～７モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％
であり、比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス；および、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３であり、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス、
が提供される。
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～７モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％
であり、比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス；および、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３であり、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスである磁気記録媒体基板用ガラス、
が提供される。
【0123】
また、一態様によれば、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％であり、比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ；および、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～７モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３であり、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
が提供される。
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％であり、比重が２．７５ｇ／ｃｍ3以下、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ；および、
ＳｉＯ2含有量が５６～８０モル％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０モル％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～７モル％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が９～４０モル％、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１３であり、ガラス転移温度が６５０℃以上かつヤング率が９０ＧＰａ以上の非晶質の酸化物ガラスを含む磁気記録再生装置用ガラススペーサ、
が提供される。
【0124】
上記磁気記録媒体基板用ガラスは、耐熱性および剛性に優れる。上記磁気記録再生装置用ガラススペーサも同様である。
【0125】
一態様では、上記酸化物ガラスの１００～３００℃における平均線膨張係数は、４０×１０-7～７０×１０-7／℃の範囲であることができる。
【0126】
一態様では、上記酸化物ガラスのＣａＯ含有量は、０～１８モル％の範囲であることができる。
【0127】
一態様では、上記酸化物ガラスのＢａＯとＳｒＯの合計含有量は、０～２モル％の範囲であることができる。
【0128】
一態様では、上記酸化物ガラスのＬｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）は、２．５～１０モル％の範囲であることができる。
【0129】
一態様では、上記酸化物ガラスのＳｎＯ2とＣｅＯ2の合計含有量（ＳｎＯ2＋ＣｅＯ2）は、０．０５～２モル％の範囲であることができる。
【0130】
一態様では、上記酸化物ガラスのＣｅＯ2含有量に対するＳｎＯ2含有量のモル比（ＳｎＯ2／ＣｅＯ2）は、１以上であることができる。
【0131】
一態様では、上記酸化物ガラスは、モル％表示にて、ＳｉＯ2含有量が５６～６５％、
Ａｌ2Ｏ3含有量が５～２０％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４％、ＭｇＯ含有量が３～２８％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０％、ＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計含有量（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）が６５～８０％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が１１～３０％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が１２～３０％、ＭｇＯ含有量、０．７×ＣａＯ含有量、Ｌｉ2Ｏ含有量、ＴｉＯ2含有量およびＺｒＯ2含有量の和（ＭｇＯ＋０．７ＣａＯ＋Ｌｉ2Ｏ＋ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2）が１６％以上、５×Ｌｉ2Ｏ含有量、３×Ｎａ2Ｏ含有量、３×Ｋ2Ｏ含有量、２×Ｂ2Ｏ3含有量、ＭｇＯ含有量、２×ＣａＯ含有量、３×ＳｒＯ含有量およびＢａＯ含有量の和（５Ｌｉ2Ｏ＋３Ｎａ2Ｏ＋３Ｋ2Ｏ＋２Ｂ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋２ＣａＯ＋３ＳｒＯ＋ＢａＯ）が３２～５８％、ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、１．５×Ｎａ2Ｏ含有量、１．５×Ｋ2Ｏ含有量、２×ＳｒＯ含有量、３×ＢａＯ含有量およびＺｎＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋１．５Ｎａ2Ｏ＋１．５Ｋ2Ｏ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ＋ＺｎＯ）が８６％以下、ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、Ｎａ2Ｏ含有量、Ｋ2Ｏ含有量、ＣａＯ含有量、２×ＳｒＯ含有量および３×ＢａＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋ＣａＯ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ）が９２％以下、ＭｇＯ含有量に対するＣａＯ含有量のモル比（ＣａＯ／ＭｇＯ）が２．５以下、Ｌｉ2Ｏ含有量に対するＮａ2Ｏ含有量のモル比（Ｎａ2Ｏ／Ｌｉ2Ｏ）が５以下、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＬｉ2Ｏ含有量のモル比（Ｌｉ2Ｏ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））が０．０３～０．４、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量に対するＳｉＯ2含有量のモル比（ＳｉＯ2／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））が４～２２、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１０、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＴｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計含有量のモル比（（ＴｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））が０．３５～２、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＭｇＯとＣａＯの合計含有量のモル比（（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））が０．７～１、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＢａＯ含有量のモル比（ＢａＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））が０．１以下、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＰ2Ｏ5の合計含有量に対するＰ2Ｏ5含有量のモル比（Ｐ2Ｏ5／（Ｂ2Ｏ3＋ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5））が０．００５以下であることができる。
Ａｌ2Ｏ3含有量が５～２０％、Ｂ2Ｏ3含有量が０～４％、ＭｇＯ含有量が３～２８％、Ｌｉ2Ｏ含有量が１～１０％、ＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計含有量（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）が６５～８０％、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が１１～３０％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が１２～３０％、ＭｇＯ含有量、０．７×ＣａＯ含有量、Ｌｉ2Ｏ含有量、ＴｉＯ2含有量およびＺｒＯ2含有量の和（ＭｇＯ＋０．７ＣａＯ＋Ｌｉ2Ｏ＋ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2）が１６％以上、５×Ｌｉ2Ｏ含有量、３×Ｎａ2Ｏ含有量、３×Ｋ2Ｏ含有量、２×Ｂ2Ｏ3含有量、ＭｇＯ含有量、２×ＣａＯ含有量、３×ＳｒＯ含有量およびＢａＯ含有量の和（５Ｌｉ2Ｏ＋３Ｎａ2Ｏ＋３Ｋ2Ｏ＋２Ｂ2Ｏ3＋ＭｇＯ＋２ＣａＯ＋３ＳｒＯ＋ＢａＯ）が３２～５８％、ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、１．５×Ｎａ2Ｏ含有量、１．５×Ｋ2Ｏ含有量、２×ＳｒＯ含有量、３×ＢａＯ含有量およびＺｎＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋１．５Ｎａ2Ｏ＋１．５Ｋ2Ｏ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ＋ＺｎＯ）が８６％以下、ＳｉＯ2含有量、Ａｌ2Ｏ3含有量、Ｂ2Ｏ3含有量、Ｐ2Ｏ5含有量、Ｎａ2Ｏ含有量、Ｋ2Ｏ含有量、ＣａＯ含有量、２×ＳｒＯ含有量および３×ＢａＯ含有量の和（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋ＣａＯ＋２ＳｒＯ＋３ＢａＯ）が９２％以下、ＭｇＯ含有量に対するＣａＯ含有量のモル比（ＣａＯ／ＭｇＯ）が２．５以下、Ｌｉ2Ｏ含有量に対するＮａ2Ｏ含有量のモル比（Ｎａ2Ｏ／Ｌｉ2Ｏ）が５以下、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＬｉ2Ｏ含有量のモル比（Ｌｉ2Ｏ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））が０．０３～０．４、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量に対するＳｉＯ2含有量のモル比（ＳｉＯ2／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））が４～２２、Ａｌ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2とＺｒＯ2の合計含有量のモル比（（ＳｉＯ2＋ＺｒＯ2）／Ａｌ2Ｏ3）が２～１０、ＭｇＯとＣａＯの合計含有量に対するＴｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計含有量のモル比（（ＴｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ））が０．３５～２、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＭｇＯとＣａＯの合計含有量のモル比（（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））が０．７～１、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量に対するＢａＯ含有量のモル比（ＢａＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ））が０．１以下、Ｂ2Ｏ3、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3およびＰ2Ｏ5の合計含有量に対するＰ2Ｏ5含有量のモル比（Ｐ2Ｏ5／（Ｂ2Ｏ3＋ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｐ2Ｏ5））が０．００５以下であることができる。
【0132】
一態様によれば、上記磁気記録媒体基板用ガラスからなる磁気記録媒体基板が提供される。
【0133】
一態様では、上記磁気記録媒体基板は、表面および内部の組成が均質である。
【0134】
一態様によれば、上記磁気記録媒体基板上に磁気記録層を有する磁気記録媒体が提供される。
【0135】
一態様によれば、上記磁気記録媒体と、上記磁気記録再生装置用ガラススペーサと、の少なくとも一方を含む磁気記録再生装置が提供される。
【0136】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
例えば、上記に例示されたガラス組成に対し、明細書に記載の組成調整を行うことにより、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録再生装置用ガラススペーサを作製することができる。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の２つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。
例えば、上記に例示されたガラス組成に対し、明細書に記載の組成調整を行うことにより、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録再生装置用ガラススペーサを作製することができる。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の２つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。