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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-08-15
(45)【発行日】2023-08-23
(54)【発明の名称】反射防止膜
(51)【国際特許分類】
G02B 1/115 20150101AFI20230816BHJP
【ＦＩ】
G02B1/115
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2019121642
(22)【出願日】2019-06-28
(65)【公開番号】P2021009180
(43)【公開日】2021-01-28
【審査請求日】2022-03-04
(73)【特許権者】
【識別番号】000231475
【氏名又は名称】日本真空光学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100153497
【弁理士】
【氏名又は名称】藤本 信男
(74)【代理人】
【氏名又は名称】山田 益男
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 景之
【審査官】殿岡 雅仁
(56)【参考文献】
【文献】特開２００２－０１４２０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０２２１８７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０１４６３１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１４１３３９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０００－１１１７０２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００９－２３０１２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０００－３４７００２（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ １／１０ － １／１８
Ｃ２３Ｃ １４／００ － １４／５８
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学基板上に屈折率の異なる複数の層を積層して形成される反射防止膜であって、前記反射防止膜は、前記光学基板から最も離れた層である最外層と、前記最外層と前記光学基板の間に形成された複数の第１種中間層および複数の第２種中間層とを少なくとも含み、
前記各第１種中間層および前記各第２種中間層は、それぞれ少なくとも１つ以上の屈折率材料で形成され、
前記最外層に隣接する層は、前記第２種中間層であり、
前記反射防止膜は、前記第１種中間層と前記第２種中間層とが交互に積層され、且つ、前記各第１種中間層は、当該第１種中間層に隣接する前記第２種中間層より屈折率が低く形成されて、
前記第２種中間層に挟まれる前記第１種中間層のうち少なくとも１層は、使用する波長域における屈折率が１．７５以上２．７未満の屈折率に形成された特定中間層であり、
前記特定中間層を除く前記第１種中間層は、使用する波長域における屈折率が１．４以上１．７５未満であり、
前記光学基板に隣接する層は、Ｔａ ２ Ｏ ５ で構成されていることを特徴とする反射防止膜。
【請求項2】
前記特定中間層は、前記最外層に隣接する前記第２種中間層に隣接する層に少なくとも形成されていることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
【請求項3】
前記最外層の、使用する波長域における屈折率は、１．３以上１．４１以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止膜。
【請求項4】
前記第２種中間層の、使用する波長域における屈折率は、２．７以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項5】
前記光学基板の屈折率は、１．４以上２．３以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の反射防止膜。
【請求項6】
前記反射防止膜は、１４層で構成され、前記光学基板上に積層した際の前記光学基板側を第１層とすると、第１層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、
第２層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、
第３層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、
第４層の物理膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、
第５層の物理膜厚は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、
第６層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、
第７層の物理膜厚は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、
第８層の物理膜厚は、７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、
第９層の物理膜厚は、３ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、
第１０層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、
第１１層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、
第１２層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、
第１３層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、
第１４層の物理膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の反射防止膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は光学機器に搭載するレンズ、プリズム、フィルター、光ファイバー端面、天文観測、レーザー加工機、光学素子等の光学部材に適用される反射防止膜および反射防止膜を用いた光学部材、光学機器に関し、特に、人の目が色として感じ取れる波長領域に対応可能な反射防止膜および反射防止膜を用いた光学部材、光学機器に関する。
【背景技術】
【0002】
一般的に、静止画や動画を撮影するためのカメラ等の光学機器に広く用いられるレンズには、様々なものが提案され、特に、放送用のカメラ等に多く見られるように、数十枚のレンズを鏡筒に並べ取り付けたものも使用されている。
【0003】
また、反射防止膜は、レンズの表面に屈折率の異なる複数の薄膜層を積層して形成されており、入射光の波長ごとに対応する反射防止膜の薄膜層の境界によって入射光の反射を抑制することで、逆光や半逆光などでの撮影時に発生しやすいフレアやゴーストなどと言われる光学特性を劣化させる要因を抑制し、製品性能を向上させることができるものである。
また、入射光の反射率の抑制によって、特にレンズを多数並べて使用する場合に、入射光の減衰を抑えることもできるものである。
また、入射光の反射率の抑制によって、特にレンズを多数並べて使用する場合に、入射光の減衰を抑えることもできるものである。
【0004】
例えば、特許文献１には、Ｈｅ光源のｄ線（波長５８７．５６ｎｍ）における屈折率が１．４３以上２．０１以下の光学基材の表面上に、第１層～第１４層を光学基材側から順に積層してなる反射防止膜が公知である。
【0005】
この特許文献１に記載の反射防止膜は、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層および第１３層をｄ線における屈折率が２．２０１以上２．７以下の高屈折率材料により形成された高屈折率層とし、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層および第１２層をｄ線における屈折率が１．０５１以上１．７以下の中間屈折率材料により形成された中間屈折率層とし、第１４層をｄ線における屈折率が１．３７以上１．４４以下の低屈折率材料により形成された低屈折率層とすることにより、垂直に入射する光に対して波長３９０ｎｍから７２０ｎｍまでの波長帯３３０ｎｍにおける反射率を０．１％以下にできるものであり、製品性能の向上が可能となるものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【文献】特開２０１５－２２１８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ところが、特許文献１で公知の反射防止膜には、未だ改善の余地があった。
すなわち、特許文献１で公知の反射防止膜は、一般的な可視光波長領域の大半である３９０ｎｍから７２０ｎｍまでの範囲での反射率０．１％以下を達成しているが、実際に人が色として感じ取れる波長領域は、ＪＩＳ Ｚ ８１２０の定義によれば、短波長限界はおおよそ３６０ｎｍから４００ｎｍまで、長波長限界はおおよそ７６０ｎｍから８３０ｎｍまでであるため、３９０ｎｍ未満の可視光波長領域および７２０ｎｍよりも大きい可視光波長領域において、十分に入射光を透過できない虞があった。
すなわち、特許文献１で公知の反射防止膜は、一般的な可視光波長領域の大半である３９０ｎｍから７２０ｎｍまでの範囲での反射率０．１％以下を達成しているが、実際に人が色として感じ取れる波長領域は、ＪＩＳ Ｚ ８１２０の定義によれば、短波長限界はおおよそ３６０ｎｍから４００ｎｍまで、長波長限界はおおよそ７６０ｎｍから８３０ｎｍまでであるため、３９０ｎｍ未満の可視光波長領域および７２０ｎｍよりも大きい可視光波長領域において、十分に入射光を透過できない虞があった。
【0008】
本発明は上記課題を解決するものであり、簡単な構成で、３３０ｎｍより広い可視光波長領域の範囲において反射率が０．１％以下であり、フレアやゴーストなどと言われる光学特性を劣化させる要因を抑制可能な反射防止膜および反射防止膜を用いた光学部材、光学機器を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者は、鋭意検討の結果、例えば、反射防止膜を光学基板上に積層した際の光学基板側を第１層とした１４層で構成した場合、第１４層が最も屈折率が低く、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層および第１３層のそれぞれが、少なくとも隣り合う層よりも屈折率が高く、第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層および第１２層のうち、いずれか１つの層の使用する波長領域における屈折率を１．４以上とすることで、可視光波長領域内の波長帯が３３０ｎｍを越える広範囲においても、反射率を０．１％以下にできることを知見した。
【0010】
すなわち、本発明の反射防止膜は、光学基板上に屈折率の異なる複数の層を積層して形成される反射防止膜であって、前記反射防止膜は、前記光学基板から最も離れた層である最外層と、前記最外層と前記光学基板の間に形成された複数の第１種中間層および複数の第２種中間層とを少なくとも含み、前記各第１種中間層および前記各第２種中間層は、それぞれ少なくとも１つ以上の屈折率材料で形成され、前記最外層に隣接する層は、前記第２種中間層であり、前記反射防止膜は、前記第１種中間層と前記第２種中間層とが交互に積層され、且つ、前記各第１種中間層は、当該第１種中間層に隣接する前記第２種中間層より屈折率が低く形成されて、前記第２種中間層に挟まれる前記第１種中間層のうち少なくとも１層は、使用する波長域における屈折率が１．７５以上２．７未満の屈折率に形成された特定中間層であり、前記特定中間層を除く前記第１種中間層は、使用する波長域における屈折率が１．４以上１．７５未満であり、前記光学基板に隣接する層は、Ｔａ
２
Ｏ
５
で構成されていることにより、前記課題を解決するものである。
【発明の効果】
【0011】
請求項１に係る反射防止膜によれば、反射防止膜は、最外層と、最外層と光学基板の間に形成された複数の第１種中間層および複数の第２種中間層とを含み、最外層に隣接する層は第２種中間層であり、反射防止膜は、第１種中間層と第２種中間層とが交互に積層され、且つ、各第１種中間層は、当該第１種中間層に隣接する第２種中間層より屈折率が低く形成されて、第２種中間層に挟まれる第１種中間層のうち少なくとも１層が、使用する波長域における屈折率が１．７５以上２．７未満の屈折率に形成された特定中間層であり、特定中間層を除く第１種中間層は、使用する波長領域における屈折率が１．４以上１．７５未満であり、光学基板に隣接する層は、Ｔａ
２
Ｏ
５
で構成されているため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率を０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
また、最外層、第１種中間層、第２種中間層を、それぞれ安定して成形可能な膜厚に調整して形成することで、生産性の高さを維持しながら反射防止膜を光学基板上に形成することもできる。
また、最外層、第１種中間層、第２種中間層を、それぞれ安定して成形可能な膜厚に調整して形成することで、生産性の高さを維持しながら反射防止膜を光学基板上に形成することもできる。
【0012】
請求項２に記載の構成によれば、特定中間層は、最外層に隣接する第２種中間層に隣接する層に少なくとも形成されているため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率を安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
請求項３に記載の構成によれば、最外層の、使用する波長域における屈折率が、１．３以上１．４１以下であるため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率をより安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
請求項３に記載の構成によれば、最外層の、使用する波長域における屈折率が、１．３以上１．４１以下であるため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率をより安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
【0013】
請求項４に記載の構成によれば、第２種中間層の、使用する波長域における屈折率は、２．７以下であるため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率をより一層安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
【0014】
請求項６に記載の構成によれば、光学基板の屈折率は、１．４以上２．３以下であるため、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率をさらに一層安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
請求項７に記載の構成によれば、反射防止膜は、１４層で構成され、光学基板上に積層した際の光学基板側を第１層とすると、第１層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第２層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、第３層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第４層の物理膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、第５層の物理膜厚は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、第６層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、第７層の物理膜厚は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、第８層の物理膜厚は、７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、第９層の物理膜厚は、３ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１０層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、第１１層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、第１２層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１３層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第１４層の物理膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるため、反射防止膜の各層の膜厚を、安定的に成形可能な厚さに確実に維持しながら、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率を安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
請求項７に記載の構成によれば、反射防止膜は、１４層で構成され、光学基板上に積層した際の光学基板側を第１層とすると、第１層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第２層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、第３層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第４層の物理膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、第５層の物理膜厚は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、第６層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、第７層の物理膜厚は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、第８層の物理膜厚は、７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、第９層の物理膜厚は、３ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１０層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、第１１層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、第１２層の物理膜厚は、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１３層の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第１４層の物理膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるため、反射防止膜の各層の膜厚を、安定的に成形可能な厚さに確実に維持しながら、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い範囲で反射率を安定的に０．１％以下にでき、十分に入射光を透過できる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明の一実施形態（実施形態１）に係る反射防止膜１００の模式図。
【図2】本発明の一実施形態（実施形態１）に係る反射防止膜１００の構成を示す表。
【図3】本発明の一実施形態（実施形態１）に係る反射防止膜１００の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図4】本発明の他の実施形態（実施形態２）に係る反射防止膜１３０の構成を示す表。
【図5】本発明の他の実施形態（実施形態２）に係る反射防止膜１３０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図6】本発明の他の実施形態（実施形態３）に係る反射防止膜１６０の構成を示す表。
【図7】本発明の他の実施形態（実施形態３）に係る反射防止膜１６０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図8】本発明の参考例（参考形態１）に係る反射防止膜２００の構成を示す表。
【図9】本発明の参考例（参考形態１）に係る反射防止膜２００の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図10】本発明の他の実施形態（実施形態５）に係る反射防止膜２３０の構成を示す表。
【図11】本発明の他の実施形態（実施形態５）に係る反射防止膜２３０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図12】本発明の他の実施形態（実施形態６）に係る反射防止膜２６０の構成を示す表。
【図13】本発明の他の実施形態（実施形態６）に係る反射防止膜２６０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図14】本発明の参考例（参考形態２）に係る反射防止膜３００の構成を示す表。
【図15】本発明の参考例（参考形態２）に係る反射防止膜３００の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図16】本発明の他の実施形態（実施形態８）に係る反射防止膜３３０の構成を示す表。
【図17】本発明の他の実施形態（実施形態８）に係る反射防止膜３３０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図18】本発明の他の実施形態（実施形態９）に係る反射防止膜３６０の構成を示す表。
【図19】本発明の他の実施形態（実施形態９）に係る反射防止膜３６０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図20】本発明の他の実施形態（実施形態１０）に係る反射防止膜４００の構成を示す表。
【図21】本発明の他の実施形態（実施形態１０）に係る反射防止膜４００の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図22】本発明の他の実施形態（実施形態１１）に係る反射防止膜４３０の構成を示す表。
【図23】本発明の他の実施形態（実施形態１１）に係る反射防止膜４３０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図24】本発明の他の実施形態（実施形態１２）に係る反射防止膜４６０の構成を示す表。
【図25】本発明の他の実施形態（実施形態１２）に係る反射防止膜４６０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図26】本発明の他の実施形態（実施形態１３）に係る反射防止膜５００の構成を示す表。
【図27】本発明の他の実施形態（実施形態１３）に係る反射防止膜５００の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【図28】本発明の他の実施形態（実施形態１４）に係る反射防止膜５３０の構成を示す表。
【図29】本発明の他の実施形態（実施形態１４）に係る反射防止膜５３０の各可視光波長領域の入射光に対する反射率を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下に本発明の一実施形態に係る反射防止膜１００について、図面に基づいて説明する。
【0017】
反射防止膜１００は、図１に示すように、光学基板Ｌ上に異なる屈折率の層が、第１層１０１、第２層１０２、第３層１０３、第４層１０４、第５層１０５、第６層１０６、第７層１０７、第８層１０８、第９層１０９、第１０層１１０、第１１層１１１、第１２層１１２、第１３層１１３、第１４層１１４の合計１４層積層されて形成されるものであり、各層は、最外層、第１種中間層、第２種中間層に大別される。
最外層は、第１４層１１４であり、反射防止膜１００内で屈折率が最も低く形成されている。
最外層は、第１４層１１４であり、反射防止膜１００内で屈折率が最も低く形成されている。
【0018】
第１種中間層は、第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０、第１２層１１２であり、最外層よりも屈折率が高く形成されている。
第２種中間層は、第１層１０１、第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３であり、第１種中間層の屈折率以上の屈折率に形成されている。
第２種中間層は、第１層１０１、第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３であり、第１種中間層の屈折率以上の屈折率に形成されている。
【0019】
また、第１種中間層のうち、少なくとも１層は、使用する波長域における屈折率が１．４１以上の屈折率に形成された特定中間層である。
また、第１種中間層と第２種中間層とは、隣接する層の屈折率の高低が交互に切り替わるように積層されている。
これによって、反射防止膜１００を通る入射光の反射率を十分に低減することができる。
また、フレアやゴーストなどと言われる光学特性を劣化させる要因の抑制もできる。
また、第１種中間層と第２種中間層とは、隣接する層の屈折率の高低が交互に切り替わるように積層されている。
これによって、反射防止膜１００を通る入射光の反射率を十分に低減することができる。
また、フレアやゴーストなどと言われる光学特性を劣化させる要因の抑制もできる。
【0020】
なお、最外層の屈折率の好適な範囲は、１．３以上１．４１以下であり、特定中間層を除く第１種中間層の屈折率の好適な範囲は、１．４以上１．７５未満であり、第２種中間層の屈折率の好適な範囲は、１．７５以上２．７以下である。
また、反射防止膜１００を形成する各層の物理膜厚の好適な範囲は、第１層１０１の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第２層１０２の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、第３層１０３の物理膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第４層１０４の物理膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、第５層１０５の物理膜厚は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、第６層１０６の物理膜厚は、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、第７層１０７の物理膜厚は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、第８層１０８の物理膜厚は、７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、第９層１０９の物理膜厚は、３ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１０層１１０の物理膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、第１１層１１１の物理膜厚は、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、第１２層１１２の物理膜厚は、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１３層１１３の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第１４層１１４の物理膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
また、反射防止膜１００を形成する各層の物理膜厚の好適な範囲は、第１層１０１の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第２層１０２の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、第３層１０３の物理膜厚は、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第４層１０４の物理膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、第５層１０５の物理膜厚は、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下であり、第６層１０６の物理膜厚は、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であり、第７層１０７の物理膜厚は、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、第８層１０８の物理膜厚は、７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、第９層１０９の物理膜厚は、３ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１０層１１０の物理膜厚は、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、第１１層１１１の物理膜厚は、２０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、第１２層１１２の物理膜厚は、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、第１３層１１３の物理膜厚は、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、第１４層１１４の物理膜厚は、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
【0021】
反射防止膜１００の各層の屈折率や物理膜厚をこのように規定することによって、成形性を維持しながら、入射光の反射率を十分に低減できる反射防止膜を提供できる。
なお、反射防止膜の各層の加工方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法でもよく、各種スパッタ蒸着や、イオンアシスト法、イオンプレーティング法による加工でもよい。
なお、反射防止膜の各層の加工方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法でもよく、各種スパッタ蒸着や、イオンアシスト法、イオンプレーティング法による加工でもよい。
【0022】
次に、実施形態１として、本発明の一実施形態に係る反射防止膜１００に関するシミュレーション条件および結果について、図１乃至図３に基づいて説明する。
反射防止膜１００は、図１および図２に示すように、Ｓ－ＬＡＨ５５（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２に示す通りである。
なお、各層および光学基板Ｌの屈折率は、代表的な波長の光源に対してのものを示しており、ＭｇＦ２は、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２は波長５４０ｎｍの光源に対する屈折率を、Ｓ－ＬＡＨ５５は波長５４６ｎｍの光源に対する屈折率を示す。
反射防止膜１００は、図１および図２に示すように、Ｓ－ＬＡＨ５５（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２に示す通りである。
なお、各層および光学基板Ｌの屈折率は、代表的な波長の光源に対してのものを示しており、ＭｇＦ２は、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２は波長５４０ｎｍの光源に対する屈折率を、Ｓ－ＬＡＨ５５は波長５４６ｎｍの光源に対する屈折率を示す。
【0023】
上記のように構成された実施形態１の反射防止膜１００の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図３に示す。
なお、本シミュレーションでは、実際の反射防止膜成形時に発生する誤差を考慮して、シミュレーション上で求めた結果の反射率が０．１１未満の箇所を、反射率０．１以下であるものとする。
また、反射防止膜１００の表面に対して入射光は垂直に入射するものとし、反射防止膜１００および光学基板Ｌの周囲の雰囲気気体は空気とする。
実施形態１の反射防止膜１００は、図３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９０６）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５５）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６１ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１の反射防止膜１００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
なお、本シミュレーションでは、実際の反射防止膜成形時に発生する誤差を考慮して、シミュレーション上で求めた結果の反射率が０．１１未満の箇所を、反射率０．１以下であるものとする。
また、反射防止膜１００の表面に対して入射光は垂直に入射するものとし、反射防止膜１００および光学基板Ｌの周囲の雰囲気気体は空気とする。
実施形態１の反射防止膜１００は、図３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９０６）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５５）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６１ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１の反射防止膜１００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0024】
以下、実施形態１と共通する内容については、一部説明を省略する。
【0025】
次に、実施形態２として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜１３０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図４、図５に基づいて説明する。
反射防止膜１３０は、図１および図４に示すように、Ｓ－ＴＩＨ５３（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図４に示す通りである。
なお、Ｓ－ＴＩＨ５３の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜１３０は、図１および図４に示すように、Ｓ－ＴＩＨ５３（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図４に示す通りである。
なお、Ｓ－ＴＩＨ５３の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0026】
上記のように構成された実施形態２の反射防止膜１３０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図５に示す。
実施形態２の反射防止膜１３０は、図５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９１３）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５６）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６１ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態２の反射防止膜１３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態２の反射防止膜１３０は、図５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９１３）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５６）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６１ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態２の反射防止膜１３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0027】
次に、実施形態３として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜１６０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図６、図７に基づいて説明する。
反射防止膜１６０は、図１および図６に示すように、Ｓ－ＮＰＨ２（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図６に示す通りである。
なお、Ｓ－ＮＰＨ２の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜１６０は、図１および図６に示すように、Ｓ－ＮＰＨ２（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２と第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図６に示す通りである。
なお、Ｓ－ＮＰＨ２の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0028】
上記のように構成された実施形態３の反射防止膜１６０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図７に示す。
実施形態３の反射防止膜１６０は、図７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．１０６９）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５８）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態３の反射防止膜１６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態３の反射防止膜１６０は、図７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．１０６９）、反射率０．１以下となる最大波長が７７０ｎｍ（反射率０．１０５８）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態３の反射防止膜１６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0029】
次に、参考形態１として、本発明の参考例の反射防止膜２００に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図８、図９に基づいて説明する。
反射防止膜２００は、図１および図８に示すように、Ｓ－ＬＡＨ７９（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２はＴａ２Ｏ５、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図８に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＨ７９の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜２００は、図１および図８に示すように、Ｓ－ＬＡＨ７９（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２はＴａ２Ｏ５、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図８に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＨ７９の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0030】
上記のように構成された参考形態１の反射防止膜２００の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図９に示す。
参考形態１の反射防止膜２００は、図９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．０８６０）、反射率０．１以下となる最大波長が７６６ｎｍ（反射率０．１０５５）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３５８ｎｍの広範囲となる。
すなわち、参考形態１の反射防止膜２００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
参考形態１の反射防止膜２００は、図９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．０８６０）、反射率０．１以下となる最大波長が７６６ｎｍ（反射率０．１０５５）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３５８ｎｍの広範囲となる。
すなわち、参考形態１の反射防止膜２００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0031】
次に、実施形態５として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜２３０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図１０、図１１に基づいて説明する。
反射防止膜２３０は、図１および図１０に示すように、Ｓ－ＬＡＬ７（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１０に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＬ７の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜２３０は、図１および図１０に示すように、Ｓ－ＬＡＬ７（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１０に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＬ７の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0032】
上記のように構成された実施形態５の反射防止膜２３０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図１１に示す。
実施形態５の反射防止膜２３０は、図１１に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９８９）、反射率０．１以下となる最大波長が７７２ｎｍ（反射率０．１０５２）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６３ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態５の反射防止膜２３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態５の反射防止膜２３０は、図１１に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９８９）、反射率０．１以下となる最大波長が７７２ｎｍ（反射率０．１０５２）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６３ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態５の反射防止膜２３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0033】
次に、実施形態６として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜２６０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図１２、図１３に基づいて説明する。
反射防止膜２６０は、図１および図１２に示すように、Ｓ－ＬＡＬ１０（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１２に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＬ１０の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜２６０は、図１および図１２に示すように、Ｓ－ＬＡＬ１０（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１２に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＬ１０の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0034】
上記のように構成された実施形態６の反射防止膜２６０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図１３に示す。
実施形態６の反射防止膜２６０は、図１３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．１０００）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０４４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態６の反射防止膜２６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態６の反射防止膜２６０は、図１３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．１０００）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０４４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態６の反射防止膜２６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0035】
次に、参考形態２として、本発明の参考例の反射防止膜３００に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図１４、図１５に基づいて説明する。
反射防止膜３００は、図１および図１４に示すように、Ｋ－ＧＩＲ１４０（株式会社住田光学ガラス製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第５層１０５はＴａ２Ｏ５、第５層１０５以外の第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１４に示す通りである。
なお、Ｋ－ＧＩＲ１４０の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜３００は、図１および図１４に示すように、Ｋ－ＧＩＲ１４０（株式会社住田光学ガラス製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第５層１０５はＴａ２Ｏ５、第５層１０５以外の第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１４に示す通りである。
なお、Ｋ－ＧＩＲ１４０の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0036】
上記のように構成された参考形態２の反射防止膜３００の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図１５に示す。
参考形態２の反射防止膜３００は、図１５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８９７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０５４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態７の反射防止膜３００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
参考形態２の反射防止膜３００は、図１５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８９７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０５４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態７の反射防止膜３００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0037】
次に、実施形態８として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜３３０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図１６、図１７に基づいて説明する。
反射防止膜３００は、図１および図１６に示すように、Ｓ－ＬＡＨ６６（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１６に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＨ６６の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜３００は、図１および図１６に示すように、Ｓ－ＬＡＨ６６（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１６に示す通りである。
なお、Ｓ－ＬＡＨ６６の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0038】
上記のように構成された実施形態８の反射防止膜３３０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図１７に示す。
実施形態８の反射防止膜３３０は、図１７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９６７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０８１）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態８の反射防止膜３３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態８の反射防止膜３３０は、図１７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９６７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０８１）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６２ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態８の反射防止膜３３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0039】
次に、実施形態９として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜３６０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図１８、図１９に基づいて説明する。
反射防止膜３６０は、図１および図１８に示すように、合成石英で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１８に示す通りである。
なお、合成石英の屈折率は、波長５４０ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜３６０は、図１および図１８に示すように、合成石英で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図１８に示す通りである。
なお、合成石英の屈折率は、波長５４０ｎｍの光源に対するものを示す。
【0040】
上記のように構成された実施形態９の反射防止膜３６０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図１９に示す。
実施形態９の反射防止膜３６０は、図１９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．０９６６）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０４６）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６３ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態９の反射防止膜３６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態９の反射防止膜３６０は、図１９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０８ｎｍ（反射率０．０９６６）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０４６）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６３ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態９の反射防止膜３６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0041】
次に、実施形態１０として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜４００に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図２０、図２１に基づいて説明する。
反射防止膜４００は、図１および図２０に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１および第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２０に示す通りである。
なお、ＢＫ７の屈折率は、波長５４０ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜４００は、図１および図２０に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１および第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２０に示す通りである。
なお、ＢＫ７の屈折率は、波長５４０ｎｍの光源に対するものを示す。
【0042】
上記のように構成された実施形態１０の反射防止膜４００の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図２１に示す。
実施形態１０の反射防止膜４００は、図２１に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０５ｎｍ（反射率０．１０４３）、反射率０．１以下となる最大波長が７７２ｎｍ（反射率０．１０７１）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６７ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１０の反射防止膜４００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態１０の反射防止膜４００は、図２１に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０５ｎｍ（反射率０．１０４３）、反射率０．１以下となる最大波長が７７２ｎｍ（反射率０．１０７１）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６７ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１０の反射防止膜４００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0043】
次に、実施形態１１として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜４３０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図２２、図２３に基づいて説明する。
反射防止膜４３０は、図１および図２２に示すように、Ｓ－ＢＡＬ４２（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１および第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２２に示す通りである。
なお、Ｓ－ＢＡＬ４２の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜４３０は、図１および図２２に示すように、Ｓ－ＢＡＬ４２（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１および第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２２に示す通りである。
なお、Ｓ－ＢＡＬ４２の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0044】
上記のように構成された実施形態１１の反射防止膜４３０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図２３に示す。
実施形態１１の反射防止膜４３０は、図２３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８９７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０５４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１１の反射防止膜４３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態１１の反射防止膜４３０は、図２３に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８９７）、反射率０．１以下となる最大波長が７７１ｎｍ（反射率０．１０５４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１１の反射防止膜４３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0045】
次に、実施形態１２として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜４６０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図２４、図２５に基づいて説明する。
反射防止膜４６０は、図１および図２４に示すように、Ｓ－ＢＳＭ１６（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２４に示す通りである。
なお、Ｓ－ＢＳＭ１６の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
反射防止膜４６０は、図１および図２４に示すように、Ｓ－ＢＳＭ１６（株式会社オハラ製）で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２および第２種中間層である第１層１０１はＴａ２Ｏ５、第１層１０１以外の第２種中間層である第３層１０３、第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２４に示す通りである。
なお、Ｓ－ＢＳＭ１６の屈折率は、波長５４６ｎｍの光源に対するものを示す。
【0046】
上記のように構成された実施形態１２の反射防止膜４６０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図２５に示す。
実施形態１２の反射防止膜４６０は、図２５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９６１）、反射率０．１以下となる最大波長が７７３ｎｍ（反射率０．１０９４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１２の反射防止膜４６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態１２の反射防止膜４６０は、図２５に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０９ｎｍ（反射率０．０９６１）、反射率０．１以下となる最大波長が７７３ｎｍ（反射率０．１０９４）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１２の反射防止膜４６０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0047】
次に、実施形態１３として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜５００に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図２６、図２７に基づいて説明する。
反射防止膜５００は、図１および図２６に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、特定中間層を含む第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０、第１２層１１２はＳｉＯ２、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１、第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２６に示す通りである。
反射防止膜５００は、図１および図２６に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、特定中間層を含む第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０、第１２層１１２はＳｉＯ２、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１、第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２６に示す通りである。
【0048】
上記のように構成された実施形態１３の反射防止膜５００の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図２７に示す。
実施形態１３の反射防止膜５００は、図２７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８８４）、反射率０．１以下となる最大波長が７６７ｎｍ（反射率０．１０４２）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１３の反射防止膜５００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態１３の反射防止膜５００は、図２７に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０８８４）、反射率０．１以下となる最大波長が７６７ｎｍ（反射率０．１０４２）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６４ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１３の反射防止膜５００は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0049】
次に、実施形態１４として、本発明の他の実施形態に係る反射防止膜５３０に関するシミュレーション条件および結果について、図１、図２８、図２９に基づいて説明する。
反射防止膜５３０は、図１および図２８に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２はＡＬ２Ｏ３、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１、第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２８に示す通りである。
なお、ＡＬ２Ｏ３の屈折率は、波長５４０ｎｍのものを示す。
反射防止膜５３０は、図１および図２８に示すように、ＢＫ７で形成された光学基板Ｌ上に１４層積層され、各層は、第１種中間層である第２層１０２、第４層１０４、第６層１０６、第８層１０８、第１０層１１０はＳｉＯ２、特定中間層である第１２層１１２はＡＬ２Ｏ３、第２種中間層である第１層１０１、第３層１０３はＴａ２Ｏ５、第１層１０１、第３層１０３以外の第２種中間層である第５層１０５、第７層１０７、第９層１０９、第１１層１１１、第１３層１１３はＴｉＯ２、最外層である第１４層１１４はＭｇＦ２で形成されている。
各層の屈折率および物理膜厚は、図２８に示す通りである。
なお、ＡＬ２Ｏ３の屈折率は、波長５４０ｎｍのものを示す。
【0050】
上記のように構成された実施形態１４の反射防止膜５３０の表面に入射光を照射した際の、各波長における反射率をシミュレーション上で求めた結果を図２９に示す。
実施形態１４の反射防止膜５３０は、図２９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０９１６）、反射率０．１以下となる最大波長が７６７ｎｍ（反射率０．１０４８）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６０ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１４の反射防止膜５３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
実施形態１４の反射防止膜５３０は、図２９に示すように、反射率０．１以下となる最低波長が４０７ｎｍ（反射率０．０９１６）、反射率０．１以下となる最大波長が７６７ｎｍ（反射率０．１０４８）であることから、可視光波長領域における反射率０．１以下の範囲が、３６０ｎｍの広範囲となる。
すなわち、実施形態１４の反射防止膜５３０は、可視光波長領域において、広い範囲で十分に入射光を透過できる。
【0051】
以上のシミュレーション結果より、本発明の反射防止膜は、可視光波長領域において、３３０ｎｍよりも広い連続する波長範囲で反射率０．１％以下を達成できた。
【0052】
以上、本発明の実施形態を詳述したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明を逸脱することなく種々の設計変更を行うことが可能である。
【0053】
なお、上述した実施形態では、光学基板はＳ－ＬＡＨ５５、Ｓ－ＴＩＨ５３、Ｓ－ＮＰＨ２、Ｓ－ＬＡＨ７９、Ｓ－ＬＡＬ７、Ｓ－ＬＡＬ１０、Ｋ－ＧＩＲ１４０、Ｓ－ＬＡＨ６６、合成石英、ＢＫ７、Ｓ－ＢＡＬ４２、Ｓ－ＢＳＭ１６、第１種中間層はＳｉＯ２、特定中間層はＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、第２種中間層はＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、最外層はＭｇＦ２で形成されているものとして説明したが、光学基板や反射防止膜の各層を形成する屈折率材料はこれに限定されず、各層ごとに求められる屈折率を有するものであれば、単体の屈折率材料によって形成された層であってもよく、複数の屈折率材料によって形成された層であってもよい。
また、上述した実施形態では、反射防止膜は１４層で構成されているものとして説明したが、反射防止膜の層構成はこれに限定されず、例えば、１３層以下で構成されていてもよく、１５層以上で構成されていてもよい。
また、上述した実施形態では、反射防止膜は１４層で構成されているものとして説明したが、反射防止膜の層構成はこれに限定されず、例えば、１３層以下で構成されていてもよく、１５層以上で構成されていてもよい。
【符号の説明】
【0054】
１００ ・・・ 反射防止膜
１０１ ・・・ 第１層
１０２ ・・・ 第２層
１０３ ・・・ 第３層
１０４ ・・・ 第４層
１０５ ・・・ 第５層
１０６ ・・・ 第６層
１０７ ・・・ 第７層
１０８ ・・・ 第８層
１０９ ・・・ 第９層
１１０ ・・・ 第１０層
１１１ ・・・ 第１１層
１１２ ・・・ 第１２層
１１３ ・・・ 第１３層
１１４ ・・・ 第１４層（最外層）
Ｌ ・・・ 光学基板
１０１ ・・・ 第１層
１０２ ・・・ 第２層
１０３ ・・・ 第３層
１０４ ・・・ 第４層
１０５ ・・・ 第５層
１０６ ・・・ 第６層
１０７ ・・・ 第７層
１０８ ・・・ 第８層
１０９ ・・・ 第９層
１１０ ・・・ 第１０層
１１１ ・・・ 第１１層
１１２ ・・・ 第１２層
１１３ ・・・ 第１３層
１１４ ・・・ 第１４層（最外層）
Ｌ ・・・ 光学基板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】