特許 7335797 現像装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-08-22

(45)【発行日】2023-08-30

(54)【発明の名称】現像装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20230823BHJP

   G03F 7/30 20060101ALI20230823BHJP

   B05C 11/08 20060101ALI20230823BHJP

   B05B 7/04 20060101ALI20230823BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 569C

H01L21/30 569E

G03F7/30 501

B05C11/08

B05B7/04

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2019217238

(22)【出願日】2019-11-29

(65)【公開番号】P2021086994

(43)【公開日】2021-06-03

【審査請求日】2022-06-17

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100108523

【弁理士】

【氏名又は名称】中川 雅博

(74)【代理人】

【識別番号】100098305

【弁理士】

【氏名又は名称】福島 祥人

(74)【代理人】

【識別番号】100125704

【弁理士】

【氏名又は名称】坂根 剛

(74)【代理人】

【識別番号】100187931

【弁理士】

【氏名又は名称】澤村 英幸

(72)【発明者】

【氏名】西山 耕二

【審査官】植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】特開平０７－３２６５５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－１０６９３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－２３２０５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１６３１４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－０２７１８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－０１０４３３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｂ０５Ｃ １１／０８

Ｇ０３Ｆ ７／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、
水平方向に延び前記基板保持部の上方に位置するノズルアームと、
前記ノズルアームに取り付けられて前記基板保持部の上方に設けられかつ前記基板保持部により保持された基板に現像液を供給する複数のノズルと、
円環形状の水平断面を有し、上下方向に延びるように形成され、前記ノズルアームを嵌め込み可能な切り欠き部を有し、当該切り欠き部に前記ノズルアームが嵌め込まれた状態で平面視で前記複数のノズルを取り囲みかつ側面視で前記複数のノズルの少なくとも一部と重なるように構成されたノズルカバーと、
前記ノズルカバーの下方の位置で前記ノズルカバーから離間するように設けられ、前記基板保持部の少なくとも下部を収容する収容器と、
平面視で前記基板保持部を取り囲むように構成されるとともに、側面視で前記収容器に重なりかつ前記ノズルカバーから離間する第１の状態と側面視で前記ノズルカバーの下端および前記収容器の上端に重なる第２の状態とに移行するように上下方向に昇降可能に構成されかつ円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるカップと、
前記第１の状態と前記第２の状態とに移行するように、前記カップを上下動させる昇降駆動部と、
上部開口を有し、前記基板保持部、前記複数のノズル、前記ノズルカバー、前記収容器、前記カップを収容する筐体と、
前記筐体の前記上部開口に配置されかつ空気ガイドに供給された空気をフィルタを通して前記上部開口に導いて、前記筐体内に下降気流を形成する気流形成部とを備え、
前記収容器は、前記筐体内の雰囲気を前記筐体の外部に排出する排気部を有し、
前記カップが前記第２の状態にあるときに、前記ノズルカバー、前記カップおよび前記収容器により取り囲まれる処理空間が形成されるとともに、前記筐体内でかつ前記ノズルカバー、前記カップおよび前記収容器の外部に前記処理空間よりも高い圧力を有する非処理空間が形成される、現像装置。

【請求項2】

前記筐体および前記排気部は、前記カップが前記第２の状態にあるときに前記非処理空間の圧力が前記処理空間の圧力よりも高くなるように構成された、請求項１記載の現像装置。

【請求項3】

前記筐体は、前記カップが前記第２の状態にあるときに前記非処理空間を前記筐体の外部から閉塞する閉塞部を有する、請求項１または２記載の現像装置。

【請求項4】

前記カップが前記第２の状態にあるときに、前記カップと前記収容器との間には、前記処理空間と前記非処理空間とを連通させる隙間が形成され、
前記現像装置は、
前記隙間を閉塞するシールをさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の現像装置。

【請求項5】

前記複数のノズルの各々は、気体と前記現像液の液滴とを含む混合流体を噴射する二流体ノズルである、請求項１～４のいずれか一項に記載の現像装置。

【請求項6】

前記複数のノズルから基板に供給される現像液は、露光されたネガ型の感光性ポリイミドを溶解する現像液である、請求項１～５のいずれか一項に記載の現像装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板の現像処理を行う現像装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来より、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板上に形成された感光性膜の現像処理を行うために、現像装置が用いられる。

【0003】

例えば、現像装置は、基板を水平姿勢で保持しつつ回転させるスピンチャックと、基板上に現像液を供給するノズルと、スピンチャックにより保持される基板を取り囲むように設けられるカップとを備える。現像処理時には、スピンチャックにより回転する基板上にノズルから現像液が供給される。現像処理時に基板上に供給される現像液は、基板の周囲に飛散する。基板の周囲に飛散する現像液の大部分はカップにより受け止められ、回収される。

【0004】

カップの上端は開口している。そのため、現像処理時に基板から飛散する現像液の一部は、カップの上端開口からカップの外部に飛散し、カップおよびその周辺部材に付着する可能性がある。カップおよびその周辺部材に付着する現像液は、現像装置内にパーティクルを発生させる要因となる。

【0005】

現像装置内でのパーティクルの発生を抑制するために、特許文献１に記載された現像装置は、カップの上端開口を閉塞する蓋体を備える。蓋体には、複数の現像液供給ノズルを挿入可能なスリットが形成されている。その現像装置においては、現像処理時に、基板がスピンチャックにより保持された状態でカップの上端開口が蓋体により閉塞される。また、蓋体のスリットに複数の現像液供給ノズルが挿入され、スピンチャックにより回転される基板に現像液が供給される。それにより、複数の現像液供給ノズルから基板への現像液の供給が蓋体およびカップにより閉塞された空間内で行われるので、現像処理時にカップの上方に現像液が飛散することが抑制される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開２００２－２４６２９２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１に記載された現像装置においては、基板に現像液が供給される際に、基板の上方に蓋体が存在する。この場合、蓋体およびカップの内側の空間に下降気流を発生させることはできない。そのため、現像液の種類によっては、基板から飛散する現像液が蓋体の下面に付着する。蓋体に付着した現像液の液滴が基板上に落下すると、基板の現像不良が発生する可能性がある。

【0008】

また、特許文献１に記載された現像装置においては、カップに排気管が設けられている。現像処理時に蓋体により閉塞されたカップ内の雰囲気は、排気管を通して現像装置の外部に排出される。しかしながら、蓋体により閉塞されたカップ内の雰囲気を円滑に排気することは難しく、実際にはカップ内に現像液のミストが残留しやすい。カップ内に現像液のミストが残留した状態で蓋体が開かれると、カップ内に残留した現像液のミストがカップの外部に漏れ出る可能性がある。したがって、強い臭気を有する現像液が用いられる場合には、現像装置周辺の作業環境の快適性が低下する。

【0009】

本発明の目的は、基板の現像不良の発生を抑制しつつ現像装置周辺の作業環境の快適性の低下を抑制可能な現像装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0010】

（１）本発明に係る現像装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、水平方向に延び基板保持部の上方に位置するノズルアームと、ノズルアームに取り付けられて基板保持部の上方に設けられかつ基板保持部により保持された基板に現像液を供給する複数のノズルと、円環形状の水平断面を有し、上下方向に延びるように形成され、ノズルアームを嵌め込み可能な切り欠き部を有し、当該切り欠き部にノズルアームが嵌め込まれた状態で平面視で複数のノズルを取り囲みかつ側面視で複数のノズルの少なくとも一部と重なるように構成されたノズルカバーと、ノズルカバーの下方の位置でノズルカバーから離間するように設けられ、基板保持部の少なくとも下部を収容する収容器と、平面視で基板保持部を取り囲むように構成されるとともに、側面視で収容器に重なりかつノズルカバーから離間する第１の状態と側面視でノズルカバーの下端および収容器の上端に重なる第２の状態とに移行するように上下方向に昇降可能に構成されかつ円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるカップと、第１の状態と第２の状態とに移行するように、カップを上下動させる昇降駆動部と、上部開口を有し、基板保持部、複数のノズル、ノズルカバー、収容器、カップを収容する筐体と、筐体の上部開口に配置されかつ空気ガイドに供給された空気をフィルタを通して上部開口に導いて、筐体内に下降気流を形成する気流形成部とを備え、収容器は、筐体内の雰囲気を筐体の外部に排出する排気部を有し、カップが第２の状態にあるときに、ノズルカバー、カップおよび収容器により取り囲まれる処理空間が形成されるとともに、筐体内でかつノズルカバー、カップおよび収容器の外部に処理空間よりも高い圧力を有する非処理空間が形成される。

【0011】

その現像装置においては、カップが第１の状態にあるときに基板保持部および収容器の側方から基板保持部に対するアクセスが可能になる。それにより、基板の現像処理前には、カップが第１の状態で維持され、筐体内に搬入される基板が基板保持部に渡される。基板の現像処理時には、基板保持部により基板が保持された状態で、カップが第１の状態から第２の状態に移行する。これにより、筐体内に処理空間と非処理空間とが形成される。この状態で、基板保持部により保持される基板に対して、基板の上方に位置するノズルから現像液が供給され、基板の現像が行われる。現像液の供給が停止され、基板の現像処理が終了すると、カップが第２の状態から第１の状態に移行する。また、基板保持部により保持された基板が取り出され、筐体外に搬出される。

【0012】

上記のように、ノズルから基板への現像液の供給は処理空間内で行われる。処理空間および非処理空間を含む筐体内には、筐体の上部開口に配置された気流形成部により下降気流が形成されている。そのため、基板に供給されて基板から飛散する現像液の液滴は、処理空間内の下降気流により、ノズルカバーの下方に設けられた収容器の排気部に円滑に導かれ、筐体の外部に排出される。それにより、基板から飛散する現像液が基板よりも上方に位置する部材に付着することが防止される。したがって、ノズル以外の部材から基板上に現像液の液滴が落下することがない。

【0013】

また、非処理空間の圧力は処理空間の圧力よりも高いので、処理空間内の雰囲気は非処理空間に進入しにくい。そのため、処理空間内で現像液を含む雰囲気が発生する場合でも、その雰囲気は非処理空間によりノズルカバー、カップおよび収容器の外部に漏洩しない。

【0014】

これらの結果、基板の現像不良の発生を抑制しつつ現像装置周辺の作業環境の快適性の低下を抑制することが可能になる。

【0015】

（２）筐体および排気部は、カップが第２の状態にあるときに非処理空間の圧力が処理空間の圧力よりも高くなるように構成されてもよい。この場合、筐体および排気部の構成により非処理空間の圧力が処理空間の圧力よりも高くなる。

【0016】

（３）筐体は、カップが第２の状態にあるときに非処理空間を筐体の外部から閉塞する閉塞部を有してもよい。この場合、非処理空間に下降気流が形成されることにより筐体の外部から非処理空間内に導かれる気体の一部は、閉塞部により非処理空間の外部に排出されない。一方、処理空間に下降気流が形成されることにより筐体の外部から処理空間内に導かれる気体の大部分は、排気部により処理空間の外部に排出される。それにより、非処理空間の圧力が処理空間の圧力に対して高くなる。

【0017】

（４）カップが第２の状態にあるときに、カップと収容器との間には、処理空間と非処理空間とを連通させる隙間が形成され、現像装置は、隙間を閉塞するシールをさらに備えてもよい。

【0018】

この場合、カップが第２の状態にあるときに、処理空間の圧力と非処理空間の圧力との関係が維持される。また、処理空間の雰囲気がカップと収容器との間の隙間を通して非処理空間に漏れ出ることが防止される。

【0019】

（５）複数のノズルの各々は、気体と現像液の液滴とを含む混合流体を噴射する二流体ノズルであってもよい。

【0020】

基板に混合流体が噴射される際には、基板の周辺に現像液のミストが飛散する。このような場合でも、上記の現像装置の構成によれば、基板に供給される現像液を含む雰囲気が現像装置の内部から現像装置の外部に漏れ出ることが防止される。

【0021】

（６）複数のノズルから基板に供給される現像液は、露光されたネガ型の感光性ポリイミドを溶解する現像液であってもよい。

【0022】

ネガ型の感光性ポリイミドを溶解する現像液は、強い臭気を有する。このような場合でも、上記の現像装置の構成によれば、基板に供給される現像液を含む雰囲気が現像装置の内部から現像装置の外部に漏れ出ることが防止される。したがって、現像装置周辺の作業環境の快適性の低下が抑制される。また、現像装置の周囲に、現像液の臭気を低減するための構成を設ける必要がなくなる。

【発明の効果】

【0023】

本発明によれば、基板の現像不良の発生を抑制しつつ現像装置周辺の作業環境の快適性の低下を抑制することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。

【図2】図１の液処理ユニットの構成を説明するための模式的外観斜視図である。

【図3】図２の液処理ユニットの構成を説明するための模式的平面図である。

【図4】図２の液処理ユニットの構成を説明するための模式的縦断面図である。

【図5】液処理ユニットのカップが第１の状態にあるときの現像装置の模式的縦断面図である。

【図6】液処理ユニットのカップが第２の状態にあるときの現像装置の模式的縦断面図である。

【図7】図６の処理空間と非処理空間との間に発生する圧力の差を説明するための現像装置の模式的縦断面図である。

【図8】図１の現像装置の制御部の構成を示すブロック図である。

【図9】現像装置による基板の現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。

【図10】収容器へのリングシールの取り付け方法を説明するための分解図である。

【図11】図１０のリングシールによるカップおよび収容器間の隙間の閉塞状態を示す図である。

【図12】図１の現像装置を備える基板処理装置の一例を示す模式的ブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以下、本発明の実施の形態に係る現像装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。

【0026】

また、本実施の形態において現像処理の対象となる基板は、主面および裏面を有する。その主面の少なくとも中央部には露光処理後の感光性膜が形成されている。この感光性膜は、例えばネガ型の感光性ポリイミド膜である。露光されたネガ型の感光性ポリイミド膜を溶解する現像液として、シクロヘキサノンまたはシクロペンタノン等を含む溶剤が用いられる。また、リンス液として、イソプロピルアルコールまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等を含む溶剤が用いられる。

【0027】

なお、本実施の形態において、「基板の現像処理」とは、基板の主面に形成された露光処理後の感光性膜に現像液を供給することにより、その感光性膜の一部を溶解することを意味する。

【0028】

［１］現像装置の構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。図１に示すように、現像装置１は、基本的に筐体ＣＡ内に２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが収容された構成を有する。図１では、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの概略形状が点線で示される。液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの構成の詳細については後述する。

【0029】

筐体ＣＡは、水平面内で一方向に延びる略直方体の箱形状を有する。具体的には、筐体ＣＡは、第１の側壁板１ｗ、第２の側壁板２ｗ、第３の側壁板３ｗ、第４の側壁板４ｗ、床板５ｗおよび天井板６ｗが図示しないフレームに取り付けられることにより形成される。以下の説明では、水平面内で筐体ＣＡが延びる方向に平行な方向を適宜第１の方向Ｄ１と呼び、水平面内で第１の方向Ｄ１に直交する方向を適宜第２の方向Ｄ２と呼ぶ。２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、筐体ＣＡ内で第１の方向Ｄ１に並ぶように床板５ｗ上に配置されている。

【0030】

第１および第２の側壁板１ｗ，２ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第１の方向Ｄ１に平行でかつ互いに対向するように設けられている。第３および第４の側壁板３ｗ，４ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第２の方向Ｄ２に平行でかつ互いに対向するように設けられている。

【0031】

第２の側壁板２ｗには、筐体ＣＡの内部と筐体ＣＡの外部との間で基板を搬送するための２つの搬入搬出口ｐｈが形成されている。２つの搬入搬出口ｐｈは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにそれぞれ対応するように、第２の側壁板２ｗのうち第２の方向Ｄ２において液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対向する２つの部分にそれぞれ形成されている。天井板６ｗには、第１の方向Ｄ１に並ぶように、２つの開口ｏｐ１が形成されている。天井板６ｗにおける２つの開口ｏｐ１の開口率は、筐体ＣＡの上端全体が上方に開放されている状態と同じ程度に十分に大きく設定されている。

【0032】

天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１をそれぞれ塞ぐように、天井板６ｗの上方に２つのフィルタＦＬが設けられている。なお、２つのフィルタＦＬは、天井板６ｗの直下に設けられてもよい。図１では、２つのフィルタＦＬが太い一点鎖線で示される。２つのフィルタＦＬは、例えばＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタであり、筐体ＣＡを構成する図示しないフレームまたは天井板６ｗに取り付けられている。筐体ＣＡの天井板６ｗ上には、２つのフィルタＦＬを取り囲むように空気ガイドＡＧが設けられている。図１では、空気ガイドＡＧが二点鎖線で示される。

【0033】

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１０が設けられている。気体供給部１０は、例えばエアーコントロールユニットであり、電源がオンされている間、予め定められた条件を満たすように温度および湿度等の空気の状態を調整する。また、気体供給部１０は、調整後の空気をダクトＤＵを通して空気ガイドＡＧに供給する。この場合、空気ガイドＡＧは、気体供給部１０から供給された空気を、２つのフィルタＦＬを通して天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１に導く。それにより、温度および湿度等が調整された清浄な空気が筐体ＣＡ内に供給され、筐体ＣＡの内部空間ＳＰの全体に下降気流が発生する。

【0034】

筐体ＣＡの外部には、さらに２つの液供給部１１が設けられている。各液供給部１１は、現像液供給源、リンス液供給源および各種流体関連機器を含み、液供給経路１２を通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに現像液およびリンス液を供給する。図１では、液供給経路１２が一点鎖線で示される。なお、本実施の形態において、液供給経路１２は、１または複数の配管およびバルブ等により形成される。

【0035】

現像装置１は、さらに制御部９０を有する。制御部９０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよび２つの液供給部１１を制御する。制御部９０の詳細は後述する。

【0036】

［２］液処理ユニットの構成
図１の２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、同じ構成を有する。以下、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢを代表して液処理ユニットＬＰＡの構成を説明する。図２は図１の液処理ユニットＬＰＡの構成を説明するための模式的外観斜視図であり、図３は図２の液処理ユニットＬＰＡの構成を説明するための模式的平面図であり、図４は図２の液処理ユニットＬＰＡの構成を説明するための模式的縦断面図である。図４では、液処理ユニットＬＰＡのうち一部の構成が示される。また、図２～図４では、処理対象の基板Ｗが点線で示される。

【0037】

図２に示すように、液処理ユニットＬＰＡは、ノズルカバー２０、支持台３０、支持柱３１、ノズルアーム３２、複数（本例では３つ）の現像ノズル３３および複数（本例では３つ）のリンスノズル３４を含む。また、液処理ユニットＬＰＡは、カップ４０、昇降駆動部４９、収容器５０、排気管６１、排液管６２、基板保持装置７０および吸引装置７８をさらに含む。図２では、複数の構成要素の構造の理解を容易にするために、液処理ユニットＬＰＡの複数の構成要素のうち一部の構成要素と他の構成要素とが上下に分離された状態で示される。具体的には、図２においては、複数の現像ノズル３３、複数のリンスノズル３４およびノズルカバー２０を含む一部の構成要素と、カップ４０および収容器５０を含む他の構成要素とが上下に分離された状態で示される。

【0038】

図１の筐体ＣＡ内では、収容器５０が床板５ｗ（図１）上に固定される。収容器５０は、側壁部５１および底部５２を含む。側壁部５１は、円環形状の水平断面を有し、一定の内径および一定の外径で上下方向に延びるように形成されている。底部５２は、側壁部５１の下端を閉塞するように形成されている。

【0039】

底部５２には、２つの貫通孔が形成されている。底部５２の一方の貫通孔の形成部分に排気管６１が接続されている。排気管６１は、筐体ＣＡ内の雰囲気を、筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排気装置に導く。それにより、収容器５０における排気管６１の接続部分は、排気部として機能する。収容器５０において、排気管６１の端部（開口端）は底部５２よりも上方に位置する。

【0040】

また、底部５２には、他方の貫通孔の形成部分に排液管６２がさらに接続されている。排液管６２は、基板Ｗの現像処理時に、後述するようにカップ４０から収容器５０の底部に流れる液体（現像液およびリンス液）を筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排液装置に導く。それにより、収容器５０における排液管６２の接続部分は、排液部として機能する。収容器５０において、排液管６２の端部（開口端）は排気管６１の端部よりも下方に位置する。

【0041】

収容器５０内には、基板保持装置７０の少なくとも下部が収容される。具体的には、基板保持装置７０は、吸着保持部７１、スピンモータ７２およびモータカバー７９（図４）を含む。図２では、モータカバー７９の図示が省略されている。図３に示すように、スピンモータ７２は、平面視で収容器５０の中央に位置するように底部５２上に固定されている。図３では、収容器５０の側壁部５１が太い点線で示される。図４に示すように、スピンモータ７２には、上方に向かって延びるように回転軸７３が設けられている。回転軸７３の上端に吸着保持部７１が設けられている。吸着保持部７１は、収容器５０の上端よりも上方に突出している。

【0042】

図２に示すように、収容器５０の外部には、吸引装置７８が設けられている。吸着保持部７１は、吸引装置７８が動作することにより基板Ｗの裏面中央部を吸着可能に構成されている。吸着保持部７１が基板Ｗの裏面中央部を吸着することにより、基板Ｗが収容器５０の上方の位置で水平姿勢で保持される。また、基板Ｗが吸着保持部７１により吸着保持された状態でスピンモータ７２が動作することにより、基板Ｗが水平姿勢で回転する。

【0043】

図４に示すように、モータカバー７９は、略椀形状を有し、開放された径大部分が下方を向くように収容器５０に固定されている。モータカバー７９の上端中央部には回転軸７３を挿入可能な貫通孔が形成されている。モータカバー７９は、そのモータカバー７９の上端中央部の貫通孔に回転軸７３が挿入された状態で、回転軸７３を除くスピンモータ７２の上端部分と水平面内でスピンモータ７２を取り囲む一定幅の空間とを上方から覆っている。モータカバー７９の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。

【0044】

ここで、上記の排気管６１の端部は、モータカバー７９の下方に位置する。それにより、基板Ｗの現像処理時に、収容器５０の上方から落下する液体（現像液およびリンス液）が排気管６１の内部に進入することが防止される。

【0045】

図２に示すように、収容器５０内には、基板保持装置７０の下部に加えて、カップ４０の少なくとも下端が収容される。ここで、カップ４０は、収容器５０内で上下方向に昇降可能に構成されている。また、カップ４０は、内壁部４１、外壁部４２および液受け部４３を含む。内壁部４１、外壁部４２および液受け部４３の各々は、円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるように設けられている。図３に示すように、カップ４０は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されている。図３では、カップ４０を構成する内壁部４１、外壁部４２および液受け部４３が太い二点鎖線で示される。

【0046】

図４に示すように、液受け部４３の外径および内径は、上端から下方に向かうにつれて漸次拡大されている。液受け部４３の下端の外径（液受け部４３の最大外径）は、収容器５０の側壁部５１の内径よりも小さい。そのため、液受け部４３の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。

【0047】

内壁部４１および外壁部４２の各々は、一定の内径および一定の外径で一方向に延びるように形成されている。内壁部４１の内径は、液受け部４３の上端の内径（液受け部４３の最小内径）に等しい。外壁部４２の内径および外径は、内壁部４１の外径よりも大きく、液受け部４３の下端の内径（液受け部４３の最大内径）よりも小さい。

【0048】

内壁部４１は、液受け部４３の上端から上方に向かって延びるように形成されている。外壁部４２は、内壁部４１を取り囲むようにかつ内壁部４１の外周面から上方に向かって延びるように形成されている。このような構成により、液受け部４３上には、内壁部４１の外周面、外壁部４２の内周面および液受け部４３の環状の外周面により取り囲まれかつ上方に開放された円環状空間ＲＳが形成されている。

【0049】

図２に示すように、図１の筐体ＣＡ内で収容器５０の近傍には昇降駆動部４９が設けられる。昇降駆動部４９は、モータまたはエアシリンダ等の駆動機構を含み、カップ４０を支持するとともにカップ４０を上下動させることにより、カップ４０を第１の状態と第２の状態とに移行させる。カップ４０の第１の状態および第２の状態については後述する。

【0050】

図１の筐体ＣＡ内では、支持台３０が第１の方向Ｄ１において収容器５０に隣り合うように床板５ｗ（図１）上に固定される。支持台３０上には、その支持台３０の上端からさらに上方に延びるように支持柱３１が設けられている。支持柱３１には、水平方向に距離延びるノズルアーム３２が支持柱３１の軸心の周りで回転可能に取り付けられている。

【0051】

ノズルアーム３２は、現像装置１のメンテナンス時を除いて、基本的に第１の方向Ｄ１に延びる状態で固定される。この状態で、ノズルアーム３２の中央部分は基板保持装置７０の上方に位置する。ノズルアーム３２には、基板保持装置７０により保持される基板Ｗに対向するように、複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４が取り付けられている。さらに、ノズルアーム３２には、図３に示すように、平面視で複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４を取り囲むように、ノズルカバー２０が取り付けられている。図３では、ノズルカバー２０が太い実線で示される。

【0052】

ノズルカバー２０は、円環形状の水平断面を有し、上下方向に延びるように形成されている。ノズルカバー２０は、側面視で複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４の各々の少なくとも一部に重なる（後述する図５等参照）。

【0053】

図２に示すように、ノズルカバー２０には、第１の方向Ｄ１において互いに対向する２つの部分に、下端から上方に一定距離延びる切り欠き部２１が形成されている。ノズルアーム３２に対するノズルカバー２０の取り付けは、２つの切り欠き部２１にノズルアーム３２を嵌め込むことにより行われる。ノズルカバー２０がノズルアーム３２に取り付けられた状態で、ノズルカバー２０および収容器５０は、上下方向において互いに離間する。

【0054】

ノズルカバー２０の外径および内径は一定である。ノズルカバー２０の内径はカップ４０の内壁部４１の外径よりも大きく、ノズルカバー２０の外径はカップ４０の外壁部４２の内径よりも小さい。それにより、ノズルカバー２０は、図３に示すように、平面視でカップ４０の円環状空間ＲＳに重なる。

【0055】

本実施の形態で用いられる複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４は、液体および気体の混合流体を噴射可能なソフトスプレー方式の二流体ノズルである。図１の液供給部１１から複数の現像ノズル３３に現像液が供給されることにより、各現像ノズル３３から現像液の液滴と不活性ガスとを含む混合流体が下方に向かって噴射される。また、図１の液供給部１１から複数のリンスノズル３４にリンス液が供給されることにより、各リンスノズル３４からリンス液の液滴と不活性ガスとを含む混合流体が下方に向かって噴射される。

【0056】

現像装置１のメンテナンス時には、ノズルアーム３２からノズルカバー２０が取り外される。また、ノズルアーム３２が、図２に二点鎖線で示すように第２の方向Ｄ２に延びる状態で保持される。それにより、液処理ユニットＬＰＡの上方の位置からカップ４０、収容器５０および基板保持装置７０へのアクセスが容易になる。

【0057】

現像装置１においては、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対する基板Ｗの搬入搬出時に、カップ４０が第１の状態で維持される。一方、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの現像処理時に、カップ４０が第２の状態で維持される。カップ４０の第１の状態および第２の状態について説明する。

【0058】

図５は液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態にあるときの現像装置１の模式的縦断面図であり、図６は液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第２の状態にあるときの現像装置１の模式的縦断面図である。図５および図６では、複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４を含む一部の構成要素が一点鎖線で示される。

【0059】

図５に示すように、カップ４０は、第１の状態にあるときに、収容器５０の内部に位置する。すなわち、カップ４０は、第１の状態にあるときに、側面視で収容器５０に重なり、ノズルカバー２０から離間する。したがって、カップ４０が第１の状態にあるときには、カップ４０および収容器５０の側方から基板保持装置７０に対するアクセスが可能になる。それにより、現像装置１の外部から搬入される基板Ｗを液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置することができる。また、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置された基板Ｗを取り出し、現像装置１の外部に搬出することができる。

【0060】

カップ４０の高さ（上下方向の寸法）は、上下方向におけるノズルカバー２０および収容器５０間の距離よりも大きくなるように設定されている。図６に示すように、カップ４０は、第２の状態にあるときに、側面視でノズルカバー２０の下端および収容器５０の上端に重なる。このとき、カップ４０の上端とノズルカバー２０の下端近傍の内周面とが近接する。また、カップ４０の下端と収容器５０の上端近傍の内周面とが近接する。それにより、筐体ＣＡ内にノズルカバー２０、カップ４０および収容器５０により取り囲まれる処理空間ＳＰａが形成される。また、筐体ＣＡ内でかつノズルカバー２０、カップ４０および収容器５０の外部に非処理空間ＳＰｂが形成される。

【0061】

カップ４０が第２の状態にあるときに、カップ４０の液受け部４３の内周面は、吸着保持部７１により保持される基板Ｗを取り囲む。それにより、基板Ｗの現像処理時に、複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４から基板Ｗに供給される現像液およびリンス液の大部分が、液受け部４３の内周面により受け止められて、収容器５０へ導かれる。

【0062】

本実施の形態に係る現像装置１においては、筐体ＣＡ内に処理空間ＳＰａおよび非処理空間ＳＰｂが形成されることにより、処理空間ＳＰａ内の圧力と非処理空間ＳＰｂ内の圧力との間に差が生じる。図７は、図６の処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとの間に発生する圧力の差を説明するための現像装置１の模式的縦断面図である。図７では、液処理ユニットＬＰａ，ＬＰｂの処理空間ＳＰａが太い点線で示され、非処理空間ＳＰｂが太い一点鎖線で示される。

【0063】

処理空間ＳＰａおよび非処理空間ＳＰｂには、図７に白抜きの矢印で示すように、上方から清浄な空気が継続して供給される。ここで、現像装置１において、筐体ＣＡ内の雰囲気を排出するための排気管６１の端部は、収容器５０の内部空間、すなわち処理空間ＳＰａに位置する。そのため、処理空間ＳＰａ内では、上方から下方に向かって清浄な空気が円滑に流れ、筐体ＣＡの外部に排出される。一方、非処理空間ＳＰｂには、その非処理空間ＳＰｂ内の雰囲気を筐体ＣＡの外部に積極的に排出するための構成が設けられていない。特に、図７に示すように、本例の床板５ｗは、非処理空間ＳＰｂを筐体ＣＡの下方から閉塞する閉塞部ｃｐを有する。それにより、非処理空間ＳＰｂに下降気流を形成するために筐体ＣＡの上部の開口ｏｐ１から非処理空間ＳＰｂに導かれる空気の一部は、閉塞部ｃｐにより非処理空間ＳＰｂの外部に排出されない。これらの結果、非処理空間ＳＰｂ内の圧力は、処理空間ＳＰａ内の圧力に対して大きくなる。

【0064】

［３］現像装置１の制御部の構成
図８は、図１の現像装置１の制御部９０の構成を示すブロック図である。図８に示すように、制御部９０は、昇降制御部９１、液制御部９２、回転制御部９３および吸引制御部９４を含む。図８の制御部９０の各部の機能は、例えばＣＰＵがメモリに記憶された所定のプログラムを実行することにより実現される。

【0065】

昇降制御部９１は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９の動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態と第２の状態とに移行する。液制御部９２は、図１の２つの液供給部１１の動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内で複数の現像ノズル３３から現像液が噴射され、複数のリンスノズル３４からリンス液が噴射される。

【0066】

回転制御部９３は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２の動作を制御する。また、吸引制御部９４は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８の動作を制御する。それにより、各基板保持装置７０において基板Ｗが水平姿勢で吸着保持され、回転される。

【0067】

［４］現像装置の基本動作
現像装置１の基本動作について説明する。図９は、現像装置１による基板Ｗの現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。初期状態においては、気体供給部１０から現像装置１に温度および湿度等が調整された空気が供給されている。また、筐体ＣＡ内の雰囲気は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの排気管６１から図示しない排気装置に導かれている。それにより、筐体ＣＡ内には清浄な下降気流が形成されている。さらに、初期状態においては、カップ４０は、第１の状態で維持されているものとする。

【0068】

基板Ｗの現像処理の開始前には、まず、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに処理対象となる基板Ｗが搬入される。また、図５に示すように、基板保持装置７０上に基板Ｗが載置される。基板Ｗの現像処理が開始されると、図８の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１により基板Ｗが吸着されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ１１）。

【0069】

次に、図８の昇降制御部９１は、カップ４０が第１の状態から第２の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ１２）。

【0070】

次に、図８の回転制御部９３は、基板Ｗが回転軸７３の周りで回転するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ１３）。

【0071】

次に、図８の液制御部９２は、複数の現像ノズル３３から基板Ｗに予め定められた時間現像液が供給されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにそれぞれ対応する液供給部１１を制御する（ステップＳ１４）。また、図８の液制御部９２は、複数のリンスノズル３４から基板Ｗに予め定められた時間リンス液が供給されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにそれぞれ対応する液供給部１１を制御する（ステップＳ１５）。

【0072】

次に、図８の回転制御部９３は、リンス液の供給停止から一定時間経過した後基板Ｗの回転が停止するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ１６）。

【0073】

次に、図８の昇降制御部９１は、カップ４０が第２の状態から第１の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ１７）。

【0074】

最後に、図８の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１による基板Ｗの吸着が解除されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ１８）。それにより、基板Ｗの現像処理が終了する。現像処理後の基板Ｗは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢから搬出される。

【0075】

［５］効果
（１）本実施の形態に係る現像装置１においては、基板Ｗの現像処理前に、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態で維持され、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの筐体ＣＡ内に搬入される基板Ｗが基板保持装置７０に渡される。基板Ｗの現像処理時には、基板保持装置７０により基板Ｗが保持された状態で、カップ４０が第１の状態から第２の状態に移行する。これにより、筐体ＣＡ内に処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとが形成される。この状態で、複数の現像ノズル３３から基板Ｗに現像液が供給される。また、複数のリンスノズル３４から基板Ｗにリンス液が供給される。このようにして基板Ｗの現像処理が終了すると、カップ４０が第２の状態から第１の状態に移行する。また、基板保持装置７０により保持された基板Ｗが取り出され、筐体ＣＡ外に搬出される。

【0076】

上記のように、複数の現像ノズル３３から基板Ｗへの現像液の供給は処理空間ＳＰａ内で行われる。処理空間ＳＰａおよび非処理空間ＳＰｂを含む筐体ＣＡ内には、筐体ＣＡの上部の開口ｏｐ１に配置された空気ガイドＡＧおよびフィルタＦＬにより清浄な下降気流が形成されている。そのため、基板Ｗに供給されて基板Ｗから飛散する現像液の液滴は、処理空間ＳＰａ内の下降気流により、ノズルカバー２０の下方に設けられた収容器５０内の排気管６１に円滑に導かれ、筐体ＣＡの外部に排出される。それにより、基板Ｗから飛散する現像液が基板Ｗよりも上方に位置する部材に付着することが防止される。したがって、複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４以外の部材から基板Ｗ上に現像液およびリンス液の液滴が落下することがない。その結果、基板Ｗの現像不良の発生が抑制される。

【0077】

また、非処理空間ＳＰｂの圧力は処理空間ＳＰａの圧力よりも高いので、処理空間ＳＰａ内の雰囲気は非処理空間ＳＰｂに進入しにくい。そのため、処理空間ＳＰａ内で現像液を含む雰囲気が発生する場合でも、その雰囲気は非処理空間ＳＰｂによりノズルカバー２０、カップ４０および収容器５０の外部に漏洩しない。本実施の形態で用いられる現像液は、ネガ型の感光性ポリイミドを溶解する現像液であり、強い臭気を有する。このように現像液が強い臭気を有する場合でも、上記の構成によれば、その現像液が現像装置１の内部から現像装置１の外部に漏れ出ることが防止される。その結果、現像装置１周辺の作業環境の快適性の低下が抑制される。

【0078】

（２）上記のように、複数の現像ノズル３３は、二流体ノズルである。二流体ノズルにより基板Ｗに現像液を含む混合流体が噴射される際には、基板Ｗの周辺に現像液のミストが飛散する。このような場合でも、上記の現像装置１の構成によれば、基板Ｗに供給される現像液を含む雰囲気が現像装置１の内部から現像装置１の外部に漏れ出ることが防止される。

【0079】

（３）上記の現像装置１においては、カップ４０が第２の状態にあるときに、カップ４０の上端とノズルカバー２０の下端近傍の内周面とが近接する。このとき、平面視でノズルカバー２０の外周面とカップ４０の内壁部４１の内周面との間の距離は、例えば２ｍｍ～４ｍｍ程度に設定されることが好ましい。この場合、処理空間ＳＰａ内の雰囲気が非処理空間ＳＰｂへ漏れ出ることがより防止される。

【0080】

（４）また、上記の現像装置１においては、カップ４０が第２の状態にあるときに、カップ４０の下端と収容器５０の上端近傍の内周面とが近接する。このとき、平面視でカップ４０の液受け部４３の外周端部と収容器５０の側壁部５１の内周面との間の距離は、例えば２ｍｍ～４ｍｍ程度に設定されることが好ましい。この場合、処理空間ＳＰａ内の雰囲気が非処理空間ＳＰｂへ漏れ出ることがより防止される。

【0081】

［６］処理空間ＳＰａの密閉性を高めるための構成
上記の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにおいては、カップ４０が第２の状態にあるときに、カップ４０と収容器５０との間に処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとを連通させる隙間が形成される。この隙間は、基板Ｗの現像処理時における処理空間ＳＰａの密閉性を低下させる。そこで、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの各々は、カップ４０が第２の状態にあるときに、カップ４０と収容器５０との間に形成される隙間を閉塞するリングシールを備えてもよい。

【0082】

図１０は収容器５０へのリングシールの取り付け方法を説明するための分解図であり、図１１は図１０のリングシール８１によるカップ４０および収容器５０間の隙間の閉塞状態を示す図である。図１１では、第２の状態にあるカップ４０と収容器５０との位置関係が外観斜視図で示されるとともに、カップ４０と収容器５０との間の近接部分の拡大断面図が吹き出し内に示される。

【0083】

図１０に示すように、本例では、収容器５０の側壁部５１の上端に、リングシール８１およびリングプレート８２がこの順で載置される。リングシール８１は、柔軟性を有する樹脂により形成される。リングシール８１の内径は、側壁部５１の内径よりも小さく、カップ４０の液受け部４３の最大外径（液受け部４３の下端部の外径）よりも小さい。さらに、リングシール８１の内径は、カップ４０の外壁部４２の外径よりも大きい。一方、リングシール８１の外径は、側壁部５１の外径に等しい。

【0084】

リングプレート８２は、リングシール８１よりも高い剛性を有する樹脂により形成される。リングプレート８２の内径は側壁部５１の内径以上であり、リングプレート８２の外径は、側壁部５１の外径に等しい。

【0085】

上下方向において、側壁部５１の外周部、リングシール８１の外周端部およびリングプレート８２の外周端部が重なる状態で、リングプレート８２が、例えばリングシール８１を通して側壁部５１の上端にねじ止めされる。それにより、収容器５０の上端に、収容器５０の内周縁から収容器５０の内方へ一定距離突出するようにリングシール８１が固定される。

【0086】

上記の構成によれば、図１１の吹き出し内に示すように、カップ４０が第２の状態にあるときに、リングシール８１の内周縁が液受け部４３の外周面に当接する。それにより、カップ４０と収容器５０との間に形成される隙間が閉塞される。したがって、処理空間ＳＰａ内の雰囲気が非処理空間ＳＰｂへ漏れ出ることがさらに防止される。

【0087】

上記の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにおいては、カップ４０が第２の状態にあるときに、ノズルカバー２０とカップ４０との間にも処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとを連通させる隙間が形成される。この隙間は、基板Ｗの現像処理時における処理空間ＳＰａの密閉性を低下させる。そこで、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの各々は、カップ４０が第２の状態にあるときに、ノズルカバー２０とカップ４０との間に形成される隙間を閉塞するリングシールを備えてもよい。この場合、リングシールは、図１０および図１１の例と同様に、例えばノズルカバー２０の下端またはカップ４０の上端に設けることができる。それにより、処理空間ＳＰａ内の雰囲気が非処理空間ＳＰｂへ漏れ出ることがさらに防止される。

【0088】

［７］図１の現像装置１を備える基板処理装置
図１２は、図１の現像装置１を備える基板処理装置の一例を示す模式的ブロック図である。図１２に示すように、基板処理装置１００は、露光装置３００に隣接して設けられ、制御装置１１０、搬送装置１２０、塗布処理部１３０、現像処理部１４０および熱処理部１５０を備える。

【0089】

制御装置１１０は、例えばＣＰＵおよびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、搬送装置１２０、塗布処理部１３０、現像処理部１４０および熱処理部１５０の動作を制御する。搬送装置１２０は、基板Ｗを塗布処理部１３０、現像処理部１４０、熱処理部１５０および露光装置３００の間で搬送する。

【0090】

塗布処理部１３０は、未処理の基板Ｗの主面上に感光性膜を形成する（塗布処理）。感光性膜が形成された塗布処理後の基板Ｗには、露光装置３００において露光処理が行われる。現像処理部１４０は、図１の現像装置１を複数含む。各現像装置１は、露光処理後の基板Ｗに現像液を供給し、基板Ｗの現像処理を行う。熱処理部１５０は、塗布処理部１３０による塗布処理、現像処理部１４０による現像処理、および露光装置３００による露光処理の前後に基板Ｗの熱処理を行う。

【0091】

なお、塗布処理部１３０は、基板Ｗに反射防止膜を形成してもよい。この場合、熱処理部１５０には、基板Ｗと反射防止膜との密着性を向上させるための密着強化処理を行うための処理ユニットが設けられてもよい。また、塗布処理部１３０は、基板Ｗ上に形成された感光性膜を保護するためのカバー膜を基板Ｗに形成してもよい。

【0092】

図１２の基板処理装置１００においては、図１の現像装置１により基板Ｗの現像処理が行われる。それにより、基板Ｗの現像不良の発生が抑制される。したがって、製品の歩留まりが向上するとともに、基板Ｗの製造コストが低減される。また、強い臭気を有する現像液が用いられる場合でも、その現像液を含む雰囲気が各現像装置１から漏れ出ることが防止される。したがって、基板処理装置１００周辺に現像液の臭気の発生を抑制するための新たな構成を設ける必要がない。

【0093】

［８］他の実施の形態
（１）上記実施の形態に係る現像装置１においては、筐体ＣＡ内に収容される液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにより２枚の基板Ｗが同時に現像処理されるが、本発明はこれに限定されない。液処理ユニットＬＰＡにおける基板Ｗの現像処理と液処理ユニットＬＰＢにおける基板Ｗの現像処理とは、同時に行われてもよいし、互いに異なるタイミングで行われてもよい。

【0094】

例えば、一方の液処理ユニットＬＰＡ（ＬＰＢ）で基板Ｗの現像処理が行われ、他方の液処理ユニットＬＰＢ（ＬＰＡ）で基板Ｗの現像処理が行われない場合を想定する。この場合、一方の液処理ユニットＬＰＡ（ＬＰＢ）においてはカップ４０が第２の状態に維持され、他方の液処理ユニットＬＰＢ（ＬＰＡ）においてはカップ４０が第１の状態に維持される。それにより、筐体ＣＡ内では、一方の液処理ユニットＬＰＡ（ＬＰＢ）内に１つの処理空間ＳＰａが形成され、他方の液処理ユニットＬＰＢ（ＬＰＡ）の内部空間は非処理空間ＳＰｂとなる。

【0095】

（２）上記実施の形態に係るノズルカバー２０は円環形状の水平断面を有するが、本発明はこれに限定されない。ノズルカバー２０は、平面視で複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４を取り囲むように構成されていればよく、四角形、五角形または六角形等の多角形状の水平断面を有してもよい。

【0096】

また、上記実施の形態に係るカップ４０の内壁部４１、外壁部４２および液受け部４３の各々も円環形状の水平断面を有するが、本発明はこれに限定されない。内壁部４１、外壁部４２および液受け部４３の各々は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されていればよく、多角形状の水平断面を有してもよい。

【0097】

さらに、上記実施の形態に係る収容器５０の側壁部５１も円環形状の水平断面を有するが、本発明はこれに限定されない。側壁部５１は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されていればよく、多角形状の水平断面を有してもよい。

【0098】

（３）上記実施の形態に係る現像装置１においては、筐体ＣＡが天井板６ｗを有するが、筐体ＣＡは天井板６ｗを有しなくてもよい。この場合、開放された筐体ＣＡの上端開口が、筐体ＣＡの上部開口として機能する。また、この場合、フィルタＦＬは、筐体ＣＡを構成する図示しないフレームに取り付けられる。

【0099】

（４）上記実施の形態に係る現像装置１においては、１つの筐体ＣＡ内に２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが設けられるが、本発明はこれに限定されない。筐体ＣＡ内には、１つの液処理ユニットのみが設けられてもよいし、３以上の液処理ユニットが設けられてもよい。

【0100】

（５）上記実施の形態に係る現像装置１においては、カップ４０が内壁部４１および外壁部４２を有するが、本発明はこれに限定されない。カップ４０は、内壁部４１および外壁部４２のうち一方のみを有してもよい。

【0101】

（６）上記実施の形態に係る現像装置１においては、複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４の各々が二流体ノズルにより構成されるが、本発明はこれに限定されない。複数の現像ノズル３３および複数のリンスノズル３４の各々は、二流体ノズル以外の種類のノズルであってもよい。

【0102】

（７）上記実施の形態に係る現像装置１においては、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにそれぞれ対応するように２つの液供給部１１が設けられるが、本発明はこれに限定されない。現像装置１には、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに共通に用いられる１つの液供給部１１が設けられてもよい。

【0103】

［９］請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、基板保持装置７０が基板保持装置の例であり、複数の現像ノズル３３がノズルの例であり、ノズルカバー２０がノズルカバーの例であり、収容器５０が収容器の例であり、カップ４０がカップの例であり、昇降駆動部４９が昇降駆動部の例である。

【0104】

また、開口ｏｐ１が上部開口の例であり、筐体ＣＡが筐体の例であり、空気ガイドＡＧおよびフィルタＦＬが気流形成部の例であり、収容器５０の底部５２における排気管６１の接続部が排気部の例であり、現像装置１が現像装置の例であり、図７の床板５ｗの閉塞部ｃｐが閉塞部の例であり、図１０および図１１のリングシール８１がシールの例である。

【0105】

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
［１０］参考形態
参考形態に係る現像装置は、基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、基板保持部の上方に設けられかつ基板保持部により保持された基板に現像液を供給するノズルと、平面視でノズルを取り囲みかつ側面視でノズルの少なくとも一部と重なるように構成されたノズルカバーと、ノズルカバーの下方の位置でノズルカバーから離間するように設けられ、基板保持部の少なくとも下部を収容する収容器と、平面視で基板保持部を取り囲むように構成されるとともに、側面視で収容器に重なりかつノズルカバーから離間する第１の状態と側面視でノズルカバーの下端および収容器の上端に重なる第２の状態とに移行するように上下方向に昇降可能に構成されたカップと、第１の状態と第２の状態とに移行するように、カップを上下動させる昇降駆動部と、上部開口を有し、基板保持部、ノズル、ノズルカバー、収容器、カップを収容する筐体と、筐体の上部開口に配置され、筐体内に下降気流を形成する気流形成部とを備え、収容器は、筐体内の雰囲気を筐体の外部に排出する排気部を有し、カップが第２の状態にあるときに、ノズルカバー、カップおよび収容器により取り囲まれる処理空間が形成されるとともに、筐体内でかつノズルカバー、カップおよび収容器の外部に処理空間よりも高い圧力を有する非処理空間が形成される。
その現像装置においては、カップが第１の状態にあるときに基板保持部および収容器の側方から基板保持部に対するアクセスが可能になる。それにより、基板の現像処理前には、カップが第１の状態で維持され、筐体内に搬入される基板が基板保持部に渡される。基板の現像処理時には、基板保持部により基板が保持された状態で、カップが第１の状態から第２の状態に移行する。これにより、筐体内に処理空間と非処理空間とが形成される。この状態で、基板保持部により保持される基板に対して、基板の上方に位置するノズルから現像液が供給され、基板の現像が行われる。現像液の供給が停止され、基板の現像処理が終了すると、カップが第２の状態から第１の状態に移行する。また、基板保持部により保持された基板が取り出され、筐体外に搬出される。
上記のように、ノズルから基板への現像液の供給は処理空間内で行われる。処理空間および非処理空間を含む筐体内には、筐体の上部開口に配置された気流形成部により下降気流が形成されている。そのため、基板に供給されて基板から飛散する現像液の液滴は、処理空間内の下降気流により、ノズルカバーの下方に設けられた収容器の排気部に円滑に導かれ、筐体の外部に排出される。それにより、基板から飛散する現像液が基板よりも上方に位置する部材に付着することが防止される。したがって、ノズル以外の部材から基板上に現像液の液滴が落下することがない。
また、非処理空間の圧力は処理空間の圧力よりも高いので、処理空間内の雰囲気は非処理空間に進入しにくい。そのため、処理空間内で現像液を含む雰囲気が発生する場合でも、その雰囲気は非処理空間によりノズルカバー、カップおよび収容器の外部に漏洩しない。
これらの結果、基板の現像不良の発生を抑制しつつ現像装置周辺の作業環境の快適性の低下を抑制することが可能になる。

【符号の説明】

【0106】

１…現像装置，１ｗ…第１の側壁板，２ｗ…第２の側壁板，３ｗ…第３の側壁板，４ｗ…第４の側壁板，５ｗ…床板，６ｗ…天井板，１０…気体供給部，１１…液供給部，１２…液供給経路，２０…ノズルカバー，２１…切り欠き部，３０…支持台，３１…支持柱，３２…ノズルアーム，３３…現像ノズル，３４…リンスノズル，４０…カップ，４１…内壁部，４２…外壁部，４３…液受け部，４９…昇降駆動部，５０…収容器，５１…側壁部，５２…底部，６１…排気管，６２…排液管，７０…基板保持装置，７１…吸着保持部，７２…スピンモータ，７３…回転軸，７８…吸引装置，７９…モータカバー，８１…リングシール，８２…リングプレート，９０…制御部，９１…昇降制御部，９２…液制御部，９３…回転制御部，９４…吸引制御部，１００…基板処理装置，１１０…制御装置，１２０…搬送装置，１３０…塗布処理部，１４０…現像処理部，１５０…熱処理部，３００…露光装置，ＡＧ…空気ガイド，ＣＡ…筐体，Ｄ１…第１の方向，Ｄ２…第２の方向，ＤＵ…ダクト，ＦＬ…フィルタ，ＬＰＡ，ＬＰＢ…液処理ユニット，ＳＰ…内部空間，ＳＰａ…処理空間，ＳＰｂ…非処理空間，Ｗ…基板，ｃｐ…閉塞部，ｏｐ１…開口，ｐｈ…搬入搬出口

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】