特許 7340668出願番号特願 2022-145390
アミド化合物を含むフォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

出願人ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド（識別番号 509266480）

2026年特許公開件数ランキング 924位 21件（※）

2026年特許取得件数ランキング 1060位 16件（※）

公報発行日　2023年9月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7340668　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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一般的に、電子デバイスの製造に関する。より具体的には、本発明は、フォトレジスト組成物、及びネガ型現像プロセスを使用する微細パターンの形成を可能にするフォトリソグラフィープロセス

本明細書では、酸不安定基を含む第１のポリマーと；光酸発生剤と；１１を超える親油性（ｌｏｇＰ）値を有するトリアルキルアミド化合物を含む酸拡散制御剤と；を含有するフォトレジスト組成物が開示される。

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