特許 7349235 反射防止フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-09-13

(45)【発行日】2023-09-22

(54)【発明の名称】反射防止フィルム

(51)【国際特許分類】

   G02B 1/11 20150101AFI20230914BHJP

   B32B 7/023 20190101ALI20230914BHJP

   G02B 1/111 20150101ALI20230914BHJP

   G02B 1/14 20150101ALI20230914BHJP

【ＦＩ】

G02B1/11

B32B7/023

G02B1/111

G02B1/14

【請求項の数】 2

(21)【出願番号】P 2017197192

(22)【出願日】2017-10-10

(65)【公開番号】P2019070756

(43)【公開日】2019-05-09

【審査請求日】2020-09-11

【審判番号】

【審判請求日】2022-08-31

(73)【特許権者】

【識別番号】000002901

【氏名又は名称】株式会社ダイセル

(74)【代理人】

【識別番号】100124431

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 順也

(74)【代理人】

【識別番号】100174160

【弁理士】

【氏名又は名称】水谷 馨也

(74)【代理人】

【識別番号】100175651

【弁理士】

【氏名又は名称】迫田 恭子

(74)【代理人】

【識別番号】100122448

【弁理士】

【氏名又は名称】福井 賢一

(72)【発明者】

【氏名】吉田 啓史

(72)【発明者】

【氏名】和田 賢三

【合議体】

【審判長】里村 利光

【審判官】杉山 輝和

【審判官】関根 洋之

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１６－１７７１８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭４９－２９６５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１４－１６７６２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／１４０８１１（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

G02B 1/10 - 1/18

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの少なくとも一方に形成された反射防止層とを備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は、前記透明基材フィルム側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層が積層されて構成されており、
前記中屈折率層の膜厚は８５ｎｍ～１５０ｎｍであり、かつ、屈折率は１．５５～１．６０であり、
前記高屈折率層の膜厚は２０ｎｍ～５５ｎｍであり、かつ、屈折率は１．６５～１．７５であり、
前記低屈折率層の膜厚は６０ｎｍ～１５０ｎｍであり、かつ、屈折率は１．３０～１．５０であり、
前記反射防止フィルムの入射角５°の正反射に関する視感度反射率は０．６％以下であり、
入射角５°の正反射に関する波長範囲４５０ｎｍ～７５０ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差が０．７５以下であり、
入射角４５°の正反射に関する波長範囲４００ｎｍ～７００ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差が１．５以下であり、
入射角３５°～４５°の全範囲において、反射色相が、（―１．０≦ａ*≦１．０、―２．０≦ｂ*≦２．０）であることを特徴とする反射防止フィルム。

【請求項2】

前記低屈折率層は、前記高屈折率層側に設けられる第１低屈折率層及び該第１低屈折率層上に設けられる第２低屈折率層を備えており、
前記第１低屈折率層の膜厚は５０ｎｍ～１００ｎｍであり、かつ、屈折率は１．３０～１．４０であり、
前記第２低屈折率層の膜厚は１０ｎｍ～５０ｎｍであり、かつ、屈折率は前記第１低屈折率層の屈折率よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、反射防止フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

反射防止フィルムは、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、フォトリソグラフィープロセスにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されている。

【0003】

反射防止フィルムとしては、例えば、特許文献１に、可撓性を有する透明なプラスチックフィルムの少なくとも片面に、該プラスチックフィルムよりも光屈析率が小さいフッ素系無機化合物が無機バインダーで固結された焼付け被膜を形成したことを特徴とする反射防止フィルムが開示されている。この特許文献１に開示の反射防止フィルムは、長期間にわたって優れた反射防止効果を維持できるというものである。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特許第２９２３５６５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１に開示された反射防止フィルムを、陰極管表示装置（ＣＲＴ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）といった表示装置のディスプレイ表面に設置した場合において、ディスプレイを斜めから見た場合と正面から見た場合とでは、色度の変化が大きく、視認される色味が視認角度に応じて変化してしまうという問題があった。

【0006】

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、反射防止フィルムを備えたディスプレイを斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さく、視認される色味が視認角度に応じて変化することを効果的に抑制できる反射防止フィルムの提供を目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

また、本発明の上記目的は、透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの少なくとも一方に形成された反射防止層とを備える反射防止フィルムであって、前記反射防止層は、前記透明基材フィルム側から中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層が積層されて構成されており、前記中屈折率層の膜厚は８５ｎｍ～１５０ｎｍであり、かつ、屈折率は１．５５～１．６０であり、前記高屈折率層の膜厚は２０ｎｍ～５５ｎｍであり、かつ、屈折率は１．６５～１．７５であり、前記低屈折率層の膜厚は６０ｎｍ～１５０ｎｍであり、かつ、屈折率は１．３０～１．５０であり、前記反射防止フィルムの入射角５°の正反射に関する視感度反射率は０．６％以下であり、入射角５°の正反射に関する波長範囲４５０ｎｍ～７５０ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差が０．７５以下であり、入射角４５°の正反射に関する波長範囲４００ｎｍ～７００ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差が１．５以下であり、入射角３５°～４５°の全範囲において、反射色相が、（―１．０≦ａ*≦１．０、―２．０≦ｂ*≦２．０）であることを特徴とする反射防止フィルムにより達成される。

【0008】

また、前記低屈折率層は、前記高屈折率層側に設けられる第１低屈折率層及び該第１低屈折率層上に設けられる第２低屈折率層を備えており、前記第１低屈折率層の膜厚は５０ｎｍ～１００ｎｍであり、かつ、屈折率は１．３０～１．４０であり、前記第２低屈折率層の膜厚は１０ｎｍ～５０ｎｍであり、かつ、屈折率は前記第１低屈折率層の屈折率よりも高いことが好ましい。

【発明の効果】

【0011】

本発明によれば、反射防止フィルムを備えたディスプレイを斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さく、視認される色味が視認角度に応じて変化することを効果的に抑制できる反射防止フィルムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明に係る反射防止フィルムの概略構成断面図である。

【図2】実施例に係る反射率に関するグラフである。

【図3】比較例に係る反射率に関するグラフである。

【図4】実施例について、各入射角におけるａ*及びｂ*の関係を示すグラフである。

【図5】比較例について、各入射角におけるａ*及びｂ*の関係を示すグラフである。

【図6】本発明に係る反射防止フィルムの変形例に関する概略構成断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本発明の実施形態に係る反射防止フィルムについて、添付図面を参照して説明する。なお、図面においては、構成の理解を容易ならしめるために部分的に拡大・縮小している。本発明に係る反射防止フィルム１は、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の様々な表示装置、タッチパネル、光学レンズ、眼鏡レンズ、フォトリソグラフィープロセスにおける反射防止処理、太陽電池パネル表面の反射防止処理等の様々な分野で利用されるものであり、図１の概略構成断面図に示すように、透明基材フィルム２の少なくとも一方面に、中屈折率層３と、高屈折率層４と、低屈折率層５とを備えている。ここで、中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５の３層からなる積層体は、反射防止特性を発揮する反射防止層である。なお、本実施形態においては、透明基材フィルム２の一方面側に中屈折率層３、高屈折率層４、低屈折率層５の順に３層の反射防止層を配置する構成であるが、この反射防止層に加えて、透明基材フィルム２の他方面側に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の順に３層の第２の反射防止層を更に配置する構成を採用することもできる。

【0014】

透明基材フィルム２は、フィルム本体２１と、第１ハードコート層２２と、第２ハードコート層２３とを備えて構成されている。フィルム本体２１としては、透明有機高分子材料を用いることが好ましい。透明有機高分子材料は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、有機高分子化合物をフィルムとしたものを用いる事ができる。この有機高分子化合物としては、透明な有機高分子であれば特に限定されないが、優れた反射防止性能をしめすためには透明基板２の透過率は８０％以上、さらには８６％以上であることが好ましく、ヘイズは、２．０％以下、さらには１．０％以下であることが好ましく、屈折率は１．４０～１．７０であることが好ましい。なお、有機高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６－ナイロン、６，６－ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等をあげることができる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。

【0015】

第１ハードコート層２２は、フィルム本体２１の一方面側に形成されており、第２ハードコート層２３は、フィルム本体２１の他方面側に形成されている。中屈折率層３は、第２ハードコート層２３の上に積層されており、高屈折率層４は、中屈折率層３上に積層されて構成されている。また、低屈折率層５は、高屈折率層４上に積層されて構成されている。

【0016】

透明基材フィルム２におけるフィルム本体２１の膜厚は、通常１３～４００μｍ程度、好ましくは２５～３００μｍ程度である。また、フィルム本体２１には、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３との密着力を高めるため及び干渉低減のため、屈折率は、１．４０～１．７０で、好ましくは１．５０～１．６５のアンカー層を設けることもできる。フィルム本体２１には、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。

【0017】

第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、反射防止フィルム１の表面強度を担保するための層であり、フィルムへの傷防止のために、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は形成しておくことが好ましい。第１ハードコート層２２の屈折率は、１．５０～１．７０の範囲内のものが好ましい。また、第２ハードコート層２３の屈折率は、１．５０～１．７０の範囲内のものが好ましい。なお、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の屈折率が、フィルム本体２１の屈折率と最適化が図れていない場合、フィルム本体２１と第１ハードコート層２２（第２ハードコート層２３）の屈折率差から生じる干渉により、干渉ムラが顕著に表れたり、反射防止フィルム１の反射特性として色相の設計が難しくなる場合があるため、好ましくない。

【0018】

第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の厚みは、共に、１～５０μｍが好ましい。ハードコート層の膜厚が１μｍ未満の場合には、十分な表面強度が得られないため好ましくない。その一方、膜厚が５０μｍを超える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。

【0019】

また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成する材料としては、電離放射線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料は、例えばアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

【0020】

また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。

【0021】

また、熱硬化性材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ－Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。

【0022】

さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。

【0023】

また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。

【0024】

また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の硬度としては、それぞれ、鉛筆硬度でＨ以上であることが実用上好ましいが、フィルム本体２１の影響も受けるためこの限りではない。第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、フィルム本体２１に直接接して設けてもよく、フィルム本体２１との密着性を向上するための層を介してフィルム本体２１の上に設けてもよい。また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成するにあたっては、表面を平滑にしてもよい。

【0025】

第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、フィルム本体２１の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。

【0026】

なお、本実施形態においては、図１に示すように、フィルム本体２１の両面にそれぞれ第１ハードコート層２２及び第２ハードコート層２３を形成するように構成しているが、いずれか一方のハードコート層、或いは、両方のハードコート層を省略して透明基材フィルム２を構成してもよい。

【0027】

次に、中屈折率層３について説明する。中屈折率層３は、無機材料を含む層であり、中屈折率層形成塗液を第２ハードコート層２３の表面に塗布して、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき中屈折率層単層の膜厚（ｄ１）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。中屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子を分散させたものを用いることができる。本発明の中屈折率層３の膜厚（ｄ１）は、光学干渉層としての特性から、８５ｎｍ～１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０５ｎｍ～１３０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。また、中屈折率層３の屈折率（ｎ１）は１．５５～１．６０までの範囲内にあることが望ましい。中屈折率層３の屈折率（ｎ１）は、低屈折率層５の屈折率と、高屈折率層４の屈折率との間の値となるように調整される。

【0028】

中屈折率層形成塗液に分散される高屈折率微粒子としては、例えば、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ等の高屈折率材料からなる無機微粒子を用いることができる。本発明で使用される高屈折率微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は、単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。

【0029】

また、高屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、中屈折率層３のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、高屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、中屈折率層３における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。

【0030】

また、中屈折率層３を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する紫外線硬化型材料が用いられる。紫外線硬化型材料としては、例えば、第１及び第２ハードコート層２２，２３に用いられる電離放射線硬化型材料として例示した、単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料の中でも、所望する分子量および分子構造を設計することができ、形成される中屈折率層３の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。

【0031】

なお、中屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。

【0032】

また、中屈折率層３を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより中屈折率層３を形成する場合には、中屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであればよく、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－メチル－１－[４－（メチルチオ）フェニル]－２－モルフォリノプロパン－１－オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－(０－アセチルオキシム)、１，２－オクタジオン－１－[４－(フェニルチオ)－，２－(Ｏ－ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、２－クロルチオキサンソン、２－メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリルｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、２，４－トリクロロメチル（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が例示できる。また、キノン系化合物としては、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0033】

また、中屈折率層形成用塗液にはその他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。

【0034】

中屈折率層３を形成する方法としては、中屈折率層形成用塗液を第２ハードコート層２３の表面に塗布して中屈折率層３を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で中屈折率層３を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。

【0035】

次に、中屈折率層３上に形成される高屈折率層４について説明する。 高屈折率層４は、無機材料を含む層であり、高屈折率層形成塗液を中屈折率層３上の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層４単層の膜厚（ｄ２）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、高屈折率層４の膜厚（ｄ２）は、光学干渉層としての特性から、２０ｎｍ～５５ｎｍの範囲内にあることが好ましく、３０ｎｍ～４５ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。

【0036】

本発明の高屈折率層４の屈折率（ｎ２）は、反射防止フィルム１の色付きを抑制する観点からは、１．６５～１．７５の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層４の屈折率（ｎ２）を調整する手段は、高屈折率微粒子の添加量が支配的である。高屈折率微粒子としては、中屈折率層形成塗液に記載した高屈折率材料を用いることができる。また、高屈折率微粒子は、中屈折率層形成塗液に記載した無機化合物および／または有機化合物での表面処理を行うことができる。

【0037】

高屈折率層４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。

【0038】

なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層３の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。

【0039】

また、高屈折率層４を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層４を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。

【0040】

高屈折率層４を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液を中屈折率層３の表面に塗布し、高屈折率層４を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で高屈折率層４を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。

【0041】

次に、高屈折率層４上に形成される低屈折率層５について説明する。低屈折率層５は、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層であり、低屈折率層形成塗液を、高屈折率層４の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき低屈折率層５単層の膜厚（ｄ３）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、低屈折率層５の膜厚（ｄ３）は、光学干渉層としての特性から、６０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、９０ｎｍ～１３０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。

【0042】

本発明の低屈折率層５の屈折率（ｎ３）は、１．３０から１．５０までの範囲内にあることが望ましく、１．３２から１．４５であることがさらに望ましい。低屈折率層５の屈折率（ｎ３）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、低屈折率材料（低屈折率微粒子）を低屈折率層形成塗液中に多量に添加する必要があるため、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。一方、低屈折率層５の屈折率（ｎ３）が１．５０をこえる場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。

【0043】

低屈折率層形成塗液に含まれる低屈折率微粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１．０）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。

【0044】

低屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層５が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、低屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層５における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。

【0045】

低屈折率層５を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができ、熱硬化型材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ－Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。

【0046】

なお、低屈折率層５を形成するための低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層３に用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。

【0047】

また、低屈折率層５を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層５を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。

【0048】

低屈折率層５を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層４の表面に塗布して形成する湿式成膜法による方法を用いることが、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から好ましい。

【0049】

ここで、必要に応じて、図１に示すように、低屈折率層５上に滑剤層６を設けるようにして、反射防止フィルム１を構成してもよい。滑剤層６は、低屈折率層５を汚れから保護し、耐擦傷性を向上させるために設けられるものである。この滑剤層６は、フッ素含有シラン化合物を滑剤コート層形成用組成物に含有することが好ましく、フルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物溶液をコーティングして作製する。特に、フッ素含有シラン化合物がポリシラザンもしくはアルコキシシランであることが好ましい。なお、滑剤層６の膜厚は、０．１ｎｍ～１５ｎｍであることが好ましい。更には、１ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましい。

【0050】

また、上述のフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物のなかでも、シラン化合物中のフルオロアルキル基が、Ｓｉ原子１つに対し、１つ以下の割合でＳｉ原子と結合されており、残りは加水分解性基もしくはシロキサン結合基であるシラン化合物が好ましい。ここでいう加水分解性の基としては、例えばアルコキシ基等の基であり、加水分解によりヒドロキシル基となり、それにより前記シラン化合物は重縮合物を形成する。

【0051】

例えば、上記シラン化合物は水と（必要なら酸触媒の存在下）、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温～１００℃の範囲で反応させる。これによりアルコキシシランは（部分的に）加水分解し、一部縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を有する加水分解物として得ることができる。加水分解、縮合の程度は、反応させる水の量により適宜調節することができるが、本発明においては、滑剤層６に用いるシラン化合物溶液に積極的には水を添加せず、調製後、主として乾燥時に、空気中の水分等により加水分解反応を起こさせるため溶液の固形分濃度を薄く希釈して用いることが好ましい。

【0052】

なお、好ましくは、滑剤層６形成用組成物において、上述のフルオロアルキル基を有するシラン化合物は下記一般式（１）で表され、かつ該シラン化合物の濃度を０．０１～５質量％に希釈した溶液として用いることができる。

【0053】

一般式（１） ＣＦ_３（ＣＦ_２）_ｍ（ＣＨ_２）_ｎ－Ｓｉ－（ＯＲａ）_３
ここにおいて、ｍは１～１０の整数、ｎは０～１０の整数、Ｒａは同一もしくは異なるアルキル基を表す。

【0054】

前記一般式（１）で表される化合物中、Ｒａは炭素原子数３つ以下であり炭素と水素のみからなるアルキル基、例えば、メチル、エチル、イソプロピル等の基が好ましい。

【0055】

これら本発明において好ましく用いられるフルオロアルキル基またはフルオロアルキルエーテル基を有するシラン化合物としては、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ2）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂ＯＣ₃Ｈ₇、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、Ｃ₇Ｆ₁₅ＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂ＮＨ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂）₂ＯＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣ₂Ｈ₅）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣ₂Ｈ₅）₂、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣ₃Ｈ₇）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）₂Ｏ（ＣＦ₂）₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）、Ｃ₇Ｆ₁₅ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｏ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂）₂ＯＣＨＯ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃などがあげられるが、この限りでない。

【0056】

上記フッ素系シラン化合物としては、例えば信越化学工業株式会社製ＫＰ８０１Ｍ、ダイキン工業株式会社製オプツールＤＳＸ、フロロテクノロジー株式会社製ＦＧ５０１０などがあげられる。

【0057】

以下に実施例を揚げて本発明の具体的な態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

【0058】

（実施例）
[フィルム本体２１]
フィルム本体２１として、厚さ１８８μｍ、幅３００ｍｍのＰＥＴフィルム（東レ株式会社製「ルミラー」）を用意する。

【0059】

[第１ハードコート層２２の形成]
荒川化学工業株式会社製「オプスター」（屈折率 １．５）をテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.１０でフィルム本体２１の片面に塗布形成後、８０℃２分にて有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで約５μｍの厚みを有する第１ハードコート層２２を形成した。

【0060】

[第２ハードコート層２３の形成]
荒川化学工業株式会社製「オプスター」（屈折率 １．５）をテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.１０でフィルム本体２１の第１ハードコート層２２とは反対面に塗布形成後、８０℃２分にて有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで約５μｍの厚みを有する第２ハードコート層２３を形成した。

【0061】

[反射防止層における中屈折率層３の形成]
東洋インキ株式会社製「リオデュラス」（屈折率 １．６）をメチルイソブチルケトンを用い濃度を６．０重量％に希釈する。次に、第２ハードコート層２３上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製 D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、１２５ｎｍの中屈折率層３を形成した。

【0062】

［反射防止層における高屈折率層４の形成]
東洋インキ株式会社製「リオデュラス」（屈折率 １．７）をメチルイソブチルケトンを用い濃度を２．０重量％に希釈する。次に、中屈折率層３上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製 D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、３５ｎｍの高屈折率層４を形成した。

【0063】

[反射防止層における低屈折率層５の形成]
荒川工業株式会社製「オプスター」 (屈折率 １．３２)をメチルイソブチルケトンを用い濃度を３．５重量％に希釈する。次に、高屈折率層４の上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製 D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、１１５ｎｍの低屈折率層５を形成した。

【0064】

上記の作製工程を得て、第１ハードコート層２２／フィルム本体２１／第２ハードコート層２３／中屈折率層３／高屈折率層４／低屈折率層５からなる実施例に係る反射防止フィルム１を作製した。なお、実施例における反射防止層は、中屈折率層３／高屈折率層４／低屈折率層５からなる三層構造を有する。

【0065】

（比較例）
[フィルム本体２１]
フィルム本体２１として、厚さ１８８μｍ、幅３００ｍｍのＰＥＴフィルム（東レ株式会社製「ルミラー」）を用意する。

【0066】

[第１ハードコート層２２の形成]
荒川化学工業株式会社製「オプスター」（屈折率 １．５）をテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.１０でフィルム本体２１の片面に塗布形成後、８０℃２分にて有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで約５μｍの厚みを有する第１ハードコート層２２を形成した。

【0067】

[第２ハードコート層２３の形成]
荒川化学工業株式会社製「オプスター」（屈折率 １．５）をテスター産業株式会社製SA-203 バーコーターROD No.１０でフィルム本体２１の第１ハードコート層２２とは反対面に塗布形成後、８０℃２分にて有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで約５μｍの厚みを有する第２ハードコート層２３を形成した。

【0068】

[反射防止層の形成]
荒川工業株式会社製「オプスター」 (屈折率 １．３２)をメチルイソブチルケトンを用い濃度を３．５重量％に希釈する。次に、高屈折率層４の上にこの塗料をオーエスジーシステムプロダクツ株式会社製 D-Bar#2で塗布形成後、８０℃２分間有機溶媒を揮発させた。次に、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することで、厚み１０５ｎｍの単層構成の反射防止層を形成した。

【0069】

上記の作製工程を得て、第１ハードコート層２２／フィルム本体２１／第２ハードコート層２３／反射防止層（単層構成）からなる比較例に係る反射防止フィルムを作製した。

【0070】

[反射率の評価]
実施例と、比較例の反射防止フィルムについて、ＪＩＳ Ｚ８７０１に基づき視感度反射率を計算より求めた。視感度反射率は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の反射防止層の反射スペクトルから標準の光Ｃにおける３刺激値（ＸＹＺ）を求め、そのＹの値が視感度反射率となる。実施例、比較例の各反射防止フィルムについての反射率に関するグラフを図２及び図３に示す。ここで、図２は、実施例に係る反射率に関するグラフであり、横軸を波長（ｎｍ）、縦軸を反射率（％）としており、グラフ中、“入射角５°：正反射に関する反射率”及び“入射角４５°：正反射に関する反射率”についての結果を併せて表記している。また、図３は、比較例に係る反射率に関するグラフであり、横軸を波長（ｎｍ）、縦軸を反射率（％）としており、グラフ中、“入射角５°：正反射に関する反射率”及び“入射角４５°：正反射に関する反射率”についての結果を併せて表記している。また、表１に、実施例及び比較例に関して、視感度反射率（入射角５°：正反射）の値を表示している。また、表１中に、実施例及び比較例に関して、入射角５°：正反射の場合において、波長：４５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲で射率の最大値と最小値について表示している。更に、表１中に、実施例及び比較例に関して、入射角４５°：正反射の場合において、波長：４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲での反射率の最大値と最小値について表示している。ここで、入射角とは、反射防止フィルムの表面に入射する光と、反射防止フィルムの表面に対して垂直な仮想ラインとで作られる角度を意味する。

【0071】

【表1】

【0072】

ここで、表１より、実施例及び比較例に関して、視感度反射率（入射角５°：正反射）の値は、それぞれ０．２３％、０．１６％であり、共に０．６％以下の値を示すことから、実施例及び比較例に係る反射防止フィルムは、反射防止特性に優れるものであることが分かる。

【0073】

また、表１より、実施例においては、入射角５°の場合の波長：４５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差が０．５２であり（０．６８－０．１６）、入射角４５°の場合の波長：４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差が１．１４となっている（１．６８－０．４６）。

【0074】

一方、比較例においては、入射角５°の場合の波長：４５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差が１．０１であり（１．０８－０．０７）、入射角４５°の場合の波長：４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差が１．８３となっている（２．２０－０．３７）。

【0075】

また、図３の比較例における反射率に関するグラフに着目すると、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの範囲において、入射角５°の場合と入射角４５°の場合共に、反射率は、下に凸となる曲線を示すように推移していることが分かる。これに対し、図４の実施例にける反射率に関するグラフでは、入射角５°の場合は、波長４５０ｎｍ～７００ｎｍの範囲において、略フラットに反射率が推移し、入射角４５°の場合には、波長４００ｎｍ～６００ｎｍの範囲において、略フラットに反射率が推移していることが分かる。つまり、実施例に係る反射防止フィルムは、少なくとも波長４５０ｎｍ～６００ｎｍの範囲において、入射角５°の場合と入射角４５°の場合とで、各波長における反射率の変化が極めて小さいものになることから、実施例に係る反射防止フィルムは、比較例に係る反射防止フィルムに比べて、視認角度の変化に応じて視認される色味変化が小さく、反射防止フィルムを備えたディスプレイを斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さいものであることが分かる。

【0076】

ここで、実施例と比較例との結果から、“入射角５°の正反射に関する波長範囲４５０ｎｍ～７５０ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差”が、０．７５以下の範囲となる場合に、反射防止フィルムを備えたディスプレイを斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さくなるという効果を得らえると考えられる。なお、この“０．７５”という値は、実施例における入射角５°の場合の波長：４５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差である“０．５２”と、比較例における入射角５°の場合の波長：４５０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差である“１．０１”の算術平均値（０．７６５）から導いたものである。

【0077】

また、実施例と比較例との結果から、“入射角４５°の正反射に関する波長範囲４００ｎｍ～７００ｎｍにおける反射率（％）の最大値と最小値の差”が、１．５以下の範囲となる場合に、反射防止フィルムを備えたディスプレイを斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さくなるという効果を得らえると考えられる。なお、この“１．５”という値は、実施例における入射角４５°の場合の波長：４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差である“１．１４”と、比較例における入射角４５°の場合の波長：４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲での反射率（％）の最大値と最小値との差である“１．８３”の算術平均値（１．４８５）から導いたものである。

【0078】

［反射色相の評価］
次に、実施例と、比較例の反射防止フィルムの表面（実施例においては低屈折率層５の表面、比較例においては単層の反射防止層の表面）について、分光光度計（日立製作所製、U-4100）を用い、入射角５°～４５°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率曲線から反射光の色相を求め、この色相がCIE1976L*a*b*色空間において、－１５≦ａ*≦１５、－１５≦ｂ*≦１５を満たすかどうかを確認した。なお、測定の際には透明支持体であるフィルム本体２１のうち低屈折率層５が形成されてない面（比較例においては単層の反射防止層が形成されていない面）に粘着層を介して黒色アクリル板を貼り合せ、反射防止の処置をおこなった。測定結果を表２として以下に示す。また、表２の結果に基づいて、実施例及び比較例のそれぞれに関し、各入射角におけるａ*及びｂ*の関係について、横軸をａ*、縦軸ｂ*としてプロットしたグラフを図４及び図５に示す。なお、図４が実施例に関するグラフであり、図５が比較例に関するグラフである。

【0079】

【表2】

【0080】

まず、表２の結果から、実施例及び比較例ともに、CIE1976L*a*b*色空間において、各入射角においてみた場合、－１５≦ａ*≦１５、－１５≦ｂ*≦１５を満たすものであることから、反射光に対して色味が付くことが抑制されていると認められる。しかしながら、表２や図５の比較例におけるａ*及びｂ*に関するグラフに着目すると、比較例に係る反射防止フィルムは、入射角が増加するに従い、ａ*は略一定の値を示すものの、ｂ*は、－１０．２７（入射角５°）から６．７９（入射角４５°）へと大幅に増加しており、視認角度の変化に応じて視認される色味変化が大きいものであることが分かる。これに対し、表２や図４の実施例におけるａ*及びｂ*に関するグラフでは、入射角が変化しても、ａ*の値は、－０．６９（入射角３０°）から１．０４（入射角０°）の範囲内に収まる程度の変化を示すものであり、ｂ*の値は、－５．７１（入射角０°）から０．１６（入射角４５°）の範囲内に収まる程度の変化を示すに過ぎず、入射角が変化しても、ａ*の値、ｂ*の値共に、その変化は小さいものであることが分かる。このことからも、実施例に係る反射防止フィルムは、視認角度の変化に応じて視認される色味変化が小さいものであるということができる。

【0081】

また、図４及び図５の実施例及び比較例におけるａ*及びｂ*に関するグラフに注目すると、実施例に係る反射防止フィルムは、比較例に係る反射防止フィルムに比べて、ａ*及びｂ*が、原点（ａ*＝０、ｂ*＝０）近傍に存在している。このことから、実施例に係る反射防止フィルムは、比較例に係る反射防止フィルムよりも、反射光が色づくことをより一層効果的に抑制できるものであり、優れた反射特性を有することが分かる。

【0082】

このように、実施例に係る反射防止フィルムは、斜めから見た場合であっても、正面から見た場合と比較して、色度の変化が小さく、視認される色味が視認角度に応じて変化することを効果的に防止できるものであり、更に、任意の視認角度において反射光が色づいてしまうことを効果的に防止できるものであることが分かる。

【0083】

また、本発明に係る実施例の反射防止フィルムは、斜めから見た場合（入射角３５°～４５°の範囲）に、反射光に色づきが発生することを極めて効果的に抑制できることを官能試験（視認検査）において確認された。このことは、実施例に係る反射防止フィルムにおけるａ*及びｂ*共に、０近傍の値を示すことからもわかる。斜めから見た場合の反射光に色づきが発生することを効果的に抑制するためには、入射角３５°～４５°の範囲において、少なくとも一の入射角についての反射色相が（―３．０≦ａ*≦３．０、―３．０≦ｂ*≦３．０）であることが好ましい。また、より一層、反射光が色づくことを抑制するためには、入射角３５°～４５°の範囲において、少なくとも一の入射角についての反射色相が（―１．０≦ａ*≦１．０、―２．０≦ｂ*≦２．０）となるように設定することが好ましい。また、斜めから見た場合に、より一層、反射光が色づくことを抑制するためには、入射角３５°～４５°の全範囲において、反射色相が（―３．０≦ａ*≦３．０、―３．０≦ｂ*≦３．０）となるように設定することが好ましく、更には、（―１．０≦ａ*≦１．０、―２．０≦ｂ*≦２．０）となるように設定することが好ましい。ここで、斜めから見た場合の反射光に色づきが発生することを効果的に抑制するためには、入射角３５°～４５°の範囲における反射色相に関し、ａ*及びｂ*の絶対値が低い方が好ましい。表２の結果において入射各３５°～４５°の範囲に着目すると、実施例におけるａ*は、略０付近の値を示すのに対し、比較例におけるａ*は、略６付近の値を示す。このことから、斜めから見た場合に反射光への色づきを抑制するためには、入射角３５°～４５°の範囲において、少なくとも一の入射角についての反射色相に関し、ａ*の絶対値として、“０”と“６”の算術平均値である“３”以下であることが好ましいと考えられ、同様に、実施例におけるｂ*は、略０付近の値を示すのに対し、比較例におけるｂ*は、最大６～７付近の値を示すことから、斜めから見た場合に反射光への色づきを抑制するためには、入射角３５°～４５°の範囲において、少なくとも一の入射角についての反射色相に関し、ｂ*の絶対値として、“０”と“６”の算術平均値である“３”以下であることが好ましいと考えられることから、上記の反射色相（―３．０≦ａ*≦３．０、―３．０≦ｂ*≦３．０）における数値範囲の各境界値が選定されている。

【0084】

以上、本発明に係る反射防止フィルム１の一実施形態について説明したが、反射防止フィルム１の具体的構成は、上記実施形態に限定されない。例えば、上記低屈折率層５について、図６の断面図に示すように、第１低屈折率層５１及び第２低屈折率層５２からなる２層構造として構成することもできる。このような２層構造として低屈折率層５を構成する場合、第１低屈折率層５１としては、バインダー樹脂と無機微粒子とを含む硬化層として構成することが好ましく、第１低屈折率層形成塗液を、高屈折率層４の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき第１低屈折率層５１単層の膜厚（ｄ４）は、光学シミュレーションにより最適な値になるように設計される。また、第１低屈折率層５１の膜厚（ｄ４）は、光学干渉層としての特性から、５０ｎｍ～１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、７０ｎｍ～９０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。また、第１低屈折率層５１の屈折率（ｎ４）は、１．３０から１．４０までの範囲内にあることが望ましく、１．３２から１．３８であることがさらに望ましい。第１低屈折率層５１の屈折率（ｎ４）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、低屈折率材料（低屈折率微粒子）を低屈折率層形成塗液中に多量に添加する必要があるため、機械強度が低くなり傷がつきやすくなる。一方、第１低屈折率層５１の屈折率（ｎ４）が１．４０以上の場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。

【0085】

第１低屈折率層形成塗液に含まれる第１低屈折率微粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１．０）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。

【0086】

第１低屈折率微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。第１低屈折率微粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、第１低屈折率層５１が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下するおそれがある。一方、第１低屈折率微粒子の平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、第１低屈折率層５１における粒子の不均一性等の問題が生じるおそれがある。

【0087】

第１低屈折率層５１を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、紫外線硬化型材料や、熱硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能性モノマー、または単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。紫外線硬化型材料としては、中屈折率層３に用いられる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができ、熱硬化型材料としては、例えばオルガノポリシロキサンを用いることができる。オルガノポリシロキサンからなる層は、オルガノシロキサンを出発原料として湿式法に従い加水分解および脱水重縮合によりえられた層であり、シロキサン（Ｓｉ－Ｏ）骨格に基づく三次元網目構造のポリマーネットワークをなすように構成されている。

【0088】

なお、第１低屈折率層５１を形成するための第１低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、中屈折率層３に用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、光増感剤等が挙げられる。

【0089】

また、第１低屈折率層５１を形成するためのバインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより第１低屈折率層５１を形成する場合には、第１低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、中屈折率層形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。

【0090】

第１低屈折率層５１を形成する方法としては、第１低屈折率層形成用塗液を高屈折率層４の表面に塗布して形成する湿式成膜法による方法を用いることが、安価に反射防止フィルム１を製造することができるという点から好ましい。

【0091】

一方、２層構造として低屈折率層５を構成する場合において形成される第２低屈折率層５２は、第１低屈折率層５１よりも屈折率が高く、中屈折率層３やフィルム本体２１よりも屈折率が低い層である。この第２低屈折率層５２は、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウムから選ばれる１つまたは複数の材料を主成分とする層であり、乾式法を用いて形成することが好ましい。この乾式法によれば、一般的に、湿式法に比べ、より精密な膜厚制御が可能であり、成膜の密着性、均一性が良い等の利点がある。特に密着性においては、湿式法による場合は、接する他の層の濡れ性に依存する事が多く、他の層の材料によっては十分に密着性が得られない場合もある。しかし、乾式法を用いた場合は、比較的他の層の濡れ性に関わらず高い密着性を得る事が出来る。

【0092】

第２低屈折率層５２の材料としては、酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等があげられるが、特に酸化珪素が好ましい。酸化珪素は第１低屈折率層５１とも高い密着性を示し、さらに、第２低屈折率層５２上の最表面に滑剤層６を設けるが、酸化珪素は、他の材料よりもシランカップリング基を有するフッ素系滑剤を主成分とする滑剤層６と高い密着性を示すので好ましい。第２低屈折率層５２を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスを用いることができるが、特に密着性の面からスパッタリング法が好ましい。

【0093】

第２低屈折率層５２の屈折率（ｎ５）は、１．４０から１．５０までの範囲内にあることが望ましい。第２低屈折率層５２の屈折率（ｎ５）は、できるだけ低い方が空気（屈折率＝１）の屈折率に近づき低反射率を実現しやすいものの、第２低屈折率層５２としての特性発現に好適な材料の屈折率に制限がある。一方、第２低屈折率層５２の屈折率（ｎ５が１．５０以上の場合、空気との屈折率の差が大きくなり、反射率が上昇してしまうため好ましくない。

【0094】

第２低屈折率層５２の膜厚は、第１屈折率層５１の最表面に形成されるため、反射防止性を得られる膜厚であることに加え、耐擦傷性を示す膜厚でなければならない。反射防止性、耐擦傷性を得られる膜厚であれば限定されないが、第２低屈折率層５２の膜厚は、１０ｎｍ～５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ～４０ｎｍの範囲内にあることがさらに好ましい。なお、低屈折率層５を第１低屈折率層５１及び第２低屈折率層５２からなる二層構造を採用する場合、第１低屈折率層５２、高屈折率層４、第２低屈折率層５１、中屈折率層３の順に膜厚が大きくなるように形成されることが好ましい。

【0095】

ここで、上述のように、低屈折率層５を第１低屈折率層５１及び第２低屈折率層５２からなる２層構造として構成する場合、反射防止フィルム１は、中屈折率層３、高屈折率層４、第１低屈折率層５１が湿式法によって形成されると共に、第２低屈折率層５２が乾式法によって形成されるため、生産性を向上させることが可能であり、また、製造コストを低減させることが可能となる。また、中屈折率層３、高屈折率層４、第１低屈折率層５１、第２低屈折率層５２をこの順で積層して構成される光学調整層の表面に滑剤層７を積層して反射防止フィルム１を構成するため、極めて優れた反射防止特性を発揮する上、更に、高い耐擦傷性を発揮することが可能となる。

【符号の説明】

【0096】

１ 反射防止フィルム
２ 透明基材フィルム
２１ フィルム本体
２２ 第１ハードコート層
２３ 第２ハードコート層
３ 中屈折率層
４ 高屈折率層
５ 低屈折率層
５１ 第１低屈折率層
５２ 第２低屈折率層
６ 滑剤層

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】