(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-04
(45)【発行日】2023-10-13
(54)【発明の名称】アンダーフィル剤塗布装置およびアンダーフィル剤塗布方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/56 20060101AFI20231005BHJP
B05C 5/00 20060101ALI20231005BHJP
B05D 7/00 20060101ALI20231005BHJP
B05D 3/00 20060101ALI20231005BHJP
H01L 21/301 20060101ALI20231005BHJP
【FI】
H01L21/56 E
B05C5/00 101
B05D7/00 H
B05D3/00 C
B05D3/00 D
H01L21/78 L
(21)【出願番号】P 2019159512
(22)【出願日】2019-09-02
【審査請求日】2022-07-19
(73)【特許権者】
【識別番号】000102980
【氏名又は名称】リンテック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120592
【氏名又は名称】山崎 崇裕
(74)【代理人】
【識別番号】100184712
【氏名又は名称】扇原 梢伸
(74)【代理人】
【識別番号】100192223
【氏名又は名称】加久田 典子
(72)【発明者】
【氏名】杉下 芳昭
【審査官】平野 崇
(56)【参考文献】
【文献】特開2001-160563(JP,A)
【文献】特開2008-258318(JP,A)
【文献】特開2005-270740(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01L 21/56
B05C 5/00
B05D 7/00
B05D 3/00
H01L 21/301
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
凸部が形成された半導体装置の凸部形成面にアンダーフィル剤を塗布するアンダーフィル剤塗布装置において、
前記アンダーフィル剤を塗布する塗布手段と、
前記塗布手段と半導体装置とを相対移動させる移動手段と
、
前記凸部形成面から前記凸部の頂部までの距離を検出可能な凸部検知手段とを備え、
前記塗布手段は、前記移動手段と相互に連動し、
前記凸部検知手段の検知結果を基に、前記凸部において前記凸部形成面から垂直方向に最も離れた頂部を覆うことなく、前記凸部形成面に前記アンダーフィル剤を塗布することを特徴とするアンダーフィル剤塗布装置。
【請求項2】
凸部が形成された半導体装置の凸部形成面にアンダーフィル剤を塗布するアンダーフィル剤塗布方法において、
塗布手段で前記アンダーフィル剤を塗布する塗布工程と、
移動手段で前記塗布手段と半導体装置とを相対移動させる移動工程と
、
前記凸部形成面から前記凸部の頂部までの距離を検出する凸部検知工程とを実施し、
前記塗布工程および移動工程では、前記塗布手段が前記移動手段と相互に連動し、
前記凸部検知工程での検出結果を基に、前記凸部において前記凸部形成面から垂直方向に最も離れた頂部を覆うことなく、前記凸部形成面に前記アンダーフィル剤を塗布することを特徴とするアンダーフィル剤塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アンダーフィル剤塗布装置およびアンダーフィル剤塗布方法に関する。
【背景技術】
【0002】
凸部が形成された半導体装置にアンダーフィル剤を塗布するアンダーフィル剤塗布装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献1に記載された従来のシート貼付装置10(アンダーフィル剤塗布装置)では、バンプBP(凸部)全体を接着シートAD(アンダーフィル剤)で覆ってしまうので、当該凸部の頂部をアンダーフィル剤から露出させるために表出手段60を採用しなければならず、設備が大型化するという不都合を生じる。
【0005】
本発明の目的は、設備が大型化することを防止することができるアンダーフィル剤塗布装置およびアンダーフィル剤塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、請求項に記載した構成を採用した。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、凸部の頂部を覆うことなく、凸部形成面にアンダーフィル剤を塗布するので、凸部の頂部をアンダーフィル剤から露出させるための装置を採用しなくてもよく、設備が大型化することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【
図1】(A)、(B)は、本発明の実施形態の説明図。(C)~(F)は、本発明の変形例の説明図。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態におけるX軸、Y軸、Z軸は、それぞれが直交する関係にあり、X軸およびY軸は、所定平面内の軸とし、Z軸は、前記所定平面に直交する軸とする。さらに、本実施形態では、Y軸と平行な
図1中手前方向から観た場合を基準とし、図を指定することなく方向を示した場合、「上」がZ軸の矢印方向で「下」がその逆方向、「左」がX軸の矢印方向で「右」がその逆方向、「前」がY軸と平行な
図1(A)中手前方向で「後」がその逆方向とする。
【0010】
本発明のアンダーフィル剤塗布装置EAは、凸部としてのバンプBPが形成された半導体装置としての半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」ともいう)WFの凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布する装置であって、アンダーフィル剤ADを塗布する塗布手段10と、塗布手段10とウエハWFとを相対移動させる移動手段20と、凸部形成面WF1におけるバンプBPの位置(以下、単に「バンプ位置」ともいう)を検出する凸部検知手段30と、アンダーフィル剤ADに硬化処理としての加熱を行う硬化手段40とを備え、ウエハWFを支持するウエハ支持手段50の上方に配置されている。
【0011】
塗布手段10は、ホース11Aを介してアンダーフィル剤ADを送る供給ポンプやバキューム装置等の供給機器11と、ホース11Aから送られてきたアンダーフィル剤ADを排出口12Aから排出する塗布ヘッド12とを備え、移動手段20と相互に連動し、バンプBPにおいて凸部形成面WF1から垂直方向に最も離れた頂部BP1を覆うことなく、凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布するように構成されている。
なお、本実施形態の塗布手段10は、アンダーフィル剤ADにおいて凸部形成面WF1から垂直方向に最も離れた頂面AD1と、頂部BP1との間に所定の間隔SPを空けて、アンダーフィル剤ADを塗布するように構成されている。
また、本実施形態のアンダーフィル剤ADは、加熱によって硬化が促進されるものが採用されている。すなわち、本実施形態のアンダーフィル剤ADは、流動性に富む液体またはジェル状体で供給機器11から塗布ヘッド12へ送られ、当該塗布ヘッド12によって凸部形成面WF1に塗布された後、加熱されることで流動性が低下し、固体または固体に近いジェル状体に変化して硬化するものが採用されている。
【0012】
移動手段20は、それぞれのスライダ21A、22Aを前後方向に移動させる駆動機器としてのリニアモータ21、22と、各スライダ21A、22Aに支持され、スライダ23Aを左右方向に移動させる駆動機器としてのリニアモータ23と、スライダ23Aに支持され、上下方向に移動可能な出力軸24Aで塗布ヘッド12を支持する駆動機器としての直動モータ24とを備えている。
【0013】
凸部検知手段30は、カメラや投影機等の撮像手段や、光学センサや超音波センサ等の各種センサ等からなる検知機器31を備えている。
なお、凸部検知手段30は、バンプBPの頂部BP1の位置および、凸部形成面WF1からバンプBPの頂部BP1までの距離(以下、単に「バンプ高さ」ともいう)も検出可能に設けられている。また、本実施形態の塗布手段10は、凸部検知手段30の検知結果を基に、アンダーフィル剤ADを塗布するように構成されている。
【0014】
硬化手段40は、スライダ41Aを左右方向に移動させる駆動機器としてのリニアモータ41と、支持アーム42を介してスライダ41Aに支持された加熱機器43とを備えている。加熱機器43は、コイルヒータやヒートパイプの加熱側等の熱源43Aを備えている。なお、熱源43Aは、ウエハWFの前後方向の最大長さよりも長い領域がその熱付与領域とされている。
【0015】
ウエハ支持手段50は、減圧ポンプや真空エジェクタ等の図示しない減圧手段によって吸着保持が可能な支持面51Aを有する支持テーブル51を備えている。
【0016】
以上のアンダーフィル剤塗布装置EAの動作を説明する。
先ず、
図1(A)中実線で示す初期位置に各部材が配置されたアンダーフィル剤塗布装置EAに対し、当該アンダーフィル剤塗布装置EAの使用者(以下、単に「使用者」という)が、操作パネルやパーソナルコンピュータ等の図示しない操作手段を介して自動運転開始の信号を入力する。次いで、使用者または、多関節ロボットやベルトコンベア等の図示しない搬送手段が、
図1(A)中実線で示すように、ウエハWFを支持テーブル51上に載置すると、ウエハ支持手段50が図示しない減圧手段を駆動し、支持面51AでのウエハWFの吸着保持を開始する。
【0017】
その後、凸部検知手段30が検知機器31を駆動し、バンプ位置、バンプBPの頂部BP1の位置およびバンプ高さを検出する。なお、リニアモータ23の初期位置は、ウエハWFの上方から後方向に退避した位置となっている。次に、凸部検知手段30の検知結果を基にして、塗布手段10および移動手段20が供給機器11、塗布ヘッド12、各リニアモータ21~23および直動モータ24を駆動し、相互に動作タイミングを取り合って、バンプBPの頂部BP1を覆うことなく、凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布する。この際、塗布手段10は、
図1(B)に示すように、アンダーフィル剤ADの頂面AD1と、バンプBPの頂部BP1との間に所定の間隔SPを空けて、凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布する。また、塗布手段10は、
図1(B)に示すように、凸部形成面WF1からアンダーフィル剤ADの頂面AD1までの距離(以下、単に「アンダーフィル剤高さ」ともいう)と、バンプ高さとが同じ高さとなるように、凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布する。なお、移動手段20の駆動が開始されると、硬化手段40がリニアモータ41および熱源43Aを駆動し、
図1(A)中二点鎖線で示すように、塗布ヘッド12の右方への移動に同期させて加熱機器43を右方へ移動させる。これにより、凸部形成面WF1に塗布されたアンダーフィル剤ADに熱が付与され、当該アンダーフィル剤ADの硬化が促進される。
【0018】
そして、アンダーフィル剤ADの塗布が完了すると、塗布手段10および移動手段20が供給機器11、塗布ヘッド12、各リニアモータ21~23および直動モータ24の駆動を停止する。次いで、アンダーフィル剤ADの硬化が完了すると、硬化手段40が熱源43Aの駆動を停止した後、リニアモータ41を駆動し、加熱機器43を初期位置に復帰させる。その後、移動手段20が各リニアモータ21~23および直動モータ24を駆動し、塗布ヘッド12を初期位置に復帰させた後、ウエハ支持手段50が図示しない減圧手段の駆動を停止し、支持面51AでのウエハWFの吸着保持を解除する。次に、使用者または図示しない搬送手段が、アンダーフィル剤ADが塗布されたウエハWFを支持面51A上から取り去って次の工程に搬送し、以降上記同様の動作が繰り返される。
【0019】
以上のような実施形態によれば、バンプBPの頂部BP1を覆うことなく、凸部形成面WF1にアンダーフィル剤ADを塗布するので、バンプBPの頂部BP1をアンダーフィル剤ADから露出させるための装置を採用しなくてもよく、設備が大型化することを防止することができる。
【0020】
本発明における手段および工程は、それら手段および工程について説明した動作、機能または工程を果たすことができる限りなんら限定されることはなく、まして、前記実施形態で示した単なる一実施形態の構成物や工程に全く限定されることはない。例えば、凸部検知手段は、凸部形成面における凸部の位置を検出可能なものであれば、出願当初の技術常識に照らし合わせ、その技術範囲内のものであればなんら限定されることはない(その他の手段および工程も同じ)。
【0021】
塗布手段10は、インクジェットプリンタを採用し、当該インクジェットプリンタのインクジェットヘッドでアンダーフィル剤ADを塗布するように構成してもよいし、3Dプリンタを採用し、当該3Dプリンタのプリントヘッドでアンダーフィル剤ADを塗布するように構成してもよいし、粉末の樹脂や金属等に接着剤を吹き付けて塗布し、それをアンダーフィル剤とするものを採用してもよいし、樹脂や金属を溶かして焼結させて塗布し、それをアンダーフィル剤とするものを採用してもよいし、刷毛、布、スポンジ等でアンダーフィル剤ADを塗布したり、圧縮エアをバルブの開閉で制御し、アンダーフィル剤ADを吹き飛ばして塗布したりするもの等、どのようなものを使用してもよい。
塗布手段10は、例えば、
図1(C)に示すように、バンプBPにアンダーフィル剤ADを塗布しないように当該アンダーフィル剤ADを塗布してもよいし、
図1(D)に示すように、頂面AD1と頂部BP1との間に間隔SPを空けないようにアンダーフィル剤ADを塗布してもよいし、
図1(E)に示すように、バンプBPを避けた凸部形成面WF1の一部にアンダーフィル剤ADを塗布してもよいし、アンダーフィル剤高さがバンプ高さよりも低くなるようにアンダーフィル剤ADを塗布してもよいし、アンダーフィル剤高さがバンプ高さよりも高くなるように、アンダーフィル剤ADを塗布してもよい。
塗布手段10は、
図1(F)に示すように、ウエハWFを切断する切断予定領域CLにアンダーフィル剤ADが位置しないように、当該アンダーフィル剤ADを塗布してもよい。このようにすることで、ウエハWFを切断する切断刃等の切断手段CMにアンダーフィル剤ADが付着することを防止したり、切断されるアンダーフィル剤ADが塵埃となって飛び散ることを防止したりすることができる。
【0022】
移動手段20は、塗布手段10を移動させずにまたは移動させつつ、ウエハWFを移動させてもよいし、2体のリニアモータ21、22のうち一方を採用しなくてもよいし、リニアモータ21~23に代えて所謂XYテーブルを採用してもよいし、リニアモータ21~23および直動モータ24に代えて、例えば、2軸~6軸または7軸等の多関節ロボットを採用してもよいし、供給機器11、ホース11Aおよび塗布ヘッド12を合わせた塗布手段10全体とウエハWFとを相対移動させる構成でもよいし、一度の塗布でアンダーフィル剤ADが所定の状態で塗布されるように塗布手段10を移動させてもよいし、積み重ねるように塗布することでアンダーフィル剤ADが所定の状態で塗布されるように塗布手段10を移動させてもよい。
【0023】
凸部検知手段30は、3Dスキャナを採用してもよいし、バンプ位置を検知するバンプ位置検知手段と、バンプBPの頂部BP1の位置を検知する頂部検知手段と、バンプ高さを検知するバンプ高さ検知手段とをそれぞれ別々に設けてもよいし、それらの内少なくとも2つを1つのもので構成してもよいし、バンプ位置検知手段、頂部検知手段およびバンプ高さ検知手段のうち少なくとも1つが備わっていなくてもよいし、本発明のアンダーフィル剤塗布装置EAに備わっていてもよいし、備わっていなくてもよく、アンダーフィル剤塗布装置EAに凸部検知手段30が備わっていない場合、例えば、塗布手段10が移動手段20と相互に連動し、予め記憶された動作を行ってアンダーフィル剤ADを塗布すればよい。
【0024】
硬化手段40は、ウエハWFの前後方向の最大長さよりも短い領域がその熱付与領域とされた熱源43Aを採用し、当該熱源43Aを左右および前後方向に移動させて凸部形成面WF1に塗布されたアンダーフィル剤ADを加熱してもよいし、加熱機器43を移動させずにまたは移動させつつウエハWFを移動させ、凸部形成面WF1に塗布されたアンダーフィル剤ADを加熱してもよいし、凸部形成面WF1に塗布されたアンダーフィル剤ADを全体的に一括で加熱してもよいし、塗布ヘッド12の右方への移動に同期させることなく加熱機器43を移動させ、アンダーフィル剤ADを加熱してもよいし、アンダーフィル剤ADを加熱する時間やその熱量が、当該アンダーフィル剤ADの特性、特質、性質、材質、組成および構成等によって任意に決定されてもよいし、硬化処理として、例えば、熱湯や熱風等による加熱でもよいし、熱の付与以外に、例えば、紫外線、赤外線、可視光線、音波、X線またはガンマ線等の電磁波を付与したり、雰囲気や強制冷却した気体等を送風したりしてもよく、アンダーフィル剤ADの特性、特質、性質、材質、組成および構成等を考慮し、当該アンダーフィル剤ADを硬化させることができる処理であればどのような処理を行ってもよいし、電磁波、熱または冷風等をアンダーフィル剤ADに集中して付与する集光板や収集板等の集中手段を採用してもよいし、電磁波の発生源として、レーザ、LEDランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ等を採用してもよいし、公知の電磁波発生装置を採用してもよいし、それらを適宜に組み合わせたものを採用してもよく、どのようなものを採用してもよいし、本発明のアンダーフィル剤塗布装置EAに備わっていてもよいし、備わっていなくてもよい。
【0025】
ウエハ支持手段50は、吸着保持ができなくてもよいし、本発明のアンダーフィル剤塗布装置EAに備わっていてもよいし、備わっていなくてもよい。
【0026】
アンダーフィル剤ADは、液体樹脂でもよいし、粉末樹脂でもよいし、金属でもよいし、紫外線、赤外線、可視光線、音波、X線またはガンマ線等の電磁波や、熱湯や熱風等の熱、冷却または、自然乾燥や送風による乾燥等、どのような処理で硬化するものが採用されてもよいし、硬化処理によって硬化が促進されるものでなくてもよいし、硬化処理を施さなくても硬化するものでもよい。
アンダーフィル剤ADは、半導体装置に塗布した後、接着力があってもよいし、接着力がなくてもよいし、硬化してもよいし、硬化しなくてもよい。
アンダーフィル剤ADを塗布した半導体装置を他のものに取り付ける場合、接着力のあるアンダーフィル剤ADの接着力で他のものに取り付けてもよいし、アンダーフィル剤ADに接着力がないときには、アンダーフィル剤ADの頂面AD1や、バンプBPの頂点PB1に公知の接着剤を設けたり、バンプBPを溶融させたりして他のものに取り付けてもよいし、例えば、紫外線、赤外線、可視光線、音波、X線またはガンマ線等の電磁波を付与したり、加熱したり、強制冷却した気体や雰囲気を送風したりしてアンダーフィル剤ADを一時的に溶融させて他のものに取り付けてもよい。
【0027】
本発明における半導体装置の材質、種別、形状等は、特に限定されることはない。例えば、半導体装置の形状は、円形、楕円形、三角形や四角形等の多角形、その他の形状であってもよいし、シリコン半導体ウエハや化合物半導体ウエハ等の半導体ウエハであってもよい。
上記の実施形態では、半導体装置としてウエハWFを例示したが、当該半導体装置は、半導体ウエハWFが所謂ダイシング工程を経て個片化された個々の半導体チップであってもよいし、半導体ウエハや半導体チップが取り付けられる回路基板、樹脂基板、リードフレーム等であってもよい。なお、半導体装置が回路基板、樹脂基板、リードフレーム等である場合、凸部は電極、接点または端子とすることができる。
【0028】
前記実施形態における駆動機器は、回動モータ、直動モータ、リニアモータ、単軸ロボット、2軸または3軸以上の関節を備えた多関節ロボット等の電動機器、エアシリンダ、油圧シリンダ、ロッドレスシリンダ及びロータリシリンダ等のアクチュエータ等を採用することができる上、それらを直接的又は間接的に組み合せたものを採用することもできる。
前記実施形態において、支持(保持)手段や支持(保持)部材等の被支持部材(被保持部材)を支持(保持)するものが採用されている場合、メカチャックやチャックシリンダ等の把持手段、クーロン力、接着剤(接着シート、接着テープ)、粘着剤(粘着シート、粘着テープ)、磁力、ベルヌーイ吸着、吸引吸着、駆動機器等で被支持部材を支持(保持)する構成を採用してもよいし、切断手段や切断部材等の被切断部材を切断または、被切断部材に切込や切断線を形成するものが採用されている場合、上記で例示したものに代えてまたは併用して、カッター刃、レーザカッタ、イオンビーム、火力、熱、水圧、電熱線、気体や液体等の吹付け等で切断するものを採用したり、適宜な駆動機器を組み合わせたもので切断するものを移動させて切断するようにしたりしてもよい。
【符号の説明】
【0029】
EA アンダーフィル剤塗布装置
10 塗布手段
20 移動手段
30 凸部検知手段
40 硬化手段
AD アンダーフィル剤
AD1 頂面
BP バンプ(凸部)
BP1 頂部
CL 切断予定領域
SP 間隔
WF 半導体ウエハ(半導体装置)
WF1 凸部形成面