ホーム > 特許ランキング > 国立大学法人東海国立大学機構
▶ 国立大学法人名古屋大学の特許一覧 ▶ 日本メナード化粧品株式会社の特許一覧
特許7362014マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-06
(45)【発行日】2023-10-17
(54)【発明の名称】マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法
(51)【国際特許分類】
A01G 18/60 20180101AFI20231010BHJP
A23L 19/00 20160101ALI20231010BHJP
A23L 33/10 20160101ALI20231010BHJP
A61K 36/074 20060101ALI20231010BHJP
A61P 17/16 20060101ALI20231010BHJP
A61K 8/9728 20170101ALI20231010BHJP
A61Q 19/00 20060101ALI20231010BHJP
A01G 7/04 20060101ALI20231010BHJP
A23G 3/36 20060101ALN20231010BHJP
A23L 2/52 20060101ALN20231010BHJP
A23L 2/39 20060101ALN20231010BHJP
【ＦＩ】
A01G18/60
A23L19/00 101
A23L33/10
A61K36/074
A61P17/16
A61K8/9728
A61Q19/00
A01G7/04 A
A23G3/36
A23L2/00 F
A23L2/00 Q
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2022121650
(22)【出願日】2022-07-29
(62)【分割の表示】P 2018059051の分割
【原出願日】2018-03-26
(65)【公開番号】P2022163106
(43)【公開日】2022-10-25
【審査請求日】2022-07-29
(73)【特許権者】
【識別番号】504139662
【氏名又は名称】国立大学法人東海国立大学機構
(73)【特許権者】
【識別番号】592262543
【氏名又は名称】日本メナード化粧品株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000648
【氏名又は名称】弁理士法人あいち国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】堀 勝
(72)【発明者】
【氏名】水野 正明
(72)【発明者】
【氏名】堀越 章
(72)【発明者】
【氏名】高辻 茂
(72)【発明者】
【氏名】中村 昭平
(72)【発明者】
【氏名】河野 元宏
(72)【発明者】
【氏名】深田 紘介
(72)【発明者】
【氏名】坂井田 勉
(72)【発明者】
【氏名】八代 洋一
【審査官】大澤 元成
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１３／１６１９３９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１７－１２７２６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－００２９３７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１５－５２７７０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０７７７６０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００２－３１６０３９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１１０３２６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－０４３０１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－０２３０２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－１９６７６１（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ａ０１Ｇ １８／００－１８／８０
Ｈ０５Ｈ １／２４
Ｃ１２Ｎ １／１４
Ａ６１Ｋ ３６／０７４
Ａ６１Ｐ ３９／０６
Ａ６１Ｋ ８／９７２８
Ａ６１Ｑ １９／０２
Ａ６１Ｋ ３１／１９
Ａ６１Ｐ ３５／００
Ａ６１Ｐ ９／１２
Ａ６１Ｐ ３／０６
Ａ６１Ｐ １７／００
Ａ２３Ｌ ３３／１０５
Ａ２３Ｌ １９／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１導電体を備える第１電極体と、前記第１導電体と対向する第２導電体を有する第２電極体と、前記第１導電体と前記第２導電体との間に交流電圧を印加する電圧印加部と、を有するプラズマ発生装置を用い、前記プラズマ発生装置の前記第１導電体をマンネンタケの培養原木または培養菌床に直接接触させることなく、前記第２電極体の前記第２導電体を前記培養原木または前記培養菌床に間接接触または直接接触させた状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射し、
前記培養原木または前記培養菌床がミネラルを含有する水を含むこと
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
【請求項2】
請求項１に記載のマンネンタケの生産方法において、マンネンタケの培養原木または培養菌床を絶縁体の層で覆い、
前記第２電極体の前記第２導電体を前記絶縁体の層の外側から間接接触させた状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射する、
ことを特徴とするマンネンタケの生産方法。
【請求項3】
請求項２に記載のマンネンタケの生産方法において、前記第１導電体および前記第２導電体は平板電極であり、
前記第２導電体の上に前記培養原木または前記培養菌床を配置し、
前記第２導電体における前記絶縁体の層との接触面を含む面の面積が、
前記培養原木または前記培養菌床の底面の面積よりも広いこと
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
【請求項4】
請求項２に記載のマンネンタケの生産方法において、前記第２導電体が、
前記絶縁体の層の側面に巻き付けられていること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
【請求項5】
請求項１に記載のマンネンタケの生産方法において、前記第２電極体の前記第２導電体を前記培養原木または前記培養菌床に直接接触させた状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射する、
ことを特徴とするマンネンタケの生産方法。
【請求項6】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする抗酸化剤の生産方法。
【請求項7】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする医薬品の生産方法。
【請求項8】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする食品の生産方法。
【請求項9】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする皮膚外用剤の生産方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本明細書の技術分野は、マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法に関する。
【背景技術】
【0002】
マンネンタケは、生薬「霊芝」に用いられる担子菌である。マンネンタケは幅広い生理活性を有し、漢方としても汎用されている。マンネンタケは、βーグルカン等の多糖類や、ガノデリン酸等のトリテルペン類といった有効成分を含有する。β－グルカンは、抗癌作用や免疫賦活作用等を有することが知られている。また、ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用等、多くの効果が報告されている。また、マンネンタケの抽出物としては、保湿作用、細胞増殖促進作用、美白作用、コラーゲン合成促進作用などの薬効が知られている。
【0003】
現在、流通するマンネンタケはそのほとんどが人工栽培である。その栽培方法として、主に原木栽培と菌床栽培の二つの方法が用いられている。マンネンタケの収穫量および有効成分の増加を目的として、様々な栽培方法が開発されてきている。例えば特許文献１には、クロレラ熱水抽出残渣やコッコミクサ乾燥粉末を培地成分として使用するマンネンタケの栽培方法が開示されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１４－１５８４４１号公報
【文献】特開２０１２－５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、一般の茸の栽培において、ほだ木に電気刺激を加える技術が開発されてきている。例えば特許文献２には、ほだ木に栽培体側電極１ａを差し込み、栽培体側電極１ａと放電極２０との間に火花放電を発生させる技術が開示されている（特許文献２の図１等参照）。これにより、茸の収穫量が増加することが開示されている（特許文献２の段落［００２４］参照）。
【0006】
しかし、食用の茸とは異なり、マンネンタケは抽出される有効成分が前述の薬効として活用される。したがって、マンネンタケを生産する際には、収穫量の増加とともに有効成分の増加が要求される。有効成分は、例えば、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用を有するガノデリン酸である。また、マンネンタケの効能として抗酸化作用が増加することが好ましい。
【0007】
本明細書の技術は、前述した従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものである。その課題とは、マンネンタケの収穫量を増加させるとともに効能または有効成分を増加させることのできるマンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
第１の態様は、第１導電体を備える第１電極体と、前記第１導電体と対向する第２導電体を有する第２電極体と、前記第１導電体と前記第２導電体との間に交流電圧を印加する電圧印加部と、を有するプラズマ発生装置を用い、前記プラズマ発生装置の前記第１導電体をマンネンタケの培養原木または培養菌床に直接接触させることなく、前記第２電極体の前記第２導電体を前記培養原木または前記培養菌床に間接接触または直接接触させた状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射し、前記培養原木または前記培養菌床がミネラルを含有する水を含むことを特徴とするマンネンタケの生産方法である。
【0009】
このマンネンタケの生産方法においては、マンネンタケの収穫量は従来に比べて多い。この生産方法により得られたマンネンタケの抽出物は、従来のマンネンタケの抽出物よりも高い抗酸化作用を示す。また、この生産方法により得られたマンネンタケに含まれるガノデリン酸の含有量は、従来のマンネンタケに含まれるガノデリン酸の含有量よりも多い。このように、このマンネンタケの生産方法は、収穫量を増加させると同時に効能または有効成分を増加させる。
【発明の効果】
【0010】
本明細書では、マンネンタケの収穫量を増加させるとともに効能または有効成分を増加させることのできるマンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】第１の実施形態の第１のプラズマ発生装置の構造を示す概略構成図である。
【図2】第１の実施形態の第２のプラズマ発生装置の構造を示す概略構成図である。
【図3】第１の本実施形態における第１のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図である。
【図4】第１の実施形態における第２のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図（その１）である。
【図5】第１の実施形態における第２のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図（その２）である。
【図6】霊芝抽出物のＨＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、具体的な実施形態について、マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法を例に挙げて図を参照しつつ説明する。マンネンタケの子実体の抽出物は１以上の成分を含有する。実施形態および実施例において、マンネンタケの抽出物の成分を単に成分と記載することがある。
【0013】
（第１の実施形態）
第１の実施形態について説明する。第１の実施形態は、マンネンタケの生産方法である。本実施形態のマンネンタケの生産方法は、プラズマ発生装置を用いてマンネンタケを生産する方法である。
第１の実施形態について説明する。第１の実施形態は、マンネンタケの生産方法である。本実施形態のマンネンタケの生産方法は、プラズマ発生装置を用いてマンネンタケを生産する方法である。
【0014】
１．マンネンタケ
本実施形態のマンネンタケの菌株は、生薬「霊芝」に用いられる担子菌であり、マンネンタケ科（Ｇａｎｏｄｅｒｍａｔａｃｅａｅ）、マンネンタケ属（Ｇａｎｏｄｅｒｍａ）に属する。マンネンタケ属のキノコには、中国の薬学古書である「本草綱目」や「神農本草経」に赤霊芝（霊芝）、黒霊芝（黒芝）、紫霊芝（紫芝）、青霊芝（青芝）、黄霊芝（黄芝）および白霊芝（白芝）が存在すると記載されている。赤霊芝の一種として、鹿角霊芝もあげられる。赤霊芝および鹿角霊芝の学名は（Ｇａｎｏｄｅｒｍａ ｌｕｃｉｄｕｍ）である。黒霊芝の学名は（Ｇ．ａｔｒｕｍ、Ｇ．ｊａｐｏｎｉｃｕｍ、Ｇ．ｓｉｎｅｎｓｅ）である。
本実施形態のマンネンタケの菌株は、生薬「霊芝」に用いられる担子菌であり、マンネンタケ科（Ｇａｎｏｄｅｒｍａｔａｃｅａｅ）、マンネンタケ属（Ｇａｎｏｄｅｒｍａ）に属する。マンネンタケ属のキノコには、中国の薬学古書である「本草綱目」や「神農本草経」に赤霊芝（霊芝）、黒霊芝（黒芝）、紫霊芝（紫芝）、青霊芝（青芝）、黄霊芝（黄芝）および白霊芝（白芝）が存在すると記載されている。赤霊芝の一種として、鹿角霊芝もあげられる。赤霊芝および鹿角霊芝の学名は（Ｇａｎｏｄｅｒｍａ ｌｕｃｉｄｕｍ）である。黒霊芝の学名は（Ｇ．ａｔｒｕｍ、Ｇ．ｊａｐｏｎｉｃｕｍ、Ｇ．ｓｉｎｅｎｓｅ）である。
【0015】
マンネンタケの菌株として、中国や日本市場等で流通しているものを用いることができる。また、マンネンタケの組織等から分離培養して生産されたものであってもよい。
【0016】
２．プラズマ発生装置
２－１．第１のプラズマ発生装置
２－１－１．第１のプラズマ発生装置の構造
図１は、本実施形態の第１のプラズマ発生装置１００の構造を示す概略構成図である。第１のプラズマ発生装置１００は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第１のプラズマ発生装置１００は、２つの電極体の間に配置された対象物Ｏ１との間にプラズマを発生させる。対象物Ｏ１は、導電体であることが好ましい。もしくはある程度の導電性を備えていることが好ましい。対象物Ｏ１は、例えばポリ袋のような薄い絶縁体の層を外部に有していてもよい。
２－１．第１のプラズマ発生装置
２－１－１．第１のプラズマ発生装置の構造
図１は、本実施形態の第１のプラズマ発生装置１００の構造を示す概略構成図である。第１のプラズマ発生装置１００は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第１のプラズマ発生装置１００は、２つの電極体の間に配置された対象物Ｏ１との間にプラズマを発生させる。対象物Ｏ１は、導電体であることが好ましい。もしくはある程度の導電性を備えていることが好ましい。対象物Ｏ１は、例えばポリ袋のような薄い絶縁体の層を外部に有していてもよい。
【0017】
図１に示すように、第１のプラズマ発生装置１００は、第１電極体１１０と第２電極体１２０と電圧印加部１３０とを有する。第１電極体１１０は、第１電極１１１と誘電体１１２とを有する。第１電極１１１は、第１導電体である。第１電極１１１は、例えば金属である。第１電極１１１の材質として、例えば、銅、アルミニウムが挙げられる。もちろん、その他の金属または合金であってよい。また、第１電極１１１は平板形状の平板電極である。
【0018】
誘電体１１２は、平板形状をしている。誘電体１１２は、第１電極１１１と接している。誘電体１１２は、第１電極１１１における第２電極１２１と対面する側の面１１１ａに設けられている。つまり、誘電体１１２が、第１電極１１１の表面を覆っている。誘電体１１２は、面１１２ａを有する。誘電体として、例えば、石英ガラスやセラミックスが挙げられる。もちろん、その他の誘電体を用いてもよい。
【0019】
第２電極体１２０は、第２電極１２１を有する。第２電極１２１は、第２導電体である。第２電極１２１は、例えば金属である。第２電極１２１の材質として、例えば、銅、アルミニウムが挙げられる。もちろん、その他の金属または合金であってよい。第２電極１２１は平板形状の平板電極である。第２電極１２１は、第１電極体１１０と対面する側の面１２１ａを有する。
【0020】
また、誘電体１１２の平板形状の面積は、第１電極１１１の平板形状の面積よりも大きい。そのため、第２電極１２１からみると、第１電極１１１の面１１１ａは誘電体１１２の奥に隠れている。
【0021】
第１電極体１１０と第２電極体１２０とは、互いに対向する対向電極である。第１電極体１１０の誘電体１１２の面１１２ａと、第２電極体１２０の第２電極１２１の面１２１ａとは、対向している。また、第１電極体１１０の第１電極１１１の面１１１ａと、第２電極体１２０の第２電極１２１の面１２１ａとは、対向している。
【0022】
２－１－２．第１のプラズマ発生装置のプラズマ発光領域
図１に示すように、電圧印加部１３０が第１電極１１１と第２電極１２１との間に交流電圧を印加する。ここで、交流電圧は、例えば、１ｋＶ以上１０ｋＶ以下である。その周波数は、５ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下である。これらは例示であり、これら以外の数値であってもよい。対象物Ｏ１は導電体であるため、第２電極１２１と対象物Ｏ１とはほとんど同じ電位である。一方、第１電極１１１と対象物Ｏ１との間には誘電体１１２が配置されている。つまり、第１電極１１１と対象物Ｏ１とは絶縁されている。そして、第１電極１１１と対象物Ｏ１との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第１電極１１１と対象物Ｏ１との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体１１２と対象物Ｏ１との間に放電が生じる。そして、プラズマ発光領域Ｐ１にプラズマが発生する。プラズマ発光領域Ｐ１は、プラズマの生成により発光している領域である。
図１に示すように、電圧印加部１３０が第１電極１１１と第２電極１２１との間に交流電圧を印加する。ここで、交流電圧は、例えば、１ｋＶ以上１０ｋＶ以下である。その周波数は、５ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下である。これらは例示であり、これら以外の数値であってもよい。対象物Ｏ１は導電体であるため、第２電極１２１と対象物Ｏ１とはほとんど同じ電位である。一方、第１電極１１１と対象物Ｏ１との間には誘電体１１２が配置されている。つまり、第１電極１１１と対象物Ｏ１とは絶縁されている。そして、第１電極１１１と対象物Ｏ１との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第１電極１１１と対象物Ｏ１との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体１１２と対象物Ｏ１との間に放電が生じる。そして、プラズマ発光領域Ｐ１にプラズマが発生する。プラズマ発光領域Ｐ１は、プラズマの生成により発光している領域である。
【0023】
つまり、図１に示すように、第１のプラズマ発生装置１００は、誘電体１１２と対象物Ｏ１との間の位置にプラズマ発光領域Ｐ１を生成する。第１電極１１１および第２電極１２１は平板電極である。そして、電圧印加部１３０が印加する電圧により、誘電体１１２と対象物Ｏ１とが対面する領域の各所で放電が生じる。そのため、プラズマ発光領域Ｐ１の形状は、誘電体１１２の平板形状に相当する平面形状をしている。プラズマ発光領域Ｐ１におけるプラズマは、対象物Ｏ１の上面Ｏ１ａの上にほぼ均一に生成される。また、プラズマ発光領域Ｐ１は、第１電極体１１０と第２電極体１２０とにより挟まれた空間の内部に位置している。
【0024】
２－２．第２のプラズマ発生装置
２－２－１．第２のプラズマ発生装置の構造
図２は、本実施形態の第２のプラズマ発生装置２００の構造を示す概略構成図である。第２のプラズマ発生装置２００は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第２のプラズマ発生装置２００は、２つの電極体の間に放電させることにより生じるプラズマを対象物Ｏ１に照射する。第２のプラズマ発生装置２００を使用する際には、対象物Ｏ１の導電性は要求されない。
２－２－１．第２のプラズマ発生装置の構造
図２は、本実施形態の第２のプラズマ発生装置２００の構造を示す概略構成図である。第２のプラズマ発生装置２００は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第２のプラズマ発生装置２００は、２つの電極体の間に放電させることにより生じるプラズマを対象物Ｏ１に照射する。第２のプラズマ発生装置２００を使用する際には、対象物Ｏ１の導電性は要求されない。
【0025】
図２に示すように、第２のプラズマ発生装置２００は、筐体２０１と、第１電極体２１０と、第２電極体２２０と、電圧印加部２３０と、ガス供給部２４０と、照射口２０１ａと、を有する。
【0026】
第１電極体２１０は、第１電極２１１と、誘電体２１２と、を有する。第１電極２１１は、導電体である。第１電極２１１は、例えば金属である。第１電極２１１は、円筒形状である。また、誘電体２１２も円筒形状である。誘電体２１２は、第１電極２１１の内側に配置されている。
【0027】
第２電極体２２０は、第２電極２２１を有する。第２電極２２１は棒状電極である。また、誘電体２１２は、第１電極２１１と第２電極２２１との間の位置に配置されている。
【0028】
ガス供給部２４０は、ガスを筐体２０１の内部に供給する。そのため、ガス供給部２４０が供給するガスは、第１電極体２１０と第２電極体２２０との間に供給される。ガス供給部２４０が供給するガスは、例えば、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスである。または、大気であってもよい。ガス供給部２４０がＡｒ等の希ガスを供給すると、第２のプラズマ発生装置２００はプラズマを発生させやすい。
【0029】
２－２－２．第２のプラズマ発生装置のプラズマ発光領域
図２に示すように、電圧印加部２３０が第１電極２１１と第２電極２２１との間に交流電圧を印加する。そして、第１電極２１１と第２電極２２１との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第１電極２１１と第２電極２２１との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体２１２と第２電極２２１との間に放電が生じる。そして、その放電領域にプラズマが発生する。
図２に示すように、電圧印加部２３０が第１電極２１１と第２電極２２１との間に交流電圧を印加する。そして、第１電極２１１と第２電極２２１との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第１電極２１１と第２電極２２１との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体２１２と第２電極２２１との間に放電が生じる。そして、その放電領域にプラズマが発生する。
【0030】
ガス供給部２４０がガスを第２のプラズマ発生装置２００の筐体２０１の内部に供給しているため、プラズマは照射口２０１ａから照射されることとなる。そして、図２に示すように、照射口２０１ａの外部にプラズマ発光領域Ｐ２が発生する。プラズマ発光領域Ｐ２は、プラズマの生成により発光している領域である。
【0031】
３．原木または菌床へのプラズマの照射方法
３－１．第１のプラズマ発生装置
図３は、本実施形態における第１のプラズマ発生装置１００を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図である。菌床Ｂ１は、上面Ｂ１ａを有する。上面Ｂ１ａは凹凸形状を有する。図３では、説明のために上面Ｂ１ａの凹凸形状が大きめに描かれている。図３では、菌床Ｂ１について描かれているが、原木に対しても同様に用いることができる。ここで、原木や菌床は、ミネラルを含有する水を含んでいる。そのため、原木や菌床は、ある程度の導電性を備えていると考えられる。
３－１．第１のプラズマ発生装置
図３は、本実施形態における第１のプラズマ発生装置１００を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図である。菌床Ｂ１は、上面Ｂ１ａを有する。上面Ｂ１ａは凹凸形状を有する。図３では、説明のために上面Ｂ１ａの凹凸形状が大きめに描かれている。図３では、菌床Ｂ１について描かれているが、原木に対しても同様に用いることができる。ここで、原木や菌床は、ミネラルを含有する水を含んでいる。そのため、原木や菌床は、ある程度の導電性を備えていると考えられる。
【0032】
図３に示すように、第２電極体１２０の第２電極１２１は、菌床Ｂ１の下面Ｂ１ｂに接触している。第１電極体１１０の誘電体１１２は、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａに接触している。第１電極体１１０の第１電極１１１は、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａに接触していない。
【0033】
図３に示すように、第１電極体１１０の誘電体１１２と菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａとの間にはわずかに隙間がある。そして、その隙間がプラズマ発光領域Ｐ１ｍとなる。プラズマ発光領域Ｐ１ｍは、プラズマの生成により発光している領域である。
【0034】
図３に示すように、プラズマ発光領域Ｐ１ｍは、菌床Ｂ１に接触している。
【0035】
図３では、鉛直上方から視たときに、第１電極体１１０の誘電体１１２の大きさは、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの大きさより小さい。そのため、プラズマ発光領域Ｐ１ｍは、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの一部に接触している。菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａは、プラズマを照射された領域とプラズマを照射されていない領域とを含む。つまり、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの一部に、大気圧プラズマが照射されることとなる。
【0036】
３－２．第２のプラズマ発生装置
図４は、本実施形態における第２のプラズマ発生装置２００を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図（その１）である。図４に示すように、プラズマ発光領域Ｐ２は、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａに接触している。そのため、プラズマ発光領域Ｐ２の内部に含まれるイオンやラジカル等が菌床Ｂ１に照射される。
図４は、本実施形態における第２のプラズマ発生装置２００を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図（その１）である。図４に示すように、プラズマ発光領域Ｐ２は、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａに接触している。そのため、プラズマ発光領域Ｐ２の内部に含まれるイオンやラジカル等が菌床Ｂ１に照射される。
【0037】
図５は、本実施形態における第２のプラズマ発生装置２００を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図（その２）である。図５に示すように、プラズマ発光領域Ｐ２は、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａに接触していない。そのため、プラズマ発光領域Ｐ２の外部領域に含まれるイオンやラジカル等が菌床Ｂ１に照射される。
【0038】
このように、プラズマ発光領域Ｐ２を菌床Ｂ１に接触させることができる。また、プラズマ発光領域Ｐ２を菌床Ｂ１に接触させないこともできる。また、ガス供給部２４０が供給するガスを選択することができる。ガスはＡｒが好ましい。好適にプラズマを発生させることができるからである。
【0039】
３－３．第１のプラズマ発生装置と第２のプラズマ発生装置との違い
第１のプラズマ発生装置１００は、平面形状のプラズマを生成することができる。そのため、原木または菌床に効率よくプラズマを照射することができる。第１のプラズマ発生装置１００が発生させるプラズマは非平衡大気圧プラズマである。また、プラズマガスは第１のプラズマ発生装置１００の周囲の大気である。そのため、プラズマ中には、窒素原子および酸素原子に由来する分子やイオンやラジカルが比較的多く発生する。
第１のプラズマ発生装置１００は、平面形状のプラズマを生成することができる。そのため、原木または菌床に効率よくプラズマを照射することができる。第１のプラズマ発生装置１００が発生させるプラズマは非平衡大気圧プラズマである。また、プラズマガスは第１のプラズマ発生装置１００の周囲の大気である。そのため、プラズマ中には、窒素原子および酸素原子に由来する分子やイオンやラジカルが比較的多く発生する。
【0040】
第２のプラズマ発生装置２００は、ガス供給部２４０が供給するガスを用いてプラズマを照射することができる。例えばＡｒガスを用いれば、プラズマを発生させやすい。この場合には、プラズマ発光領域Ｐ２の内部では、励起状態のＡｒ原子が多いと考えられる。プラズマ発光領域Ｐ２の外部領域では、周囲の大気がプラズマに巻き込まれ、周囲の大気に由来する窒素原子または酸素原子に由来する分子やイオンやラジカルが比較的多く発生していると考えられる。
【0041】
３－４．プラズマの照射条件
原木または菌床に１回あたり連続して照射する時間は、例えば３０秒以上５分以下である。好ましくは、１分以上２分以下である。１回あたりのプラズマの照射時間が長いと、原木または菌床の表面温度が上昇してしまうおそれがあるからである。原木または菌床の表面温度は２００℃以下であるとよい。そのために、適宜インターバルを設けるとよい。１回あたりのプラズマの照射時間が１分である場合には、プラズマの照射回数は３回以上５回以下であるとよい。上記は例示であり、上記以外の条件であってもよい。
原木または菌床に１回あたり連続して照射する時間は、例えば３０秒以上５分以下である。好ましくは、１分以上２分以下である。１回あたりのプラズマの照射時間が長いと、原木または菌床の表面温度が上昇してしまうおそれがあるからである。原木または菌床の表面温度は２００℃以下であるとよい。そのために、適宜インターバルを設けるとよい。１回あたりのプラズマの照射時間が１分である場合には、プラズマの照射回数は３回以上５回以下であるとよい。上記は例示であり、上記以外の条件であってもよい。
【0042】
前述のように、第１のプラズマ発生装置１００を用いる場合には、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの一部に、大気圧プラズマを照射する。その照射面積は、次の通りであるとよい。菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの全面積に対する誘電体１１２の面積の比は、例えば、５％以上５０％以下である。ここで、菌床Ｂ１の上面Ｂ１ａの全面積とは、上面Ｂ１ａの表面積ではなく、鉛直上方から視たときの上面Ｂ１ａの面積である。この面積の比は、上記以外の数値範囲であってもよい。好ましくは、５％以上３５％以下である。より好ましくは、５％以上２０％以下である。
【0043】
４．マンネンタケの生産方法
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、原木または菌床にマンネンタケの菌株を接種する接種工程と、原木または菌床を培養原木または培養菌床に培養する培養工程と、培養原木または培養菌床にプラズマを照射するプラズマ照射工程と、培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体を得る栽培工程と、を有する。
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、原木または菌床にマンネンタケの菌株を接種する接種工程と、原木または菌床を培養原木または培養菌床に培養する培養工程と、培養原木または培養菌床にプラズマを照射するプラズマ照射工程と、培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体を得る栽培工程と、を有する。
【0044】
４－１．材料準備工程
マンネンタケの栽培に用いられる原木は、広葉樹または針葉樹が好ましい。広葉樹として、例えば、クヌギ、コナラ、ブナ等が挙げられる。針葉樹として、例えば、マツ、モミ、ツガ等が挙げられる。上記の樹木を玉切り等により切断し、ポリ袋等に入れ、公知の方法により加熱殺菌することができる。殺菌方法については適宜選択してよい。
マンネンタケの栽培に用いられる原木は、広葉樹または針葉樹が好ましい。広葉樹として、例えば、クヌギ、コナラ、ブナ等が挙げられる。針葉樹として、例えば、マツ、モミ、ツガ等が挙げられる。上記の樹木を玉切り等により切断し、ポリ袋等に入れ、公知の方法により加熱殺菌することができる。殺菌方法については適宜選択してよい。
【0045】
マンネンタケの栽培に用いられる菌床は、菌株が資化し得るのに必要な炭素源、窒素源、無機物、およびその他の必要な栄養素を適宜含有する培地である。菌床として例えば、オガ粉（例えば、クヌギ、コナラ、ブナ等の広葉樹、またはマツ、モミ、ツガ等の針葉樹から作られる）、米糠、フスマ、コーンコブミール、水等を適宜混合させたものが挙げられる。そして、これらの培地を、菌床栽培用の市販のポリ袋等に入れ、公知の方法により加熱殺菌することができる。殺菌方法については適宜選択してよい。
【0046】
４－２．接種工程
マンネンタケの菌株を原木または菌床に植菌する。植菌方法は、公知の方法を用いればよい。
マンネンタケの菌株を原木または菌床に植菌する。植菌方法は、公知の方法を用いればよい。
【0047】
４－３．培養工程
原木または菌床に植菌したマンネンタケの菌株を活着させて繁殖させる。この培養工程は、暗所にて実施するとよい。もちろん、暗所に限らない。培養温度は例えば、１５℃以上３５℃以下である。好ましくは、２０℃以上３０℃以下である。培養湿度は例えば、４０％以上８０％以下である。好ましくは、５５％以上６５％以下である。原木における培養期間は、例えば、４０日以上９０日以下であるとよい。菌床における培養期間は、例えば、３０日以上８０日以下であるとよい。もちろん、上記の培養条件に限らない。
原木または菌床に植菌したマンネンタケの菌株を活着させて繁殖させる。この培養工程は、暗所にて実施するとよい。もちろん、暗所に限らない。培養温度は例えば、１５℃以上３５℃以下である。好ましくは、２０℃以上３０℃以下である。培養湿度は例えば、４０％以上８０％以下である。好ましくは、５５％以上６５％以下である。原木における培養期間は、例えば、４０日以上９０日以下であるとよい。菌床における培養期間は、例えば、３０日以上８０日以下であるとよい。もちろん、上記の培養条件に限らない。
【0048】
そして、原木または菌床の全体が菌糸により白く均一に覆われた段階で培養工程を終了することが多い。この段階で、菌株由来の菌糸が原木または菌床中に蔓延している。このように培養が終了して菌糸が蔓延している原木を「培養原木」という。また、培養が終了して菌糸が蔓延している菌床を「培養菌床」という。
【0049】
４－４．プラズマ照射工程
プラズマ照射工程は、培養工程の終了した培養原木または培養菌床に対して実施する。例えば、プラズマを３回以上５回以下で照射する。例えば、１回あたりの照射時間は１分間である。
プラズマ照射工程は、培養工程の終了した培養原木または培養菌床に対して実施する。例えば、プラズマを３回以上５回以下で照射する。例えば、１回あたりの照射時間は１分間である。
【0050】
４－５．栽培工程
プラズマを照射済みの培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体まで成長させる。マンネンタケの子実体は、主として培養原木または培養菌床の上面から成長する。この上面は、プラズマを照射した領域とプラズマを照射していない領域とを含む。プラズマを照射する効果は、プラズマを照射していない未照射領域にも及ぶ。栽培温度は例えば、２０℃以上３５℃以下である。好ましくは、２５℃以上３０℃以下である。栽培湿度は例えば、７０％以上である。好ましくは９０％以上である。このように栽培を経ることにより、マンネンタケが得られる。
プラズマを照射済みの培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体まで成長させる。マンネンタケの子実体は、主として培養原木または培養菌床の上面から成長する。この上面は、プラズマを照射した領域とプラズマを照射していない領域とを含む。プラズマを照射する効果は、プラズマを照射していない未照射領域にも及ぶ。栽培温度は例えば、２０℃以上３５℃以下である。好ましくは、２５℃以上３０℃以下である。栽培湿度は例えば、７０％以上である。好ましくは９０％以上である。このように栽培を経ることにより、マンネンタケが得られる。
【0051】
５．従来技術との違い
従来においては、ほだ木等に大電流を流す。これにより、何らかの作用が発生し、菌類が活発に生育すると考えられている。
従来においては、ほだ木等に大電流を流す。これにより、何らかの作用が発生し、菌類が活発に生育すると考えられている。
【0052】
本実施形態では、培養原木または培養菌床に非平衡大気圧プラズマを照射する。そのため、培養原木または培養菌床に荷電粒子が到達する可能性がある。そのため、培養原木または培養菌床に非常に微弱な電流が流れる可能性がある。しかし、従来のようにほだ木等に高い電流を流すことを目的としているわけではない。
【0053】
また、プラズマを照射することにより、窒素原子および酸素原子に由来するイオンやラジカルが培養原木または培養菌床に照射される。このようなイオンやラジカル等の刺激を受け、マンネンタケの成分に変化が生じることが期待される。例えば、酸化作用の強いラジカル等の刺激を受け、マンネンタケにおける抗酸化物質の含有量が増加することが期待される。
【0054】
６．本実施形態の効果
６－１．収穫量
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの収穫量を増加させる。プラズマを照射することにより、マンネンタケの菌株を活性化していると考えられる。なお、誘電体が第１電極と第２電極とを絶縁している。また、対象物Ｏ１は主にポリ袋等に入れられている。そのため、原木または菌床と第２電極とは絶縁されている。そのため、電流は原木または菌床には流れないか、仮に電流が原木または菌床に流れたとしても微量であると考えられる。
６－１．収穫量
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの収穫量を増加させる。プラズマを照射することにより、マンネンタケの菌株を活性化していると考えられる。なお、誘電体が第１電極と第２電極とを絶縁している。また、対象物Ｏ１は主にポリ袋等に入れられている。そのため、原木または菌床と第２電極とは絶縁されている。そのため、電流は原木または菌床には流れないか、仮に電流が原木または菌床に流れたとしても微量であると考えられる。
【0055】
６－２．抗酸化作用
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの抗酸化作用を増進する。例えば、マンネンタケにおける抗酸化物質の濃度が高くなっていることが考えられる。
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの抗酸化作用を増進する。例えば、マンネンタケにおける抗酸化物質の濃度が高くなっていることが考えられる。
【0056】
６－３．ガノデリン酸
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケにおけるガノデリン酸を増加させる。ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用等、を有する。
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケにおけるガノデリン酸を増加させる。ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用等、を有する。
【0057】
６－４．プラズマ
本実施形態では、培養原木または培養菌床に非平衡大気圧プラズマを照射する。これにより、少量の活性酸素種が菌糸等に照射され、菌が活性化していることが考えられる。実際に、一旦は菌糸が寸断されており、菌糸が再生する際に菌糸が網目状に広がっていることが観測される。
本実施形態では、培養原木または培養菌床に非平衡大気圧プラズマを照射する。これにより、少量の活性酸素種が菌糸等に照射され、菌が活性化していることが考えられる。実際に、一旦は菌糸が寸断されており、菌糸が再生する際に菌糸が網目状に広がっていることが観測される。
【0058】
７．変形例
７－１．第１のプラズマ発生装置の第１電極
第１電極１１１は、第２電極１２１と対面する側の面に曲面を有していてもよい。つまり、第１電極１１１は、第２電極１２１に対して凹面であっても凸面であってもよい。また、第１電極１１１は、屈曲面を有していてもよい。第１電極１１１は、上記の他、凹凸形状を有していてもよい。
７－１．第１のプラズマ発生装置の第１電極
第１電極１１１は、第２電極１２１と対面する側の面に曲面を有していてもよい。つまり、第１電極１１１は、第２電極１２１に対して凹面であっても凸面であってもよい。また、第１電極１１１は、屈曲面を有していてもよい。第１電極１１１は、上記の他、凹凸形状を有していてもよい。
【0059】
第１電極体１１０の誘電体１１２も、第１電極１１１の形状に対応して、曲面または屈曲面を有していてもよい。また、第１のプラズマ発生装置が、平板形状の第１電極１１１と、凹凸形状の誘電体１１２と、を有していてもよい。このように、誘電体１１２は、第１電極１１１と対応する形状以外の形状を有していてもよい。
【0060】
７－２．第１のプラズマ発生装置の第２電極
平板形状の第２電極１２１を対象物Ｏ１の下に配置する代わりに、その他の第２電極を用いてもよい。例えば、棒状の第２電極を原木または菌床に挿すようにしてもよい。この場合には、第２電極は、原木または菌床と導通状態にある。また、ベルト状の第２電極を原木または菌床にポリ袋ごと巻きつけるようにしてもよい。
平板形状の第２電極１２１を対象物Ｏ１の下に配置する代わりに、その他の第２電極を用いてもよい。例えば、棒状の第２電極を原木または菌床に挿すようにしてもよい。この場合には、第２電極は、原木または菌床と導通状態にある。また、ベルト状の第２電極を原木または菌床にポリ袋ごと巻きつけるようにしてもよい。
【0061】
７－３．プラズマの照射条件
プラズマの照射回数およびプラズマの連続照射時間については、もちろん、適宜変更してもよい。
プラズマの照射回数およびプラズマの連続照射時間については、もちろん、適宜変更してもよい。
【0062】
７－４．組み合わせ
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
【0063】
８．本実施形態のまとめ
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの培養原木または培養菌床にプラズマを照射する。そのため、マンネンタケの収穫量を増加させることができる。また、マンネンタケのガノデリン酸の含有量を増加させることができる。
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの培養原木または培養菌床にプラズマを照射する。そのため、マンネンタケの収穫量を増加させることができる。また、マンネンタケのガノデリン酸の含有量を増加させることができる。
【0064】
（第２の実施形態）
第２の実施形態について説明する。第２の実施形態は、マンネンタケから成分を抽出する方法である。
第２の実施形態について説明する。第２の実施形態は、マンネンタケから成分を抽出する方法である。
【0065】
１．マンネンタケおよびその抽出物
マンネンタケの子実体またはその抽出物は、例えば、医薬品、医薬部外品、化粧品（皮膚外用剤）、食品等に用いられる。また、マンネンタケの子実体またはその抽出物は、抗酸化剤としての機能も有している。
マンネンタケの子実体またはその抽出物は、例えば、医薬品、医薬部外品、化粧品（皮膚外用剤）、食品等に用いられる。また、マンネンタケの子実体またはその抽出物は、抗酸化剤としての機能も有している。
【0066】
マンネンタケ子実体自体は、刻んだり、粉砕したりするなどしてお茶やふりかけなどに用いることができる。
【0067】
マンネンタケの抽出物は、医薬品、医薬部外品、化粧品、食品のいずれにも用いることができる。その剤型としては、例えば、化粧水、クリーム、マッサージクリーム、乳液、ゲル剤、エアゾール剤、エッセンス、パック、洗浄剤、浴用剤、ファンデーション、打粉、口紅、軟膏、パップ剤、ペースト剤、プラスター剤、散剤、丸剤、錠剤、注射剤、坐剤、乳剤、カプセル剤、顆粒剤、液剤（チンキ剤、流エキス剤、酒精剤、懸濁剤、リモナーデ剤等を含む）、錠菓、シロップ剤、飲料等が挙げられる。
【0068】
外用の場合、マンネンタケの抽出物の含有量は、固形物に換算して全量に対して０．０００１重量％以上であるとよい。好ましくは、０．００１重量％以上１０重量％以下である。さらに好ましくは、０．０１重量％以上５重量％以下である。マンネンタケの抽出物の配合量が０．０００１重量％未満の場合には、十分な効果が期待できない。マンネンタケの抽出物の配合量が１０重量％を超えると、効果の増強はそれほど認められない。
【0069】
内用の場合、摂取量は年齢、体重、症状、治療効果、投与方法、処理時間等により異なる。成人１人当たりの１日の摂取量は、５ｍｇ以上であるとよい。好ましくは、１０ｍｇ以上５ｇ以下である。さらに好ましくは、１００ｍｇ以上１ｇ以下である。
【0070】
２．マンネンタケの抽出方法
本実施形態のマンネンタケの抽出方法は、主として、加熱抽出または常温抽出である。または、その他の公知の抽出方法を用いてもよい。
本実施形態のマンネンタケの抽出方法は、主として、加熱抽出または常温抽出である。または、その他の公知の抽出方法を用いてもよい。
【0071】
２－１．加熱抽出
マンネンタケの乾燥物に溶媒（抽出溶媒）を加えて混合物とし、その混合物を加熱しながらマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
マンネンタケの乾燥物に溶媒（抽出溶媒）を加えて混合物とし、その混合物を加熱しながらマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
【0072】
２－２．常温抽出
マンネンタケの乾燥物に溶媒（抽出溶媒）を加えて混合物とし、その混合物を常温下でマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
マンネンタケの乾燥物に溶媒（抽出溶媒）を加えて混合物とし、その混合物を常温下でマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
【0073】
抽出溶媒としては、例えば、水、低級アルコール（メタノール、エタノール、１‐プロパノール、２‐プロパノール、１‐ブタノール、２‐ブタノール）、液状多価アルコール（１，３‐ブチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、アセトニトリル、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、流動パラフィン等）、エーテル類（エチルエーテル、テトラヒドロフラン、プロピルエーテル等）が挙げられる。好ましくは、水、低級アルコールおよび液状多価アルコール等の極性溶媒である。特に好ましくは、水、エタノール、１，３‐ブチレングリコールおよびプロピレングリコールである。これらの溶媒は一種でも二種以上を混合して用いてもよい。
【0074】
３．変形例
３－１．処理
マンネンタケの抽出物は、抽出した溶液のまま用いてもよい。また、抽出した溶液を必要に応じて、濃縮、希釈、濾過、脱色、脱臭、乾燥等の処理をしてもよい。さらには、ガノデリン酸類などをＨＰＬＣなどのカラム精製等を行って有効成分を濃縮や単離してもよい。
３－１．処理
マンネンタケの抽出物は、抽出した溶液のまま用いてもよい。また、抽出した溶液を必要に応じて、濃縮、希釈、濾過、脱色、脱臭、乾燥等の処理をしてもよい。さらには、ガノデリン酸類などをＨＰＬＣなどのカラム精製等を行って有効成分を濃縮や単離してもよい。
【0075】
３－２．添加物
マンネンタケの抽出物に抽出物の効果を損なわない範囲で添加物を加えてもよい。添加物として例えば、油脂類、ロウ類、炭化水素類、脂肪酸類、アルコール類、エステル類、界面活性剤、金属石鹸、ｐＨ調整剤、防腐剤、香料、保湿剤、粉体、紫外線吸収剤、増粘剤、色素、酸化防止剤、美白剤、キレート剤、乳糖、微結晶セルロース等の希釈剤、潤滑剤、崩壊剤等が挙げられる。
マンネンタケの抽出物に抽出物の効果を損なわない範囲で添加物を加えてもよい。添加物として例えば、油脂類、ロウ類、炭化水素類、脂肪酸類、アルコール類、エステル類、界面活性剤、金属石鹸、ｐＨ調整剤、防腐剤、香料、保湿剤、粉体、紫外線吸収剤、増粘剤、色素、酸化防止剤、美白剤、キレート剤、乳糖、微結晶セルロース等の希釈剤、潤滑剤、崩壊剤等が挙げられる。
【0076】
３－３．組み合わせ
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
【実施例】
【0077】
実施例において、「％」とは重量％を示す。「部」とは重量部を示す。
【0078】
１．栽培方法
１－１．原木栽培
原木の種類は広葉樹（コナラ属）である。直径５～２５ｃｍ、高さ約１３ｃｍの大きさに切断された原木を用いた。ポリプロピレン製の袋の底面に吸水紙を敷き、その袋の中に切断した原木３ｋｇと保湿用の水を１２０ｍＬ入れた。袋を軽く閉じ、袋中の原木に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
１－１．原木栽培
原木の種類は広葉樹（コナラ属）である。直径５～２５ｃｍ、高さ約１３ｃｍの大きさに切断された原木を用いた。ポリプロピレン製の袋の底面に吸水紙を敷き、その袋の中に切断した原木３ｋｇと保湿用の水を１２０ｍＬ入れた。袋を軽く閉じ、袋中の原木に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
【0079】
次に、原木に市販の霊芝の種菌（製品名：まんねんたけ、秋山種菌研究所製）６５ｍＬを接種した。接種後、袋の口を留めた。その後、温度２４～３０℃、湿度４０～７５％の暗所で培養した。原木の全体が菌糸により白く覆われるまで培養し、培養原木を得た。培養期間は４０～５０日間であった。
【0080】
培養原木に大気圧プラズマを照射した。プラズマの照射条件（Ａ－Ｇ）については後述する。プラズマの照射後に、温度２５～３０℃、湿度９０～１００％、照度３０００ルクス以下で栽培した。５０～１２０日間の栽培後にマンネンタケ子実体を得た。
【0081】
１－２．菌床栽培
培地に用いられる原木の種類は広葉樹（コナラ属）である。粉砕機で１～１５ｍｍの大きさに原木を粉砕した。粉砕した原木０．９ｋｇ、フスマ０．１ｋｇ、水１．５ｋｇを混合して培地とし、ポリプロピレン製の袋に入れ、菌床とした。袋を軽く閉じ、培地に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
培地に用いられる原木の種類は広葉樹（コナラ属）である。粉砕機で１～１５ｍｍの大きさに原木を粉砕した。粉砕した原木０．９ｋｇ、フスマ０．１ｋｇ、水１．５ｋｇを混合して培地とし、ポリプロピレン製の袋に入れ、菌床とした。袋を軽く閉じ、培地に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
【0082】
次に、培地に市販の霊芝の種菌（製品名：まんねんたけ、秋山種菌研究所製）５４ｍＬを接種した。接種後、袋の口を留めた。その後、温度１５～３０℃、湿度４５～７５％の暗所で培養した。培地の全体が菌糸により白く覆われるまで培養し、培養菌床を得た。培養期間は６０～１２０日間であった。
【0083】
培養菌床に大気圧プラズマを照射した。プラズマの照射条件（Ａ－Ｆ）については後述する。プラズマの照射後に、温度２４～２８℃、湿度７５～８５％、照度３０００ルクス以下で栽培した。３０日間の栽培後にマンネンタケ子実体を得た。
【0084】
２．プラズマ照射条件
培養原木または培養菌床に照射する大気圧プラズマの照射条件を表１から表７に示す。照射条件Ａ－Ｃにおいては、ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用い、照射条件Ｄ－Ｇにおいては、平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いた。なお、平面型のプラズマ発生装置（第１のプラズマ発生装置１００）を用いる場合には、培養原木または培養菌床の上面の全面積に占める、プラズマ照射領域を培養菌床の上面に射影した面の面積の比は、７％から１１％程度であった。なお、培養原木および培養菌床はポリプロピレンの袋の中に入れた状態で培養されている。そのため、培養原木および培養菌床を袋に入れた状態でプラズマを照射した。そのため、照射条件Ｅ、Ｇについては、第２電極と培養原木または培養菌床との間にポリプロピレンが存在している状態でプラズマを照射した。この場合においても、第１電極と培養原木または培養菌床との間にはプラズマ発光領域が発生した。
培養原木または培養菌床に照射する大気圧プラズマの照射条件を表１から表７に示す。照射条件Ａ－Ｃにおいては、ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用い、照射条件Ｄ－Ｇにおいては、平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いた。なお、平面型のプラズマ発生装置（第１のプラズマ発生装置１００）を用いる場合には、培養原木または培養菌床の上面の全面積に占める、プラズマ照射領域を培養菌床の上面に射影した面の面積の比は、７％から１１％程度であった。なお、培養原木および培養菌床はポリプロピレンの袋の中に入れた状態で培養されている。そのため、培養原木および培養菌床を袋に入れた状態でプラズマを照射した。そのため、照射条件Ｅ、Ｇについては、第２電極と培養原木または培養菌床との間にポリプロピレンが存在している状態でプラズマを照射した。この場合においても、第１電極と培養原木または培養菌床との間にはプラズマ発光領域が発生した。
【0085】
［表１］
照射条件Ａ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ２０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と非接触
照射条件Ａ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ２０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と非接触
【0086】
［表２］
照射条件Ｂ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ６．５ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 ２分（照射時間の合計 ６分）
照射距離 １０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と接触
照射条件Ｂ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ６．５ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 ２分（照射時間の合計 ６分）
照射距離 １０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と接触
【0087】
［表３］
照射条件Ｃ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 １０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と接触
照射条件Ｃ
プラズマ装置 ペン型（第２のプラズマ発生装置）
ガスの種類 Ａｒ
ガスの流量 ３Ｌ／ｍｉｎ
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 １０ｍｍ（照射口２０１ａから菌床上面Ｂ１ａまで）
発光領域 対象と接触
【0088】
［表４］
照射条件Ｄ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 φ１ １１０ｍｍ（タングステン棒を対象物に挿す）
第２電極の位置 下面（Ｂ１ｂ）から１０ｍｍの高さの側面のうち
第１電極体に最も近い位置（１００ｍｍ挿入）
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
照射条件Ｄ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 φ１ １１０ｍｍ（タングステン棒を対象物に挿す）
第２電極の位置 下面（Ｂ１ｂ）から１０ｍｍの高さの側面のうち
第１電極体に最も近い位置（１００ｍｍ挿入）
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
【0089】
［表５］
照射条件Ｅ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 ２５０×２００ｍｍ（対象物の底面積より広い）
第２電極の位置 培養原木または培養菌床の真下に配置
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
照射条件Ｅ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 ２５０×２００ｍｍ（対象物の底面積より広い）
第２電極の位置 培養原木または培養菌床の真下に配置
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
【0090】
［表６］
照射条件Ｆ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の中央
第２電極 φ１ １１０ｍｍ（タングステン棒を対象物に挿す）
第２電極の位置 下面（Ｂ１ｂ）から１０ｍｍの高さの側面のうち
第１電極体に最も近い位置（１００ｍｍ挿入）
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
照射条件Ｆ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の中央
第２電極 φ１ １１０ｍｍ（タングステン棒を対象物に挿す）
第２電極の位置 下面（Ｂ１ｂ）から１０ｍｍの高さの側面のうち
第１電極体に最も近い位置（１００ｍｍ挿入）
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
【0091】
［表７］
照射条件Ｇ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 ５０×７５０ｍｍ
第２電極の位置 培養原木または培養菌床の側面下方に巻きつける
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
照射条件Ｇ
プラズマ装置 平面型（第１のプラズマ発生装置）
第１電極 ５０×５０ｍｍ
第１電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第２電極 ５０×７５０ｍｍ
第２電極の位置 培養原木または培養菌床の側面下方に巻きつける
印加電圧 ５．２ｋＶ
照射回数 ３回（インターバル １分）
照射時間 １分（照射時間の合計 ３分）
照射距離 ０ｍｍ
発光領域 対象と接触
【0092】
３．マンネンタケの収穫量
表８は、原木栽培および菌床栽培により得られたマンネンタケ（水分量１０重量％に調整）の収穫量を示している。なお、栽培例１Ａ－１Ｇにおいては、プラズマを照射していない原木栽培の収穫量を１００とした場合の収穫量を示している。栽培例２Ａ－２Ｆにおいては、プラズマを照射していない菌床栽培の収穫量を１００とした場合の収穫量を示している。
表８は、原木栽培および菌床栽培により得られたマンネンタケ（水分量１０重量％に調整）の収穫量を示している。なお、栽培例１Ａ－１Ｇにおいては、プラズマを照射していない原木栽培の収穫量を１００とした場合の収穫量を示している。栽培例２Ａ－２Ｆにおいては、プラズマを照射していない菌床栽培の収穫量を１００とした場合の収穫量を示している。
【0093】
［表８］
サンプル 栽培方法 照射条件 収穫量
栽培例１Ａ 原木栽培 照射条件Ａ １０９
栽培例１Ｂ 原木栽培 照射条件Ｂ １０６
栽培例１Ｃ 原木栽培 照射条件Ｃ ９７
栽培例１Ｄ 原木栽培 照射条件Ｄ １２２
栽培例１Ｅ 原木栽培 照射条件Ｅ １５４
栽培例１Ｆ 原木栽培 照射条件Ｆ １３０
栽培例１Ｇ 原木栽培 照射条件Ｇ １３０
栽培例２Ａ 菌床栽培 照射条件Ａ １２８
栽培例２Ｂ 菌床栽培 照射条件Ｂ １２１
栽培例２Ｃ 菌床栽培 照射条件Ｃ １０６
栽培例２Ｄ 菌床栽培 照射条件Ｄ １０６
栽培例２Ｅ 菌床栽培 照射条件Ｅ １１２
栽培例２Ｆ 菌床栽培 照射条件Ｆ １０１
サンプル 栽培方法 照射条件 収穫量
栽培例１Ａ 原木栽培 照射条件Ａ １０９
栽培例１Ｂ 原木栽培 照射条件Ｂ １０６
栽培例１Ｃ 原木栽培 照射条件Ｃ ９７
栽培例１Ｄ 原木栽培 照射条件Ｄ １２２
栽培例１Ｅ 原木栽培 照射条件Ｅ １５４
栽培例１Ｆ 原木栽培 照射条件Ｆ １３０
栽培例１Ｇ 原木栽培 照射条件Ｇ １３０
栽培例２Ａ 菌床栽培 照射条件Ａ １２８
栽培例２Ｂ 菌床栽培 照射条件Ｂ １２１
栽培例２Ｃ 菌床栽培 照射条件Ｃ １０６
栽培例２Ｄ 菌床栽培 照射条件Ｄ １０６
栽培例２Ｅ 菌床栽培 照射条件Ｅ １１２
栽培例２Ｆ 菌床栽培 照射条件Ｆ １０１
【0094】
表８に示すように、栽培例１Ｄ－１Ｇと、栽培例２Ａ－２Ｂとにおいては、収穫量が従来のプラズマを用いない場合と比べて２０％以上増加した。原木栽培については、平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いることが好ましい。菌床栽培については、ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用いることが好ましい。
【0095】
ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用いる場合には、発光領域Ｐ２を培養原木または培養菌床に非接触の状態で大気圧プラズマを培養原木または培養菌床に照射することが好ましい（栽培例１Ａ－１Ｃ、２Ａ－２Ｃ）。
【0096】
平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いる場合には、平面形状の第２電極を培養原木または培養菌床の下に敷くことが好ましい（栽培例１Ｅ、２Ｅ）。特に、原木栽培において収穫量の増大が顕著であった（栽培例１Ｅ）。
【0097】
４．マンネンタケの抽出物
以下、マンネンタケからの成分の抽出方法について説明する。
以下、マンネンタケからの成分の抽出方法について説明する。
【0098】
４－１．抽出法ａ（熱水抽出物）
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇに精製水２００ｍＬを加え、９５～１００℃で２時間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮し、凍結乾燥して熱水抽出物を得た。
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇに精製水２００ｍＬを加え、９５～１００℃で２時間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮し、凍結乾燥して熱水抽出物を得た。
【0099】
４－２．抽出法ｂ（５０％エタノール抽出物）
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇに５０％エタノール２００ｍＬを加え、常温で７日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、５０％エタノール抽出物を得た。
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇに５０％エタノール２００ｍＬを加え、常温で７日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、５０％エタノール抽出物を得た。
【0100】
４－３．抽出法ｃ（エタノール抽出物）
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇにエタノール２００ｍＬを加え、常温で７日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、エタノール抽出物を得た。
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物１０ｇにエタノール２００ｍＬを加え、常温で７日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、エタノール抽出物を得た。
【0101】
表９は、各製造例におけるマンネンタケの抽出物の重量である。表９において、「熱水」は熱水抽出法を用いたことを示している。「水＋エタノール」は、５０％エタノールによる抽出法を用いたことを示している。「エタノール」は、エタノールによる抽出法を用いたことを示している。
【0102】
【表9】
【0103】
【表10】
【0104】
そして、栽培例１Ａ－２Ｆと、抽出法ａ－ｃと、を組み合わせて製造例１Ａａ－２Ｆｃとしてまとめた。例えば、「製造例１Ａａ」は、「栽培例１Ａ」により栽培し、「抽出法ａ」により抽出したものであることを意味する。
【0105】
５．マンネンタケの抽出物の抗酸化作用
５－１．活性酸素種
活性酸素種として、フリーラジカルの一種であるα，α－ジフェニル－β－ピクリルヒドラジル（以下「ＤＰＰＨ」という）を用いた。
５－１．活性酸素種
活性酸素種として、フリーラジカルの一種であるα，α－ジフェニル－β－ピクリルヒドラジル（以下「ＤＰＰＨ」という）を用いた。
【0106】
５－２．実験方法
上記の製造例１Ａａ－２Ｆｃに対応する抽出物を、最終濃度１００μｇ／ｍＬとなるように加えた０．１Ｍ酢酸緩衝液（ｐＨ５．５）０．４ｍＬに無水エタノール０．４ｍＬおよび０．５ｍＭのＤＰＰＨ無水エタノール溶液０．２ｍＬを加えて反応液とした。また、製造例１Ａａ－２Ｆｃのうち油溶性の抽出物には無水エタノール０．４ｍＬに試料を加えて反応液とした。その後、３７℃で３０分間反応させ、水を対照として波長５１７ｎｍの吸光度（Ｊ１）を測定した。また、ブランクとして試料の代わりに精製水を用いて吸光度（Ｊ２）を測定した。ＤＰＰＨラジカル消去率は、以下に示す式より算出した。
ＤＰＰＨラジカル消去率（％）＝（１－Ｊ１／Ｊ２）×１００
上記の製造例１Ａａ－２Ｆｃに対応する抽出物を、最終濃度１００μｇ／ｍＬとなるように加えた０．１Ｍ酢酸緩衝液（ｐＨ５．５）０．４ｍＬに無水エタノール０．４ｍＬおよび０．５ｍＭのＤＰＰＨ無水エタノール溶液０．２ｍＬを加えて反応液とした。また、製造例１Ａａ－２Ｆｃのうち油溶性の抽出物には無水エタノール０．４ｍＬに試料を加えて反応液とした。その後、３７℃で３０分間反応させ、水を対照として波長５１７ｎｍの吸光度（Ｊ１）を測定した。また、ブランクとして試料の代わりに精製水を用いて吸光度（Ｊ２）を測定した。ＤＰＰＨラジカル消去率は、以下に示す式より算出した。
ＤＰＰＨラジカル消去率（％）＝（１－Ｊ１／Ｊ２）×１００
【0107】
５－３．ＤＰＰＨラジカル消去率
表１１は、製造例ごとのＤＰＰＨラジカル消去率を示している。表１１に示すように、マンネンタケの抽出物は、いずれもＤＰＰＨラジカル消去作用を有している。培養原木または培養菌床にプラズマを照射したマンネンタケの抽出物は、未照射のマンネンタケの抽出物よりも高い抗酸化作用を示した。特に、ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用いて発光領域を培養原木または培養菌床に接触させずにプラズマを照射した製造例１Ａａ、２Ａａが、強い抗酸化作用を示した。また、平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いた製造例２Ｄａ、２Ｅａも、強い抗酸化作用を示した。
表１１は、製造例ごとのＤＰＰＨラジカル消去率を示している。表１１に示すように、マンネンタケの抽出物は、いずれもＤＰＰＨラジカル消去作用を有している。培養原木または培養菌床にプラズマを照射したマンネンタケの抽出物は、未照射のマンネンタケの抽出物よりも高い抗酸化作用を示した。特に、ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用いて発光領域を培養原木または培養菌床に接触させずにプラズマを照射した製造例１Ａａ、２Ａａが、強い抗酸化作用を示した。また、平面型の第１のプラズマ発生装置１００を用いた製造例２Ｄａ、２Ｅａも、強い抗酸化作用を示した。
【0108】
［表１１］
ＤＰＰＨラジカル消去率
製造例１Ａａ （原木・照射条件Ａ・熱水） ４６
製造例１Ｃａ （原木・照射条件Ｃ・熱水） ４１
比較製造例１ａ （原木・未照射・熱水） ３７
製造例２Ａａ （菌床・照射条件Ａ・熱水） ４５
製造例２Ｂａ （菌床・照射条件Ｂ・熱水） ３５
製造例２Ｄａ （菌床・照射条件Ｄ・熱水） ４１
製造例２Ｅａ （菌床・照射条件Ｅ・熱水） ４４
製造例２Ｆａ （菌床・照射条件Ｆ・熱水） ３５
比較製造例２ａ （菌床・未照射・熱水） ３３
ＤＰＰＨラジカル消去率
製造例１Ａａ （原木・照射条件Ａ・熱水） ４６
製造例１Ｃａ （原木・照射条件Ｃ・熱水） ４１
比較製造例１ａ （原木・未照射・熱水） ３７
製造例２Ａａ （菌床・照射条件Ａ・熱水） ４５
製造例２Ｂａ （菌床・照射条件Ｂ・熱水） ３５
製造例２Ｄａ （菌床・照射条件Ｄ・熱水） ４１
製造例２Ｅａ （菌床・照射条件Ｅ・熱水） ４４
製造例２Ｆａ （菌床・照射条件Ｆ・熱水） ３５
比較製造例２ａ （菌床・未照射・熱水） ３３
【0109】
６．ガノデリン酸の含有量
ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用といった効能を有する。
ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用といった効能を有する。
【0110】
６－１．測定方法
製造例１Ａａ－２Ｆｃの抽出物について、ＨＰＬＣを用いてガノデリン酸類の含有量を測定した。表１２はＨＰＬＣの条件を示している。また、移動相Ｋ２については、６０分間で１０％から９４％に直線的に変化させた。また、ピレンの保持時間が約５２分になるように流速を調整した。例えば、１．０ｍＬ／ｍｉｎである。
製造例１Ａａ－２Ｆｃの抽出物について、ＨＰＬＣを用いてガノデリン酸類の含有量を測定した。表１２はＨＰＬＣの条件を示している。また、移動相Ｋ２については、６０分間で１０％から９４％に直線的に変化させた。また、ピレンの保持時間が約５２分になるように流速を調整した。例えば、１．０ｍＬ／ｍｉｎである。
【0111】
［表１２］
カラム：Ｄｅｖｅｌｏｓｉｌ ＯＤＳ－ＨＧ－５（野村化学製）
カラムサイズ：内径４．６ｍｍφ×長さ２５０ｍｍ
カラム温度：４０℃
試料濃度：１．０ｍｇ／ｍＬ
注入量：１０μＬ
検出：ＰＤＡ ２５４ｎｍ
溶離液（グラジエント）：
移動相 Ｋ１ １０ｍＭ リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ６．９）
移動相 Ｋ２ アセトニトリル
内標準溶液：ピレンのエタノール溶液（１ｍｇ／ｍＬ）
カラム：Ｄｅｖｅｌｏｓｉｌ ＯＤＳ－ＨＧ－５（野村化学製）
カラムサイズ：内径４．６ｍｍφ×長さ２５０ｍｍ
カラム温度：４０℃
試料濃度：１．０ｍｇ／ｍＬ
注入量：１０μＬ
検出：ＰＤＡ ２５４ｎｍ
溶離液（グラジエント）：
移動相 Ｋ１ １０ｍＭ リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ６．９）
移動相 Ｋ２ アセトニトリル
内標準溶液：ピレンのエタノール溶液（１ｍｇ／ｍＬ）
【0112】
６－２．ガノデリン酸の含有量の測定結果
図６は、霊芝抽出物のＨＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。図６に示すように、保持時間が１５～２５分の期間内に、２５４ｎｍ付近に極大吸収を示すガノデリン酸類に由来する多数のピークが確認された。
図６は、霊芝抽出物のＨＰＬＣクロマトグラムを示すグラフである。図６に示すように、保持時間が１５～２５分の期間内に、２５４ｎｍ付近に極大吸収を示すガノデリン酸類に由来する多数のピークが確認された。
【0113】
表１３は、ガノデリン酸類に由来するピークの面積値を示している。ここで、未照射の場合の面積値を基準の１とした。つまり、製造例１Ａｃ－１Ｆｃについては、比較製造例１ｃを基準とした。製造例２Ａｃ－２Ｆｃについては、比較製造例２ｃを基準とした。表１３から明らかなように、培養原木または培養菌床に大気圧プラズマを照射することにより、マンネンタケにおけるガノデリン酸の含有量は増加している。ペン型の第２のプラズマ発生装置２００を用いて大気圧プラズマを照射した製造例は、比較的多くのガノデリン酸を含有する（製造例１Ａｃ、２Ａｃ）。
【0114】
また、製造例２Ｅｃは、非常に多くのガノデリン酸を含有する。製造例２Ｅｃにおけるガノデリン酸の含有量は、プラズマを照射していないものに比べて４０％程度多い。また、前述のように、製造例２Ｅｃは、高い抗酸化作用を示す。
【0115】
［表１３］
ガノデリン酸含量
製造例１Ａｃ （原木・照射条件Ａ・エタノール） １．０９
製造例１Ｅｃ （原木・照射条件Ｅ・エタノール） １．０１
製造例１Ｇｃ （原木・照射条件Ｇ・エタノール） １．０６
比較製造例１ｃ （原木・未照射・エタノール） １．００
製造例２Ａｃ （菌床・照射条件Ａ・エタノール） １．０７
製造例２Ｄｃ （菌床・照射条件Ｄ・エタノール） １．０５
製造例２Ｅｃ （菌床・照射条件Ｅ・エタノール） １．３９
製造例２Ｆｃ （菌床・照射条件Ｆ・エタノール） １．０５
比較製造例２ｃ （菌床・未照射・エタノール） １．００
ガノデリン酸含量
製造例１Ａｃ （原木・照射条件Ａ・エタノール） １．０９
製造例１Ｅｃ （原木・照射条件Ｅ・エタノール） １．０１
製造例１Ｇｃ （原木・照射条件Ｇ・エタノール） １．０６
比較製造例１ｃ （原木・未照射・エタノール） １．００
製造例２Ａｃ （菌床・照射条件Ａ・エタノール） １．０７
製造例２Ｄｃ （菌床・照射条件Ｄ・エタノール） １．０５
製造例２Ｅｃ （菌床・照射条件Ｅ・エタノール） １．３９
製造例２Ｆｃ （菌床・照射条件Ｆ・エタノール） １．０５
比較製造例２ｃ （菌床・未照射・エタノール） １．００
【0116】
７．処方例
マンネンタケの抽出物を製造例１Ａａ～製造例２Ｆｃにより調製した処方例を示す。ここで混合抽出物とは、各製造例における抽出物を等量混合したものである。
マンネンタケの抽出物を製造例１Ａａ～製造例２Ｆｃにより調製した処方例を示す。ここで混合抽出物とは、各製造例における抽出物を等量混合したものである。
【0117】
７－１．処方例１ 化粧水
表１４の成分１～６および１１と、成分７～１０をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合して濾過する。これにより製品としての化粧水が得られる。
表１４の成分１～６および１１と、成分７～１０をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合して濾過する。これにより製品としての化粧水が得られる。
【0118】
［表１４］
化粧水
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｄａの混合抽出物 １．０
２．１，３‐ブチレングリコール ８．０
３．グリセリン ２．０
４．キサンタンガム ０．０２
５．クエン酸 ０．０１
６．クエン酸ナトリウム ０．１
７．エタノール ５．０
８．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
９．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（４０Ｅ．Ｏ．） ０．１
１０．香料 適量
１１．精製水にて全量を１００とする
化粧水
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｄａの混合抽出物 １．０
２．１，３‐ブチレングリコール ８．０
３．グリセリン ２．０
４．キサンタンガム ０．０２
５．クエン酸 ０．０１
６．クエン酸ナトリウム ０．１
７．エタノール ５．０
８．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
９．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（４０Ｅ．Ｏ．） ０．１
１０．香料 適量
１１．精製水にて全量を１００とする
【0119】
７－２．処方例２ クリーム
表１５の成分２～９を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および１１～１３を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、４５℃で成分１０を加え、さらに３０℃まで冷却する。これにより製品としてのクリームが得られる。
表１５の成分２～９を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および１１～１３を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、４５℃で成分１０を加え、さらに３０℃まで冷却する。これにより製品としてのクリームが得られる。
【0120】
［表１５］
クリーム
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｂ、１Ｂｂ、１Ｃｂ、１Ｄｂ、１Ｅｂの混合抽出物 ０．５
２．スクワラン ５．５
３．オリーブ油 ３．０
４．ステアリン酸 ２．０
５．ミツロウ ２．０
６．ミリスチン酸オクチルドデシル ３．５
７．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ３．０
８．ベヘニルアルコール １．５
９．モノステアリン酸グリセリン ２．５
１０．香料 ０．１
１１．パラオキシ安息香酸メチル ０．２５
１２．１，３‐ブチレングリコール ８．５
１３．精製水にて全量を１００とする
クリーム
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｂ、１Ｂｂ、１Ｃｂ、１Ｄｂ、１Ｅｂの混合抽出物 ０．５
２．スクワラン ５．５
３．オリーブ油 ３．０
４．ステアリン酸 ２．０
５．ミツロウ ２．０
６．ミリスチン酸オクチルドデシル ３．５
７．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ３．０
８．ベヘニルアルコール １．５
９．モノステアリン酸グリセリン ２．５
１０．香料 ０．１
１１．パラオキシ安息香酸メチル ０．２５
１２．１，３‐ブチレングリコール ８．５
１３．精製水にて全量を１００とする
【0121】
７－３．処方例３ クリーム
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ａｂの抽出物で置き換えたものである。
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ａｂの抽出物で置き換えたものである。
【0122】
７－４．処方例４ クリーム
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ｂｂの抽出物で置き換えたものである。
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ｂｂの抽出物で置き換えたものである。
【0123】
７－５．処方例５ クリーム
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ｃｂの抽出物で置き換えたものである。
表１５の製造例１Ａｂの抽出物を製造例２Ｃｂの抽出物で置き換えたものである。
【0124】
７－６．処方例６ 乳液
表１６の成分２～８を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および１０～１３を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、４５℃で成分９を加え、さらに３０℃まで冷却する。これにより製品としての乳液が得られる。
表１６の成分２～８を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および１０～１３を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、４５℃で成分９を加え、さらに３０℃まで冷却する。これにより製品としての乳液が得られる。
【0125】
［表１６］
乳液
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｂａ、１Ｃａ、１Ｅａ、１Ｆａ、１Ｇａの混合抽出物 １．０
２．スクワラン ５．０
３．オリーブ油 ５．０
４．ホホバ油 ５．０
５．セタノール １．５
６．モノステアリン酸グリセリン ２．０
７．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ３．０
８．ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート（２０Ｅ．Ｏ．） ２．０
９．香料 ０．１
１０．プロピレングリコール １．０
１１．グリセリン ２．０
１２．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
１３．精製水にて全量を１００とする
乳液
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｂａ、１Ｃａ、１Ｅａ、１Ｆａ、１Ｇａの混合抽出物 １．０
２．スクワラン ５．０
３．オリーブ油 ５．０
４．ホホバ油 ５．０
５．セタノール １．５
６．モノステアリン酸グリセリン ２．０
７．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ３．０
８．ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート（２０Ｅ．Ｏ．） ２．０
９．香料 ０．１
１０．プロピレングリコール １．０
１１．グリセリン ２．０
１２．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
１３．精製水にて全量を１００とする
【0126】
７－７．処方例７ ゲル剤
表１７の成分１～５と、成分６～１１をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合する。これにより製品としてのゲル剤が得られる。
表１７の成分１～５と、成分６～１１をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合する。これにより製品としてのゲル剤が得られる。
【0127】
［表１７］
ゲル剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｃ、１Ｄｃ、１Ｅｃ、２Ａｃ、２Ｅｃの混合抽出物 ０．０１
２．エタノール ５．０
３．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
４．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） ０．１
５．香料 適量
６．１，３‐ブチレングリコール ５．０
７．グリセリン ５．０
８．キサンタンガム ０．１
９．カルボキシビニルポリマー ０．２
１０．水酸化カリウム ０．２
１１．精製水にて全量を１００とする
ゲル剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｃ、１Ｄｃ、１Ｅｃ、２Ａｃ、２Ｅｃの混合抽出物 ０．０１
２．エタノール ５．０
３．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
４．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） ０．１
５．香料 適量
６．１，３‐ブチレングリコール ５．０
７．グリセリン ５．０
８．キサンタンガム ０．１
９．カルボキシビニルポリマー ０．２
１０．水酸化カリウム ０．２
１１．精製水にて全量を１００とする
【0128】
７－８．処方例８ パック
表１８の成分１～１１を均一に溶解する。これにより製品としてのパックが得られる。
表１８の成分１～１１を均一に溶解する。これにより製品としてのパックが得られる。
【0129】
［表１８］
パック
処方 含有量（部）
１．製造例２Ａａ、２Ｆａの混合抽出物 ０．１
２．製造例２Ｄａ、２Ｅａの混合抽出物 ０．１
３．ポリビニルアルコール １２．０
４．エタノール ５．０
５．１，３‐ブチレングリコール ８．０
６．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
７．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（２０Ｅ．Ｏ．） ０．５
８．クエン酸 ０．１
９．クエン酸ナトリウム ０．３
１０．香料 適量
１１．精製水にて全量を１００とする
パック
処方 含有量（部）
１．製造例２Ａａ、２Ｆａの混合抽出物 ０．１
２．製造例２Ｄａ、２Ｅａの混合抽出物 ０．１
３．ポリビニルアルコール １２．０
４．エタノール ５．０
５．１，３‐ブチレングリコール ８．０
６．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
７．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（２０Ｅ．Ｏ．） ０．５
８．クエン酸 ０．１
９．クエン酸ナトリウム ０．３
１０．香料 適量
１１．精製水にて全量を１００とする
【0130】
７－９．処方例９ ファンデーション
表１９の成分２～８を加熱溶解し、８０℃に保ち油相とする。成分１９に成分９をよく膨潤させ、続いて、成分１および１０～１３を加えて均一に混合する。これに粉砕機で粉砕混合した成分１４～１７を加え、ホモミキサーで撹拌し７５℃に保ち水相とする。この油相に水相をかき混ぜながら加え、乳化する。その後冷却し、４５℃で成分１８を加え、かき混ぜながら３０℃まで冷却する。これにより製品としてのファンデーションが得られる。
表１９の成分２～８を加熱溶解し、８０℃に保ち油相とする。成分１９に成分９をよく膨潤させ、続いて、成分１および１０～１３を加えて均一に混合する。これに粉砕機で粉砕混合した成分１４～１７を加え、ホモミキサーで撹拌し７５℃に保ち水相とする。この油相に水相をかき混ぜながら加え、乳化する。その後冷却し、４５℃で成分１８を加え、かき混ぜながら３０℃まで冷却する。これにより製品としてのファンデーションが得られる。
【0131】
［表１９］
ファンデーション
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｆｂ、１Ｇｂ、２Ｄｂ、２Ｅｂ、２Ｆｂの混合抽出物 １．０
２．ステアリン酸 ２．４
３．ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート（２０Ｅ．Ｏ．） １．０
４．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ２．０
５．セタノール １．０
６．液状ラノリン ２．０
７．流動パラフィン ３．０
８．ミリスチン酸イソプロピル ６．５
９．カルボキシメチルセルロースナトリウム ０．１
１０．ベントナイト ０．５
１１．プロピレングリコール ４．０
１２．トリエタノールアミン １．１
１３．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
１４．二酸化チタン ８．０
１５．タルク ４．０
１６．ベンガラ １．０
１７．黄酸化鉄 ２．０
１８．香料 適量
１９．精製水にて全量を１００とする
ファンデーション
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｆｂ、１Ｇｂ、２Ｄｂ、２Ｅｂ、２Ｆｂの混合抽出物 １．０
２．ステアリン酸 ２．４
３．ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート（２０Ｅ．Ｏ．） １．０
４．ポリオキシエチレンセチルエーテル（２０Ｅ．Ｏ．） ２．０
５．セタノール １．０
６．液状ラノリン ２．０
７．流動パラフィン ３．０
８．ミリスチン酸イソプロピル ６．５
９．カルボキシメチルセルロースナトリウム ０．１
１０．ベントナイト ０．５
１１．プロピレングリコール ４．０
１２．トリエタノールアミン １．１
１３．パラオキシ安息香酸メチル ０．２
１４．二酸化チタン ８．０
１５．タルク ４．０
１６．ベンガラ １．０
１７．黄酸化鉄 ２．０
１８．香料 適量
１９．精製水にて全量を１００とする
【0132】
７－１０．処方例１０ 浴用剤
表２０の成分１～６を均一に混合する。これにより製品としての浴用剤が得られる。
表２０の成分１～６を均一に混合する。これにより製品としての浴用剤が得られる。
【0133】
［表２０］
浴用剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｅａの抽出物 ５．０
２．製造例２Ａａの抽出物 １．０
３．炭酸水素ナトリウム ５０．０
４．黄色２０２号（１） 適量
５．香料 適量
６．硫酸ナトリウムにて全量を１００とする
浴用剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ｅａの抽出物 ５．０
２．製造例２Ａａの抽出物 １．０
３．炭酸水素ナトリウム ５０．０
４．黄色２０２号（１） 適量
５．香料 適量
６．硫酸ナトリウムにて全量を１００とする
【0134】
７－１１．処方例１１ 軟膏
表２１の成分２～５を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および６～８を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化して、かき混ぜながら３０℃まで冷却する。これにより製品としての軟膏が得られる。
表２１の成分２～５を加熱溶解して混合し、７０℃に保ち油相とする。成分１および６～８を加熱溶解して混合し、７５℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化して、かき混ぜながら３０℃まで冷却する。これにより製品としての軟膏が得られる。
【0135】
［表２１］
軟膏
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｂ、１Ｅｂ、２Ａｂ、２Ｅｂの混合抽出物 ０．５
２．ポリオキシエチレンセチルエーテル（３０Ｅ．Ｏ．） ２．０
３．モノステアリン酸グリセリン １０．０
４．流動パラフィン ５．０
５．セタノール ６．０
６．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
７．プロピレングリコール １０．０
８．精製水にて全量を１００とする
軟膏
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａｂ、１Ｅｂ、２Ａｂ、２Ｅｂの混合抽出物 ０．５
２．ポリオキシエチレンセチルエーテル（３０Ｅ．Ｏ．） ２．０
３．モノステアリン酸グリセリン １０．０
４．流動パラフィン ５．０
５．セタノール ６．０
６．パラオキシ安息香酸メチル ０．１
７．プロピレングリコール １０．０
８．精製水にて全量を１００とする
【0136】
７－１２．処方例１２ 散剤
表２２の成分１～３を混合する。これにより製品としての散剤が得られる。
表２２の成分１～３を混合する。これにより製品としての散剤が得られる。
【0137】
［表２２］
散剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ２０．０
２．乾燥コーンスターチ ３０．０
３．微結晶セルロース ５０．０
散剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ２０．０
２．乾燥コーンスターチ ３０．０
３．微結晶セルロース ５０．０
【0138】
７－１３．処方例１３ 錠剤
表２３の成分１～４を混合し、次いで成分５の水溶液を結合剤として加えて顆粒成形する。成形した顆粒に成分６を加えて打錠する。１錠０．５２ｇとする。これにより製品としての錠剤が得られる。
表２３の成分１～４を混合し、次いで成分５の水溶液を結合剤として加えて顆粒成形する。成形した顆粒に成分６を加えて打錠する。１錠０．５２ｇとする。これにより製品としての錠剤が得られる。
【0139】
［表２３］
錠剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ３．０
２．乾燥コーンスターチ ２７．０
３．カルボキシメチルセルロースカルシウム ２０．０
４．微結晶セルロース ４０．０
５．ポリビニルピロリドン ７．０
６．タルク ３．０
錠剤
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ３．０
２．乾燥コーンスターチ ２７．０
３．カルボキシメチルセルロースカルシウム ２０．０
４．微結晶セルロース ４０．０
５．ポリビニルピロリドン ７．０
６．タルク ３．０
【0140】
７－１４．処方例１４ 錠菓
表２４の成分１～４および７を混合し、顆粒成形する。成形した顆粒に成分５および６を加えて打錠する。１粒１．０ｇとする。これにより製品としての錠菓が得られる。
表２４の成分１～４および７を混合し、顆粒成形する。成形した顆粒に成分５および６を加えて打錠する。１粒１．０ｇとする。これにより製品としての錠菓が得られる。
【0141】
［表２４］
錠菓
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ０．５
２．乾燥コーンスターチ ５０．０
３．エリスリトール ４０．０
４．クエン酸 ５．０
５．ショ糖脂肪酸エステル ３．０
６．香料 適量
７．精製水にて全量を１００とする
錠菓
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ０．５
２．乾燥コーンスターチ ５０．０
３．エリスリトール ４０．０
４．クエン酸 ５．０
５．ショ糖脂肪酸エステル ３．０
６．香料 適量
７．精製水にて全量を１００とする
【0142】
７－１５．処方例１５ 飲料
表２５の成分１～５を混合する。これにより製品としての飲料が得られる。
表２５の成分１～５を混合する。これにより製品としての飲料が得られる。
【0143】
［表２５］
飲料
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ２．０
２．果糖ブドウ糖液糖 １２．５
３．クエン酸 ０．１
４．香料 ０．０５
５．精製水にて全量を１００とする
飲料
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 ２．０
２．果糖ブドウ糖液糖 １２．５
３．クエン酸 ０．１
４．香料 ０．０５
５．精製水にて全量を１００とする
【0144】
７－１６．処方例１６ 粉末飲料
表２６の成分１～８を混合する。これにより製品としての粉末飲料が得られる。
表２６の成分１～８を混合する。これにより製品としての粉末飲料が得られる。
【0145】
［表２６］
処方例１６ 粉末飲料
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 １０．０
２．粉糖 ６５．０
３．粉末ピーチ果汁 １５．０
４．Ｌ－アスコルビン酸 ８．０
５．結晶クエン酸 １．２
６．クエン酸ナトリウム ０．７５
７．アスパルテーム ０．０２
８．粉末ピーチ香料 ０．０３
処方例１６ 粉末飲料
処方 含有量（部）
１．製造例１Ａａ、１Ｅａ、２Ａａ、２Ｅａの混合抽出物 １０．０
２．粉糖 ６５．０
３．粉末ピーチ果汁 １５．０
４．Ｌ－アスコルビン酸 ８．０
５．結晶クエン酸 １．２
６．クエン酸ナトリウム ０．７５
７．アスパルテーム ０．０２
８．粉末ピーチ香料 ０．０３
【0146】
Ａ．付記
第１の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第１導電体を備える第１電極体を有するプラズマ発生装置を用いる。プラズマ発生装置の第１導電体を培養原木または培養菌床に直接接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。
第１の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第１導電体を備える第１電極体を有するプラズマ発生装置を用いる。プラズマ発生装置の第１導電体を培養原木または培養菌床に直接接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。
【0147】
第２の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第１電極体は、誘電体を有する。誘電体が第１導電体と培養原木または培養菌床との間に位置している状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。
【0148】
第３の態様におけるマンネンタケの生産方法では、プラズマ発生装置は、第２導電体を有する第２電極体と、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加する電圧印加部と、を有する。
【0149】
第４の態様におけるマンネンタケの生産方法では、電圧印加部は、培養原木または培養菌床を第２電極体の第２導電体の上に配置している状態で、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加する。
【0150】
第５の態様におけるマンネンタケの生産方法では、プラズマ発生装置は、発光領域を生成する。発光領域を培養原木または培養菌床に接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。
【0151】
第６の態様における抗酸化剤の生産方法は、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。
【0152】
第７の態様における医薬品の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。
【0153】
第８の態様における食品の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。
【0154】
第９の態様における皮膚外用剤の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。
【符号の説明】
【0155】
１００…第１のプラズマ発生装置
２００…第２のプラズマ発生装置
１１０、２１０…第１電極体
１１１、２１１…第１電極
１１２、２１２…誘電体
１２０、２２０…第２電極体
１２１、２２１…第２電極
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ１ｍ…プラズマ発光領域
Ｂ１…菌床
Ｂ１ａ…上面
Ｂ１ｂ…下面
２００…第２のプラズマ発生装置
１１０、２１０…第１電極体
１１１、２１１…第１電極
１１２、２１２…誘電体
１２０、２２０…第２電極体
１２１、２２１…第２電極
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ１ｍ…プラズマ発光領域
Ｂ１…菌床
Ｂ１ａ…上面
Ｂ１ｂ…下面
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】