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特許7362982非球状配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成するための磁気アセンブリ、装置、及びプロセス
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-10
(45)【発行日】2023-10-18
(54)【発明の名称】非球状配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成するための磁気アセンブリ、装置、及びプロセス
(51)【国際特許分類】
B05D 3/00 20060101AFI20231011BHJP
B05D 7/24 20060101ALI20231011BHJP
B05D 5/12 20060101ALI20231011BHJP
B32B 7/025 20190101ALI20231011BHJP
B41M 3/14 20060101ALI20231011BHJP
B41F 11/02 20060101ALI20231011BHJP
【ＦＩ】
B05D3/00 D
B05D7/24 301T
B05D5/12 A
B05D7/24 303D
B32B7/025
B41M3/14
B41F11/02
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2020561760
(86)(22)【出願日】2019-05-07
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-08-30
(86)【国際出願番号】 EP2019061678
(87)【国際公開番号】W WO2019215148
(87)【国際公開日】2019-11-14
【審査請求日】2022-04-08
(31)【優先権主張番号】18171312.4
(32)【優先日】2018-05-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】311007051
【氏名又は名称】シクパ ホルディング ソシエテ アノニム
【氏名又は名称原語表記】ＳＩＣＰＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＳＡ
【住所又は居所原語表記】Ａｖｅｎｕｅ ｄｅ Ｆｌｏｒｉｓｓａｎｔ ４１，ＣＨ－１００８ Ｐｒｉｌｌｙ， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ
(74)【代理人】
【識別番号】100107456
【弁理士】
【氏名又は名称】池田 成人
(74)【代理人】
【識別番号】100128381
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 義憲
(74)【代理人】
【識別番号】100162352
【弁理士】
【氏名又は名称】酒巻 順一郎
(72)【発明者】
【氏名】アメラシンゲ， セドリック
(72)【発明者】
【氏名】シュミッド， マシュー
(72)【発明者】
【氏名】デスプラント， クロード－アラン
【審査官】市村 脩平
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１６－５１１７０３（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１４／００７７４８５（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１０－０４２４０７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０５Ｄ１／００－７／２６
Ｂ３２Ｂ１／００－４３／００
Ｂ４１Ｍ１／００－３／１８
Ｂ４１Ｆ５／００－１３／７０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）上に生成するプロセスであって、ｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップであり、前記第１の状態が液体状態である、ステップと、
ｉｉ）前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるために、前記放射線硬化性コーティング組成物を磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に曝露するステップであり、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、
ａ）前記基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｂ）前記基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
ｃ）表面の外側に如何なる突起も突出部も延びておらず、長さＬ５を有する平坦な磁極片（ｘ５０）と、
を備え、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、同じ磁界方向を有し、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、前記基板（ｘ２０）に対向するとともに前記磁極片（ｘ５０）の上に配設され、
前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、前記平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設され、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３よりも小さく、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、前記平坦な磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さく、
前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３が、前記磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さい、ステップと、
ｉｉｉ）前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれらの採用された位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の前記放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップと、
を含み、
前記光学効果層（ＯＥＬ）が、前記光学効果層を含む前記基板の傾斜により移動及び回転する三日月の光学的印象を与える、プロセス。
【請求項2】
前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、好ましくはポリオキシメチレン（ＰＯＭ）製の非磁性板（ｘ６０）をさらに備える、請求項１に記載のプロセス。
【請求項3】
前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、長さＬ９を有する第２の平坦な磁極片（×７０）をさらに備え、前記第２の磁極片が、前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の下に配設される、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項4】
前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、１つ又は複数のしるしを表す１つ又は複数の彫刻及び／又は切り欠きを含む磁化板（ｘ８０）をさらに備え、前記磁化板（ｘ８０）が、好ましくは、ポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材から作製され、
前記磁化板（ｘ８０）が、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配設されることにより前記基板（ｘ２０）に対向する、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項5】
前記平坦な磁極片（ｘ５０）が、鉄製である、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項6】
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、ディスク状の磁界発生装置であり、それらの長さＬ１及びＬ３がそれらの直径に対応するか、又は、正方形状の磁界発生装置であり、それらの長さＬ１及びＬ３がそれらの幅に対応する、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記ステップｉｉｉ）が、前記ステップｉｉ）と一部同時に実行される、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項9】
前記非球状磁性又は磁化可能粒子が、血小板状の顔料粒子であり、前記プロセスが、前記血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対して前記放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであって、前記ステップｉ）の後で前記ステップｉｉ）の前に実行される、ステップをさらに含む、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項10】
光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）であって、前記光学効果層（ＯＥＬ）が、前記ＯＥＬの傾斜により移動又は回転する三日月状の要素の印象を与えるとともに、硬化した放射線硬化性コーティング組成物内における非球状配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、ａ）前記基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有し、長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｂ）前記基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有し、長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
ｃ）表面の外側に如何なる突起も突出部も延びておらず、長さＬ５を有する平坦な磁極片（ｘ５０）と、
を備え、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、同じ磁界方向を有し、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、前記基板（ｘ２０）に対向するとともに前記磁極片（ｘ５０）の上に配設され、
前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、前記平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設され、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３よりも小さく、
前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、前記磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さく、
前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３が、前記磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さい、磁気アセンブリ（ｘ００）。
【請求項11】
非磁性板（ｘ６０）をさらに備え、及び／又は長さＬ９を有する第２の平坦な磁極片（ｘ７０）であって、前記第２の磁極片が、前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の下に配設され、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、前記第２の磁極片（ｘ７０）の長さＬ９よりも小さく、前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３が、前記第２の磁極片（ｘ７０）の長さＬ９よりも小さい、第２の平坦な磁極片（ｘ７０）をさらに備え、及び／又は
１つ又は複数のしるしを表す１つ又は複数の彫刻及び／又は切り欠きを含む磁化板（ｘ８０）であって、前記磁化板（ｘ８０）が、好ましくは、ポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材から作製され、前記磁化板（ｘ８０）が、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配設されることにより前記基板（ｘ２０）に対向する、磁化板（ｘ８０）をさらに備える、
請求項１０に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
【請求項12】
前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、好ましくは回転磁気シリンダである転写装置に搭載されたホルダ（ｘ０１）内に配設される、請求項１０又は１１に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
【請求項13】
請求項１０～１２のいずれか一項に記載の前記磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える回転磁気シリンダを備える印刷装置。
【請求項14】
請求項１０～１２のいずれか一項に記載の前記磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える平台印刷ユニットを備える印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【0001】
[001]本発明は、偽造及び違法複製に対する有価文書及び有価商品の保護の分野に関する。特に、本発明は、視角に応じた光学効果を示す光学効果層（ＯＥＬ）、上記ＯＥＬを生成するための磁気アセンブリ、装置、及びプロセス、並びに文書上の偽造防止手段としての上記ＯＥＬの使用に関する。
【発明の背景】
【0002】
[002]当技術分野においては、磁性又は磁化可能顔料粒子磁性又は磁化可能顔料粒子、特に非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、コーティング組成物、コーティング、又は層を用いることによって、セキュリティ要素及びセキュリティ文書を生成することが知られている。
【0003】
[003]例えばセキュリティ文書のセキュリティフィーチャは、「秘密」及び「公然」のセキュリティフィーチャに分類可能である。秘密のセキュリティフィーチャによる保護は、そのような機能が隠蔽されており、検出には通常、専門的な機器及び知識が必要である、という概念に依拠している。一方、「公然」のセキュリティフィーチャは、人間の感覚のみで容易に検出可能であり、例えばそのような機能は、可視的及び／又は触覚によって検出可能であるが、製造及び／又はコピーは依然として困難である。ただし、公然のセキュリティフィーチャの有効性は、そのセキュリティフィーチャとしての容易な認識に大きく依存する。何故なら、ユーザは、セキュリティフィーチャの存在及び性質に気付いている場合、そのようなセキュリティフィーチャに基づいて実際にセキュリティ確認を行うに過ぎないからである。
【0004】
[004]配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層については、例えば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。コーティング中の磁性又は磁化可能顔料粒子は、対応する磁界の印加により、非固化コーティング中で磁性又は磁化可能顔料粒子を局所的に配向させた後、これらを固化させることによって、磁気誘導画像、デザイン、及び／又はパターンを生成することができる。これにより、特定の光学効果すなわち偽造に対する耐性が高い固定磁気誘導画像、デザイン、又はパターンが得られる。配向磁性又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子又は当該粒子を含む対応するインク若しくは組成物並びに上記インク若しくは組成物の塗布及び塗布インク若しくは組成物中の上記顔料粒子の配向に用いられる特定の技術の両者が利用可能な場合にのみ生成可能である。
【0005】
[005]移動リング効果が効率的なセキュリティ要素として開発されている。移動リング効果は、上記光学効果層の傾斜角に応じて任意のｘ－ｙ方向に移動するように見える漏斗、円錐、ボウル、円、楕円、及び半球等の物体の光学的錯覚像から成る。移動リング効果を生む方法については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２ ３０６ ２２２ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ３２５ ６７７ Ａ２号、及び米国特許出願公開第２０１３／０８４４１１号に開示されている。
【0006】
[006]国際公開第２０１１／０９２５０２ Ａ２号は、視覚の変化で見かけ上の移動リングを表示する移動リング像を生成する装置を開示している。開示の移動リング像は、軟磁化可能シートと、磁気軸がコーティング層の平面に垂直であるとともに上記軟磁化可能シートの下側に配設された球状磁石との組合せにより生成された磁界によって磁性又は磁化可能粒子の配向を可能とする装置の使用によって取得又は生成され得る。
【0007】
[007]従来技術の移動リング像は一般的に、唯一の回転又は固定磁石の磁界による磁性又は磁化可能粒子の整列によって生成される。唯一の磁石の磁力線は一般的に、比較的緩やかな屈曲すなわち低い曲率を呈しているため、磁性又は磁化可能粒子の配向の変化もＯＥＬの表面上で比較的緩やかである。さらに、単一の磁石のみが用いられる場合は、磁石からの距離の増加とともに磁界の強度が急激に低下する。このため、磁性又は磁化可能粒子の配向により極めて動的且つ明確に規定された特徴を得るのは難しく、リング縁部がぼやけた視覚効果となる可能性がある。
【0008】
[008]国際公開第２０１１／０９２５０２ Ａ２号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、ＯＥＬの傾斜に際して移動するループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。開示のＯＥＬは、軟磁化可能シートと、配向対象の磁性又は磁化可能粒子を含むコーティング層の平面に対してＮＳ軸が垂直となるように成形された球状永久磁石とを備える装置を用いて生成される。
【0009】
[009]国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、ＯＥＬの傾斜に際して移動するループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号は、ループ状体において、当該ループ状体に囲まれた中央領域の反射帯による突起の光学効果又は印象をさらにもたらすＯＥＬを開示している。開示の突起は、ループ状体に囲まれた中央領域に存在する半球等の３次元物体の印象を与える。
【0010】
[0010]国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、１つの共通中央領域を囲み、視角に応じた見かけ上の運動を示す複数の入れ子になったループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。さらに、国際公開第２０１４／１０８３０３ Ａ１号は、最も内側のループ状体に囲まれ、これにより規定された中央領域を部分的に満たす突起をさらに含むＯＥＬを開示している。開示の突起は、中央領域に存在する半球等の３次元物体の錯覚を与える。
【0011】
[0011]中国特許第１０４４４２０５５ Ｂ号及び中国実用新案第２０４５６６８９４ Ｕ号は、コーティング中に分散した複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成する装置を開示している。開示のＯＥＬの特定の磁気配向パターンは、ＯＥＬの傾斜に際して移動するループ状体の光学効果又は印象を観察者に与える。開示のＯＥＬは、第１の磁石と、磁気結合によって第１の磁石の傾斜磁気エリアを拡げる第２の磁石とを備える装置を用いて生成される。
【0012】
[0012]容易に確認可能であり、偽造者が利用可能な機器で大規模に製造することが難しく、非常に多くの考え得る形状及び形態で提供可能な人目を引く明るいループ状効果を良い品質で基板上に表示するセキュリティフィーチャが依然として求められている。
【発明の概要】
【0013】
[0013]したがって、本発明は、上述の従来技術の不備を克服することを目的とする。
【0014】
[0014]第１の態様において、本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を基板（ｘ２０）上に生成するプロセス及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）を提供し、当該プロセスが、
ｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップであり、上記第１の状態が液体状態である、ステップと、
ｉｉ）放射線硬化性コーティング組成物を磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、
ａ）基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｂ）基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（ｘ５０）と、
を備え、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、同じ磁界方向を有し、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、基板（ｘ２０）に対向するとともに磁極片（ｘ５０）の上に配設され、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、環境に対向するとともに平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設され、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３よりも小さく、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、平坦な磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さく、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３が、磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さい、ステップと、
ｉｉｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれらの採用された位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップと、
を含み、
光学効果層が、当該光学効果層（ＯＥＬ）を含む基板の傾斜により移動及び回転する三日月の光学的印象を与える。
ｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップであり、上記第１の状態が液体状態である、ステップと、
ｉｉ）放射線硬化性コーティング組成物を磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に曝露することにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるステップであり、前記磁気アセンブリ（ｘ００）が、
ａ）基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｂ）基板（ｘ２０）表面に対して実質的に垂直なＮＳ磁気軸を有するとともに、長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（ｘ５０）と、
を備え、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、同じ磁界方向を有し、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、基板（ｘ２０）に対向するとともに磁極片（ｘ５０）の上に配設され、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、環境に対向するとともに平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設され、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３よりも小さく、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）の長さＬ１が、平坦な磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さく、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３が、磁極片（ｘ５０）の長さＬ５よりも小さい、ステップと、
ｉｉｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれらの採用された位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップと、
を含み、
光学効果層が、当該光学効果層（ＯＥＬ）を含む基板の傾斜により移動及び回転する三日月の光学的印象を与える。
【0015】
[0015]別の態様において、本発明は、本明細書に記載のプロセスにより作成された光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。
【0016】
[0016]別の態様において、偽造若しくは不正に対するセキュリティ文書の保護又は装飾用途のための光学効果層（ＯＥＬ）の使用が提供される。
【0017】
[0017]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＤ）を備えるセキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を提供する。
【0018】
[0018]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を生成する本明細書に記載のような磁気アセンブリ（ｘ００）及び本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を生成する上記磁気アセンブリ（ｘ００）の使用を提供する。
【0019】
[0019]別の態様において、本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を生成する本明細書に記載のような磁気アセンブリ（ｘ００）であって、好ましくは回転磁気シリンダである転写装置に搭載されたホルダ（ｘ０１）中に配設された、磁気アセンブリ（ｘ００）を提供する。
【0020】
[0020]別の態様において、本発明は、本明細書に記載のような基板上に本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成する印刷装置であって、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える、印刷装置を提供する。本明細書に記載の印刷装置は、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備える平台印刷ユニットを備える。
【0021】
[0021]別の態様において、本発明は、本明細書に記載のような基板上に本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成する本明細書に記載の印刷装置の使用を提供する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】光学効果層（ＯＥＬ）（１１０）を基板（１２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（１００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（１３０）、特にディスク状又は正方形状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（１４０）、特にディスク状又は正方形状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（１５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、を備える、磁気アセンブリ（１００）を概略的に示す図である。
【図2】長さＬ２１、中心厚さＬ１９、及び縁部厚さＬ２０を有するドーム状の蓋（１０２）と、長さＬ２３及び厚さＬ２２を有する底部ロック（１０３）と、長さＬ２５及び厚さＬ２４を有する任意選択としてのウェッジ１０４とを備えるホルダ（１０１）に囲まれた磁気アセンブリ（１００）であって、ａ）第１の磁界発生装置（１３０）、特にディスク状又は正方形状の磁界発生装置と、ｂ）第２の磁界発生装置（１４０）、特にディスク状又は正方形状の磁界発生装置と、ｃ）平坦な磁極片（１５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、を備える、磁気アセンブリ（１００）の断面を概略的に示す図である。
【図4】光学効果層（ＯＥＬ）（２１０）を基板（２２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（２００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（２３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（２４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（２５０）、特に平坦な正方形状又はディスク状の磁極片と、ｄ）非磁性板（２６０）、特に正方形状の非磁性板と、を備える、磁気アセンブリ（２００）を概略的に示す図である。
【図6】光学効果層（ＯＥＬ）（３１０）を基板（３２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（３００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（３３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（３４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（３５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、ｄ）非磁性板（３６０）、特に正方形状の非磁性板と、を備える、磁気アセンブリ（３００）を概略的に示す図である。
【図8】光学効果層（ＯＥＬ）（４１０）を基板（４２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（４００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（４３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（４４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（４５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、ｄ）長さＬ７を有する第２の平坦な磁極片（４７０）、特に平坦な正方形状の第２の磁極片と、を備える、磁気アセンブリ（４００）を概略的に示す図である。
【図10】光学効果層（ＯＥＬ）（５１０）を基板（５２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（５３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（５４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（５５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、ｄ）非磁性板（５６０）、特に正方形状の非磁性板と、ｅ）第２の平坦な磁極片（５７０）、特に平坦な正方形状の第２の磁極片と、を備える、磁気アセンブリ（５００）を概略的に示す図である。
【図12】光学効果層（ＯＥＬ）（６１０）を基板（６２０）表面上に生成するための磁気アセンブリ（６００）であって、ａ）長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（６３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（６４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｃ）長さＬ５を有する平坦な磁極片（６５０）、特に平坦な正方形状の磁極片と、ｄ）非磁性板（６６０）、特に正方形状の非磁性板と、ｅ）彫刻されたしるしを備える磁化板（ｘ８０）、特に正方形状の磁化板と、を備える、磁気アセンブリ（６００）を概略的に示す図である。
【図14】中国特許第１０４４４２０５５ Ｂ号及び中国実用新案第２０４５６６８９４ Ｕ号に係る、光学効果層（ＯＥＬ）（７１０）を基板（７２０）表面上に生成する比較としての磁気アセンブリであって、ａ）第１の磁界発生装置（７３０）、特にディスク状の磁界発生装置と、ｂ）第２の磁界発生装置（７４０）、特にディスク状の磁界発生装置と、を備える、磁気アセンブリを概略的に示す図である。
【詳細な説明】
【0023】
定義
[0022]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。
[0022]以下の定義を用いることによって、本明細書及び特許請求の範囲に記載の用語の意味を解釈するものとする。
【0024】
[0023]本明細書において、不定冠詞「ａ」は、１つ及び２つ以上を示し、必ずしもその指示対象の名詞を単数に限定するものではない。
【0025】
[0024]本明細書において、用語「およそ（ａｂｏｕｔ）」は、対象とする量又は値が指定された特定の値又はその近傍の他の値であってもよいことを意味する。一般的に、ある値を示す用語「およそ」は、その値の±５％の範囲を示すことを意図している。一例として、表現「およそ１００」は、１００±５の範囲すなわち９５～１０５の範囲を示す。一般的に、用語「およそ」を使用する場合は、本発明に係る類似の結果又は効果が指定値の±５％の範囲で得られることが予想され得る。
【0026】
[0025]用語「実質的に平行（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐａｒａｌｌｅｌ）」は、平行整列からの逸脱が１０°以下であることを表し、用語「実質的に垂直」は、垂直整列からの逸脱が１０°以下であることを表す。
【0027】
[0026]本明細書において、用語「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」は、上記群の要素のすべて又は１つだけが存在していてもよいことを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、Ｂのみ、又はＡ及びＢの両者」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが存在しない可能性すなわち「ＡのみであってＢではない」という可能性も網羅している。
【0028】
[0027]本明細書において、用語「備える（含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、非排他的且つオープンエンドであることを意図している。したがって、例えば化合物Ａを含む湿し水は、Ａ以外の化合物を含んでいてもよい。ただし、用語「備える（含む）」は、その特定の一実施形態として、「～から本質的に成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「～から成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより限定的な意味も網羅するため、例えば「Ａ、Ｂ、及び任意選択としてＣを含む湿し水」は、Ａ及びＢから（本質的に）成っていてもよいし、Ａ、Ｂ、及びＣから（本質的に）成っていてもよい。
【0029】
[0028]用語「コーティング組成物（ｃｏａｔｉｎｇ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）」は、本発明の光学効果層（ＯＥＬ）を固体基板上に形成可能であるとともに、印刷法によって優先的且つ非排他的に塗布可能な任意の組成物を表す。コーティング組成物は、少なくとも複数の非球状磁性又は磁化可能粒子及びバインダを含む。
【0030】
[0029]本明細書において、用語「光学効果層（ｏｐｔｉｃａｌ ｅｆｆｅｃｔ ｌａｙｅｒ：ＯＥＬ）」は、少なくとも複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能粒子及びバインダを含み、非球状磁性又は磁化可能粒子の配向がバインダ内で固定又は停止（固定／停止）された層を示す。
【0031】
[0030]用語「磁気軸（ｍａｇｎｅｔｉｃ ａｘｉｓ）」は、磁石の対応するＮＳ極を接続するとともに、上記両極を通って延びた仮想線を示す。この用語には、如何なる特定の磁界方向も含まない。
【0032】
[0031]用語「磁界方向（ｍａｇｎｅｔｉｃ ｆｉｅｌｄ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）」は、磁石の外部でＮ極からＳ極へと向かう磁界線に沿った磁界ベクトルの方向を示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２の４６３～４６４頁参照）。
【0033】
[0032]用語「硬化（ｃｕｒｉｎｇ）」は、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれらの現在位置及び配向に固定／停止されて移動も回転もできなくなる状態すなわち硬化、固化、又は固体状態へと材料を変換する刺激に応答してコーティング組成物の粘度が高くなるプロセスを示すのに用いる。
【0034】
[0033]本明細書において「好適な」実施形態／特徴に言及する場合は、これら「好適な」実施形態／特徴の組合せについても、その組合せが技術的に有意である限り開示されているものと考えられる。
【0035】
[0034]本明細書において、用語「少なくとも（ａｔ ｌｅａｓｔ）」は、１つ又は２つ以上（例えば、１つ、２つ、又は３つ）を規定するものである。
【0036】
[0035]用語「セキュリティ文書（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｄｏｃｕｍｅｎｔ）」は、少なくとも１つのセキュリティフィーチャにより偽造又は不正に対して通例保護される文書を表す。セキュリティ文書の例としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。
【0037】
[0036]用語「セキュリティフィーチャ（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｆｅａｔｕｒｅ）」は、認証目的で使用可能な画像、パターン、又は図形要素を示すのに用いる。
【0038】
[0037]本発明は、光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に生成する方法及びこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）であって、当該方法が、ｉ）本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップを含む、方法を提供する。
【0039】
[0038]本明細書に記載の塗布ステップｉ）は、例えばローラ及びスプレー被覆プロセス等の被覆プロセス又は印刷プロセスにより実行されるようになっていてもよい。本明細書に記載の塗布ステップｉ）は、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野においては銅版凹版印刷及び鋼製金型凹版印刷とも称する）から成る群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスによって実行されるのが好ましい。
【0040】
[0039]本明細書に記載の基板表面に対する本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物の塗布（ステップｉ））の後、一部同時、又は同時に、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に対する放射線硬化性コーティング組成物の曝露によって非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させる（ステップｉｉ））ことにより、磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された磁力線に沿って非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を整列させる。
【0041】
[0040]本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップの後又は一部同時に、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定又は停止する。このように特筆すべきこととして、放射線硬化性コーティング組成物は第１の状態すなわち液体又はペースト状態を有する必要があり、十分に湿潤又は柔軟であるため、放射線硬化性コーティング組成物中に分散した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁界への曝露により自由に移動、回転、及び／又は配向可能である。また、第２の硬化（例えば、固体）状態も有する必要があり、この場合の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、それらの位置及び配向で固定又は停止される。
【0042】
[0041]以上から、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基板上に生成する方法は、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれらの採用された位置及び配向に固定するために、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップｉｉｉ）を含む。放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））の後又は一部同時に実行されるようになっていてもよい。放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））と一部同時に実行されるのが好ましい。「一部同時」によって、両ステップの一部が同時に実行される。すなわち、各ステップの実行タイミングが部分的に重なることになる。本明細書に記載の背景において、配向ステップｉｉ）と一部同時に硬化が実行される場合は、ＯＥＬの完全又は部分的な硬化又は固化の前に顔料粒子が配向するように、配向後に硬化が有効となることが了解される必要がある。
【0043】
[0042]このように得られた光学効果層（ＯＥＬ）は、当該光学効果層を含む基板の傾斜により移動及び回転する三日月の光学的印象を観察者に与える。
【0044】
[0043]放射線硬化性コーティング組成物の第１及び第２の状態は、ある種の放射線硬化性コーティング組成物を用いることによって提供される。例えば、放射線硬化性コーティング組成物における非球状磁性又は磁化可能顔料粒子以外の成分は、インク又はセキュリティ用途（例えば、紙幣印刷）に用いられるような放射線硬化性コーティング組成物の形態であってもよい。上述の第１及び第２の状態は、電磁放射線への曝露に応答して粘度が高くなる材料を用いることにより提供される。すなわち、流体のバインダ材料は、硬化又は凝固によって、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれらの現在位置及び配向に固定されて、バインダ材料内で移動も回転もできなくなる第２の状態に変換される。
【0045】
[0044]当業者には既知の通り、基板等の表面上に塗布する放射線硬化性コーティング組成物に含まれる成分及び上記放射線硬化性コーティング組成物の物性は、放射線硬化性コーティング組成物の基板表面への移動に用いられるプロセスの要件を満たす必要がある。その結果、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダ材料は通常、当技術分野において既知の材料から選定されるとともに、放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された放射線硬化プロセスによって決まる。
【0046】
[0045]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）において、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、当該非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／停止する硬化バインダ材料を含む放射線硬化性コーティング組成物中に分散している。硬化バインダ材料は、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。このように、バインダ材料は、少なくともその硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも称する）において、２００ｎｍ～２５００ｎｍすなわち通常「光学スペクトル」と称し、バインダ材料に含まれる硬化又は固体状態の粒子及びそれらの配向に応じた反射性がバインダ材料を通じて認識され得るように、電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ部分を含む波長範囲内に含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。硬化バインダ材料は、好ましくは２００ｎｍ～８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。本明細書において、用語「透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）」は、該当する（１つ又は複数の）波長において、ＯＥＬ（血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まないが、ＯＥＬのその他任意選択の成分があれば、それらをすべて含む）に存在する硬化バインダ材料の２０μｍの層に対する電磁放射線の透過率が少なくとも５０％、好ましくは少なくとも６０％、より好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これは、例えばＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）等の確立した試験方法に従って硬化バインダ材料（血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まず）の試験片の透過率を測定することによって決定可能である。ＯＥＬが秘密のセキュリティフィーチャとして機能する場合、選択した非可視波長を含む各照明条件下においてＯＥＬが生成する（完全な）光学効果を検出するには通常、技術的な手段が必要となる。当該検出では、可視領域外（例えば、近ＵＶ領域）において入射放射線の波長が選択される必要がある。この場合、ＯＥＬは、入射放射線に含まれる可視スペクトルの外側の選択波長に応答して発光する発光性顔料粒子を含むのが好ましい。電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分は、７００～２５００ｎｍ、４００～７００ｎｍ、及び２００～４００ｎｍの波長範囲にそれぞれ略対応する。
【0047】
[0046]上述の通り、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、当該放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された硬化プロセスによって決まる。放射線硬化性コーティング組成物の硬化には、本明細書に記載のＯＥＬを備える物品の通常使用時に起こり得る（例えば、最大８０℃の）単純な温度上昇では不可逆の化学反応を伴うのが好ましい。用語「硬化（ｃｕｒｉｎｇ）」又は「硬化性（ｃｕｒａｂｌｅ）」は、塗布した放射線硬化性コーティング組成物中の少なくとも１つの成分が化学反応、架橋、又は重合によって開始材料よりも大きな分子量を有するポリマー材料に変化するプロセスを表す。放射線硬化では、硬化放射線への曝露により放射線硬化性コーティング組成物の粘度が瞬時に高くなり、顔料粒子のさらなる移動が抑えられ、結果的に磁気配向ステップ後の情報喪失が抑えられるため都合が良い。硬化ステップ（ステップｉｉｉ））は、好ましくはＵＶ可視光放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化、より好ましくはＵＶ可視光放射線硬化によって実行される。
【0048】
[0047]したがって、本発明に適した放射線硬化性コーティング組成物としては、ＵＶ・可視光放射線（以下、ＵＶ・可視放射線と称する）又は電子ビーム放射線（以下、ＥＢ放射線と称する）によって硬化可能な放射線硬化性組成物が挙げられる。放射線硬化性組成物は、当技術分野において既知であり、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９６年に４巻を発行したＣ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ等の標準的な教科書に見られる。本発明の特に好適な一実施形態によれば、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物である。
【0049】
[0048]ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物から成る群から選択される１つ又は複数の化合物を含むのが好ましい。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、ハイブリッド系であってもよく、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物及び１つ又は複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含む。カチオン硬化性化合物は、酸等のカチオン種を遊離させて硬化を開始することにより、モノマー及び／又はオリゴマーの反応及び／又は架橋によって放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を通常含むカチオン機構によって硬化する。ラジカル硬化性化合物は、１つ又は複数の光開始剤の放射によってラジカルを生成することにより重合を開始して放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる活性化を通常含むフリーラジカル機構によって硬化する。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダの作成に用いられるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用可能である。遊離基光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタル、α－アミノケトン、α－ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド、及びホスフィンオキシド誘導体のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、有機ヨードニウム塩（例えば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（例えば、トリアリールオキソニウム塩）、及びスルホニウム塩（例えば、トリアリールスルホニウム塩）等のオニウム塩のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。有用な光開始剤の他の例は、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙにより編集され、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９８年に発行したＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」第３巻の「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」第２版等の標準的な教科書に見られる。また、効率的な硬化を実現するため、１つ又は複数の光開始剤と併せて増感剤を含むのが好都合と考えられる。好適な光増感剤の一般的な例としては、イソプロピル－チオキサントン（ＩＴＸ）、１－クロロ－２－プロポキシ－チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４－ジエチル－チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくはおよそ０．１重量％～およそ２０重量％、より好ましくはおよそ１重量％～およそ１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。
【0050】
[0049]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は磁性材料（本明細書に記載の血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光材料、導電材料、及び赤外線吸収材料から成る群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含んでいてもよい。本明細書において、用語「機械可読材料」は、肉眼では確認できない少なくとも１つの特別な特性を示し、ある層に含めることによって、特定の認証用機器の使用により当該層又は当該層を含む物品を認証する方法を提供可能な材料を表す。
【0051】
[0050]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機色素から成る群から選択される１つ若しくは複数の着色成分並びに／又は１つ若しくは複数の添加剤をさらに含んでいてもよい。後者としては、粘度（例えば、溶媒、増粘剤、及び界面活性剤）、稠度（例えば、硬化防止剤、充填剤、及び可塑剤）、起泡性（例えば、消泡剤）、潤滑性（ワックス、オイル）、ＵＶ安定性（光安定剤）、密着性、帯電防止特性、保存性（重合防止剤）等の放射線硬化性コーティング組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータの調整に用いられる化合物及び材料が挙げられるが、これらに限定されない。本明細書に記載の添加剤は、当該添加剤の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲であるいわゆるナノ材料等、当技術分野において既知の量及び形態で放射線硬化性コーティング組成物中に存在していてもよい。
【0052】
[0051]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量だけ存在する。この重量百分率は、バインダ材料、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子、及び放射線硬化性コーティング組成物のその他任意選択の成分を含む放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。
【0053】
[0052]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、形状が非球状であることから、硬化又は固化バインダ材料の少なくとも一部が透明である入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有するように規定されている。本明細書において、用語「非等方的な反射性（ｎｏｎ－ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）」は、第１の角度からの入射放射線が粒子により特定の（観察）方向（第２の角度）に反射される割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化に応じて観察方向への反射の大きさが異なり得ることを示す。さらに好ましいこととして、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子の配向の変化によって当該粒子による反射が特定の方向に変化するように、好ましくはおよそ２００～およそ２５００ｎｍ、より好ましくはおよそ４００～およそ７００ｎｍの波長範囲の一部又は全部における入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有する。当業者には既知の通り、本明細書に記載の磁性又は磁化可能顔料粒子は、すべての視角について同じ色を示す従来の顔料粒子と異なり、上述の通り非等方的な反射性を示す。
【0054】
[0053]非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、扁長若しくは扁平な楕円体状、血小板状、若しくは針状の顔料粒子、又はこれらの２つ以上の混合物であるのが好ましく、血小板状の粒子であるのがさらに好ましい。
【0055】
[0054]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される磁性金属、鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性（ｍａｇｎｅｔｉｃ）」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、赤鉄鉱（Ｆｅ２Ｏ３）、磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４）、二酸化クロム（ＣｒＯ２）、磁性フェライト（ＭＦｅ２Ｏ４）、磁性スピネル（ＭＲ２Ｏ４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ１２Ｏ１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ３）、磁性ガーネット（Ｍ３Ｒ２（ＡＯ４）３）等の鉄酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、Ｍは２価、Ｒは３価、Ａは４価の金属を表す。
【0056】
[0055]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数で構成された磁気層Ｍを含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。上記血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の別の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の別の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で独立して構成された層Ａ、金属及び金属合金、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成された層Ｂ、或いは上述のような１つ又は複数の層Ａ並びに上述のような１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上述の多層構造である血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の一般的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、層Ａ、磁気層Ｍ、及び層Ｂは、上述の層から選定される。
【0057】
[0056]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状光学可変磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子並びに／又は光学可変特性を持たない非球状磁性顔料粒子若しくは磁化可能顔料粒子で構成されていてもよい。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によってもたらされる公然のセキュリティフィーチャは、本明細書に記載の非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性コーティング組成物、コーティング、又は層を有する物品又はセキュリティ分を人間の感覚のみで容易に検出、認識、及び／又はその考え得る偽造品から識別可能であるが、これに加えて、血小板状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性をＯＥＬ認識用の機械可読ツールとして使用するようにしてもよい。したがって、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性を解析する認証プロセスにおいては、秘密又は準秘密のセキュリティフィーチャとして、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性を同時に使用するようにしてもよい。ＯＥＬを生成する放射線硬化性コーティング組成物に非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を使用すると、ＯＥＬの機密書類用途におけるセキュリティフィーチャとしての意義が高くなる。このような材料（すなわち、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子）は、機密書類印刷業のためのものであって、一般には市販されていないためである。
【0058】
[0057]さらに、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、その磁性により機械可読であるため、これらの顔料粒子を含む本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物で構成されたコーティング又は層は、例えば特定の磁気検出器により検出されるようになっていてもよい。したがって、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、セキュリティ文書の秘密又は準秘密のセキュリティ要素（認証ツール）として使用可能である。
【0059】
[0058]上述の通り、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、少なくとも一部が非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。これらは、非球状磁性薄膜干渉顔料粒子、非球状磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球状干渉被覆顔料粒子、及びこれらの２つ以上の混合物から成る群から選択可能であるのがより好ましい。
【0060】
[0059]磁性薄膜干渉顔料粒子については、当業者に既知であって、例えば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０ Ａ２号、欧州特許第０ ６８６ ６７５ Ｂ１号、国際公開第２００３／０００８０１ Ａ２号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号、及びこれらの引用文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子を含んでいるのが好ましい。
【0061】
[0060]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成り、反射体及び／又は吸収体が磁性層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体が、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
【0062】
[0061]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
【0063】
[0062]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射対／誘電体／吸収体の多層構造から成る。
【0064】
[0063]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択され、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成されているのが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ３ＡｌＦ６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等の金属酸化物から成る群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）で独立して構成されている。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、金属硫化物、金属炭化物、及び金属合金から成る群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、及び金属合金から成る群から選択され、さらに好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成されている。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合は、磁性薄膜干渉顔料粒子がＣｒ／ＭｇＦ２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ２／Ｃｒ多層構造から成る７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射対／磁性体／反射対／誘電体／吸収体の多層構造を有するのが特に好ましく、Ｍは、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。
【0065】
[0064]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられ、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、上記顔料粒子は、およそ４０重量％～およそ９０重量％の鉄、およそ１０重量％～およそ５０重量％のクロム、及びおよそ０重量％～およそ３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む１つ又は複数の磁気層を備える。人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子の一般的な例は、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号に見られるため、そのすべての内容を本明細書に援用する。
【0066】
[0065]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は通常、ウェブ上への異なる所要層の従来堆積技術によって製造される。例えば物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、又は電解析出によって所望数の層を堆積させた後は、好適な溶媒中での剥離層の溶解又はウェブからの材料の剥離によって層スタックをウェブから除去する。そして、このように得られた材料を粉砕することにより血小板状の顔料粒子が得られるが、これは、研削、ミル加工（例えば、ジェットミル加工プロセス等）、又は任意の好適な方法でさらに処理して所要サイズの顔料粒子を得る必要がある。得られる製品は、縁部が破砕され、形状が不規則で、アスペクト比が異なる平らな血小板状顔料粒子から成る。好適な血小板状磁性薄膜干渉顔料粒子の作成に関する詳細については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号及び欧州特許出願公開第１ ６６６ ５４６ Ａ１号に見られるが、これらを本明細書に援用する。
【0067】
[0066]光学可変特性を示す好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。このような顔料については、例えば国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号は、高い輝度及び変色特性のほか、磁化可能性等の特定の特性を有する単層及び当該単層から得られた顔料粒子を開示している。この開示の単層及び当該単層の粉砕により得られた顔料は、３次元架橋したコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列がＡ１／Ｂ／Ａ２のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ１及びＡ２は、同じであってもよいし異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含む。Ｂは、層Ａ１及びＡ２から送られた光の全部又は一部を吸収するとともに磁気特性を付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列がＡ／Ｂであり、任意選択としてＣを含む血小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。
【0068】
[0067]１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料としては、１つ又は複数の層で被覆されたコアから成る群から選択される基板から成る構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、上記コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも一方は、磁性を有する。例えば、好適な干渉被覆顔料は、上記のような磁性材料で構成されたコアであって、１つ又は複数の金属酸化物で構成された１つ又は複数の層で被覆された、コアを含むか、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物で構成されたコアから成る構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の別の層が存在していてもよい。
【0069】
[0068]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性コーティング組成物に生じ得る任意の劣化に対する保護及び／又は放射線硬化性コーティング組成物への組み込みの容易化のために表面処理されていてもよく、通常は、腐食防止剤及び／又は湿潤剤が用いられるようになっていてもよい。
【0070】
[0069]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）（ｘ１０）を本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成するプロセスは、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に放射線硬化性皮膜組成物を曝露するステップｉｉ）を含む。また、本明細書には、本明細書に記載のような硬化した放射線硬化性コーティング組成物において配向した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む本明細書に記載のようなＯＥＬ（ｘ１０）を本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）及び当該磁気アセンブリ（ｘ００）を用いたプロセスを記載している。
【0071】
[0070]磁気アセンブリ（ｘ００）は、ａ）本明細書に記載の長さＬ１を有する第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、ｂ）本明細書に記載の長さＬ３を有する第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、ｃ）本明細書に記載の長さＬ５を有する平坦な磁極片（ｘ５０）とを備える。
【0072】
[0071]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、回転磁気シリンダ又は磁気配向印刷ユニットである転写装置に搭載されたホルダ（ｘ０１）に配設又は包含されている。本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、回転磁気シリンダ、特に、回転磁気シリンダの円周方向溝又は横方向溝に搭載された本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）に配設又は包含されているのが好ましい。
【0073】
[0072]図２に示すように、本明細書に記載の光学効果層を生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）は、当該磁気アセンブリ（ｘ００）を汚染及び機械的損傷から保護するとともにＯＥＬ（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）を支持する滑らかな表面を与えるドーム状の蓋（ｘ０２）（すなわち、湾曲面を有する蓋）を備える本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）に配設又は包含されているのが好ましい。ホルダ（１０１）及びドーム状の蓋（１０２）は、長さ及び幅Ｌ２１、ドーム状の蓋（１０２）の中心における厚さＬ１９、並びにドーム状の蓋（１０２）の縁部における厚さＬ２０を有する。ドーム状の蓋（１０２）の上面は、曲率が半径（Ｌ－Ｒ）の円の曲率である湾曲面である。ドーム状の蓋（１０２）の外部の上面は、本明細書に記載の転写装置の外部表面に対して、好ましくは本明細書に記載の回転磁気シリンダの外部表面に対してシームレスに適合しており、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）が配設又は包含されている。ドーム状の蓋（ｘ０２）は、磁気アセンブリ（ｘ００）とＯＥＬ（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）との間の分離要素として機能する。図２に示すように、ドーム状の蓋（１０２）は、第１の磁界発生装置（１３０）を第２の磁界発生装置（１４０）及び平坦な磁極片（１５０）と位置合わせして固定する凹部をさらに備えていてもよい。
【0074】
[0073]本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）は、磁気アセンブリ（ｘ００）を汚染及び機械的損傷から保護する底部ロック（ｘ０３）を備える。底部ロック（１０３）は、長さ及び幅Ｌ２３並びに厚さＬ２４を有する。底部ロック（ｘ０３）は、ドーム状の蓋（ｘ０２）の底面に挿入されて、ドーム状の蓋（ｘ０２）の底面と同一平面になっていてもよい。
【0075】
[0074]本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）のドーム状の蓋（ｘ０２）及び底部ロック（ｘ０３）は、非磁性板（ｘ６０）に関して本明細書に記載の非磁性材料等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る同じ群から選択される１つ又は複数の非磁性材料で独立して構成されている。
【0076】
[0075]本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）は、磁気アセンブリ（ｘ００）を支持するとともに、磁気アセンブリ（ｘ００）の上面とＯＥＬ（１１０）を有する基板（ｘ２０）との間の距離Ａ１を変化させる非磁性ウェッジ（ｘ０４）をさらに備えていてもよい。非磁性ウェッジ（１０４）は、長さＬ２５及び厚さＬ２４を有する。本明細書に記載の非磁性ウェッジ（ｘ０４）は、非磁性板（ｘ６０）に関して本明細書に記載の非磁性材料等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る同じ群から選択される１つ又は複数の非磁性材料で構成されている。ドーム状の蓋（ｘ０２）及び非磁性ウェッジ（ｘ０４）は、磁気アセンブリ（ｘ００）とドーム状の蓋（ｘ０２）に接触した基板（ｘ２０）との間に適当な距離を設けるのが好都合である。
【0077】
[0076]本明細書に記載のホルダ（ｘ０１）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）を第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び平坦な磁極片（ｘ５０）と位置合わせして固定する非磁性マトリクス（ｘ４１）をさらに備えていてもよい。非磁性マトリクス（ｘ４１）は通常、第２の磁界発生装置（ｘ４０）を受容するのに適したボイドであって、好ましくは第２の磁界発生装置（ｘ４０）と同じ形状及び同じ寸法を有する、ボイドを備える。本明細書に記載の非磁性マトリクス（ｘ４１）は、非磁性板（ｘ６０）に関して本明細書に記載の非磁性材料等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る同じ群から選択される１つ又は複数の非磁性材料で構成されている。
【0078】
[0077]第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）はそれぞれ、ＮＳ磁気軸が基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直であり、上記第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び上記第２の磁界発生装置（ｘ４０）はいずれも、同じ磁界方向を有する。すなわち、上記第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び上記第２の磁界発生装置（ｘ４０）がいずれも、（図１～図６に示すように）それらのＮ極が基板（ｘ２０）表面方向を向くか、又は、それらのＳ極が基板（ｘ２０）表面方向を向く。
【0079】
[0078]少なくとも第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）が存在することから、第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、ゼロではない距離Ａ２で第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上に配設されている（すなわち、第１及び第２の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）は、直接接触していない）。図１～図６に示すように、第１の磁界発生装置（ｘ３０）が基板（ｘ２０）表面に対向し、第２の磁界発生装置（ｘ４０）が環境に対向している。
【0080】
[0079]平坦な磁極片（ｘ５０）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に配設されていることから、上記第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、上記第２の磁界発生装置（ｘ４０）と直接接触していない。第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下面と第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上面との間の距離Ａ２は、好ましくはおよそ１～およそ１５ｍｍであり、より好ましくはおよそ１～およそ１０ｍｍである。
【0081】
[0080]第１の磁界発生装置（ｘ３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）に対向する基板（ｘ２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0082】
[0081]第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、如何なる形状であってもよいし、異なる形状であってもよい。第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、リング状磁界発生装置等のループ状磁界発生装置であってもよいし、中実の磁界発生装置（すなわち、材料のない中央エリアが存在しない磁界発生装置）であってもよい。磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、好ましくはディスクの形状を独立して有するか（「ディスク状」の磁界発生装置と称する）、又は、直方体の形状、好ましくは正方形の形状を独立して有する（「正方形状」の磁界発生装置と称する）。第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び／又は第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、ディスク状の磁界発生装置又は正方形状の磁界発生装置であるのが好ましい。好適な一実施形態によれば、第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、ディスク状の磁界発生装置である。別の好適な実施形態によれば、第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、正方形状の磁界発生装置である。ディスク状の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）を含む実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ１及びＬ３は、上記ディスク状装置の直径を表すとともに、これに対応する。正方形状の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）を含む実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ１及びＬ３は、上記正方形状装置の幅を表すとともに、これに対応する。
【0083】
[0082]第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３（ディスク状の磁界発生装置の直径Ｌ３又は正方形状の磁界発生装置の場合の幅Ｌ３）よりも小さな長さＬ１（ディスク状の磁界発生装置の直径Ｌ１又は正方形状の磁界発生装置の場合の幅Ｌ１）を有する。
【0084】
[0083]本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）と対称に配設されていてもよいし、非対称に配設されていてもよい。機械的平衡を理由として、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）と対称に配設されているのが好ましい。言い換えると、本明細書に記載の第１及び第２の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）は、中心が位置合わせされている。
【0085】
[0084]好適な一実施形態によれば、機械的平衡を理由として、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、ディスク状の磁界発生装置である第１の磁界発生装置（ｘ３０）及びディスク状の磁界発生装置である第２の磁界発生装置（ｘ４０）を備え、第１のディスク状の磁界発生装置（ｘ３０）が第２のディスク状の磁界発生装置（ｘ４０）の上に対称に配設されている。すなわち、第１のディスク状の磁界発生装置（ｘ３０）の原点又は中心（すなわち、直径が交差する点）が第２のディスク状の磁界発生装置（ｘ４０）の原点と位置合わせされている（図１～図６参照）。
【0086】
[0085]別の好適な実施形態によれば、機械的平衡を理由として、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、正方形状の磁界発生装置である第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び正方形状の磁界発生装置である第２の磁界発生装置（ｘ４０）を備え、第１の正方形状の磁界発生装置（ｘ３０）が第２の正方形状の磁界発生装置（ｘ４０）の上に対称に配設されている。すなわち、第１の正方形状の磁界発生装置（ｘ３０）の原点又は中心（すなわち、対角線が交差する点）が第２の正方形状の磁界発生装置（ｘ４０）の原点と位置合わせされている（図１参照）。
【0087】
[0086]第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、高保磁力材料（強磁性材料とも称する）で独立して構成されているのが好ましい。好適な高保磁力材料は、エネルギー積の最大値（ＢＨ）ｍａｘが少なくとも２０ｋＪ／ｍ３、好ましくは少なくとも５０ ｋＪ／ｍ３、より好ましくは少なくとも１００ ｋＪ／ｍ３、さらに好ましくは少なくとも２００ ｋＪ／ｍ３の材料である。これらは、例えばアルニコ５（Ｒ１－１－１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１－１－２）、アルニコ５－７（Ｒ１－１－３）、アルニコ６（Ｒ１－１－４）、アルニコ８（Ｒ１－１－５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１－１－７）、及びアルニコ９（Ｒ１－１－６）等のアルニコ、式ＭＦｅ１２Ｏ１９のヘキサフェライト（例えば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ＊６Ｆｅ２Ｏ３）、式ＭＦｅ２Ｏ４のハードフェライト（例えば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ２Ｏ４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ３Ｏ４））（ただし、Ｍは二価金属イオン）、セラミック８（ＳＩ－１－５）から成る群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー接合磁性材料、ＲＥＣｏ５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ２ＴＭ１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ２ＴＭ１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）から成る群から選択される希土類磁性材料、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４から成る群から選択される材料で構成されているのが好ましい。第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料から成る群、より好ましくはＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ及びＳｍＣｏ５から成る群から選択されるのが好ましい。特に好ましいのは、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＦｅ１２Ｏ１９）又はネオジム／鉄／ホウ素（Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ）粉末等の永久磁石充填剤をプラスチック系又はゴム系マトリクスに含む加工が容易な永久磁石複合材である。
【0088】
[0087]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）を備える。「平坦」によって、上記磁極片がその表面の外側に延びた突起も突出部も備えていないこと、すなわち、上記磁極片の表面の外側には突起も突出部も延びていないことが意図される。図１～図６が平坦な磁極片（ｘ５０）を備える磁気アセンブリ（ｘ００）を示す一方、比較としての図８は、平坦ではない磁極片（ｘ９０）、特に窪み及びＵ字状断面を有する磁極片、並びに平坦な磁極片（ｘ９１）を備える磁気アセンブリを示している。
【0089】
[0088]本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に配設されている。言い換えると、第１の磁界発生装置（ｘ３０）が平坦な磁極片（ｘ５０）の上に配設され、第２の磁界発生装置（ｘ４０）が平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設されている。平坦な磁極片（ｘ５０）は、第１及び第２の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）と直接接触していてもよいし、第１及び第２の磁界発生装置（ｘ３０、ｘ４０）から分離されていてもよい。
【0090】
[0089]磁極片は、高い透磁率、好ましくはおよそ２～およそ１，０００，０００Ｎ・Ａ－２（ニュートン／平方アンペア）、より好ましくはおよそ５～およそ５０，０００Ｎ・Ａ－２、さらに好ましくはおよそ１０～およそ１０，０００Ｎ・Ａ－２の透磁率を有する材料で構成された構造を示す。磁極片は、磁石で発生した磁界の指向に役立つ。本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）は、磁化可能粒子が分散した鉄又はプラスチック材料により構成されていてもよい。本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）は、鉄で構成されているのが好ましい。
【0091】
[0090]平坦な磁極片（ｘ５０）は、中実状の平坦な磁極片であり、より好ましくは、平坦なディスク状の磁極片又は平坦な正方形状の磁極片である。
【0092】
[0091]本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の長さＬ３よりも大きな長さＬ５を有する。平坦なディスク状の磁極片（ｘ５０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ５は、上記磁極片（ｘ５０）の直径を表すとともに、これに対応する。平坦な正方形状の磁極片（ｘ５０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ５は、上記磁極片の幅を表すとともに、これに対応する。
【0093】
[0092]平坦な磁極片（ｘ５０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）と対称に配設されていてもよいし、非対称に配設されていてもよい。機械的平衡及び設計目的を理由として、平坦な磁極片（ｘ５０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）と対称に配設されているのが好ましい。
【0094】
[0093]図１に示す一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（１００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（１３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（１３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（１４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（１４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（１５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片（１５０）と、を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（１３０、１４０）のＮＳ磁気軸が基板（１２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（１３０、１４０）のＮ極が基板（１２０）側を向いており、第１のディスク状の磁界発生装置（１３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（１４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（１４０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（１５０）の直径（Ｌ５）よりも小さく、第１のディスク状の磁界発生装置（１３０）が平坦な正方形状の磁極片（１５０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の磁極片（１５０）が第２のディスク状の磁界発生装置（１４０）に直接接触して、その上に配設されており、第１のディスク状の磁界発生装置（１３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（１４０）、及び平坦な正方形状の磁極片（１５０）の原点（すなわち、直径が交差する点）が位置合わせされている。第１のディスク状の磁界発生装置（１３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（１００）に対向する基板（１２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0095】
[0094]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、非磁性板（ｘ６０）をさらに備えていてもよい。
【0096】
[0095]本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間のスペーサとして作用する。本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に配設されている。本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、平坦な磁極片（ｘ５０）の下に配設されていてもよいし（例えば、図４参照）、平坦な磁極片（ｘ５０）の上に配設されていてもよい（例えば、図３参照）。
【0097】
[0096]本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、独立１つ又は複数の非磁性材料で独立して構成されている。非磁性材料は、例えば産業用プラスチック及びポリマー、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）等、低導電性材料、非導電性材料、及びこれらの混合物から成る群から選択されるのが好ましい。産業用プラスチック及びポリマーとしては、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）とその誘導体であるポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）コポリマー、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。
【0098】
[0097]本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、如何なる形状であってもよい。本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、好ましくはディスク状の非磁性板又は正方形状の非磁性板であり、より好ましくは正方形状の非磁性板である。
【0099】
[0098]本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）は、長さＬ７を有する。ディスク状の非磁性板（ｘ６０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ７は、上記非磁性板の直径を表すとともに、これに対応する。正方形状の非磁性板（ｘ６０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ７は、上記非磁性板の幅を表すとともに、これに対応する。
【0100】
[0099]好適な一実施形態によれば、機械的平衡を理由として、非磁性板（ｘ６０）の長さＬ７（ディスク状の非磁性板の場合の直径Ｌ７、正方形状の非磁性板の場合の幅Ｌ７）は、平坦な磁極片（ｘ５０）の長さＬ５と同じである。
【0101】
[00100]非磁性板（ｘ６０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、及び本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）と対称に配設されていてもよいし、非対称に配設されていてもよい。機械的平衡を理由として、非磁性板（ｘ６０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、及び本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）と対称に配設されているのが好ましい。
【0102】
[00101]図４に示す一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（２００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（２３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（２３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（２４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（２４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（２５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片又は平坦なディスク状の磁極片（２５０）と、ｄ）本明細書に記載の非磁性板（２６０）、好ましくは正方形状の非磁性板（２６０）と、を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（２３０、２４０）のＮＳ磁気軸が基板（２２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（２３０、２４０）のＮ極が基板（２２０）側を向いており、第１のディスク状の磁界発生装置（２３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（２４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（２４０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（２５０）の幅（Ｌ５）又はディスク状の磁極片（２５０）の直径（Ｌ５）よりも小さく、平坦な正方形状の磁極片（２５０）の幅（Ｌ５）又はディスク状の磁極片（２５０）の直径（Ｌ５）が正方形状の非磁性板（２６０）の幅（Ｌ７）と同じであり、第１のディスク状の磁界発生装置（２３０）が平坦な正方形状の磁極片（２５０）又は平坦なディスク状の磁極片（２５０）に直接接触して、その上に配設されており、平坦なディスク状の磁極片又は平坦な正方形状の磁極片（２５０）が正方形状の非磁性板（２６０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の非磁性板（２６０）が第２のディスク状の磁界発生装置（２４０）に直接接触して、その上に配設されており、第１のディスク状の磁界発生装置（２３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（２４０）、平坦な正方形状の磁極片（２５０）若しくはディスク状の磁極片（２５０）、並びに正方形状の非磁性板（２６０）の原点が位置合わせされている。第１のディスク状の磁界発生装置（２３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（２００）に対向する基板（２２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0103】
[00102]図６に示す別の実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（３００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（３３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（３３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（３４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（３４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（３５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片（３５０）と、ｄ）本明細書に記載の非磁性板（３６０）、好ましくは正方形状の非磁性板（３６０）と、を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（３３０、３４０）のＮＳ磁気軸が基板（３２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（３３０、３４０）のＮ極が基板（３２０）側を向いており、第１のディスク状の磁界発生装置（３３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（３４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（３４０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（３５０）の幅（Ｌ５）よりも小さく、平坦な正方形状の磁極片（３５０）の幅（Ｌ５）が正方形状の非磁性板（３６０）の幅（Ｌ７）と同じであり、第１のディスク状の磁界発生装置（３３０）が正方形状の非磁性板（３６０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の非磁性板（３６０）が平坦な正方形状の磁極片（３５０）に直接接触して、その上に配設されており、平坦な正方形状の磁極片（３５０）が第２のディスク状の磁界発生装置（３４０）に直接接触して、その上に配設されており、第１のディスク状の磁界発生装置（３３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（３４０）、平坦な正方形状の磁極片（３５０）、及び正方形状の非磁性板（３６０）の原点が位置合わせされている。第１のディスク状の磁界発生装置（３３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（３００）に対向する基板（３２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0104】
[00103]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、第２の平坦な磁極片（ｘ７０）をさらに備えていてもよい。本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の下に配設されることにより、環境に対向する（図８及び図１０参照）。
【0105】
[00104]第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、中実状の平坦な磁極片であり、より好ましくは平坦なディスク状の磁極片又は平坦な正方形状の磁極片であり、さらに好ましくは平坦な磁極片（ｘ５０）と同じ形状を有する。
【0106】
[00105]第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、平坦な磁極片（ｘ５０）に関して本明細書に記載するような透磁率の高い材料で構成された構造である。本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、鉄で構成されているのが好ましい。
【0107】
[00106]本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、長さＬ９を有する。第２の平坦なディスク状の磁極片（ｘ７０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ９は、上記第２の平坦な磁極片（ｘ７０）の直径を表すとともに、これに対応する。第２の平坦な正方形状の磁極片（ｘ７０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ９は、上記第２の平坦な磁極片の幅を表すとともに、これに対応する。好適な一実施形態によれば、機械的平衡及び設計目的を理由として、第２の平坦な磁極片（ｘ７０）の長さＬ９は、平坦な磁極片（ｘ５０）の長さＬ５と同じである。
【0108】
[00107]第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、及び本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）（存在する場合）と対称に配設されていてもよいし、非対称に配設されていてもよい。機械的平衡を理由として、第２の平坦な磁極片（ｘ７０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、及び本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）（存在する場合）と対称に配設されているのが好ましい。
【0109】
[00108]図８に示す一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（４００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（４３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（４３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（４４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（４５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片（４５０）と、ｄ）本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（４７０）、好ましくは第２の平坦な正方形状の磁極片（４７０）と、を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（４３０、４４０）のＮＳ磁気軸が基板（４２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（４３０、４４０）のＮ極が基板（４２０）側を向いており、第１のディスク状の磁界発生装置（４３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（４５０）の幅（Ｌ５）よりも小さく、平坦な正方形状の磁極片（４５０）の幅（Ｌ５）が第２の平坦な正方形状の磁極片（４７０）の幅（Ｌ７）と同じであり、第１のディスク状の磁界発生装置（４３０）が平坦な正方形状の磁極片（４５０）に直接接触して、その上に配設されており、平坦な正方形状の磁極片（４５０）が第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）に直接接触して、その上に配設されており、第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）が第２の平坦な正方形状の磁極片（４７０）に直接接触して、その上に配設されており、第１のディスク状の磁界発生装置（４３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（４４０）、平坦な正方形状の磁極片（４５０）、及び第２の正方形状の磁極片（４７０）の原点が位置合わせされている。第１のディスク状の磁界発生装置（４３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（４００）に対向する基板（４２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0110】
[00109]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）、本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）、及び本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（ｘ７０）を備える。
【0111】
[00110]図１０に示す一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（５００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（５３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（５３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（５４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（５５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片（５５０）と、ｄ）本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（５７０）、好ましくは第２の平坦な正方形状の磁極片（５７０）と、ｅ）本明細書に記載の非磁性板（５６０）、好ましくは正方形状の非磁性板（５６０）を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（５３０、５４０）のＮＳ磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（５３０、５４０）のＮ極が基板（５２０）側を向いており、第１のディスク状の磁界発生装置（５３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（５５０）の幅（Ｌ５）よりも小さく、平坦な正方形状の磁極片（５５０）の幅（Ｌ５）が正方形状の非磁性板（５６０）の幅（Ｌ７）及び第２の平坦な正方形状の磁極片（５７０）の幅（Ｌ９）と同じであり、第１のディスク状の磁界発生装置（５３０）が平坦な正方形状の磁極片（５５０）に直接接触して、その上に配設されており、平坦な正方形状の磁極片（５５０）が正方形状の非磁性板（５６０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の非磁性板（５６０）が第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）に直接接触して、その上に配設されており、第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）が第２の平坦な正方形状の磁極片（５７０）に直接接触して、その上に配設されており、第１のディスク状の磁界発生装置（５３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（５４０）、平坦な正方形状の磁極片（５５０）、第２の平坦な正方形状の磁極片（５７０）、及び正方形状の非磁性板（５６０）の原点が位置合わせされている。第１のディスク状の磁界発生装置（５３０）の最上面と本明細書に記載の磁気アセンブリ（５００）に対向する基板（５２０）の下面との間の距離（Ａ１）は、好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ２．５ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ０～およそ１ｍｍである。
【0112】
[00111]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、１つ又は複数のしるしを表す１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きを備える磁化板（ｘ８０）をさらに備えていてもよく、上記磁化板（ｘ８０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配設されることにより、基板（ｘ２０）に対向する（図１２参照）。本明細書において、用語「しるし（ｉｎｄｉｃｉａ）」は、デザイン及びパターンを意味するものとし、記号、英数字記号、モチーフ、文字、単語、数字、ロゴ、及び図画を含むが、これらに限定されない。しるしを有する磁化板（ｘ８０）の１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きは、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された磁界を局所的に修正することによって、非硬化状態のＯＥＬに転写される。磁化板（ｘ８０）は、本明細書に記載のドーム状の蓋（ｘ０２）の上面に備えられていてもよく、都合が良い。
【0113】
[00112]本発明に関して本明細書に記載の１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きを含む磁化板（ｘ８０）の好適な例は、国際公開第２００５／００２８６６ Ａ１号、国際公開第２００８／０４６７０２ Ａ１号、及び国際公開第２００８／１３９３７３ Ａ１号に見られる。
【0114】
[00113]本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）は、長さＬ１１を有する。正方形状の磁化板（ｘ８０）を備える実施形態の場合、本明細書に記載の長さＬ１１は、上記磁化板の幅を表すとともに、これに対応する。
【0115】
[00114]磁化板（ｘ８０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、及び本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）（存在する場合）と対称に配設されていてもよいし、非対称に配設されていてもよい。機械的平衡を理由として、磁化板（ｘ８０）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）（存在する場合）、及び本明細書に記載の第２の平坦な磁極片（ｘ７０）（存在する場合）と対称に配設されているのが好ましい。
【0116】
[00115]本明細書に記載の１つ又は複数の彫刻及び／又は切り欠きを含む磁化板（ｘ８０）は、可鍛性の金属又はポリマーマトリクス中に永久磁性粉末を含む永久磁性複合材等の任意の機械的に加工可能な永久磁石材料により構成されていてもよい。本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）は、磁性材料のポリマー接合板すなわちポリマーを含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）であるのが好ましい。ポリマー（例えば、ゴム又はプラスチックのようなポリマー）は、構造的バインダとして作用し、永久磁性粉末材料は、増量剤又は充填剤として作用する。ポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板は、さもなければ脆弱で十分に加工できないフェライト、アルニコ、希土類、又は可鍛性の金属若しくはプラスチック材料の所望の機械的特性（可撓性、可削性、耐衝撃性）を備えるさらに別の磁石の所望の磁気特性（高保磁力）を組合せるのが好都合である。
【0117】
[00116]好適なポリマーとしては、ニトリルゴム、ＥＰＤＭ炭化水素ゴム、ポリイソプレン、ポリアミド（ＰＡ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、及びクロロスルホン化ポリエチレン等のゴムタイプの可撓性材料が挙げられる。
【0118】
[00117]好適な永久磁性粉末材料としては、コバルト、鉄、及びこれらの合金、二酸化クロム、一般的な磁性酸化物スピネル、一般的な磁性ガーネット、一般的な磁性フェライト（カルシウム、ストロンチウム、及びバリウムヘキサフェライト（それぞれＣａＦｅ１２Ｏ１９、ＳｒＦｅ１２Ｏ１９、ＢａＦｅ１２Ｏ１９）等のヘキサフェライト類を含む）、一般的なアルニコ合金、一般的なサマリウム－コバルト（ＳｍＣｏ）合金、及び一般的な希土類－鉄－ホウ素合金（ＮｄＦｅＢ等）のほか、（一般的という用語が示すような）これらの永久磁性化学物質誘導体及びこれらの混合物が挙げられる。ポリマー及び永久磁性粉末を含む複合材で構成されたプレートは、Ｇｒｏｕｐ ＡＲＮＯＬＤ（Ｐｌａｓｔｉｆｏｒｍ（登録商標））又はＭａｔｅｒｉａｌｉＭａｇｎｅｔｉｃｉ、Ａｌｂａｉｒａｔｅ、Ｍｉｌａｎｏ、イタリア（Ｐｌａｓｔｏｆｅｒｒｉｔｅ）等の多くの異なる供給源から取得可能である。
【0119】
[00118]本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）、特に、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）は、任意所望のサイズ及び形態にて（例えば、一般的に利用可能な機械的切除ツール及びマシンのほか、空気若しくは液体ジェット切除、又はレーザ切除ツールを用いて屈曲及び機械的加工（例えば、所定サイズ又は形状への切断）を行い得る薄い可撓性のプレートとして）得られる。
【0120】
[00119]本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）、特に、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）の１つ又は複数の表面彫刻及び／又は切り欠きは、当技術分野において既知の如何なる切断又は彫刻方法により生成されるようになっていてもよく、鋳造、成型、手動彫刻又は機械的切除ツール（コンピュータ制御の彫刻ツールを含む）、気体若しくは液体ジェット切除ツールから成る群から選択される切除ツール、化学エッチング、電気化学エッチング、並びにレーザ切除ツール（例えば、ＣＯ２－、Ｎｄ－ＹＡＧ、又はエキシマレーザ）が挙げられるが、これらに限定されない。また、当業者による理解及び本明細書に記載の通り、本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）、特に、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）は、彫刻ではなく、特定サイズ及び形状への切断又は成型も可能である。孔が切り抜かれるようになっていてもよいし、切り欠き片が支持部に組み付けられるようになっていてもよい。
【0121】
[00120]磁化板（ｘ８０）、特に、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）の１つ又は複数の彫刻及び切り欠きは、ポリマーで充填されていてもよく、充填剤を含んでいてもよい。上記充填剤は、１つ又は複数の彫刻／切り欠きの場所で磁束を修正する軟磁性材料であってもよいし、磁界特性の修正又は単に滑らかな表面の生成を行うその他任意の種類の磁性又は非磁性材料であってもよい。また、磁化板（ｘ８０）、特に、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ８０）は、表面処理によって基板との接触を容易化することにより、高速印刷用途における摩擦、摩耗、及び／又は静電帯電を抑えるようにしてもよい。
【0122】
[00121]本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）は、本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材（好ましくは、プラストフェライト）で構成されているのが好ましく、また、１つ又は複数の彫刻を含むのが好ましい。プラストフェライト板には、機械的彫刻ツール、又は好ましくは、自動ＣＯ２－、Ｎｄ－ＹＡＧレーザ彫刻ツールを用いて、しるしの形態の所望の高分解能パターンが彫刻される。
【0123】
[00122]本明細書に記載のポリマー及び永久磁性粉末材料を含む複合材（好ましくは、プラストフェライト）で構成された本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）は、予備形成されたプレートとして提供された後、１つ又は複数の彫刻によって、特定の使用要件に応じたしるしを表す表面凹凸が適用されるようになっていてもよい。
【0124】
[00123]一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）、本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）、本明細書に記載の平坦な磁極片（ｘ５０）、本明細書に記載の非磁性板（ｘ６０）、及び本明細書に記載の磁化板（ｘ８０）を備える。
【0125】
[00124]図１２に示す一実施形態によれば、本明細書に記載の磁気アセンブリ（６００）は、ａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（６３０）、特に第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）と、ｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（６４０）、好ましくは第２のディスク状の磁界発生装置（６４０）と、ｃ）本明細書に記載の平坦な磁極片（６５０）、好ましくは平坦な正方形状の磁極片（６５０）と、ｄ）本明細書に記載の非磁性板（６６０）、好ましくは正方形状の非磁性板（６６０）と、ｅ）本明細書に記載の磁化板（６８０）、好ましくは正方形状の磁化板（６８０）と、を備え、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（６３０、６４０）のＮＳ磁気軸が基板（６２０）表面と実質的に垂直であり、第１及び第２のディスク状の磁界発生装置（６３０、６４０）のＮ極が基板（６２０）側を向いており、本明細書に記載の非磁性板（６６０）、好ましくは正方形状の非磁性板（６６０）、第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）の直径（Ｌ１）が第２のディスク状の磁界発生装置（６４０）の直径（Ｌ３）よりも小さく、第２のディスク状の磁界発生装置（６３０）の直径（Ｌ３）が平坦な正方形状の磁極片（６５０）の幅（Ｌ５）よりも小さく、平坦な正方形状の磁極片（６６０）の幅（Ｌ５）が正方形状の非磁性板（６６０）の幅（Ｌ７）と同じであり、正方形状の磁化板（６８０）の幅（Ｌ１１）が、第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）の直径（Ｌ１）、第２のディスク状の磁界発生装置（６４０）の直径（Ｌ３）、平坦な正方形状の磁極片（６５０）の幅（Ｌ５）、及び正方形状の非磁性板（６６０）の幅（Ｌ７）よりも大きく、第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）が平坦な正方形状の磁極片（６５０）に直接接触して、その上に配設されており、平坦な正方形状の磁極片（６５０）が正方形状の非磁性板（６６０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の非磁性板（６６０）が第２のディスク状の磁界発生装置（６４０）に直接接触して、その上に配設されており、正方形状の磁化板（６８０）が第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）に直接接触して、その上に配設されるとともに、基板（６２０）に直接接触しており、第１のディスク状の磁界発生装置（６３０）、第２のディスク状の磁界発生装置（６４０）、平坦な正方形状の磁極片（６５０）、正方形状の磁化板（６８０）、及び正方形状の非磁性板（６６０）の原点が位置合わせされている。
【0126】
[00125]第１の磁界発生装置（ｘ３０）の材料、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の材料、平坦な磁極片（ｘ５０）の材料、任意選択としての非磁性板（ｘ６０）の材料、任意選択としての第２の平坦な磁極片（ｘ７０）の材料、任意選択としての磁化板（ｘ８０）の材料、並びに距離（Ａ１）及び（Ａ２）は、磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された磁界の相互作用の結果としての磁界が本明細書に記載の光学効果層を生成するのに適するように選択されている。第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、平坦な磁極片（ｘ５０）、任意選択としての非磁性板（ｘ６０）、任意選択としての第２の平坦な磁極片（ｘ７０）、及び任意選択としての磁化板（ｘ８０）は、磁気アセンブリ（ｘ００）の結果としての磁界中に配設され、光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板の傾斜により移動及び回転する三日月の光学的印象を生成する未硬化の放射線硬化性コーティング組成物の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を磁気アセンブリの磁界が基板上で配向させ得るように相互作用するようになっていてもよい。
【0127】
[00126]本発明は、本明細書に記載のような回転磁気シリンダである転写装置及び本明細書に記載のような１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）を備える印刷装置をさらに提供し、上記１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）が回転磁気シリンダの周方向溝に取り付けられるとともに、印刷アセンブリが、本明細書に記載のような平台印刷ユニットである転写装置及び本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの１つ又は複数を備え、上記１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）が、平台印刷ユニットの凹部に取り付けられる。
【0128】
[00127]回転磁気シリンダは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリを支える。一実施形態において、回転磁気シリンダは、高い印刷速度で連続動作する回転式、枚葉給紙式、又はウェブ給紙式の産業用印刷機の一部である。
【0129】
[00128]平台印刷ユニットは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリを支える。一実施形態において、平台印刷ユニットは、非連続動作する枚葉給紙式の産業用印刷機の一部である。
【0130】
[00129]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の層を有することにより、顔料粒子に作用して配向させる磁界を磁気アセンブリが生成して光学効果層（ＯＥＬ）を形成させる本明細書に記載のような基板を供給する基板供給装置を具備していてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備える印刷装置の一実施形態において、基板は、シート又はウェブの形態で基板供給装置により供給される。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態において、基板は、シートの形態で供給される。
【0131】
[00130]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基板に塗布する被覆又は印刷ユニットを含み、放射線硬化性コーティング組成物が、本明細書に記載の装置によって生成された磁界により配向されて光学効果層（ＯＥＬ）を形成する非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含んでもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備える印刷装置の一実施形態において、被覆又は印刷ユニットは、回転連続プロセスに従って動作する。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備える印刷装置の一実施形態において、被覆又は印刷ユニットは、長手方向非連続プロセスに従って動作する。
【0132】
[00131]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備える印刷装置は、本明細書に記載の装置によって磁気的に配向された非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び位置を固定して光学効果層（ＯＥＬ）を生成する硬化ユニットを具備していてもよい。
【0133】
[00132]一実施形態によれば、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が血小板状の顔料粒子であることを前提として、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するプロセスは、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対して本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップであって、ステップｉ）の後且つステップｉｉ）の前に実行される、ステップをさらに含んでいてもよい。第２の磁界発生装置、特に本明細書に記載の磁気アセンブリの磁界に対してコーティング組成物をさらに曝露するステップの前に、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるために、第１の磁界発生装置の動的な磁界に対してコーティング組成物を曝露するこのようなステップを含むプロセスは、国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号に開示されている。本明細書に記載の第１の磁界発生装置の動的な磁界に対する放射線硬化性コーティング組成物の曝露の後、内部の血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がさらに移動及び回転し得るように放射線硬化性コーティング組成物が依然として湿潤又は柔軟な間に、本明細書に記載の装置を用いて、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子をさらに再配向させる。
【0134】
[00133]２軸配向を実行することは、２つの主軸が拘束されるように血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させることを意味する。すなわち、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面内に長軸を有し、顔料粒子の面内に直交する短軸を有するものと考えられる。血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の長軸及び短軸はそれぞれ、動的な磁界に従って配向される。実用上は、これにより、空間中で互いに近く隣接する血小板状磁性顔料粒子が本質的に相互平行となる。２軸配向を実行するため、血小板状磁性顔料粒子は、時間に強く依存する外部磁界を受ける必要がある。言い換えれば、２軸配向によって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が（全方向に）隣接する顔料粒子の平面に対して本質的に平行となるように配向するように、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面が整列される。一実施形態において、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の平面の上記長軸及び当該長軸に垂直な短軸はいずれも、（全方向に）隣接する顔料粒子の長軸及び短軸が互いに整列するように、動的な磁界によって配向される。
【0135】
[00134]一実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２つの主軸が基板表面に対して実質的に平行となる磁気配向が得られる。このような整列の場合、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、基板上の放射線硬化性コーティング組成物内で平坦化しており、基板表面と平行なそれらのＸ軸及びＹ軸（国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号の図１に示す）の両者で配向している。別の実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子が基板表面と実質的に平行なＸＹ平面内の第１の軸と、基板表面に対して実質的に非ゼロの仰角で上記第１の軸と実質的に垂直な第２の軸とを有する磁気配向が得られる。別の実施形態によれば、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向を実行するステップによって、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子のＸＹ平面が仮想回転楕円体表面に対して実質的に平行となる磁気配向が得られる。
【0136】
[00135]血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい磁界発生装置は、欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示されている。欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示の磁界発生装置は、Ｘ軸及びＹ軸という両主軸が基板表面に対して実質的に平行になるまで血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を急激に振動させる方向を変化させる動的な磁界を与える。すなわち、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子は、基板表面に実質的に平行なＸ軸及びＹ軸との安定したシート状構成になり、上記２つの次元で平坦化するまで回転する。
【0137】
[00136]血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、直線状の永久磁石ハルバッハ配列すなわち磁化方向が異なる複数の磁石を備えるアセンブリを含む。ハルバッハ永久磁石の詳細な説明は、Ｚ．Ｑ．Ｚｈｕ及びＤ．Ｈｏｗｅ（Ｈａｌｂａｃｈ ｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｍａｇｎｅｔ ｍａｃｈｉｎｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：ａ ｒｅｖｉｅｗ，ＩＥＥ．Ｐｒｏｃ．Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ａｐｐｌ．，２００１，１４８，ｐ．２９９－３０８）によって与えられている。このようなハルバッハ配列により生成される磁界は、一方側に集中し、他方側ではほぼゼロまで弱まる特性を有する。同時係属の欧州特許出願第１４１９５１５９．０号は、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な装置であって、ハルバッハ円筒アセンブリを備える、装置を開示している。血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の磁界発生装置は、回転磁石であり、それらの直径に沿って本質的に磁化されるディスク状の回転磁石又は磁気アセンブリを含む。好適な回転磁石又は磁気アセンブリは、米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１ Ａ１号に記載されており、半径方向に対称的な時間可変磁界を発生させることによって、未硬化又は未固化コーティング組成物の血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向が可能になる。これらの磁石又は磁気アセンブリは、外部のモータに接続されたシャフト（又は、スピンドル）によって駆動される。中国特許第１０２５２９３２６ Ｂ号は、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させるのに適し得る回転磁石を備える磁界発生装置の例を開示している。好適な一実施形態において、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な磁界発生装置は、非磁性材料、好ましくは非導電性材料で構成されたハウジング中に拘束されたシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリであり、ハウジングに巻回された１つ又は複数の磁石ワイヤコイルによって駆動される。このようにシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリの例は、国際公開第２０１５／０８２３４４ Ａ１号及び同時係属の欧州特許出願第１４１８１９３９．１号に開示されている。
【0138】
[00137]本明細書に記載の基板は、紙又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー等のその他繊維材料、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの混合物又は組合せから成る群から選択するのが好ましい。代表的な紙、紙状、又はその他の繊維材料は、アバカ、綿、麻、木材パルプ、及びこれらの混合等、様々な繊維で構成されるが、これらに限定されない。当業者には周知の通り、紙幣には綿及び綿／麻混合が好ましく、紙幣以外の機密書類には、木材パルプが一般的に用いられている。プラスチック及びポリマーの代表例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン ２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）等のポリエステル、並びにポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等が挙げられる。基板としては、例えばＴｙｖｅｋ（登録商標）という商標で販売されているスパンボンドオレフィン繊維も使用可能である。金属化プラスチック又はポリマーの代表例としては、表面に連続的又は不連続的に配設された金属を有する上述のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の代表例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組合せ、又はこれら金属の２つ以上の合金が挙げられる。上述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われるようになっていてもよい。複合材の代表例としては、紙及び上記のような少なくとも１つのプラスチック若しくはポリマー材料の多層構造又は積層並びに上記のような紙状又は繊維材料に組み込まれたプラスチック及び／若しくはポリマー繊維等が挙げられるが、これらに限定されない。当然のことながら、基板には、サイジング剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤等、当業者に既知の別の添加剤を含むことも可能である。本明細書に記載の基板は、ウェブ（例えば、上述の材料の連続シート）の形態又はシートの形態で提供されるようになっていてもよい。本発明に従って生成されたＯＥＬがセキュリティ文書上にある場合は、当該セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くすることを目的として、上記基板は、印刷され、被覆され、レーザマーキングされ、又はレーザ穿孔されたしるし、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組合せを備えていてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くするという同じ目的で、上記基板は、１つ又は複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含んでいてもよい。
【0139】
[00138]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）は、基板上に直接設けて、永久に残るようにしてもよい（例えば、紙幣用途の場合）。或いは、製造のための暫定的な基板上に光学効果層（ＯＥＬ）を設け、後でＯＥＬを取り外すようにしてもよい。これにより、特にバインダ材料が流体状態のままである場合に、例えばＯＥＬの製造が容易化される可能性がある。その後、コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させてＯＥＬを製造したら、暫定基板をＯＥＬから取り外してもよい。
【0140】
[00139]或いは、光学効果層（ＯＥＬ）又はＯＥＬを備える基板上に接着層が存在していてもよく、当該接着層は、ＯＥＬが設けられた面と反対側の基板面に存在していてもよいし、ＯＥＬと同じ面でＯＥＬの上に存在していてもよい。したがって、光学効果層（ＯＥＬ）又は基板に接着層が塗布されていてもよい。このような物品は、機械類や大きな労力を伴う印刷等のプロセスなく、あらゆる種類の文書又は他の物品に取り付けられるようになっていてもよい。或いは、本明細書に記載のＯＥＬを備える本明細書に記載の基板は、独立した転写ステップにおいて文書又は物品に適用可能な転写箔の形態であってもよい。この目的のため、基板には剥離コーティングが設けられ、その上において、本明細書に記載の通り、ＯＥＬが生成される。このように製造されたＯＥＬ上には、１つ又は複数の接着層を塗布するようにしてもよい。
【0141】
[00140]本明細書には、本明細書に記載のプロセスにより得られた２つ以上すなわち２つ、３つ、４つ等の光学効果層（ＯＥＬ）を備える基板も記載する。
【0142】
[00141]また、本明細書には、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）を備える物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体を記載する。これらの物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明に従って生成された２つ以上（例えば、２つ、３つ等）のＯＥＬを備えていてもよい。
【0143】
[00142]前述の通り、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾目的並びにセキュリティ文書の保護及び認証に用いられるようになっていてもよい。装飾要素又は物体の代表例としては、高級品、化粧品パッケージ、自動車部品、電子／家電製品、家具、及びネイルラッカーが挙げられるが、これらに限定されない。
【0144】
[00143]機密書類としては、有価書類及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。有価文書の代表例としては、紙幣、証書、チケット、小切手、証票、収入印紙及び納税印紙、契約書等、パスポート等の身分証明書類、身分証明書、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通乗車券又は証書等が挙げられ、紙幣、身分証明書類、権利付与書類、運転免許証、及びクレジットカードが好ましいが、これらに限定されない。用語「有価商品（ｖａｌｕｅ ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ ｇｏｏｄ）」は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食料品、電気／電子製品、織物又は宝飾品、すなわち偽造及び／又は違法複製に対する保護により、例えば本物の薬等のパッケージの内容物を保証すべき物品のパッケージ材料を表す。これらパッケージ材料の例としては、認証ブランドラベル、不正防止ラベル等のラベル及びシールが挙げられるが、これらに限定されない。なお、開示の基板、有価文書、及び有価商品は、本発明の範囲を制限することなく、専ら例示目的で示している。
【0145】
[00144]或いは、光学効果層（ＯＥＬ）は、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベル等の補助基板上に生成され、その結果、独立したステップにおいて、セキュリティ文書に転写されるようになっていてもよい。
【実施例】
【0146】
[00145]図１～図１２に示す磁気アセンブリの使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの印刷層における非球状光学可変磁性顔料粒子を配向させ、図１Ｂ～図１１に示す光学効果層（ＯＥＬ）を生成した。図１４及び図１６に示す比較としてのアセンブリの使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの印刷層における非球状光学可変磁性顔料粒子を配向させ、図１５Ａ及び図１７Ａに示す比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を生成した。
【0147】
[00146]Ｔ９０スクリーンを用いた手動スクリーン印刷によって厚さがおよそ２０μｍのコーティング層（３６ｍｍ×３６ｍｍ）を構成することにより、黒色のコマーシャルペーパー（Ｐａｐｉｅｒｆａｂｒｉｋ Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌ社製の信用本位ペーパーＢＮＰ（９０ｇ／ｍ２、５０×５０ｍｍ））にＵＶ硬化性スクリーン印刷インクを塗布した。ＵＶ硬化性スクリーン印刷インクの塗布層を有する基板を磁気アセンブリ上に配設した。このようにして得られた非球状光学可変顔料粒子の磁気的配向パターンは、配向ステップと一部同時に、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｍｍ、８Ｗ／ｃｍ２）を用いて、顔料粒子を含む印刷層のＵＶ硬化によって固定した。
【0148】
【表1】
【0149】
装置及び材料
[00147]第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。図１～図１２に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）を独立して備えており、上記第１の磁界発生装置（ｘ３０）を上記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上に配設するとともに、上記両装置（ｘ３０、ｘ４０）について、それらのＮＳ磁気軸が基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直で、Ｎ極が基板（ｘ２０）側を向くようにした。
[00147]第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成した。図１～図１２に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）を独立して備えており、上記第１の磁界発生装置（ｘ３０）を上記第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上に配設するとともに、上記両装置（ｘ３０、ｘ４０）について、それらのＮＳ磁気軸が基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直で、Ｎ極が基板（ｘ２０）側を向くようにした。
【0150】
[00148]図１～図１２に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）が平坦な磁極片（ｘ５０）を独立して備えており、上記平坦な磁極片（ｘ５０）を第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に配設した。平坦な磁極片（ｘ５０）は、鉄で独立して構成した。
【0151】
[00149]図４、図６、図１０、及び図１２に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）が非磁性板（ｘ６０）を独立して備えており、上記非磁性板（ｘ６０）を第１の磁界発生装置（ｘ３０）と第２の磁界発生装置（ｘ４０）との間に配設した。非磁性板（ｘ６０）（存在する場合）は、ＰＯＭで独立して構成した。
【0152】
[00150]図８～図１０に示すように、磁気アセンブリ（ｘ００）が第２の平坦な磁極片（ｘ７０）を独立して備えており、上記第２の平坦な磁極片（ｘ７０）を第２の磁界発生装置（ｘ４０）の下に配設して、環境に対向させた。第２の平坦な磁極片（ｘ７０）（存在する場合）は、鉄で独立して構成した。
【0153】
[00151]「５０」の形状を有するしるしを含む磁化板（ｘ８０）をプラストフェライトで構成した（Ｍａｘ Ｂａｅｒｍａｎｎ ＧｍｂＨ、Ｂｅｒｇｉｓｃｈ ＧｌａｄｂａｃｈによるＴＲＯＭＡＦＬＥＸ（登録商標））。磁化板（ｘ８０）は、基板（ｘ２０）表面と垂直な方向に磁化した後、コンピュータ制御の機械的彫刻ステーション上で、２．５ｍｍ×３．０ｍｍの寸法を有する幾何学的デザイン（「５０」のしるし）を彫刻した。正方形状の磁化板（ｘ８０）の彫刻は、彫刻深さがおよそ０．２ｍｍ、ライン幅がおよそ１ｍｍであった。図１２に示すように、磁気アセンブリ（６００）が磁化板（６８０）を独立して備えており、上記磁化板（６８０）を第１の磁界発生装置（６３０）の上且つ基板（６２０）の下に配設した。
【0154】
[00152]平坦ではない磁極片（ｘ９０）及び平坦な磁極片（ｘ９１）（存在する場合）は、鉄で独立して構成した。
【0155】
[00153]実施例Ｅ１～Ｅ１３の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、平坦な磁極片（ｘ５０）、非磁性板（ｘ６０）、第２の平坦な磁極片（ｘ７０）、及び磁化板（ｘ８０）の寸法及び形状を表２に示す。また、実施例Ｅ１～Ｅ１３の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上面と磁気アセンブリ（ｘ００）に対向する基板（ｘ２０）の下面との間の距離Ａ１及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上面と第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下面との間の距離Ａ２を表２に示す。
【0156】
[00154]比較例Ｃ１及びＣ２の第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、平坦な磁極片（ｘ９１）、及び平坦ではない磁極片（ｘ９０）の寸法及び形状を表３に示す。また、比較例Ｃ１及びＣ２の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上面と磁気アセンブリ（ｘ００）に対向する基板（ｘ２０）の下面との間の距離Ａ１及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上面と第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下面との間の距離Ａ２を表３に示す。
【0157】
[00155]実施例１～１３（Ｅ１～Ｅ１３）並びに比較例１及び２（Ｃ１及びＣ２）の準備に用いられる磁気アセンブリ（ｘ００）の挿入のため、ホルダ（ｘ０１）を独立して使用した。実施例Ｅ３の準備には、図２に示すホルダ（１０１）を使用したが、上記ホルダ（１０１）は、ドーム状の蓋（１０２）、底部ロック（１０３）、非磁性ウェッジ（１０４）、及び非磁性マトリクス（１４１）を備えるものとした。ホルダ（１０１）は、長さ及び幅（Ｌ２１）がおよそ４０ｍｍ、中心厚さ（Ｌ１９）がおよそ１５．１５ｍｍ、縁部厚さ（Ｌ２０）がおよそ１４．８０ｍｍであった。ドーム状の蓋（１０２）の上面の曲率（Ｌ－Ｒ）は、半径（Ｌ－Ｒ）の円の曲率とした。ホルダ（１０１）の底部ロック（１０３）は、長さ及び幅（Ｌ２３）がおよそ３２ｍｍ、厚さ（Ｌ２２）がおよそ３ｍｍであった。非磁性ウェッジ（１０４）は、長さ及び幅（Ｌ２５）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｌ２４）がおよそ５．８ｍｍであった。図２に示すホルダ（１０１）は、第２の磁界発生装置（１４０）を受容するのに適したボイドを備える非磁性マトリクス（１４１）であり、長さ（Ｌ２５）がおよそ３０ｍｍ、厚さ（Ｌ４）がおよそ２ｍｍで、直径（Ｌ３）がおよそ２０ｍｍのディスク状のボイドを含む正方形状のプレートである、非磁性マトリクス（１４１）をさらに備える。ホルダ（１０１）のドーム状の蓋（１０２）及び底部ロック（１０３）は、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）で構成した。非磁性ウェッジ（１０４）及び非磁性マトリクス（１４１）は、ＰＯＭで独立して構成した。
【0158】
[00156]実施例１～１３（Ｅ１～Ｅ１３）並びに比較例１及び２（Ｃ１及びＣ２）は、実施例３（Ｅ３）に関して上述したホルダ（１０１）と外部寸法が同じであるホルダ（ｘ０１）に包含された磁気アセンブリ（ｘ００）により独立して準備した。ウェッジ（ｘ０４）の厚さは、距離（Ａ１）が変化するように適応させ、非磁性マトリクス（ｘ４１）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）に適合するように適応させた。
【0159】
[00157]基板（ｘ２０）を－３０°～＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図１～図１２に示す磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された結果としてのＯＥＬ（ｘ１０）を図３Ａ～図１３Ａに示すとともに、上記ＯＥＬの光学的印象の説明を表２に示す。
【0160】
[00158]基板を－３０°～＋３０°傾斜させた様々な視角にて、図１４～図１６に示す磁気アセンブリにより生成された結果としての比較ＯＥＬを図１５Ａ～図１７Ａに示すとともに、上記ＯＥＬの光学的印象の説明を表３に示す。
【0161】
【表2】
【0162】
【表3】
【図1】
【図2】
【図3】
【図3A-3E】
【図4】
【図5】
【図5A-5C】
【図6】
【図7】
【図7A-7B】
【図8】
【図9】
【図9A】
【図10】
【図11】
【図11A】
【図12】
【図13】
【図13A】
【図14】
【図15】
【図15A】
【図16】
【図17】
【図17A】