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特許7363778活性光線硬化型インク、インクセット、画像形成物、および画像形成方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-10
(45)【発行日】2023-10-18
(54)【発明の名称】活性光線硬化型インク、インクセット、画像形成物、および画像形成方法
(51)【国際特許分類】
C09D 11/101 20140101AFI20231011BHJP
B41J 2/01 20060101ALI20231011BHJP
B41M 5/00 20060101ALI20231011BHJP
C09D 5/00 20060101ALI20231011BHJP
【ＦＩ】
C09D11/101
B41J2/01 501
B41J2/01 129
B41J2/01 123
B41M5/00 120
B41M5/00 100
C09D5/00 D
【請求項の数】
22
(21)【出願番号】P 2020525398
(86)(22)【出願日】2019-05-24
(86)【国際出願番号】 JP2019020701
(87)【国際公開番号】W WO2019244561
(87)【国際公開日】2019-12-26
【審査請求日】2022-04-15
(31)【優先権主張番号】P 2018116049
(32)【優先日】2018-06-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000001270
【氏名又は名称】コニカミノルタ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002952
【氏名又は名称】弁理士法人鷲田国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】石川 貴之
(72)【発明者】
【氏名】三輪 英也
【審査官】井上 恵理
(56)【参考文献】
【文献】特開２００３－０４５９０９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１２－０２１１０６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１５０７３９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－０１０２３６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－１９９７８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－１１９５８５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０９Ｄ
Ｂ４１Ｊ ２／０１
Ｂ４１Ｍ ５／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、
水酸基を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、活性光線硬化型インク。
【請求項2】
基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、
第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含み、
前記活性光線硬化型インクの水酸基価は、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、
活性光線硬化型インク。
【請求項3】
基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、
第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含み、
ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含む、
活性光線硬化型インク。
【請求項4】
基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、
第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含み、
インクジェット法により吐出可能である、活性光線硬化型インク。
【請求項5】
前記水素結合性の光重合性化合物は、水酸基を有する光重合性化合物である、請求項２～４のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
【請求項6】
前記活性光線硬化型インクの水酸基価は、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１、３及び４のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
【請求項7】
ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含む、請求項１、２及び４のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
【請求項8】
インクジェット法により吐出可能である、請求項１～３のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
【請求項9】
前記水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物である、請求項１～８のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
【請求項10】
活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクと、を含むインクセットであって、
前記活性光線硬化型インクは、基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであり、
前記活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含み、
前記光輝性インクは、インクジェット法により吐出可能である、インクセット。
【請求項11】
活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクと、を含むインクセットであって、
前記活性光線硬化型インクは、基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであり、
前記活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含み、
前記金属粒子は金属ナノ粒子である、インクセット。
【請求項12】
請求項１～９のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクと、を含むインクセット。
【請求項13】
前記水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物である、請求項１０又は１１に記載のインクセット。
【請求項14】
前記光輝性インクは、インクジェット法により吐出可能である、請求項１１又は１２に記載のインクセット。
【請求項15】
前記金属粒子は金属ナノ粒子である、請求項１０又は１２に記載のインクセット。
【請求項16】
基材と、請求項１～９のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インクを前記基材の表面に付与し、硬化させてなる下地層と、
前記下地層の表面に接して形成された、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、を含む画像形成物。
【請求項17】
活性光線硬化型インクを、基材の表面に、インクジェット法で付与し、付与された前記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、
高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクを、前記形成された下地層の表面に付与して、前記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む画像形成方法であって、
前記活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、
画像形成方法。
【請求項18】
活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された前記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、
高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクを、前記形成された下地層の表面に、インクジェット法で付与して、前記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む画像形成方法であって、
前記活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、
画像形成方法。
【請求項19】
請求項１～９のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された前記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクを前記形成された下地層の表面に付与して、前記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む画像形成方法。
【請求項20】
前記水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物である、請求項１７又は１８に記載の画像形成方法。
【請求項21】
前記活性光線硬化型インクは、インクジェット法で前記基材の表面に付与される、請求項１８又は１９に記載の画像形成方法。
【請求項22】
前記光輝性インクは、インクジェット法で前記下地層の表面に付与される、請求項１７又は１９に記載の画像形成方法。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、活性光線硬化型インク、インクセット、画像形成物、および画像形成方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、ラベル、パッケージ、広告印刷物や写真等の記録物において、金属光沢調の印刷の需要が高まっている。金属光沢調の印刷技術として、従来はオフセット印刷、グラビア印刷、またはスクリーン印刷等のアナログ印刷が用いられてきた。これに対し、より微細な画像を形成でき、デジタル印刷が可能なインクジェット法による印刷技術が知られている。
【0003】
例えば、特許文献１は、銀粒子を含有する水系インク組成物をインクジェット方式で付与し、金属光沢を有する記録物を得る方法を開示している。
【0004】
しかし、インクジェット方式で金属光沢調の画像を形成するとき、普通紙等の平滑性の低い基材上に金属粒子を含む光輝性インクを付与すると、基材の凹凸のために画像に入射した光が散乱してしまい、画像の光輝性が損なわれることが知られている。そこで、光輝性が損なわれないように、基材上の光輝性インクが吐出される領域に、あらかじめ平滑な下地層を形成し、下地層上に金属粒子を含有する光輝性インクを吐出する方法が知られている。
【0005】
例えば、特許文献２は、活性光線硬化型インクを記録媒体に付与し、付与された活性光線硬化型インクを活性光線によって重合・硬化させて基材上に平滑な下地層を形成し、形成された下地層の表面に光輝性インクを付与して、金属光沢調の画像を形成する方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【文献】特開２０１５－１３４９３５号公報
【文献】特開２０１３－１０２３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
特許文献２に記載のように、平滑な下地層を予め形成しておき、形成された下地層の表面に光輝性インクを付与して画像を形成すれば、形成された画像の光輝性を高めることができると期待される。
【0008】
しかしながら、本発明者らが検討したところ、特許文献２に記載の方法で形成した画像は、密着性が低く、画像に切り傷などが生じたときに上記切り傷などからはがれやすいことがあった。一方で、下地層の組成を調整して画像の密着性を高めようとすると、画像形成物にタッキングが生じやすいこともあった。
【0009】
本発明は、上記課題を解決することを目的とするものであり、金属粒子を含有する光輝性インクを用いて画像を形成するときの、基材への密着性がより高い画像を形成することができ、かつ、画像形成物へのタッキングの発生を抑制することができる下地層を形成するための活性光線硬化型インクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記課題は以下の手段により解決されるものである。
［１］基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、活性光線硬化型インク。
［２］前記水素結合性の光重合性化合物は、水酸基を有する光重合性化合物である、［１］に記載の活性光線硬化型インク。
［３］前記活性光線硬化型インクの水酸基価は、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、［１］または［２］に記載の活性光線硬化型インク。
［４］前記水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物である、［１］～［３］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［５］ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含む、［１］～［４］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［６］インクジェット法により吐出可能である、［１］～［５］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［７］［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクと、を含むインクセット。
［８］前記光輝性インクは、インクジェット法により吐出可能である、［７］に記載のインクセット。
［９］前記金属粒子は金属ナノ粒子である、［７］または［８］に記載のインクセット。
［１０］基材と、［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクを前記基材の表面に付与し、硬化させてなる下地層と、前記下地層の表面に接して形成された、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、を含む画像形成物。
［１１］［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された前記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクを前記形成された下地層の表面に付与して、前記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む画像形成方法。
［１２］前記活性光線硬化型インクは、インクジェット法で前記基材の表面に付与される、［１１］に記載の画像形成方法。
［１３］前記光輝性インクは、インクジェット法で前記下地層の表面に付与される、［１１］に記載の画像形成方法。
［１］基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、の間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、前記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、活性光線硬化型インク。
［２］前記水素結合性の光重合性化合物は、水酸基を有する光重合性化合物である、［１］に記載の活性光線硬化型インク。
［３］前記活性光線硬化型インクの水酸基価は、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、［１］または［２］に記載の活性光線硬化型インク。
［４］前記水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物である、［１］～［３］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［５］ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含む、［１］～［４］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［６］インクジェット法により吐出可能である、［１］～［５］のいずれかに記載の活性光線硬化型インク。
［７］［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクと、を含むインクセット。
［８］前記光輝性インクは、インクジェット法により吐出可能である、［７］に記載のインクセット。
［９］前記金属粒子は金属ナノ粒子である、［７］または［８］に記載のインクセット。
［１０］基材と、［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクを前記基材の表面に付与し、硬化させてなる下地層と、前記下地層の表面に接して形成された、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層と、を含む画像形成物。
［１１］［１］～［６］のいずれかに記載の活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された前記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクを前記形成された下地層の表面に付与して、前記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む画像形成方法。
［１２］前記活性光線硬化型インクは、インクジェット法で前記基材の表面に付与される、［１１］に記載の画像形成方法。
［１３］前記光輝性インクは、インクジェット法で前記下地層の表面に付与される、［１１］に記載の画像形成方法。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、金属粒子を含有する光輝性インクを用いて画像を形成するときの、基材への密着性がより高く、かつ、画像形成物へのタッキングの発生を抑制することができる下地層を形成できる活性光線硬化型インクが提供される。
【発明を実施するための形態】
【0012】
本発明は、基材と、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層との間に配置される下地層を形成するための活性光線硬化型インクであって、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を、上記活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下含む、活性光線硬化型インクに関する。
【0013】
本発明の活性光線硬化型インクによって、基材への密着性がより高く、かつ、画像形成物へのタッキングの発生を抑制できる下地層が得られる理由は、必ずしも明らかではないものの、以下のように考えられる。
【0014】
第二級アミド基、ウレタン結合、または水酸基のような極性を有する官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物（以下、水素結合性の光重合性化合物ともいう）を含む活性光線硬化型インクにより形成された下地層は、基材の極性部分や光輝層中の分散剤の極性部分と、上記水素結合性の光重合性化合物に由来する極性部分とが相互作用することで密着性が高まると考えられる。特に、第二級アミド、ウレタン結合、水酸基は水素を有し、水素結合を形成する能力を有しているので、密着性が高まると考えられる。したがって、これらの重合性化合物を、活性光線硬化型インクのその全質量に対して１０質量％以上含む活性光線硬化型インクを用いて形成された下地層は、基材および光輝層との密着性がより良好になる。一方で、上記水素結合性の光重合性化合物の含有量を活性光線硬化型インクの全質量に対して４０質量％以下にすると、下地層が過剰に柔らかくなり画像形成物の表面も過剰に柔らかくなることによるタッキングの発生を、抑制できると考えられる。
【0015】
１． 活性光線硬化型インク
本発明の一実施形態に関する活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を含む。
本発明の一実施形態に関する活性光線硬化型インクは、第二級アミド基、ウレタン結合および水酸基からなる群より選ばれた少なくとも１つの官能基または構造を有する水素結合性の光重合性化合物を含む。
【0016】
１－１． 水素結合性の光重合性化合物
水素結合性の光重合性化合物は、活性光線の照射により重合および架橋するものであれば特に制限されない。水素結合性の光重合性化合物の例には、上記官能基または構造を有するラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物が含まれるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
水素結合性の光重合性化合物は、活性光線の照射により重合および架橋するものであれば特に制限されない。水素結合性の光重合性化合物の例には、上記官能基または構造を有するラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物が含まれるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
【0017】
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物（モノマー、オリゴマー、ポリマーあるいはこれらの混合物）である。ラジカル重合性化合物は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0018】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例には、不飽和カルボン酸とその塩、不飽和カルボン酸エステル化合物、不飽和カルボン酸ウレタン化合物、不飽和カルボン酸アミド化合物およびその無水物、アクリロニトリル、スチレン、不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタンなどが含まれる。不飽和カルボン酸の例には、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などが含まれる。
【0019】
ラジカル重合性化合物は、不飽和カルボン酸エステル化合物であることが好ましく、（メタ）アクリレートであることがより好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートまたはメタアクリレートを意味し、「（メタ）アクリル」は、アクリルまたはメタクリルを意味し、「（メタ）アクリロイロキシ」は、アクリロイロキシまたはメタクリロイロキシを意味する。
【0020】
ラジカル重合性化合物は、エチレンオキサイド基またはプロピレンオキサイド基を有するように変性された（メタ）アクリレート（以下、単に「変性（メタ）アクリレート」ともいう。）を含むことが好ましい。変性（メタ）アクリレートは、感光性がより高い。また、変性（メタ）アクリレートは、高温下でも他の成分とより相溶しやすい。さらには、変性（メタ）アクリレートは、硬化収縮が少ないため活性光線照射時の基材のカールがより生じにくい。
【0021】
カチオン重合性化合物の例には、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物およびオキセタン化合物などが含まれる。
【0022】
第二級アミド基を有する光重合性化合物は、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ｒにおいて、ＲがＨではない構造を有する光重合性化合物である。第二級アミド基を有する光重合性化合物は、光重合性化合物が第二級アミド基を有していれば特に制限されない。
【0023】
第二級アミド基を有する光重合性化合物の例には、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドが含まれる。
【0024】
ウレタン結合を有する光重合性化合物は、光重合性化合物がウレタン結合を有していれば特に制限されない。
【0025】
ウレタン結合を有する光重合性化合物の例には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ポリエステル系ウレタンモノマー、ポリエーテル系ウレタンモノマー、ポリカーボネート系ウレタンモノマーが含まれる。
【0026】
水酸基を有する光重合性化合物は、光重合性化合物が水酸基を有していれば特に制限されない。なお、上記水酸基には、カルボキシル基は含まれない。
【0027】
水酸基を有する光重合性化合物の例には、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチル－フタル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、２－ヒドロキシ－３－（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが含まれる。
【0028】
水素結合性の光重合性化合物は、基材への画像形成物の密着性をより高める観点から、水酸基を有する光重合性化合物であることが好ましい。
【0029】
このとき、上記活性光線硬化型インクの水酸基価は、基材への画像形成物の密着性をより高める観点から、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、画像形成物へのタッキングの発生をより抑制する観点から、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。上記活性光線硬化型インクの水酸基価は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがさらに好ましい。
【0030】
上記活性光線硬化型インクの水酸基価は、活性光線硬化型インク１ｇに含まれる水酸基を無水酢酸でアセチル化し、アセチル化によって生じた酢酸を中和させるために必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）である。インク組成物の水酸基価は、ＪＩＳ Ｋ ００７０に記載される方法に準ずる計算により得ることができる。
【0031】
また、活性光線硬化型インクの水酸基価は、活性光線硬化型インク１ｇ中における水酸基を有する光重合性化合物の配合組成から計算によりその理論値を得ることができる。具体的には、水酸基を有する光重合性化合物をＡ、Ｂ・・・とした場合、下記式（１）で水酸基価を得ることができる。
水酸基価［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（ＭＡ×αＡ＋ＭＢ×αＢ＋・・・）×５６０００…（１）
ここで、式（１）において、ＭＡ、ＭＢは活性光線硬化型インク１ｇ中におけるＡ、Ｂの物質量（単位：モル）をそれぞれ表し、αＡ、αＢはＡ、Ｂの１分子が有する水酸基数をそれぞれ表す。
水酸基価［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（ＭＡ×αＡ＋ＭＢ×αＢ＋・・・）×５６０００…（１）
ここで、式（１）において、ＭＡ、ＭＢは活性光線硬化型インク１ｇ中におけるＡ、Ｂの物質量（単位：モル）をそれぞれ表し、αＡ、αＢはＡ、Ｂの１分子が有する水酸基数をそれぞれ表す。
【0032】
また、水素結合性の光重合性化合物は多官能の光重合性化合物であることが好ましい。水素結合性の光重合性化合物が活性光線の照射により重合または架橋可能な官能基を２個以上有すると、基材への画像形成物の密着性をより高めることができる。多官能である水素結合性の光重合性化合物の例には、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが含まれる。
【0033】
上記水素結合性の光重合性化合物の含有量は、活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下である。水素結合性の光重合性化合物の含有量は、下地層と、基材および光輝層のそれぞれとの密着性をより高める観点から、活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がより好ましい。また、水素結合性の光重合性化合物の含有量は、画像へのタッキングの発生を抑制する観点からは、活性光線硬化型インクの全質量に対して４０質量％以下が好ましい。
【0034】
１－２． その他の成分
活性光線硬化型インクは、上記以外のその他の光重合性化合物を含んでもよく、また、界面活性剤、重合開始剤を含んでもよい。
活性光線硬化型インクは、上記以外のその他の光重合性化合物を含んでもよく、また、界面活性剤、重合開始剤を含んでもよい。
【0035】
（その他の光重合性化合物）
その他の光重合性化合物は、活性光線により重合するものであれば特に制限されない。その他の光重合性化合物の例には、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物が含まれるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
その他の光重合性化合物は、活性光線により重合するものであれば特に制限されない。その他の光重合性化合物の例には、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物が含まれるが、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
【0036】
ラジカル重合性化合物であるその他の光重合性化合物の例には、イソアミル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソミルスチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル－ジグリコール（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、およびｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートなどを含む単官能の（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびトリシクロデカンジメタノールジアクリレートなどを含む２官能のアクリレート、ならびに、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、およびペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレートなどを含む三官能以上のアクリレートなどが含まれる。
【0037】
（メタ）アクリレートは、変性物であってもよい。変性物である（メタ）アクリレートの例には、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを含むエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、トリプロピレンエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを含むエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどを含むカプロラクトン変性（メタ）アクリレート、ならびにカプロラクタム変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどを含むカプロラクタム変性（メタ）アクリレートなどが含まれる。
【0038】
（メタ）アクリレートは、重合性オリゴマーであってもよい。重合性オリゴマーである（メタ）アクリレートの例には、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、脂肪族ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、芳香族ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、および直鎖（メタ）アクリルオリゴマーなどが含まれる。
【0039】
カチオン重合性化合物であるその他の光重合性化合物は、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、およびオキセタン化合物などでありうる。カチオン重合性化合物は、１種のみが含まれていてもよく、２種類以上が含まれていてもよい。
【0040】
ビニルエーテル化合物の例には、ブチルビニルエーテル、ブチルプロペニルエーテル、ブチルブテニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、エチルエトキシビニルエーテル、アセチルエトキシエトキシビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルおよびアダマンチルビニルエーテルなどを含む単官能のビニルエーテル化合物、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールビニルエーテル、ブチレンジビニルエーテル、ジブチレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ノルボルニルジメタノールジビニルエーテル、イソバイニルジビニルエーテル、ジビニルレゾルシンおよびジビニルハイドロキノンなどを含む２官能のビニルエーテル化合物、ならびに、グリセリントリビニルエーテル、グリセリンエチレンオキシド付加物トリビニルエーテル（エチレンオキシドの付加モル数６）、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリビニルエーテルエチレンオキシド付加物トリビニルエーテル（エチレンオキシドの付加モル数３）、ペンタエリスリトールトリビニルエーテルおよびジトリメチロールプロパンヘキサビニルエーテルなどならびにこれらのオキシエチレン付加物などを含む三官能以上のビニルエーテル化合物などが含まれる。
【0041】
エポキシ化合物の例には、アリルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェノール（ポリエチレンオキシ）５－グリシジルエーテル、ブチルフェニルグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ラウリルグリシジルエーテル、１，２－エポキシシクロヘキサン、１，４－エポキシシクロヘキサン、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサンおよびノルボルネンオキシドなどを含む単官能のエポキシ化合物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルおよび１，６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルなどを含む２官能のエポキシ化合物、ならびに、ポリグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテルおよびペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルなどを含む三官能以上のエポキシ化合物などが含まれる。
【0042】
オキセタン化合物の例には、２－（３－オキセタニル）－１－ブタノール、３－（２－（２－エチルヘキシルオキシエチル））－３－エチルオキセタンおよび３－（２－フェノキシエチル）－３－エチルオキセタンなどを含む単官能のオキセタン化合物、ならびに、キシリレンビスオキセタンおよび３，３’－（オキシビスメチレン）ビス（３－エチルオキセタン）などを含む多官能のオキセタン化合物などが含まれる。
【0043】
（界面活性剤）
界面活性剤は、公知の界面活性剤（表面調整剤）でよい。界面活性剤の例には、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類および脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類および第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、ならびにシリコーン系やフッ素系の界面活性剤が含まれる。これらの界面活性剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
界面活性剤は、公知の界面活性剤（表面調整剤）でよい。界面活性剤の例には、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類および脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類および第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、ならびにシリコーン系やフッ素系の界面活性剤が含まれる。これらの界面活性剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0044】
界面活性剤の含有量は、下地層が形成されれば特に限定されないが、活性光線硬化型インクの全質量に対して、０．０１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
【0045】
（重合開始剤）
重合開始剤は、上記光重合性化合物がラジカル重合性の官能基を有する化合物であるときは、光ラジカル開始剤を含み、上記光重合性化合物がカチオン重合性の官能基を有する化合物であるときは、光酸発生剤を含む。光重合開始剤は、本発明のインク中に、一種のみが含まれていてもよく、二種類以上が含まれていてもよい。光重合開始剤は、光ラジカル開始剤と光酸発生剤の両方の組み合わせであってもよい。
重合開始剤は、上記光重合性化合物がラジカル重合性の官能基を有する化合物であるときは、光ラジカル開始剤を含み、上記光重合性化合物がカチオン重合性の官能基を有する化合物であるときは、光酸発生剤を含む。光重合開始剤は、本発明のインク中に、一種のみが含まれていてもよく、二種類以上が含まれていてもよい。光重合開始剤は、光ラジカル開始剤と光酸発生剤の両方の組み合わせであってもよい。
【0046】
光ラジカル開始剤には、開裂型ラジカル開始剤および水素引き抜き型ラジカル開始剤が含まれる。
【0047】
開裂型ラジカル開始剤の例には、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、および２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノンなどを含むアセトフェノン系の開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、およびベンゾインイソプロピルエーテルなどを含むベンゾイン系の開始剤、２，４，６－トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシドなどを含むアシルホスフィンオキシド系の開始剤、ベンジル、ならびにメチルフェニルグリオキシエステルなどが含まれる。
【0048】
水素引き抜き型ラジカル開始剤の例には、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル－４－フェニルベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、および３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノンなどを含むベンゾフェノン系の開始剤、２－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、および２，４－ジクロロチオキサントンなどを含むチオキサントン系の開始剤、ミヒラーケトンおよび４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノンなどを含むアミノベンゾフェノン系の開始剤、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、２－エチルアンスラキノン、９，１０－フェナンスレンキノン、ならびにカンファーキノンなどが含まれる。
【0049】
光酸発生剤の例には、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩、ヨードニウム（４－メチルフェニル）（４－（２－メチルプロピル）フェニル）ヘキサフルオロホスフェート、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、および３－メチル－２－ブテニルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどが含まれる。
【0050】
上記活性光線硬化型インクにおける重合開始剤の含有量は、インク硬化時に照射する光や光重合性化合物の種類などにもよるが、活性光線硬化型インクの全質量に対して０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上８質量％以下であることがより好ましい。
【0051】
１－３． 光重合性化合物のガラス転移点
画像形成物の耐候性を高める観点から、活性光線硬化型インクは、ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物（以下、Ｔｇが８０℃より高い光重合性化合物ともいう）を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含むことが好ましい。画像形成物を大気中に長期間放置すると、画像形成物の光輝性が損なわれることがある。これは、基材側から侵入したガス（特に、硫黄化合物）が下地層を通って光輝層に到達し、光輝層中の金属粒子を冒すということ（バックアタック）が起こるからであると考えられる。しかし、活性光線硬化型インク中にＴｇが８０℃より高い光重合性化合物を含ませると、硬化して形成された下地層のＴｇが上昇する。すなわち、下地層内の分子間の相互作用が強固になるため、上記ガスの侵入を阻害してガスバリア性に優れ、耐候性に優れるようになると考えられる。
画像形成物の耐候性を高める観点から、活性光線硬化型インクは、ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物（以下、Ｔｇが８０℃より高い光重合性化合物ともいう）を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上７０質量％以下含むことが好ましい。画像形成物を大気中に長期間放置すると、画像形成物の光輝性が損なわれることがある。これは、基材側から侵入したガス（特に、硫黄化合物）が下地層を通って光輝層に到達し、光輝層中の金属粒子を冒すということ（バックアタック）が起こるからであると考えられる。しかし、活性光線硬化型インク中にＴｇが８０℃より高い光重合性化合物を含ませると、硬化して形成された下地層のＴｇが上昇する。すなわち、下地層内の分子間の相互作用が強固になるため、上記ガスの侵入を阻害してガスバリア性に優れ、耐候性に優れるようになると考えられる。
【0052】
Ｔｇが８０℃より高い光重合性化合物の含有量は、画像形成物の耐候性を高める観点から、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがより好ましい。Ｔｇが８０℃より高い光重合性化合物の含有量は、下地層内の分子間の相互作用が強固になり画像形成物の屈曲性が低下することを抑制する観点から、活性光線硬化型インクの全質量に対して７０質量％以下であることが好ましい。
【0053】
Ｔｇが８０℃より高い光重合性化合物の例には、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド（Ｔｇ：１３４℃）、Ｎ－ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド（Ｔｇ：１０４）、ヒドロキシエチルアクリルアミド（Ｔｇ：９８℃）、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート（Ｔｇ：１２２℃）、ペンタエリスリトールトリアクリレート(トリエステル５５％)、イソボルニルアクリレート（Ｔｇ：９７℃）、ジプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：１１０℃）、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ｔｇ：１９０℃）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（Ｔｇ：９２℃）が含まれる。
【0054】
１－４． 物性
上記活性光線硬化型インクは、インクジェット法により基材の表面に付与されるとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性をより高める観点からは、粘度が１ｃＰ以上１００ｃＰ未満であることが好ましく、１ｃＰ以上５０ｃＰ以下であることがより好ましく、１ｃＰ以上１５ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
上記活性光線硬化型インクは、インクジェット法により基材の表面に付与されるとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性をより高める観点からは、粘度が１ｃＰ以上１００ｃＰ未満であることが好ましく、１ｃＰ以上５０ｃＰ以下であることがより好ましく、１ｃＰ以上１５ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
【0055】
このとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性を高める観点からは、上記活性光線硬化型インクの表面張力は２０ｍＮ／ｍ以上５０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。
【0056】
２． インクセット
本発明の一実施形態に関するインクセットは、上述した活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクとを含む。
本発明の一実施形態に関するインクセットは、上述した活性光線硬化型インクと、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝性インクとを含む。
【0057】
２－１． 光輝性インク
光輝性インクは高分子分散剤および金属粒子を含む水系の液体であり、溶媒として水を含む。溶媒は、粘度調整などのために任意に公知の有機溶媒を含んでいてもよい。
光輝性インクは高分子分散剤および金属粒子を含む水系の液体であり、溶媒として水を含む。溶媒は、粘度調整などのために任意に公知の有機溶媒を含んでいてもよい。
【0058】
２－１－１． 高分子分散剤
高分子分散剤を構成する樹脂は、親水性モノマーの単独重合体または共重合体が好ましい。高分子分散剤は、親水性モノマーと疎水性モノマーとの共重合体であってもよい。
高分子分散剤を構成する樹脂は、親水性モノマーの単独重合体または共重合体が好ましい。高分子分散剤は、親水性モノマーと疎水性モノマーとの共重合体であってもよい。
【0059】
親水性モノマーの例には、カルボキシル基または酸無水物基を含有するモノマー（（メタ）アクリル酸、マレイン酸などの不飽和多価カルボン酸、ならびに無水マレイン酸など）、ならびにエチレンオキサイド変性（メタ）アクリル酸エステルモノマー（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリル酸アルキルエステルなど）などが含まれる。
【0060】
疎水性モノマーの例には、（メタ）アクリル酸メチルおよび（メタ）アクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸エステル系モノマー、プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリル酸エステルモノマー、側鎖に炭素数３以上６以下のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー、スチレン、α－メチルスチレンおよびビニルトルエンなどのスチレン系モノマー、エチレン、プロピレンおよび１－ブテンなどのα－オレフィン系モノマー、ならびに、酢酸ビニルおよび酪酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル系モノマーなどが含まれる。
【0061】
高分子分散剤は、共重合体である場合、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体およびくし型共重合体などとすることができる。中でも、金属粒子の分散性をより高める観点からは、高分子分散剤は、くし型ブロック共重合体であることが好ましい。
【0062】
くし型ブロック共重合体とは、主鎖を形成する直鎖状のポリマーと、主鎖を構成するモノマー由来の構成単位に対してグラフト重合した別の種類のポリマーとを含むコポリマーを意味する。くし型ブロック共重合体の好ましい例には、主鎖が（メタ）アクリル酸エステル由来の構成単位を含み、かつ、側鎖がポリアルキレンオキサイド基（エチレンオキサイド－プロピレンオキサイド共重合基などを含む長鎖ポリアルキレンオキサイド基）を含む、くし型ブロック共重合体が含まれる。くし型ブロックコポリマーは、グラフト重合した側鎖が立体障害を生じるため、金属粒子同士の凝集をより高度に抑制しうる。それにより、金属粒子の分散性が高まるので、凝集した金属粒子による吐出不良をより抑制しやすい。
【0063】
また、上記高分子分散剤は、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。上記酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、金属インクのピニング性が高まりやすい。また、上記酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると、高分子分散剤は親水性の傾向を有するため、金属インク中での金属粒子の分散性を高めることができ、金属インクの吐出安定性もより高めることができる。一方で、上記酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であっても、金属インクはピニング性が高まりやすい。また、上記酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、インクジェットヘッド中で上記高分子分散剤が膨潤することによる、インクジェットヘッドからの吐出安定性の顕著な低下を抑制することもできる。上記観点からは、上記高分子分散剤の酸価は３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、７ｍｇＫＯＨ／ｇ以上５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがさらに好ましい。
【0064】
高分子分散剤の酸価は、ＪＩＳ Ｋ ００７０に準じて測定することができる。具体的には、高分子分散剤の酸価は、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）により、高分子分散剤の種類（たとえば、積層体の作製に用いた高分子分散剤の製品名など）を特定し、同一の分散剤の酸価をＪＩＳ Ｋ ００７０に準じて測定すればよい。また、１Ｈ－ＮＭＲおよびガスクロマトグラフィー質量分析法（ＧＣ／ＭＳ）によって分散剤の種類を特定してもよい。
【0065】
高分子分散剤は、重量平均分子量が１０００以上１０００００以下であることが好ましく、２０００以上５００００以下であることがより好ましく、１００００以上３００００以下であることが特により好ましい。
【0066】
上記重量平均分子量は、ＧＰＣにより測定され、標準ポリスチレン換算で較正された値とすることができる。
【0067】
酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である市販の高分子分散剤の例には、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１０２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１９０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１９１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１９４Ｎ、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１９９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２０１５、およびＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２０６９（いずれもビックケミー社製、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ」は同社の登録商標）、ＥＦＫＡ ６２２０（ＢＡＳＦ社製、「ＥＦＫＡ」は同社の登録商標）、ならびにソルスパース３２０００、ソルスパース４４０００、ソルスパース４６０００（ルーブリゾール社製）、フローレンＴＧ－７５０Ｗ（共栄社化学社製）などが含まれる。
【0068】
後述する界面活性剤と高分子分散剤との親和性を高めて、界面活性剤の析出および凝集による金属粒子の配列の乱れを抑制する観点からは、高分子分散剤は、親水性基および疎水性基の両方を有することが好ましい。界面活性剤と高分子分散剤との親和性をより高める観点からは、界面活性剤が有する親水性基と高分子分散剤が有する親水性基は同一の官能基であり、界面活性剤が有する疎水性基と高分子分散剤が有する疎水性基とは同一の官能基であることが好ましい。たとえば、界面活性剤が有する親水性基と高分子分散剤が有する親水性基はいずれもエチレンオキサイド基であり、界面活性剤が有する疎水性基と高分子分散剤が有する疎水性基とはいずれもプロピレンオキサイド基であることが好ましい。
【0069】
２－１－２． 金属粒子
金属粒子は、金属を主成分とする粒子であり、金属光沢を発現することができる粒子であれば特に制限されない。金属粒子を構成する金属の例には、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、アルミニウム、亜鉛、クロム、鉄、コバルト、モリブデン、ジルコニウム、ルテニウム、イリジウム、タンタル、水銀、インジウム、スズ、鉛、およびタングステンなどが含まれる。これらの中で、高い光沢を発現可能であり、かつ、安価であることから、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、スズ、鉛、クロム、亜鉛およびアルミニウムが好ましく、金、銀、銅、スズ、クロム、鉛およびアルミニウムがより好ましく、金および銀がさらに好ましく、銀が特に好ましい。これらの金属は、１種を単独で、または２種類以上を合金または混合物として用いることができる。また、金属の種類または組成が異なる２種類以上の金属粒子を組み合わせて用いてもよい。金属粒子は、これらの金属を主成分とすればよく、不可避的に含まれる他の成分を微量に含んでいてもよいし、分散安定性を高めるためにクエン酸などで表面処理されていてもよい。また、これらの金属は、酸化物を含有してもよい。
金属粒子は、金属を主成分とする粒子であり、金属光沢を発現することができる粒子であれば特に制限されない。金属粒子を構成する金属の例には、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、アルミニウム、亜鉛、クロム、鉄、コバルト、モリブデン、ジルコニウム、ルテニウム、イリジウム、タンタル、水銀、インジウム、スズ、鉛、およびタングステンなどが含まれる。これらの中で、高い光沢を発現可能であり、かつ、安価であることから、金、銀、銅、ニッケル、コバルト、スズ、鉛、クロム、亜鉛およびアルミニウムが好ましく、金、銀、銅、スズ、クロム、鉛およびアルミニウムがより好ましく、金および銀がさらに好ましく、銀が特に好ましい。これらの金属は、１種を単独で、または２種類以上を合金または混合物として用いることができる。また、金属の種類または組成が異なる２種類以上の金属粒子を組み合わせて用いてもよい。金属粒子は、これらの金属を主成分とすればよく、不可避的に含まれる他の成分を微量に含んでいてもよいし、分散安定性を高めるためにクエン酸などで表面処理されていてもよい。また、これらの金属は、酸化物を含有してもよい。
【0070】
金属粒子の平均粒子径は特に限定されないが、光輝性インク中での分散安定性および保存安定性を高める観点、ならびにグラデーションの視認性の観点からは、金属粒子は、平均粒子径がナノサイズである金属ナノ粒子であることが好ましい。金属粒子の平均粒子径は、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【0071】
金属粒子の平均粒子径は、金属粒子分散液をＳＥＭにより観察し、金属粒子の体積平均粒子径を求める方法で測定すればよい。具体的には、金属粒子の平均粒子径は、以下の手順で測定すればよい。
【0072】
１）ガラス板上に分散液を塗布した後、真空脱気して溶媒成分を揮発させてサンプルを得る。得られたサンプルの分散液について、走査電子顕微鏡ＪＳＭ－７４０１Ｆ（日本電子株式会社製）を用いてＳＥＭ観察を行い、任意の３００個の金属粒子の粒径をそれぞれ測定する。
２）得られた測定データに基づいて、画像処理ソフトＩｍａｇｅ Ｊを用いて体積基準の粒度分布を求め、そのＤ５０（メジアン径）を体積換算の平均粒径（体積平均粒子径）とする。
２）得られた測定データに基づいて、画像処理ソフトＩｍａｇｅ Ｊを用いて体積基準の粒度分布を求め、そのＤ５０（メジアン径）を体積換算の平均粒径（体積平均粒子径）とする。
【0073】
２－１－３． 界面活性剤
光輝性インクは界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤は、光輝性インクの表面張力を低くして、付与された光輝性インクの接触角を小さくする作用を有する。
光輝性インクは界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤は、光輝性インクの表面張力を低くして、付与された光輝性インクの接触角を小さくする作用を有する。
【0074】
界面活性剤は、公知の界面活性剤（表面調整剤）でよく、界面活性剤の例には、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類および脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類および第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、ならびにシリコーン系やフッ素系の界面活性剤が含まれる。これらの界面活性剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0075】
光輝性インクの界面活性剤の含有量は、光輝性インクの全質量に対して、０．０１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
【0076】
２－１－４． アニオン性樹脂のエマルション
光輝性インクは、アニオン性樹脂のエマルションを含有してもよい。当該エマルションは、バインダー樹脂として作用し、金属粒子の表面に吸着した高分子分散剤と相互作用して、金属粒子の下地層への密着性を高め得る。
光輝性インクは、アニオン性樹脂のエマルションを含有してもよい。当該エマルションは、バインダー樹脂として作用し、金属粒子の表面に吸着した高分子分散剤と相互作用して、金属粒子の下地層への密着性を高め得る。
【0077】
上記アニオン性樹脂は、高分子分散剤との親和性が高い樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂（例えばポリ塩化ビニル重合体、塩化ビニル－塩化ビニリデン共重合体）、エポキシ樹脂、ポリシロキサン樹脂、フッ素樹脂、スチレン共重合体（例えばスチレン－ブタジエン共重合体、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）、および酢酸ビニル共重合体（例えばエチレン－酢酸ビニル共重合体等）などから適宜選択して使用することができる。形成される画像の耐水性をより高める観点からは、上記アニオン性樹脂は、（メタ）アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリシロキサン樹脂、フッ素樹脂、スチレン共重合体、および酢酸ビニル共重合体などから選択されることが好ましく、ウレタン樹脂および（メタ）アクリル樹脂から選択されることが好ましい。
【0078】
２－１－５． 溶媒
上述のように、光輝性インクは水系の液体であり、溶媒として水を含む。溶媒は、粘度調整などのために任意に公知の有機溶媒を含んでもよい。
上述のように、光輝性インクは水系の液体であり、溶媒として水を含む。溶媒は、粘度調整などのために任意に公知の有機溶媒を含んでもよい。
【0079】
有機溶媒の例には、多価アルコール、多価アルコール誘導体、アルコール、アミド、ケトン、ケトアルコール、エーテル、含窒素溶剤、含硫黄溶剤、炭酸プロピレン、炭酸エチレン、および１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなどが含まれる。上記多価アルコールの例には、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロプレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、１，３－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、および１，２，６－ヘキサントリオールなどが含まれる。上記多価アルコール誘導体の例には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコール－ｎ－ヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、トリエチレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、およびトリプロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテルなどが含まれる。上記アルコールの例には、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、ｓｅｃ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、およびベンジルアルコールなどが含まれる。上記アミドの例には、ジメチルホルムアミド、およびジメチルアセトアミドなどが含まれる。上記ケトンの例には、アセトンなどが含まれる。上記ケトアルコールの例には、ジアセトンアルコールなどが含まれる。上記エーテルの例には、テトラヒドロフラン、およびジオキサンなどが含まれる。上記含窒素溶剤の例には、ピロリドン、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、およびトリエタノールアミンなどが含まれる。上記含硫黄溶剤の例には、チオジエタノール、チオジグリコール、チオジグリセロール、スルホラン、およびジメチルスルホキシドなどが含まれる。これらの有機溶媒は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0080】
インクジェットヘッドからの吐出時にノズル近傍で光輝性インクが乾燥することによるノズル詰まりの発生を抑制する観点からは、上記有機溶媒は、多価アルコールを含むことが好ましい。このとき、光輝性インク中の多価アルコールの含有量は、光輝性インクの全質量に対して１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
【0081】
２－２． 物性
光輝性インクは、インクジェット法により下地層の表面に付与されるとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性をより高める観点からは、粘度が１ｃＰ以上１００ｃＰ未満であることが好ましく、１ｃＰ以上５０ｃＰ以下であることがより好ましく、１ｃＰ以上１５ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
光輝性インクは、インクジェット法により下地層の表面に付与されるとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性をより高める観点からは、粘度が１ｃＰ以上１００ｃＰ未満であることが好ましく、１ｃＰ以上５０ｃＰ以下であることがより好ましく、１ｃＰ以上１５ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
【0082】
このとき、インクジェットヘッドのノズルからの吐出安定性を高める観点からは、光輝性インクの表面張力は２０ｍＮ／ｍ以上５０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。濡れ性を高めて、形成される画像をより高精細にする観点からは、光輝性インクの表面張力は２０ｍＮ／ｍ以上３５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。
【0083】
３． 画像形成物
本発明の一実施形態に関する画像形成物は、基材と、上述した活性光線硬化型インクを基材上に付与し、硬化させてなる下地層と、下地層上に形成された、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層とを含む。
本発明の一実施形態に関する画像形成物は、基材と、上述した活性光線硬化型インクを基材上に付与し、硬化させてなる下地層と、下地層上に形成された、高分子分散剤および金属粒子を含む光輝層とを含む。
【0084】
３－１． 基材
基材は、下地層が形成され得るものであれば特に制限されず、吸水性の高い紙基材でもよいし、グラビアまたはオフセット印刷用のコート紙など吸水性の低い基材でもよいし、フィルム、プラスチックボード（軟質塩化ビニル、硬質塩化ビニル、アクリル板、ポリオレフィン系など）、ガラス、タイルおよびゴムなどの非吸水性の基材であってもよい。
基材は、下地層が形成され得るものであれば特に制限されず、吸水性の高い紙基材でもよいし、グラビアまたはオフセット印刷用のコート紙など吸水性の低い基材でもよいし、フィルム、プラスチックボード（軟質塩化ビニル、硬質塩化ビニル、アクリル板、ポリオレフィン系など）、ガラス、タイルおよびゴムなどの非吸水性の基材であってもよい。
【0085】
３－２． 下地層
下地層は、上述した活性光線硬化型インクを基材上に付与し、硬化させてなるものである。下地層の厚さは、基材の表面の凹凸によらず平滑な面をつくりだせる限りにおいて特に限定されないものの、１０μｍ以上４０μｍ以下とすることができ、２０μｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましい。
下地層は、上述した活性光線硬化型インクを基材上に付与し、硬化させてなるものである。下地層の厚さは、基材の表面の凹凸によらず平滑な面をつくりだせる限りにおいて特に限定されないものの、１０μｍ以上４０μｍ以下とすることができ、２０μｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましい。
【0086】
下地層は、基材の表面のうち、少なくとも光輝層が形成されて金属光沢を発現すべき領域に形成されればよいが、基材の表面の全面に形成されてもよい。
【0087】
３－３． 光輝層
光輝層は高分子分散剤および金属粒子を含み、下地層上に形成されるものである。光輝層の厚さは、特に限定されないものの、１００ｎｍ以上とすることができる。光輝層の厚さの上限は、インクジェット法により形成することができる限りにおいて特に限定されないものの、４００ｎｍとすることができる。
光輝層は高分子分散剤および金属粒子を含み、下地層上に形成されるものである。光輝層の厚さは、特に限定されないものの、１００ｎｍ以上とすることができる。光輝層の厚さの上限は、インクジェット法により形成することができる限りにおいて特に限定されないものの、４００ｎｍとすることができる。
【0088】
３－４． オーバーコート層
光輝層はオーバーコート層によって被覆されてもよい。オーバーコート層は光輝層を被覆するものであれば特に制限されず、光輝層の全面を被覆しても一部を被覆してもよい。オーバーコート層は、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリシロキサン樹脂、マレイン酸樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、エチルセルロース、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、およびアルキド樹脂などの樹脂を含む層とすることができる。オーバーコート層は、これらの樹脂を、１種単独で含んでいてもよいし、２種類以上を組み合わせて含んでいてもよい。
光輝層はオーバーコート層によって被覆されてもよい。オーバーコート層は光輝層を被覆するものであれば特に制限されず、光輝層の全面を被覆しても一部を被覆してもよい。オーバーコート層は、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリシロキサン樹脂、マレイン酸樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、エチルセルロース、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、およびアルキド樹脂などの樹脂を含む層とすることができる。オーバーコート層は、これらの樹脂を、１種単独で含んでいてもよいし、２種類以上を組み合わせて含んでいてもよい。
【0089】
４． 画像形成方法
本発明の一実施形態に関する画像形成方法は、上述した活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された上記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、上述した光輝性インクを上記形成された下地層の表面に付与して、上記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む。
本発明の一実施形態に関する画像形成方法は、上述した活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、付与された上記活性光線硬化型インクに活性光線を照射して下地層を形成する工程と、上述した光輝性インクを上記形成された下地層の表面に付与して、上記下地層の表面に接した光輝層を形成する工程と、を含む。
【0090】
４－１． 下地層を形成する工程
下地層は、上述した活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、活性光線を照射することにより形成される。
下地層は、上述した活性光線硬化型インクを基材の表面に付与し、活性光線を照射することにより形成される。
【0091】
上記活性光線硬化型インクの付与方法は特に限定されず、ロールコーターやスピンコーターなどを用いて上記活性光線硬化型インクを基材の表面に塗布してもよいし、スプレー塗布、浸漬法、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷などの方法で上記活性光線硬化型インクを基材の表面に付与してもよいし、インクジェット法で上記活性光線硬化型インクの液滴をノズルから吐出して基材の表面に着弾させてもよい。これらのうち、より精細な記録物を形成する観点からは、インクジェット法が好ましい。
【0092】
インクジェット法によるインクジェットヘッドからの吐出方式は、オンデマンド方式およびコンティニュアス方式のいずれでもよい。オンデマンド方式のインクジェットヘッドは、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型およびシェアードウォール型等の電気－機械変換方式、ならびにサーマルインクジェット型およびバブルジェット（バブルジェットはキヤノン社の登録商標）型等の電気－熱変換方式等のいずれでもよい。
【0093】
活性光線硬化型インクの付量は特に限定されないが、下地層の厚さが１０μｍ以上４０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以上３０μｍ以下となるように調整することが好ましい。
【0094】
活性光線硬化型インクを硬化させる工程は活性光線の照射により行われる。活性光線は、光重合性化合物を硬化させることができれば特に限定されず、α線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、電子線などが含まれる。安全性をより高める観点、および前記重合および架橋をより低いエネルギー量でも発生させやすくする観点から、活性光線は、紫外線または電子線であることが好ましい。
【0095】
４－２． 光輝層を形成する工程
光輝層は、上述した光輝性インクを上記形成された下地層の表面に付与することにより形成される。
光輝層は、上述した光輝性インクを上記形成された下地層の表面に付与することにより形成される。
【0096】
上記光輝性インクの付与方法は特に限定されず、ロールコーターやスピンコーターなどを用いて上記光輝性インクを基材の表面に塗布してもよいし、スプレー塗布、浸漬法、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷などの方法で上記光輝性インクを基材の表面に付与してもよいし、インクジェット法で上記光輝性インクの液滴をノズルから吐出して基材の表面に着弾させてもよい。これらのうち、より精細な記録物を形成する観点からは、インクジェット法が好ましい。
【0097】
光輝性インクの着弾後に、着弾した光輝性インクを乾燥させてもよい。乾燥は、赤外線ランプ乾燥、熱風乾燥、バックヒート乾燥、および減圧乾燥などの公知の方法で行うことができる。乾燥の効率をより高める観点からは、これらの乾燥方法のうち２種以上を組み合わせて基材を乾燥させてもよい。
【0098】
上述した方法によれば、下地層により平滑化された表面に光輝性インクが付与されるため、表面形状がより平滑な光輝層を形成することができる。
【実施例】
【0099】
以下、本実施形態の具体的な実施例を比較例とともに説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。
【0100】
１． 活性光線硬化型インク
１－１． 光重合性化合物
活性光線硬化型インクに含まれる光重合性化合物は以下のものを用いた。
１－１． 光重合性化合物
活性光線硬化型インクに含まれる光重合性化合物は以下のものを用いた。
【0101】
１－１－１． 第二級アミド基を有する光重合性化合物
・ＮＩＰＡＭ（ＫＪケミカルズ社製）：Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド（Ｔｇ：１３４℃）
・ＮＢＭＡ（ＭＣＣユニテック社製）：Ｎ－ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド（Ｔｇ：１０４℃）
・ＮＩＰＡＭ（ＫＪケミカルズ社製）：Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド（Ｔｇ：１３４℃）
・ＮＢＭＡ（ＭＣＣユニテック社製）：Ｎ－ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド（Ｔｇ：１０４℃）
【0102】
１－１－２． ウレタン結合を有する光重合性化合物
・ＵＡ－３０６Ｈ（共栄社化学社製）： ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（Ｔｇ：なし）
・ＵＡ－４４００（新中村化学工業社製）： ポリエステル系ウレタンモノマー（Ｔｇ：なし）
・ＵＡ－３０６Ｈ（共栄社化学社製）： ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（Ｔｇ：なし）
・ＵＡ－４４００（新中村化学工業社製）： ポリエステル系ウレタンモノマー（Ｔｇ：なし）
【0103】
１－１－３． 水酸基を有する光重合性化合物
・４ＨＢＡ（三菱ケミカル社製）：４－ヒドロキシブチルアクリレート（Ｔｇ：－４０℃）
・ＣＨＤＭＭＡ（三菱ケミカル社製）：１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（Ｔｇ：１８℃）
・ＨＥＡＡ（ＫＪケミカルズ社製）：ヒドロキシエチルアクリルアミド（Ｔｇ：９８℃）
（第二級アミド基を有する光重合性化合物でもある。）
・７０１Ａ（新中村化学工業社製）：２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート（Ｔｇ：１２２℃）
・Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ（新中村化学工業社製）：ペンタエリスリトールトリアクリレート（トリエステル５５％)（Ｔｇ：２５０℃超）
・４ＨＢＡ（三菱ケミカル社製）：４－ヒドロキシブチルアクリレート（Ｔｇ：－４０℃）
・ＣＨＤＭＭＡ（三菱ケミカル社製）：１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（Ｔｇ：１８℃）
・ＨＥＡＡ（ＫＪケミカルズ社製）：ヒドロキシエチルアクリルアミド（Ｔｇ：９８℃）
（第二級アミド基を有する光重合性化合物でもある。）
・７０１Ａ（新中村化学工業社製）：２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート（Ｔｇ：１２２℃）
・Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ（新中村化学工業社製）：ペンタエリスリトールトリアクリレート（トリエステル５５％)（Ｔｇ：２５０℃超）
【0104】
１－１－４． ホモポリマーとしたときのガラス転移点（Ｔｇ）が８０℃より高いその他の光重合性化合物
・ＩＢＯＡ－Ｂ（ダイセル・オルネクス社製）：イソボルニルアクリレート（Ｔｇ：９７℃）
・ＤＰＧＤＡ（ダイセル・オルネクス社製）：ジプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：１１０℃）
・ＥＢＥＣＲＹＬ １３０（ダイセル・オルネクス社製）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ｔｇ：１９０℃）
・ＴＭＰＥＯＴＡ（ダイセル・オルネクス社製）：トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（Ｔｇ：９２℃）
・ＩＢＯＡ－Ｂ（ダイセル・オルネクス社製）：イソボルニルアクリレート（Ｔｇ：９７℃）
・ＤＰＧＤＡ（ダイセル・オルネクス社製）：ジプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：１１０℃）
・ＥＢＥＣＲＹＬ １３０（ダイセル・オルネクス社製）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ｔｇ：１９０℃）
・ＴＭＰＥＯＴＡ（ダイセル・オルネクス社製）：トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（Ｔｇ：９２℃）
【0105】
１－１－５． ホモポリマーとしたときのガラス転移点（Ｔｇ）が８０℃より低いその他の光重合性化合物
・ＥＢＥＣＲＹＬ １１（ダイセル・オルネクス社製）：ＰＥＧ６００ジアクリレート（Ｔｇ：－４３℃）
・ＴＰＧＤＡ（ダイセル・オルネクス社製）：トリプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：５５℃）
・ＥＢＥＣＲＹＬ １１（ダイセル・オルネクス社製）：ＰＥＧ６００ジアクリレート（Ｔｇ：－４３℃）
・ＴＰＧＤＡ（ダイセル・オルネクス社製）：トリプロピレングリコールジアクリレート（Ｔｇ：５５℃）
【0106】
１－２． 界面活性剤
活性光線硬化型インクに含まれる界面活性剤として、以下のものを使用した。
・ＢＹＫ－３０７（ビックケミー社製）
活性光線硬化型インクに含まれる界面活性剤として、以下のものを使用した。
・ＢＹＫ－３０７（ビックケミー社製）
【0107】
１－３． 重合開始剤
活性光線硬化型インクに含まれる重合開始剤として、以下のものを使用した。
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド
活性光線硬化型インクに含まれる重合開始剤として、以下のものを使用した。
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）：ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド
【0108】
１－４． 混合調製
下記表１に記載の組成に従い、上記した、光重合性化合物、界面活性剤、および重合開始剤を混合した後にＡＤＶＡＮＴＥＣ社製テフロン（「テフロン」はデュポン社の登録商標）３μｍメンブレンフィルターで濾過し、活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ３１を調製した。なお、表の成分の単位は質量％である。
１－５． 水酸基価の測定
活性光線硬化型インクの水酸基価は、水酸基を有する光重合性化合物をＡ、Ｂ・・・とし、以下の式（１）により求めた。
水酸基価［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（ＭＡ×αＡ＋ＭＢ×αＢ＋・・・）×５６０００…（１）
ここで、式（１）において、ＭＡ、ＭＢは活性光線硬化型インク１ｇ中におけるＡ、Ｂの物質量（単位：モル）をそれぞれ表し、αＡ、αＢはＡ、Ｂの１分子が有する水酸基数をそれぞれ表す。
下記表１に記載の組成に従い、上記した、光重合性化合物、界面活性剤、および重合開始剤を混合した後にＡＤＶＡＮＴＥＣ社製テフロン（「テフロン」はデュポン社の登録商標）３μｍメンブレンフィルターで濾過し、活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ３１を調製した。なお、表の成分の単位は質量％である。
１－５． 水酸基価の測定
活性光線硬化型インクの水酸基価は、水酸基を有する光重合性化合物をＡ、Ｂ・・・とし、以下の式（１）により求めた。
水酸基価［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（ＭＡ×αＡ＋ＭＢ×αＢ＋・・・）×５６０００…（１）
ここで、式（１）において、ＭＡ、ＭＢは活性光線硬化型インク１ｇ中におけるＡ、Ｂの物質量（単位：モル）をそれぞれ表し、αＡ、αＢはＡ、Ｂの１分子が有する水酸基数をそれぞれ表す。
【0109】
【表1】
【0110】
【表2】
【0111】
【表3】
【0112】
２．光輝性インク
２－１． 溶剤
光輝性インクに含まれる溶媒は、以下のものを使用した。
・水
・プロピレングリコール
・ジプロプレングリコールモノメチルエーテル
２－１． 溶剤
光輝性インクに含まれる溶媒は、以下のものを使用した。
・水
・プロピレングリコール
・ジプロプレングリコールモノメチルエーテル
【0113】
２－２． 銀ナノ粒子分散液の調製
光輝性インクに含まれる銀ナノ粒子分散液は以下のように調製した。
光輝性インクに含まれる銀ナノ粒子分散液は以下のように調製した。
【0114】
２－２－１． 高分子分散剤
（高分子分散剤の製造）
５００ｍｌ四つ口フラスコに、メカニカルスターラー、窒素導入管、コンデンサー、滴下ロートをセットし、イソプロピルアルコール５０ｇ、メチルエチルケトン１５０ｇをフラスコに加え、窒素ガスをバブリングしながら加熱還流した。滴下ロートに、メタクリル酸メチル３４ｇ、スチレン６０ｇ、メタクリル酸６ｇ、および開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．９ｇを混合溶解したものを入れ、約２時間かけ加熱還流させた状態で、滴下した。滴下後、さらに６時間加熱還流し、更に、ＡＩＢＮを０．１ｇ含むメチルエチルケトン溶液を、１５分かけ滴下した。この後さらに５時間加熱還流し、スチレン－アクリル樹脂を得た。
（高分子分散剤の製造）
５００ｍｌ四つ口フラスコに、メカニカルスターラー、窒素導入管、コンデンサー、滴下ロートをセットし、イソプロピルアルコール５０ｇ、メチルエチルケトン１５０ｇをフラスコに加え、窒素ガスをバブリングしながら加熱還流した。滴下ロートに、メタクリル酸メチル３４ｇ、スチレン６０ｇ、メタクリル酸６ｇ、および開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．９ｇを混合溶解したものを入れ、約２時間かけ加熱還流させた状態で、滴下した。滴下後、さらに６時間加熱還流し、更に、ＡＩＢＮを０．１ｇ含むメチルエチルケトン溶液を、１５分かけ滴下した。この後さらに５時間加熱還流し、スチレン－アクリル樹脂を得た。
【0115】
このスチレン－アクリル樹脂の反応液を減圧にしながら加熱を続け、重合反応で用いたメチルエチルケトン及びイソプロピルアルコールを留去した。トルエン３００ｍｌ、ポリエチレングリコール＃４００／ポリプロピレングリコール＃４００＝７／３（以下、ポリエチレングリコール＃４００をＰＥＧ＃４００、ＰＰＧ＃４００と略す。＃のうしろの数字は平均分子量を示す。）混合物１５０ｇを添加し、窒素ガスをバブリングしながら加熱還流し、残留水分をトルエンとともに留去した（トルエン留分は１００ｍｌであった）。トルエン１００ｍｌ、イソプロピルチタネート０．７ｇを添加後、２時間加熱し、エステル交換により生成したメタノールをトルエンとともに留去しエステル交換を行った。その後、イソプロピルチタネート０．７ｇを追加し、さらに２時間加熱し、エステル交換により生成したメタノールをトルエンとともに留去しエステル交換を行った。この反応で、スチレン－アクリル樹脂１はＰＥＧ＃４００よりポリエチレンオキサイド構造を、ＰＰＧ＃４００よりポリプロピレンオキサイド構造が付与された。
【0116】
反応後、トルエンを減圧下、留去し、残渣をメタノール中で分散後、アセトンに注加して樹脂固体を析出させた。溶剤をろ過で除いた後、乾燥し高分子分散剤を得た。得られた高分子分散剤の酸価はＪＩＳ Ｋ－００７０の酸価測定、加水分解酸価測定（全酸価測定）により、重量平均分子量はＧＰＣによる測定で求めた。その結果、酸価は９ｍｇＫＯＨ／ｇで重量平均分子量は１５０００であった。
【0117】
２－２－２． 銀ナノ粒子分散液の調製
（銀ナノ粒子分散液の製造）
２Ｌのコルベンに、２－２－１で製造した高分子分散剤５ｇ、およびイオン交換水４２０ｇを投入した。上記コルベンをウォーターバスに入れ、高分子分散剤が溶解するまで５０℃で攪拌した。その後、上記コルベンに、４２０ｇのイオン交換水に溶解させた１００ｇの硝酸銀を攪拌しながら投入して、７０℃で１０分間攪拌した。その後、上記コルベンに、２６２ｇのジメチルアミノエタノールを加え、７０℃を保ちながら２時間攪拌を続け、銀ナノ粒子を含む反応液を得た。
（銀ナノ粒子分散液の製造）
２Ｌのコルベンに、２－２－１で製造した高分子分散剤５ｇ、およびイオン交換水４２０ｇを投入した。上記コルベンをウォーターバスに入れ、高分子分散剤が溶解するまで５０℃で攪拌した。その後、上記コルベンに、４２０ｇのイオン交換水に溶解させた１００ｇの硝酸銀を攪拌しながら投入して、７０℃で１０分間攪拌した。その後、上記コルベンに、２６２ｇのジメチルアミノエタノールを加え、７０℃を保ちながら２時間攪拌を続け、銀ナノ粒子を含む反応液を得た。
【0118】
得られた反応液を１Ｌのポリ瓶に移し換え、６０℃の恒温室で１８時間静置した。その後、上記反応液をステンレスカップに入れて、更に２Ｌのイオン交換水を投入してから、ポンプを稼動させて限外濾過を行った。その後、濃縮して固形分３０％の銀ナノ粒子分散液を得た。
【0119】
なお、限外濾過装置は、限外濾過モジュールＡＨＰ１０１０（旭化成株式会社製、分画分子量：５００００、使用膜本数：４００本）、マグネットポンプ、および下部にチューブ接続口のある３リットルのステンレスカップをシリコンチューブでつないだものを使用した。
【0120】
２－３． エマルション
光輝性インクに含まれるエマルションは以下のものを使用した。
・大成ファインケミカル社製 ウレタンエマルション（ＷＢＲ－２１０１）
光輝性インクに含まれるエマルションは以下のものを使用した。
・大成ファインケミカル社製 ウレタンエマルション（ＷＢＲ－２１０１）
【0121】
２－４． フッ素系界面活性剤の合成
光輝性インクに含まれるフッ素系界面活性剤は以下のように合成した。窒素置換した反応容器に、メタノール６７質量部、２，２’－ビピリジル０．９６１質量部、塩化第一銅０．３０５質量部を仕込み、室温で６０分撹拌した。その後、２－（トリデカフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（以下、「ＴＦＭＡ」と略記する。）３．３３質量部、ポリ（１，２－オキシプロプレン）オキシエチレンモノメタクリレート（日油株式会社製「ブレンマー５０ＰＥＰ－３５０Ｂ」；オキシプロピレンの平均繰り返し数２、オキシエチレンの平均繰り返し数５）１３．３質量部、ポリエチレングリコールモノメタクリレート（日油株式会社製「ブレンマーＰＥ－２００」；オキシエチレンの平均繰り返し数４．５）２０質量部及び２－ブロモイソ酪酸エチル０．６質量部を加え、窒素気流下、６０℃で１０時間反応させた。次いで、得られた反応物に、活性アルミナ３０質量部を加えて攪拌した。活性アルミナを濾過後、溶媒を減圧留去してフッ素系界面活性剤を得た。このフッ素系界面活性剤の分子量をＧＰＣで測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）１７，０００、数平均分子量（Ｍｎ）１３，０００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．３１であった。
光輝性インクに含まれるフッ素系界面活性剤は以下のように合成した。窒素置換した反応容器に、メタノール６７質量部、２，２’－ビピリジル０．９６１質量部、塩化第一銅０．３０５質量部を仕込み、室温で６０分撹拌した。その後、２－（トリデカフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（以下、「ＴＦＭＡ」と略記する。）３．３３質量部、ポリ（１，２－オキシプロプレン）オキシエチレンモノメタクリレート（日油株式会社製「ブレンマー５０ＰＥＰ－３５０Ｂ」；オキシプロピレンの平均繰り返し数２、オキシエチレンの平均繰り返し数５）１３．３質量部、ポリエチレングリコールモノメタクリレート（日油株式会社製「ブレンマーＰＥ－２００」；オキシエチレンの平均繰り返し数４．５）２０質量部及び２－ブロモイソ酪酸エチル０．６質量部を加え、窒素気流下、６０℃で１０時間反応させた。次いで、得られた反応物に、活性アルミナ３０質量部を加えて攪拌した。活性アルミナを濾過後、溶媒を減圧留去してフッ素系界面活性剤を得た。このフッ素系界面活性剤の分子量をＧＰＣで測定した結果、重量平均分子量（Ｍｗ）１７，０００、数平均分子量（Ｍｎ）１３，０００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．３１であった。
【0122】
２－５． 混合調製
表４に記載の組成に従い、上記各成分を混合した後、ＡＤＶＡＴＥＣ社製テフロン（「テフロン」はデュポン社の登録商標）３μｍメンブレンフィルターで濾過し、光輝性インクを調製した。なお、表の成分の単位は質量％である。
表４に記載の組成に従い、上記各成分を混合した後、ＡＤＶＡＴＥＣ社製テフロン（「テフロン」はデュポン社の登録商標）３μｍメンブレンフィルターで濾過し、光輝性インクを調製した。なお、表の成分の単位は質量％である。
【0123】
【表4】
【0124】
３． 画像形成物の作製
３－１． 基材
活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ３１、光輝性インクＭ１を用いて、以下の基材に画像を形成した。
・ＯＫトップコート紙（１２８ｇ／ｍ２）（王子製紙社製）
３－１． 基材
活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ３１、光輝性インクＭ１を用いて、以下の基材に画像を形成した。
・ＯＫトップコート紙（１２８ｇ／ｍ２）（王子製紙社製）
【0125】
３－２． 画像形成物の作製条件
ピエゾ型インクジェットノズルを有するインクジェット記録装置を用いて、記録媒体への記録を行った。インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱及び加温を行った。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が活性光線硬化型インクを使用する場合は８０℃±２℃、光輝性インクを使用する場合は２５℃±２℃となるように温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、液滴量１４ｐｌ、印字速度０．５ｍ／ｓｅｃ、射出周波数１０．５ｋＨｚ、印字率１００％となる条件で駆動した。活性光線硬化型インクの着弾後はＵＶ光を露光面照度１，２００ｍＷ／ｃｍ２に集光し、記録媒体上に活性光線硬化型インクが着弾した０．１秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。紫外線ランプには、ＬＥＤランプ（（株）ジーエス・ユアサ コーポレーション製）を使用した。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
ピエゾ型インクジェットノズルを有するインクジェット記録装置を用いて、記録媒体への記録を行った。インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱及び加温を行った。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が活性光線硬化型インクを使用する場合は８０℃±２℃、光輝性インクを使用する場合は２５℃±２℃となるように温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、液滴量１４ｐｌ、印字速度０．５ｍ／ｓｅｃ、射出周波数１０．５ｋＨｚ、印字率１００％となる条件で駆動した。活性光線硬化型インクの着弾後はＵＶ光を露光面照度１，２００ｍＷ／ｃｍ２に集光し、記録媒体上に活性光線硬化型インクが着弾した０．１秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。紫外線ランプには、ＬＥＤランプ（（株）ジーエス・ユアサ コーポレーション製）を使用した。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
【0126】
活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ３１を用いて、上記画像形成の条件で上記基材に対し５ｃｍ×５ｃｍのベタ印字部分を形成し、下地層を作成した。さらに光輝性インクＭ１を用いて、上記画像形成の条件でそれぞれの下地層の表面に５ｃｍ×５ｃｍのベタ印字部分を形成し、画像形成物１～３１を作成した。
【0127】
４． 評価
以下の基準で、密着性を評価した。
以下の基準で、密着性を評価した。
【0128】
４－１． 基材／下地層の密着性
活性光線硬化型インクＵ１～３１を用いて、基材上に下地層を形成した評価サンプルに対して、ＪＩＳ－Ｋ５４００に準拠した碁盤目接着性試験を行った。尚、本試験の評価の基準は表５に示す通りであり、１０点を◎、８点を〇、６点を△、４点以下を×とした。
活性光線硬化型インクＵ１～３１を用いて、基材上に下地層を形成した評価サンプルに対して、ＪＩＳ－Ｋ５４００に準拠した碁盤目接着性試験を行った。尚、本試験の評価の基準は表５に示す通りであり、１０点を◎、８点を〇、６点を△、４点以下を×とした。
【0129】
４－２． 下地層／光輝層の密着性
画像形成物１～３１の評価サンプルに対して、ＪＩＳ－Ｋ５４００に準拠した碁盤目接着性試験を行った。なお、本試験の評価の基準は表５に示す通りであり、１０点を◎、８点を〇、６点を△、４点以下を×とした。
画像形成物１～３１の評価サンプルに対して、ＪＩＳ－Ｋ５４００に準拠した碁盤目接着性試験を行った。なお、本試験の評価の基準は表５に示す通りであり、１０点を◎、８点を〇、６点を△、４点以下を×とした。
【0130】
【表5】
【0131】
４－３． 耐候性
システムグラフィ社のコールドラミネータ（ＧＣＬ－６５０）を用いて得られた画像形成物１～３１の表面のみをラミネートした。その後、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて画像形成物１～３１の反射率を３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で測定し、５５０ｎｍにおける反射率を求めた。さらに、上記画像形成物を大気中に６か月放置し、前述の条件で５５０ｎｍにおける反射率を求め、放置前後での反射率の変化量を求めた。
◎：反射率の変化量は５より小さい
〇：反射率の変化量は５以上１０以下である
△：反射率の変化量は１０より大きく１５以下である
×：反射率の変化量は１５より大きい
システムグラフィ社のコールドラミネータ（ＧＣＬ－６５０）を用いて得られた画像形成物１～３１の表面のみをラミネートした。その後、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて画像形成物１～３１の反射率を３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で測定し、５５０ｎｍにおける反射率を求めた。さらに、上記画像形成物を大気中に６か月放置し、前述の条件で５５０ｎｍにおける反射率を求め、放置前後での反射率の変化量を求めた。
◎：反射率の変化量は５より小さい
〇：反射率の変化量は５以上１０以下である
△：反射率の変化量は１０より大きく１５以下である
×：反射率の変化量は１５より大きい
【0132】
４－４． タッキング性
画像形成物１～３１の画像部を指でなぞりタッキング性を評価した。
〇：一切べたつきを感じない
△：わずかにべたつきを感じるが、実用上問題ない
×：明らかにべたつきを感じる
画像形成物１～３１の画像部を指でなぞりタッキング性を評価した。
〇：一切べたつきを感じない
△：わずかにべたつきを感じるが、実用上問題ない
×：明らかにべたつきを感じる
【0133】
４－５． 屈曲性
画像形成物１～３１をφ５ｍｍの円筒に巻き付け１時間放置した後の画像の表面を観察した。
〇：顕微鏡で観察した際もクラックが確認できなかった
△：顕微鏡で観察した際にわずかにクラックが生じていたが、実用に問題ない
×：目視で明らかにクラックが確認された
画像形成物１～３１をφ５ｍｍの円筒に巻き付け１時間放置した後の画像の表面を観察した。
〇：顕微鏡で観察した際もクラックが確認できなかった
△：顕微鏡で観察した際にわずかにクラックが生じていたが、実用に問題ない
×：目視で明らかにクラックが確認された
【0134】
【表6】
【0135】
画像形成物１～２８は、第二級アミド基、ウレタン結合、水酸基のいずれかを含む光重合性化合物が活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下である活性光線硬化型インクＵ１～Ｕ２８で形成された下地層を有し、基材と下地層の密着性、下地層と光輝層の密着性、耐候性、タッキング性、屈曲性のすべてが問題ないレベルであった。
【0136】
これに対して、画像形成物２９～３１は、第二級アミド基または水酸基を含む光重合性化合物が、活性光線硬化型インクの全質量に対して１０質量％以上４０質量％以下の範囲にない活性光線硬化型インクＵ２９～Ｕ３１で形成された下地層を有し、密着性またはタッキング性が悪く問題が生じた。具体的には、以下のようなものであった。
【0137】
水酸基を含む光重合性化合物が、活性光線硬化型インクの全質量に対して５％である活性光線硬化型インクＵ２９で形成された下地層では、基材および光輝層との密着性が悪かった。
【0138】
水酸基を含む光重合性化合物が、活性光線硬化型インクの全質量に対して５０％である活性光線硬化型インクＵ３０で形成された下地層では、基材および光輝層との密着性はよいものの、タッキング性が悪かった。
【0139】
第二級アミド基を含む光重合性化合物が、活性光線硬化型インクの全質量に対して５０％である活性光線硬化型インクＵ３１で形成された下地層も、基材および光輝層との密着性はよいものの、タッキング性が悪かった。
【0140】
画像形成物６～２８は、水酸基を有する光重合性化合物を含む活性光線硬化型インク６～２８で形成された下地層を有し、水酸基を有さない光重合性化合物を含む活性光線硬化型インク１～５で形成された下地層を有する画像形成物１～５よりも基材および光輝層との密着性がより良好であった。
【0141】
画像形成物６、７、９～２８は、水酸基価が１５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内である活性光線硬化型インクＵ６、Ｕ７、Ｕ９～２８で形成された下地層を有し、下地層と基材との密着性、下地層と光輝層との密着性、およびタッキング性が良好であった。これに対して、画像形成物８、３０は、水酸基価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えた活性光線硬化型インクＵ８、Ｕ３０で形成された下地層を有し、タッキング性が悪かった。また、画像形成物２９は、水酸基価が１５ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である活性光線硬化型インクＵ２９で形成された下地層を有し、下地層は基材および光輝層との密着性が悪かった。
【0142】
画像形成物１４～２８は、水酸基を有する多官能の光重合性化合物を含む活性光線硬化型インクＵ１４～２８で形成された下地層を有し、水酸基を有する単官能の活性光線硬化型インクＵ６～Ｕ１３で形成された下地層を有する画像形成物６～１３と比べて基材および光輝層との密着性がより良好であった。
【0143】
画像形成物１６、１９、２５～２８は、ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物を、活性光線硬化型インクの全質量に対して２５質量％以上含む活性光線硬化型インクＵ１６、１９、２５、２６で形成された下地層を有し、耐候性が良好であった。
【0144】
また、ホモポリマーとしたときのガラス転移点が８０℃より高い光重合性化合物の含有量を、活性光線硬化型インクの全質量に対して７０質量％を超えて含む活性光線硬化型インクＵ２７、２８で形成された下地層を有する画像形成物２７、２８は、屈曲性が悪かった。
【0145】
本出願は、２０１８年６月１９日出願の特願２０１８－１１６０４９に基づく優先権を主張する。当該出願明細書に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
【産業上の利用可能性】
【0146】
本発明の活性光線硬化型インクによれば、基材および光輝層との密着性に優れ、得られる画像形成物のタッキング性を優れたものにすることができる下地層を形成することができる。そのため、本発明は、光輝性を有する画像形成物の適用の幅を広げ、同分野の技術の進展および普及に貢献することが期待される。