特許 7365047 表面分析方法、表面分析装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-10-11

(45)【発行日】2023-10-19

(54)【発明の名称】表面分析方法、表面分析装置

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/27 20060101AFI20231012BHJP

   G01N 21/956 20060101ALI20231012BHJP

【ＦＩ】

G01N21/27 A

G01N21/956 A

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2020003757

(22)【出願日】2020-01-14

(65)【公開番号】P2021110678

(43)【公開日】2021-08-02

【審査請求日】2022-11-15

(73)【特許権者】

【識別番号】500171707

【氏名又は名称】株式会社ブイ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】110000626

【氏名又は名称】弁理士法人英知国際特許商標事務所

(72)【発明者】

【氏名】水村 通伸

【審査官】伊藤 裕美

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１８－１１１８５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１８６４６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１４－１５３３７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１３／０３２２７６０（ＵＳ，Ａ１）

【文献】米国特許第０５９９１６９９（ＵＳ，Ａ）

【文献】特開平１１－１１８６０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】古家 勇，画像解析の可能性を広げるハイパースペクトルカメラ，画像ラボ，日本，2019年02月04日，第30巻 第2号，74-81

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｎ ２１／００ － Ｇ０１Ｎ ２１／９５８

Ｇ０１Ｊ ３／００ － Ｇ０１Ｊ ３／５２

Ｈ０５Ｋ ３／００ －Ｈ０５Ｋ ３／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

分光カメラを用いて、試料表面の分光画像データを取得する工程と、
取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする工程と、
画素毎の前記空間ベクトルを正規化する工程と、
正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする工程と、
前記分類にクラスタリングされた画素を前記分類毎に識別表示する工程とを有することを特徴とする表面分析方法。

【請求項2】

前記試料表面がＴＦＴ基板の表面であり、
前記分類にクラスタリングされた画素によって欠陥部が識別表示されることを特徴とする請求項１記載の表面分析方法。

【請求項3】

試料表面の分光画像データを取得する分光カメラと、
前記分光画像データを分析処理する情報処理部と、
前記情報処理部の処理結果を表示する表示部とを備え、
前記情報処理部は、
前記分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする手段と、
画素毎の前記空間ベクトルを正規化する手段と、
正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする手段と、
前記分類にクラスタリングされた画素を前記表示部にて前記分類毎に識別表示する手段とを備えることを特徴とする表面分析装置。

【請求項4】

請求項３に記載の表面分析装置を有し、前記情報処理部は、前記クラスタリングされた前記特定数の分類により欠陥部を認識できるものであり、認識した前記欠陥部に対して、レーザ光を照射して修正加工を行うレーザ修正装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表面分析方法及び表面分析装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

表面分析の手法の一つとして、分光イメージングが知られている。これは、分光カメラ（ハイパースペクトルセンサなど）を用いて、画素毎に分光スペクトル情報が格納された分布データ（分光画像データ）を取得し、画素毎の分光スペクトル情報を解析することで、試料に含まれる物質や組成などの分布を可視化するものである（例えば、下記特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１６－１０２７６９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

前述した分光イメージングは、生体試料中の物質分析など、各種の分野で利用されており、分光画像データの解析には、多変量解析などの統計手法が用いられている。分光画像データを可視化する上で有効な手法が、分光スペクトル情報のクラスタリングであり、一つの分類にクラスタリングされた一群の分光スペクトル情報の画素を同一色で表示することで、分光画像データによる分析結果をカラー画像として可視化することができる。

【0005】

このような分光画像データの可視化において、多層膜状の試料の表面状態を分析する場合に、分光カメラで取得した反射光の分光画像データをそのままクラスタリングすると、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響して、不正確な分析結果になってしまうことが確認された。

【0006】

特に、薄膜トランジスタ（thin film transistor，ＴＦＴ）などの多層膜基板における欠陥部の検知などを分光イメージングで行う場合、前述したように、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響して、欠陥部の輪郭が鮮明に可視化できない問題があった。

【0007】

本発明は、このような問題に対処するために提案されたものである。すなわち、分光イメージングにおける分析結果の可視化に際して、正確性の高い分析を可能にすること、特に、多層膜状の試料に対する分析を行う場合に、特定の分析対象の輪郭を鮮明に可視化できるようにすること、などが本発明の課題である。

【課題を解決するための手段】

【0008】

このような課題を解決するために、本発明は、以下の構成を具備するものである。
分光カメラを用いて、試料表面の分光画像データを取得する工程と、取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、前記分光画像データにおける各波長のスペクトルを画素毎にｎ次元の空間ベクトルとする工程と、画素毎の前記空間ベクトルを正規化する工程と、正規化された前記空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする工程と、前記分類にクラスタリングされた画素を前記分類毎に識別表示する工程とを有することを特徴とする表面分析方法。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の実施形態に係る表面分析方法の工程を示した説明図。

【図2】表面分析装置の構成を示した説明図。

【図3】情報処理部の機能を示した説明図。

【図4】ｎ次元空間ベクトル化工程を説明する説明図。

【図5】空間ベクトル正規化工程を説明する説明図。

【図6】クラスタリング工程を説明する説明図。

【図7】クラスタリングの可視化（識別表示）の例を示した説明図（（ａ）が正規化クラスタリング、（ｂ）が絶対値クラスタリング）。

【図8】表面分析装置を備えたレーザ修正装置の構成例を示した説明図。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態に係る表面分析方法は、図１に示すように、分光画像データ取得工程Ｓ１、画素毎のｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２、空間ベクトル正規化工程Ｓ３、クラスタリング工程Ｓ４、識別表示工程Ｓ５を有している。

【0011】

このような工程を実行するための表面分析装置１は、図２に示すように、試料Ｗの表面の分光画像データを取得する分光カメラ２０と、取得した分光画像データを分析処理する情報処理部３０と、情報処理部３０の処理結果を表示する表示部４０とを備えている。図２に示した表面分析装置１は、ステージＳ上に設置された試料Ｗである多層膜基板の欠陥部を拡大して認識するものであり、前述した分光カメラ２０に対して顕微鏡１０が設置されている。

【0012】

図２おいて、顕微鏡１０は、試料Ｗである多層膜基板の表面Ｗａに白色落射光を照射して、表面Ｗａにおいて欠陥部を認識する単位領域（例えば、ＴＦＴ基板の画素領域）の拡大像を得る光学顕微鏡であり、対物レンズ１１やチューブレンズ１７などの光学系を備えると共に、白色落射光を表面Ｗａに照射するための白色光源１２とその光学系（ミラー１３及びハーフミラー１４）を備えている。また、顕微鏡１０は、必要に応じて、表面Ｗａの拡大像のモニタ画像を得るためのモニタカメラ１５とそのための光学系（ハーフミラー１６）などを備えている。

【0013】

分光カメラ２０は、顕微鏡１０の光学系の光軸１０Ｐ上に、スリット２３とグレーティング素子（回折格子）２１を配置して、表面Ｗａにて反射される光を波長分離し、この分離された光を、リレーレンズ系２４を介して２次元カメラ２２の撮像面２２ａに結像し、ライン分光方式によって、表面Ｗａの拡大像の分光スペクトル情報を撮像面２２ａの画素毎に取得するものである。

【0014】

図１における分光画像データ取得工程Ｓ１は、前述した分光カメラ２０を用いて、試料Ｗにおける表面Ｗａの分光画像データ（画素毎の分光スペクトル情報）を取得する。

【0015】

情報処理部３０は、図３に示すように、前述した画素毎のｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２を実行するためのソフトウエアであるｎ次元空間ベクトル化手段３１、空間ベクトル正規化工程Ｓ３を実行するためのソフトウエアである空間ベクトル正規化手段３２、クラスタリング工程Ｓ４を実行するためのソフトウエアであるクラスタリング手段３３、識別表示工程Ｓ５を実行するためのソフトウエアである識別表示手段３４を備えている。これによって、入力された分光画像データを可視化して表示画像データとして出力する。

【0016】

情報処理部３０による各分析処理工程を説明すると、ｎ次元空間ベクトル化工程Ｓ２は、分光画像データ取得工程Ｓ１にて取得した分光画像データにおける特定の波長範囲に分散するｎ個の波長を抽出して、分光画像データにおける各波長のスペクトルをｎ次元の空間ベクトルとする。

【0017】

取得された分光画像データには、図４に示すように、２次元カメラ２２の撮像面２２ａの一つの画素Ｐ（Ｘｎ，Ｙｎ）毎に、一つの分光スペクトル情報が格納されている。この分光スペクトル情報の波長範囲から、例えばλ１＝４００ｎｍ、λｎ＝７００ｎｍの波長範囲を選択して、この波長範囲を（ｎ－１）個（例えば、ｎ＝２００）に分割し、ｎ個の波長（λ１～λｎ）成分を抽出し、波長（λ１～λｎ）と各波長における強度（Ｉ１～Ｉｎ）との組み合わせによってｎ次元の空間ベクトルを得る。

【0018】

そして、空間ベクトル正規化工程Ｓ３では、図５に示すように、ｎ次元の空間ベクトルを正規化して、ｎ次元の正規化空間ベクトルを得る。ここで言う正規化とは、ｎ次元空間ベクトルの方向を保ったまま、長さ（ノルム）が１になる単位ベクトルを得る処理であり、ｎ次元の空間ベクトルに対して、その空間ベクトルのノルムの逆数を掛けて、ノルム１の単位ベクトル（ｎ次元正規化空間ベクトル）を得る。

【0019】

クラスタリング工程Ｓ４は、正規化された画素毎のｎ次元の空間ベクトルを特定数の分類にクラスタリングする。ここでの分類の数は、分析対象に応じて設定される。例えば、ＴＦＴ基板などの多層膜基板の欠陥部を抽出する場合には、ＴＦＴ基板の構造に応じて規定数の分類が設定され、その分類に該当しないもの（分類不能）が入る分類枠を定める。

【0020】

クラスタリングには、機械学習によるＧＭＭ（Gaussian mixture models）法などを用いることができる。図６は、ＴＦＴ基板の構造に応じて１５個の分類を設定して、分類不能が入る分類枠を２個設け、画素毎の正規化された空間ベクトルをクラスタリングした結果の一例を示しており、ここでは、各分類に入る画素数のヒストグラムを正常なパターンのヒストグラムとの差分で示している。正常なパターンのヒストグラムとの差分が大きい分類を欠陥部と認識することができる。

【0021】

図７は、前述したクライスタリング工程Ｓ４の結果を可視化する識別表示工程Ｓ５の表示例を示している。ここでは、各分類にクラスタリングされた画素にコントラストや色分けを付して可視化（画像表示）を行っている。図７（ａ）がｎ次元の空間ベクトルを正規化したクラスタリングの結果（正規化クラスタリング）であり、図７（ｂ）がｎ次元の空間ベクトルを正規化すること無くクラスタリングした結果（絶対値クラスタリング）である。

【0022】

図７（ａ）に示した正規化クラスタリングを可視化した場合には、図示のように特徴部分（例えば、欠陥部）の輪郭を鮮明に可視化することができる。これに対して、同じ試料表面の分光画像データを絶対値クラスタリングした場合には、図７（ｂ）に示すように、多層膜の内部で反射した光の干渉などが影響を受けて、特徴部分の輪郭が不鮮明になる。

【0023】

このように、本発明の実施形態に係る表面分析方法或いは表面分析装置によると、取得した分光画像データをクラスタリングして可視化することで表面の特徴部分を分析するに際して、正確性の高い分析を行うことができる。特に、多層基板の欠陥部を識別表示する場合には、欠陥部の輪郭を鮮明に可視化することができるので、精度の高い欠陥部のリペア（レーザ修正）を実現することが可能になる。

【0024】

図８は、前述した表面分析装置１を備えたレーザ修正装置２の構成例を示している。レーザ修正装置２は、前述した情報処理部３０の可視化によって認識された欠陥部に対して、レーザ光を照射して修正加工を行うものであり、顕微鏡１０の光軸と同軸上にレーザ光Ｌを照射するレーザ照射部３を備えている。

【0025】

レーザ照射部３は、例えば、レーザ光源５３、レーザスキャナ５５などを備えており、レーザ光源５３から出射されたレーザ光Ｌは、ミラー５４とレーザスキャナ５５のガルバノミラー５５Ａ，５５Ｂを経由して、顕微鏡１０の光学系内に入射され、顕微鏡１０による拡大像が得られている単位領域の表面Ｗａ上に照射される。

【0026】

図示の例では、顕微鏡１０の光軸に進入・退避する切り替えミラー１８が設けられており、切り替えミラー１８を顕微鏡１０の光軸上に進入させることで、分光カメラ２０に表面Ｗａからの反射光を入射させて、表面分析装置１を動作させ、切り替えミラー１８を顕微鏡１０の光軸から退避させることで、レーザ光Ｌを表面Ｗａに照射するレーザ修正装置２を動作可能にしている。

【0027】

このような表面分析装置１を備えたレーザ修正装置２は、先ず、表面分析装置１を動作させることで、情報処理部３０が欠陥部の有無、欠陥部が有る場合の欠陥部の位置などの情報をレーザ制御部５０に送信する。レーザ制御部５０は、情報処理部３０から送信された前述の情報を基にして、レーザ修正を行うか否かの判断を行い、レーザ修正を行う場合には、欠陥部の位置情報などに基づいてレーザ照射範囲や加工レシピの設定を行う。

【0028】

また、図示の例では、顕微鏡１０の拡大像は、モニタカメラ１５にも結像されており、モニタカメラ１５が撮像した画像を表示装置５２で観察しながら、レーザ修正を行うことできるようになっている。この際、モニタカメラ１５が取得した２次元画像は、画像処理部５１で画像処理されてレーザ制御部５０や情報処理部３０に送信されており、この２次元画像によっても、レーザ照射部３の制御を行うことができるようになっている。

【0029】

このようなレーザ修正装置２によると、多層膜基板Ｗの欠陥部を、表面分析装置１によって鮮明な輪郭で詳細に認識することができ、この認識した情報を基にして、レーザ修正加工の設定を行うことができる。これにより、オペレータのスキルに影響されない高品質の修正加工が可能になり、また、欠陥部の認識から加工までを自動化して、高能率且つ高品質な修正加工を行うことができる。

【0030】

以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。

【符号の説明】

【0031】

１：表面分析装置，２：レーザ修正装置，３：レーザ照射部，
１０：顕微鏡，１０Ｐ：光軸，１１：対物レンズ，１２：白色光源，
１３：ミラー，１４，１６：ハーフミラー，１５：モニタカメラ，
１７：チューブレンズ，１８：切り替えミラー，
２０：分光カメラ，２１：グレーティング素子，
２２：２次元カメラ，２２ａ：撮像面，２３：スリット，
３０：情報処理部，３１：ｎ次元空間ベクトル化手段，
３２：空間ベクトル正規化手段，
３３：クラスタリング手段，３４：識別表示手段，
４０：表示部，５０：レーザ制御部，５１：画像処理部，５２：表示装置，
５３：レーザ光源，５４：ミラー，５５：レーザスキャナ，
５５Ａ，５５Ｂ：ガルバノミラー，
Ｓ：ステージ，Ｗ：試料（多層膜基板），Ｗａ：表面，Ｌ：レーザ光

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】