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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-16
(45)【発行日】2023-10-24
(54)【発明の名称】光導波路の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 6/13 20060101AFI20231017BHJP
G02B 6/122 20060101ALI20231017BHJP
【ＦＩ】
G02B6/13
G02B6/122 311
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2023508566
(86)(22)【出願日】2022-10-19
(86)【国際出願番号】 JP2022038856
(87)【国際公開番号】W WO2023074482
(87)【国際公開日】2023-05-04
【審査請求日】2023-04-10
(31)【優先権主張番号】P 2021175057
(32)【優先日】2021-10-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000002141
【氏名又は名称】住友ベークライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100091292
【弁理士】
【氏名又は名称】増田 達哉
(74)【代理人】
【識別番号】100091627
【弁理士】
【氏名又は名称】朝比 一夫
(72)【発明者】
【氏名】兼田 幹也
(72)【発明者】
【氏名】今井 洋武
【審査官】野口 晃一
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１６／０２１５０５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１５－１０８８１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－２３２３１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－０２０７２２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００６－２７６４８１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－２７９７７７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－０４４２７９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－００２２１８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－０１６０１７（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１３／０２８６６１４（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ６／１２－６／１４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
互いに離間している複数のコア部形成領域、隣り合う前記コア部形成領域の間に位置する余白領域、および、前記余白領域と重なる位置に設けられている第２マークを含むコア層を備え、シート状をなしているワークを準備する工程と、ここで、前記コア層は、以下の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）の全てを満たし、
（ａ）ポリマーおよびモノマーを含み、前記モノマーの濃度差または前記モノマー由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有し、
（ｂ）前記コア部形成領域は、複数の第１コア部と、前記第１コア部の両側に設けられている第２コア部と、前記第１コア部と前記第２コア部との間に設けられている第１側面クラッド部と、を備え、かつ、前記コア部形成領域は、前記コア部形成領域の外縁に３本以上の前記第２コア部が位置付けられるように、画定され、
（ｃ）前記コア部形成領域は、１ｍｍ角の範囲において前記第１コア部および前記第２コア部が占める合計の面積比率が５０％以上となる領域であり、
（ｄ）前記余白領域は、前記（ｃ）を満たさず、かつ、前記第１側面クラッド部と一体になっている第２側面クラッド部を備え、
（ｅ）前記第２マークは、前記第２側面クラッド部よりも屈折率が高い高屈折率部を有し、
前記ワークのうち、前記コア部形成領域の内側から光導波路を切り出す工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項2】
前記第２コア部の少なくとも一方の端部の幅は、前記第１コア部と異なる請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項3】
前記コア部形成領域と重なる位置に設けられている第１マークを有する請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項4】
前記第１マークは、前記第２コア部よりも屈折率が低い低屈折率部を有する請求項３に記載の光導波路の製造方法。
【請求項5】
前記低屈折率部は、前記第２コア部を横切るように配置されている請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項6】
前記光導波路は、光コネクターまたは光路変換部を備え、前記ワークから切り出された部材に対し、前記第１マークを位置基準として前記光コネクターまたは前記光路変換部を配置する工程を有する請求項３ないし５のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項7】
前記光導波路を切り出す工程における切り取り線は、前記光導波路が切り出された後の前記ワークに、前記第１コア部の長さ方向の一部が残るように設定されている請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項8】
前記余白領域は、さらに、前記コア部形成領域を取り囲むように設けられている請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、光導波路シートを準備する工程と、光導波路シートから長尺状の光導波路フィルムを切り出す工程と、を有する光導波路フィルムの製造方法が開示されている。また、光導波路シートは、複数のコア部を備えるコア層と、コア層を挟む２つのクラッド層と、を有すること、そして、コア層は、コア層形成用組成物を塗布して被膜を得る工程と、得られた被膜に紫外線のような活性光線を照射する工程と、被膜をオーブンで加熱する工程と、を経て形成されることが開示されている。このうち、コア層形成組成物は、ポリマーおよびモノマーを含むことが開示されている。また、モノマーは、活性光線の照射時において、コア層中の膜厚と直交する面内方向に移動し、照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１８－０８４６９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
特許文献１に記載の光導波路フィルムの製造方法では、モノマーを移動させることにより、照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせる。このような原理で屈折率差を生じさせる場合、照射領域と非照射領域との境界線の密度が高い領域では、境界線の密度が低い領域に比べて、境界線を介した屈折率差が大きくなる傾向があることが、本発明者の検討によって見出された。
【0005】
したがって、照射領域と非照射領域との境界線の配置について、特に考慮していない場合には、境界線を介した屈折率差のバラつきが大きくなるおそれがある。
【0006】
特許文献１に記載の光導波路フィルムの製造方法では、光導波路シートを製造するとき、照射領域と非照射領域との境界線の密度について、特に考慮されていない。このため、光導波路シートが備える複数のコア部では、隣接するクラッド部との屈折率差にバラつきが生じているおそれがある。また、特許文献１には、光導波路シートから光導波路フィルムを切り出すことが開示されているが、切り取り線とコア部との位置関係についても開示されていない。このため、切り出し位置によっては、隣接するクラッド部との屈折率差がバラついている複数のコア部を備える光導波路フィルムが製造されるおそれがある。屈折率差のバラつきは、コア部同士の伝送損失がバラつく原因となる。
【0007】
本発明の目的は、チャンネル間における伝送損失のバラつきが少ない光導波路を製造可能な光導波路の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
このような目的は、下記（１）～（８）の本発明により達成される。
（１） 互いに離間している複数のコア部形成領域、隣り合う前記コア部形成領域の間に位置する余白領域、および、前記余白領域と重なる位置に設けられている第２マークを含むコア層を備え、シート状をなしているワークを準備する工程と、
ここで、前記コア層は、以下の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）の全てを満たし、
（ａ）ポリマーおよびモノマーを含み、前記モノマーの濃度差または前記モノマー由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有し、
（ｂ）前記コア部形成領域は、複数の第１コア部と、前記第１コア部の両側に設けられている第２コア部と、前記第１コア部と前記第２コア部との間に設けられている第１側面クラッド部と、を備え、かつ、前記コア部形成領域は、前記コア部形成領域の外縁に３本以上の前記第２コア部が位置付けられるように、画定され、
（ｃ）前記コア部形成領域は、１ｍｍ角の範囲において前記第１コア部および前記第２コア部が占める合計の面積比率が５０％以上となる領域であり、
（ｄ）前記余白領域は、前記（ｃ）を満たさず、かつ、前記第１側面クラッド部と一体になっている第２側面クラッド部を備え、
（ｅ）前記第２マークは、前記第２側面クラッド部よりも屈折率が高い高屈折率部を有し、
前記ワークのうち、前記コア部形成領域の内側から光導波路を切り出す工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
（１） 互いに離間している複数のコア部形成領域、隣り合う前記コア部形成領域の間に位置する余白領域、および、前記余白領域と重なる位置に設けられている第２マークを含むコア層を備え、シート状をなしているワークを準備する工程と、
ここで、前記コア層は、以下の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）の全てを満たし、
（ａ）ポリマーおよびモノマーを含み、前記モノマーの濃度差または前記モノマー由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有し、
（ｂ）前記コア部形成領域は、複数の第１コア部と、前記第１コア部の両側に設けられている第２コア部と、前記第１コア部と前記第２コア部との間に設けられている第１側面クラッド部と、を備え、かつ、前記コア部形成領域は、前記コア部形成領域の外縁に３本以上の前記第２コア部が位置付けられるように、画定され、
（ｃ）前記コア部形成領域は、１ｍｍ角の範囲において前記第１コア部および前記第２コア部が占める合計の面積比率が５０％以上となる領域であり、
（ｄ）前記余白領域は、前記（ｃ）を満たさず、かつ、前記第１側面クラッド部と一体になっている第２側面クラッド部を備え、
（ｅ）前記第２マークは、前記第２側面クラッド部よりも屈折率が高い高屈折率部を有し、
前記ワークのうち、前記コア部形成領域の内側から光導波路を切り出す工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【0009】
（２） 前記第２コア部の少なくとも一方の端部の幅は、前記第１コア部と異なる上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
【0010】
（３） 前記コア部形成領域と重なる位置に設けられている第１マークを有する上記（１）または（２）に記載の光導波路の製造方法。
【0011】
（４） 前記第１マークは、前記第２コア部よりも屈折率が低い低屈折率部を有する上記（３）に記載の光導波路の製造方法。
【0012】
（５） 前記低屈折率部は、前記第２コア部を横切るように配置されている上記（４）に記載の光導波路の製造方法。
（６） 前記光導波路は、光コネクターまたは光路変換部を備え、
前記ワークから切り出された部材に対し、前記第１マークを位置基準として前記光コネクターまたは前記光路変換部を配置する工程を有する上記（３）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
（７） 前記光導波路を切り出す工程における切り取り線は、前記光導波路が切り出された後の前記ワークに、前記第１コア部の長さ方向の一部が残るように設定されている上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
（６） 前記光導波路は、光コネクターまたは光路変換部を備え、
前記ワークから切り出された部材に対し、前記第１マークを位置基準として前記光コネクターまたは前記光路変換部を配置する工程を有する上記（３）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
（７） 前記光導波路を切り出す工程における切り取り線は、前記光導波路が切り出された後の前記ワークに、前記第１コア部の長さ方向の一部が残るように設定されている上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【0013】
（８） 前記余白領域は、さらに、前記コア部形成領域を取り囲むように設けられている上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、チャンネル間における伝送損失のバラつきが少ない光導波路を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下、本発明の光導波路の製造方法について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0019】
【0020】
なお、本願の各図では、互いに直交する３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸を設定し、矢印で示している。また、矢印の先端側を「プラス側」といい、基端側を「マイナス側」という。さらに、Ｚ軸を表す矢印の先端側を「上」といい、基端側を「下」という。
【0021】
１．ワーク
図１に示すワーク１００は、図２に示す光導波路１の製造に用いられる部材であって、シート状をなしており、２個のユニット２００を有している。各ユニット２００は、２個のピース３００を有している。ピース３００からは、１個の光導波路１を切り出すことができる。したがって、ワーク１００は、一度に４個の光導波路１を製造可能な部材である。なお、一度に製造可能な光導波路１の数は、１個以上であれば特に限定されない。また、ユニット２００の数も限定されない。
図１に示すワーク１００は、図２に示す光導波路１の製造に用いられる部材であって、シート状をなしており、２個のユニット２００を有している。各ユニット２００は、２個のピース３００を有している。ピース３００からは、１個の光導波路１を切り出すことができる。したがって、ワーク１００は、一度に４個の光導波路１を製造可能な部材である。なお、一度に製造可能な光導波路１の数は、１個以上であれば特に限定されない。また、ユニット２００の数も限定されない。
【0022】
１．１．構造
図２は、ワーク１００のうち、１つのピース３００近傍を拡大した図である。
図２は、ワーク１００のうち、１つのピース３００近傍を拡大した図である。
【0023】
図２に示すように、ピース３００は、３本の導波コア部１４（第１コア部）と、１０本のダミーコア部１６（第２コア部）と、１２本の第１側面クラッド部１５を有している。これらは、それぞれ長尺状をなし、Ｘ軸に沿って延在するとともに、Ｙ軸に沿って並んでいる。なお、以下の説明では、導波コア部１４およびダミーコア部１６の双方を指して、単に「コア部」ということがある。また、ピース３００が有するコア部の数は、特に限定されず、導波コア部１４の数は、２本以上であり、ダミーコア部１６の数は、３本以上であればよい。
【0024】
各導波コア部１４のＹ軸方向の両側には、第１側面クラッド部１５が隣接している。同様に、ダミーコア部１６のＹ軸方向の両側にも、第１側面クラッド部１５が隣接している。したがって、第１側面クラッド部１５は、コア部同士の間に配置されている。また、これらの周りを囲うように、枠状をなす第２側面クラッド部１７が設けられている。なお、以下の説明では、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７の双方を指して、単に「側面クラッド部」ということがある。
【0025】
各導波コア部１４の両側には、第１側面クラッド部１５を介して、ダミーコア部１６が隣り合っている。導波コア部１４には、光信号が入射され、Ｙ軸に沿って光信号が伝送される。これにより、導波コア部１４を介して光通信が可能になる。ダミーコア部１６は、導波コア部１４に隣り合って設けられることにより、導波コア部１４同士の間隔が広すぎる場合に生じやすい、伝送損失の増大を抑制する。つまり、ダミーコア部１６は、光信号を伝送するのではなく、導波コア部１４における伝送効率を高める機能を有する。なお、導波コア部１４同士の間には、２本以上のダミーコア部１６が設けられていてもよい。また、ダミーコア部１６に光信号を入射し、伝送するように用いられてもよい。
【0026】
図１に示すピース３００のうち、Ｙ軸方向の両端部では、導波コア部１４を配置せず、第１側面クラッド部１５を介して３本のダミーコア部１６を並べている。これにより、ピース３００の端部で、コア部と第１側面クラッド部１５との屈折率差が小さくなった場合でも、その影響が、ピース３００から切り出される光導波路１に及ぶのを防止することができる。この原理については、後に詳述する。
【0027】
ワーク１００は、図３に示すように、第１カバー層１８、第１クラッド層１１、コア層１３、第２クラッド層１２および第２カバー層１９がこの順で積層されている積層構造を備える。積層構造の各層は、Ｘ－Ｙ面に沿って広がっている。ワーク１００は、樹脂フィルムであり、可撓性を有する。なお、図１および図２は、ワーク１００を上方から見た平面図であり、第２カバー層１９および第２クラッド層１２を介してコア層１３を透視した図である。
【0028】
前述した導波コア部１４、ダミーコア部１６、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７は、コア層１３中に設けられている。したがって、コア部は、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７と第１クラッド層１１および第２クラッド層１２とで囲まれることになり、内部に光を閉じ込めることができる。
【0029】
ここで、コア層１３は、以下の要件（ａ）を満たしている。
（ａ）コア層１３は、ポリマーおよびモノマーを含み、モノマーの濃度差またはモノマー由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有する。
（ａ）コア層１３は、ポリマーおよびモノマーを含み、モノマーの濃度差またはモノマー由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有する。
【0030】
屈折率の分布とは、屈折率が高い部分と低い部分とが存在することをいう。本実施形態では、ポリマーと、モノマーまたはモノマー由来の構造とで、屈折率が異なっている。そして、本実施形態では、後者の屈折率が前者よりも低い。このため、濃度差に伴って屈折率の分布が形成される。そして、屈折率の分布に対応して、コア層１３中に、導波コア部１４、ダミーコア部１６、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７が形成されている。
なお、コア層１３中における各部は、構成材料の屈折率差に基づいて形成されてもよい。例えば、コア部１４および側面クラッド部の構成材料を異ならせることでコア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。また、コア層１３の構成材料として、主鎖から分岐し、活性放射線の照射により、その分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基（離脱性ペンダントグループ）を有しているポリマーを用いる方法を利用することができる。係る方法では、離脱性基の離脱によりポリマーの屈折率が低下するため、ポリマーは、活性放射線の照射の有無によって屈折率差を形成し、コア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。コア層１３中に屈折率の分布を形成する方法としては、様々な方法があるが、本実施形態では、コア層１３がポリマーおよびモノマーを含み、モノマーの濃度差またはモノマー由来の構造の濃度差に基づいた屈折率の分布を有している。
なお、コア層１３中における各部は、構成材料の屈折率差に基づいて形成されてもよい。例えば、コア部１４および側面クラッド部の構成材料を異ならせることでコア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。また、コア層１３の構成材料として、主鎖から分岐し、活性放射線の照射により、その分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基（離脱性ペンダントグループ）を有しているポリマーを用いる方法を利用することができる。係る方法では、離脱性基の離脱によりポリマーの屈折率が低下するため、ポリマーは、活性放射線の照射の有無によって屈折率差を形成し、コア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。コア層１３中に屈折率の分布を形成する方法としては、様々な方法があるが、本実施形態では、コア層１３がポリマーおよびモノマーを含み、モノマーの濃度差またはモノマー由来の構造の濃度差に基づいた屈折率の分布を有している。
【0031】
導波コア部１４同士のＹ軸方向の幅およびダミーコア部１６同士のＹ軸方向の幅は、それぞれ、互いに等しくても、互いに異なっていてもよい。また、導波コア部１４のＹ軸方向の幅と第１側面クラッド部１５の幅とは、互いに等しくても、互いに異なっていてもよい。
【0032】
さらに、導波コア部１４は、途中で分岐していてもよいし、途中で他の導波コア部１４と交差していてもよい。また、ダミーコア部１６は、途中で分岐していてもよいし、途中で他のダミーコア部１６と交差していてもよいし、途中で途切れていてもよい。
【0033】
ワーク１００のＸ軸方向の全長は、特に限定されないが、１００～３０００ｍｍ程度であるのが好ましく、５００～２０００ｍｍ程度であるのがより好ましい。ワーク１００のＹ軸方向の全幅も、特に限定されないが、１０～５００ｍｍ程度であるのが好ましく、５０～２００ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【0034】
コア層１３のＺ軸方向の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、５～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０～７０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、コア層１３に必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。
【0035】
第１クラッド層１１および第２クラッド層１２のＺ軸方向の膜厚は、それぞれ１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２に必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。
【0036】
第１カバー層１８は、第１クラッド層１１の下面に積層されている。第２カバー層１９は、第２クラッド層１２の上面に積層されている。これにより、ワーク１００の機械的特性や耐久性を高めることができる。
【0037】
ワーク１００のＺ軸方向の膜厚は、５０～３００μｍであるのが好ましく、６０～２００μｍであるのがより好ましく、７０～１５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、ワーク１００の可撓性を高めつつ、ワーク１００の機械的強度を十分に確保することができる。
【0038】
１．２．コア部形成領域
コア層１３は、図２に示すコア部形成領域１３０を含む。コア部形成領域１３０は、以下の要件（ｂ）および（ｃ）を満たす領域である。
コア層１３は、図２に示すコア部形成領域１３０を含む。コア部形成領域１３０は、以下の要件（ｂ）および（ｃ）を満たす領域である。
【0039】
（ｂ）コア部形成領域１３０は、複数の導波コア部１４（第１コア部）と、導波コア部１４の両側に設けられているダミーコア部１６（第２コア部）と、導波コア部１４とダミーコア部１６との間に設けられている第１側面クラッド部１５と、を備える。加えて、コア部形成領域１３０は、コア部形成領域１３０の外縁に複数のダミーコア部１６（第２コア部）が位置付けられるように、画定される。
【0040】
（ｃ）コア部形成領域１３０は、１ｍｍ角の範囲において導波コア部１４およびダミーコア部１６が占める合計の面積比率が５０％以上となる領域である。
【0041】
図２に示すコア層１３は、導波コア部１４、ダミーコア部１６、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７を有する。コア部形成領域１３０は、このコア層１３のうち、コア部形成領域１３０の外縁に複数のダミーコア部１６（第２コア部）が位置付けられるように画定され、面積比率が５０％以上となるようにコア部が高密度に配置されている領域ということができる。換言すれば、コア部形成領域１３０は、その両側（Ｙ軸のプラス側およびマイナス側）に複数のダミーコア部１６（第２コア部）が位置付けられるように画定され、かつ、コア部と側面クラッド部との境界線が高密度に配置されている領域ということができる。具体的には、コア層１３において１ｍｍ角の正方形を走査するとき、正方形内でコア部が占める面積比率が５０％以上となる走査範囲が、コア部形成領域１３０となり得る。後述する切断工程Ｓ１０８では、ワーク１００のうち、このコア部形成領域１３０の内側から光導波路１を切り出す。図２には、切り取り線ＣＬの一例を示しているが、切り取り線ＣＬは、図２に示すように、コア部形成領域１３０の内側に位置している。
【0042】
【0043】
図４に示す光導波路１は、３本の導波コア部１４と、６本のダミーコア部１６と、８本の第１側面クラッド部１５および２本の第２側面クラッド部１７と、を有している。このような光導波路１は、例えば、他の光学部品と接続され、光配線を構築するのに用いられる。
【0044】
光導波路１の両端部の少なくとも一方には、図示しない光コネクター（フェルール）が装着されていてもよい。光コネクターを介して、光導波路１と他の光学部品とを固定するとともに、光学的に接続することができる。また、光導波路１は、導波コア部１４を通過する光の光路を変換するミラーを有していてもよい。ミラーを介して光路を変換することにより、導波コア部１４と、光導波路１の外部に設けられた光学部品と、を光学的に接続することができる。なお、ミラーに代えて屈曲導波路を用いてもよい。
【0045】
２．本実施形態が解決しようとする課題
次に、比較例に係る光導波路の製造方法を説明することにより、本実施形態が解決しようとする課題について説明する。
次に、比較例に係る光導波路の製造方法を説明することにより、本実施形態が解決しようとする課題について説明する。
【0046】
図５は、比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための平面図である。図６は、図５のＢ－Ｂ線断面図である。図７ないし図１０は、それぞれ、比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための断面図である。なお、図５ないし図１０では、説明の便宜上、本実施形態と同様の構成については、同一の符号を付している。また、図７ないし図１０は、図６のＤ部拡大図に相当する。
【0047】
図５に示すワーク１００Ｘは、比較用コア部形成領域１３０Ｘの大きさが、前述したワーク１００のコア部形成領域１３０より狭くなっており、かつ、比較用コア部形成領域１３０Ｘの外縁に複数のダミーコア部１６（第２コア部）が位置付けられていないこと以外、本実施形態におけるワーク１００と基本的に同様である。これにより、ワーク１００Ｘでは、切り取り線ＣＬが比較用コア部形成領域１３０Ｘよりも外側に位置している。以下では、この配置に伴って生じる課題を説明する。
【0048】
図６に示すように、ワーク１００Ｘは、一部のダミーコア部１６（Ｙ軸のマイナス側に位置するダミーコア部１６）が省略されている以外、ワーク１００と基本的に同様である。ダミーコア部１６が省略されている結果、比較用コア部形成領域１３０Ｘは、コア部形成領域１３０よりも小さくなっており、それに伴って切り取り線ＣＬが比較用コア部形成領域１３０Ｘを越えて外側にはみ出している。
【0049】
比較例に係る光導波路の製造方法では、まず、図７（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体であるコアフィルム６００を用意する。
【0050】
コア形成層１６０の形成方法としては、例えば、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を基材５００上に塗布した後、乾燥させる方法、基材５００上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0051】
コア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0052】
モノマーとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーが挙げられる。また、モノマーは、活性放射線の照射時において、コア形成層１６０中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、その結果として得られる図６に示すコア層１３Ｘにおいて、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせる構成であってもよい。
【0053】
次に、図７（ｂ）に示すように、フォトマスク３０３を介して、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射する。図７（ｂ）には、コア形成層１６０が含むポリマー１３１およびモノマー１３２を図示している。モノマー１３２やモノマー１３２由来の構造は、ポリマー１３１よりも屈折率が低い。
【0054】
活性放射線Ｒを照射した後、コア形成層１６０を加熱する。この加熱により、照射領域３０１に存在する重合開始剤が活性化し、モノマー１３２の反応が進行する。これにより、モノマー１３２の濃度差が生じ、それに伴ってモノマー１３２の移動が生じる。その結果、図８（ｄ）に示すように、照射領域３０１におけるモノマー１３２の濃度が上昇するとともに、非照射領域３０２におけるモノマー１３２の濃度が低下する。これにより、照射領域３０１の屈折率は、モノマー１３２の影響を受けて低くなり、非照射領域３０２の屈折率は、ポリマー１３１の影響を受けて高くなる。その結果、図８（ｅ）に示すように、導波コア部１４、ダミーコア部１６、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７を含むコア層１３が得られる。
【0055】
図８（ｅ）には、Ｙ軸方向における屈折率ｎの分布をグラフで示している。モノマー１３２やそれに由来する構造の濃度差によって、屈折率ｎに分布が生じる。図８（ｅ）に示す屈折率ｎの分布は、Ｙ軸マイナス側に向かうほど、側面クラッド部の屈折率ｎが高くなっている。この結果、コア部と側面クラッド部との屈折率差は、Ｙ軸マイナス側に向かうほど、減少している。以下、このようなＹ軸に沿った屈折率差の減少を「屈折率差の漸減」という。
【0056】
次に、図８（ｆ）に示すように、コア層１３に対し、クラッド形成層１７０および第２カバー層１９の積層体であるクラッドフィルム７０２を積層する。その後、得られた部材を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０２とが接合し、図９（ｇ）に示すように、コア層１３を覆う第２クラッド層１２が得られる。
次に、図９（ｈ）に示すように、コア層１３から基材５００を剥離する。
次に、図９（ｈ）に示すように、コア層１３から基材５００を剥離する。
【0057】
次に、図９（ｉ）に示すように、コア層１３に対し、クラッド形成層１７０および第１カバー層１８の積層体であるクラッドフィルム７０１を積層する。その後、得られた部材を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０１とが接合し、図１０（ｊ）に示すように、コア層１３を覆う第１クラッド層１１が得られる。以上のようにして、図１０（ｊ）に示すワーク１００Ｘが得られる。
【0058】
【0059】
図１０（Ｌ）には、光導波路１ＸのＹ軸方向における屈折率の分布をグラフで示している。
【0060】
以上のような比較例に係る光導波路の製造方法では、前述したように、切り取り線ＣＬの一部が比較用コア部形成領域１３０Ｘの外側に位置している。切り出された光導波路１Ｘのうち、比較用コア部形成領域１３０Ｘの外側に位置していた部分は、前述した屈折率差の漸減の影響を受ける。つまり、光導波路１Ｘでは、導波コア部１４のＹ軸マイナス側に位置する側面クラッド部の屈折率ｎ２が、Ｙ軸プラス側に位置する側面クラッド部の屈折率ｎ１より高くなる。その結果、導波コア部１４を介したＹ軸方向の両側で、屈折率差のずれが大きくなる。このような屈折率差のずれは、導波コア部１４の伝送損失が増加する原因となる。その結果、光導波路１Ｘが有する複数の導波コア部１４、すなわち複数のチャンネルにおいて、チャンネル間における伝送損失にバラつきが生じる。
【0061】
後述する本実施形態に係る光導波路の製造方法によれば、上記のような課題を解決することができる。
【0062】
３．光導波路の製造方法
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。
【0063】
図１１は、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための工程図である。図１２ないし図１５は、それぞれ、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための断面図である。なお、図１２ないし図１５は、図３のＣ部拡大図に相当する。
【0064】
図１１に示す光導波路の製造方法は、ワーク準備工程Ｓ１０６と、切断工程Ｓ１０８と、を有する。
【0065】
ワーク準備工程Ｓ１０６では、コア部形成領域１３０を含むコア層１３を備え、シート状をなしているワーク１００を準備する。切断工程Ｓ１０８では、ワーク１００のうち、コア部形成領域１３０の内側から光導波路１を切り出す。したがって、図２に示す切り取り線ＣＬは、コア部形成領域１３０の内側に位置している。
以下、各工程について順次説明する。
以下、各工程について順次説明する。
【0066】
３．１．ワーク準備工程
ワーク準備工程Ｓ１０６は、図１１に示すように、部材準備工程Ｓ１００と、コア層形成工程Ｓ１０２と、クラッド層形成工程Ｓ１０４と、を有する。
ワーク準備工程Ｓ１０６は、図１１に示すように、部材準備工程Ｓ１００と、コア層形成工程Ｓ１０２と、クラッド層形成工程Ｓ１０４と、を有する。
【0067】
３．１．１．部材準備工程
部材準備工程Ｓ１００では、図１２（ａ）に示すコアフィルム６００を準備する。また、部材準備工程Ｓ１００では、図１３（ｆ）に示すクラッドフィルム７０２、および、図１４（ｉ）に示すクラッドフィルム７０１を準備する。以下、これらの部材について順次説明する。
部材準備工程Ｓ１００では、図１２（ａ）に示すコアフィルム６００を準備する。また、部材準備工程Ｓ１００では、図１３（ｆ）に示すクラッドフィルム７０２、および、図１４（ｉ）に示すクラッドフィルム７０１を準備する。以下、これらの部材について順次説明する。
【0068】
３．１．１．１．コアフィルム
コアフィルム６００は、図１２（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム６００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
コアフィルム６００は、図１２（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム６００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0069】
コア形成層１６０の形成方法としては、例えば、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を基材５００上に塗布した後、乾燥させる方法、基材５００上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0070】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0071】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のコア形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0072】
３．１．１．１．１．基材
基材５００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材５００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
基材５００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材５００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
【0073】
なお、基材５００には、必要に応じて、コア層１３と基材５００との剥離を容易にする離型処理等が施されていてもよい。
【0074】
３．１．１．１．２．コア形成用樹脂組成物
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0075】
３．１．１．１．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0076】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0077】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0078】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含む重合体が挙げられる。
【0079】
ポリマーの含有量は、例えば、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、コア層１３の機械的特性が向上する。また、コア形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性が向上する。
【0080】
コア形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0081】
３．１．１．１．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0082】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0083】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0084】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0085】
モノマーとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーを用いてもよい。また、モノマーは、活性放射線の照射時において、コア形成層１６０中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、その結果として得られるコア層１３において、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせる構成であってもよい。
【0086】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。これにより、上記の屈折率差の形成、すなわち屈折率変調をより確実に起こすことができる。
【0087】
３．１．１．１．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0088】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0089】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型の化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型の化合物等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0090】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0091】
３．１．１．１．２．４．その他
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0092】
３．１．１．１．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0093】
コア形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0094】
３．１．１．２．クラッドフィルム
クラッドフィルム７０１は、図１４（ｉ）に示すように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０２は、図１３（ｆ）に示すように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０１、７０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
クラッドフィルム７０１は、図１４（ｉ）に示すように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０２は、図１３（ｆ）に示すように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０１、７０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0095】
クラッド形成層１７０の形成方法としては、例えば、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物をカバー層上に塗布した後、乾燥させる方法、カバー層上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0096】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0097】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0098】
３．１．１．２．１．カバー層
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、ワーク１００が厚くなりすぎることの弊害、例えば製造される光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、ワーク１００が厚くなりすぎることの弊害、例えば製造される光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
【0099】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、膜厚の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。なお、膜厚が同じとは、膜厚の差が５μｍ以下であることをいう。
【0100】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等の各種樹脂を含む材料が挙げられる。
【0101】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、主材料の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。
【0102】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の弾性率は、１～１２ＧＰａであるのが好ましく、２～１１ＧＰａであるのがより好ましく、３～１０ＧＰａであるのがさらに好ましい。なお、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
【0103】
３．１．１．２．２．クラッド形成用樹脂組成物
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0104】
３．１．１．２．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0105】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0106】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0107】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含む重合体が挙げられる。
【0108】
また、ポリマーは、必要に応じて熱硬化性樹脂を含んでもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、アミノ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0109】
ポリマーの含有量は、例えば、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の機械的特性が向上する。また、クラッド形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性が向上する。
【0110】
クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0111】
３．１．１．２．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0112】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0113】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0114】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0115】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。
【0116】
３．１．１．２．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0117】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0118】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型の化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型の化合物等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0119】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0120】
３．１．１．２．２．４．その他
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0121】
３．１．１．２．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0122】
クラッド形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0123】
なお、第１クラッド層１１を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物と、第２クラッド層１２を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物とは、互いに同じであっても、互いに異なっていてもよい。
【0124】
３．１．２．コア層形成工程
コア層形成工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応する導波コア部１４およびダミーコア部１６、ならびに、照射領域３０１に対応する第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７、を含むコア層１３を得る。
コア層形成工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応する導波コア部１４およびダミーコア部１６、ならびに、照射領域３０１に対応する第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７、を含むコア層１３を得る。
【0125】
照射領域３０１および非照射領域３０２の設定には、例えば、図１２（ｂ）に示すフォトマスク３０３を用いる方法が用いられる。フォトマスク３０３を介して活性放射線Ｒを照射することにより、フォトマスク３０３のマスクパターンに対応して照射領域３０１および非照射領域３０２を設定することができる。
【0126】
なお、フォトマスク３０３を用いる方法に代えて、直描露光機３０４を用いる方法を採用してもよい。図１２（ｃ）では、活性放射線Ｒを直描露光機３０４により照射している。直描露光機３０４としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）のような反射型空間光変調素子、液晶表示素子（ＬＣＤ）のような透過型空間光変調素子といった各種の空間光変調素子を利用して、照射領域を選択し得る露光機が挙げられる。このような直描露光機３０４を用いることにより、フォトマスク３０３を用いることなく、照射領域３０１および非照射領域３０２の設定が可能になる。これにより、フォトマスク３０３を作り変えることなく、照射領域３０１や非照射領域３０２の大きさを調整することができるので、光導波路１の製造コストの低減および効率化を図ることができる。
【0127】
図１２（ｂ）および図１２（ｃ）には、コア形成層１６０が含むポリマー１３１およびモノマー１３２を図示している。活性放射線Ｒを照射する前のコア形成層１６０では、ポリマー１３１中にモノマー１３２がほぼ均一に分布している。なお、モノマー１３２やモノマー１３２由来の構造は、ポリマー１３１よりも屈折率が低い。
【0128】
活性放射線Ｒを照射した後、コア形成層１６０を加熱する。この加熱により、照射領域３０１に存在する重合開始剤が活性化し、モノマー１３２の反応が進行する。これにより、モノマー１３２の濃度差が生じ、それに伴ってモノマー１３２の移動が生じる。その結果、図１３（ｄ）に示すように、照射領域３０１におけるモノマー１３２の濃度が上昇するとともに、非照射領域３０２におけるモノマー１３２の濃度が低下する。これにより、照射領域３０１の屈折率は、モノマー１３２の影響を受けて低くなり、非照射領域３０２の屈折率は、ポリマー１３１の影響を受けて高くなる。その結果、図１３（ｅ）に示すように、導波コア部１４、ダミーコア部１６、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７を含むコア層１３が得られる。
【0129】
コア形成層１６０の加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0130】
なお、この加熱に伴って、モノマー１３２が揮発したり、ポリマー１３１の分子構造が変化したりすることによって屈折率が変化してもよい。
【0131】
３．１．３．クラッド層形成工程
クラッド層形成工程Ｓ１０４では、コア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材５００を剥離する。これにより、ワーク１００を得る。
クラッド層形成工程Ｓ１０４では、コア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材５００を剥離する。これにより、ワーク１００を得る。
【0132】
本実施形態では、図１３（ｆ）に示すように、クラッドフィルム７０２をコア層１３の上面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０２とが接合する。その結果、図１４（ｇ）に示すように、コア層１３を覆う第２クラッド層１２が得られる。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0133】
次に、図１４（ｈ）に示すように、コア層１３から基材５００を剥離した後、図１４（ｉ）に示すように、クラッドフィルム７０１をコア層１３の下面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０１とが接合する。その結果、図１５（ｊ）に示すように、コア層１３を覆う第１クラッド層１１が得られる。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられるが、第２クラッド層１２を形成するときの加熱条件よりも、高温または長時間に設定されるのが好ましい。以上のようにして、図１５（ｊ）に示すワーク１００が得られる。
【0134】
３．２．切断工程
切断工程Ｓ１０８では、図１５（ｋ）に示すように、ワーク１００を切断する。切断には、例えば、図１５（ｋ）に示すダイシングブレードＤＢが用いられる。なお、ダイシングブレードＤＢによる切断に代えて、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッター、ウォータージェットによる切断や、刃型による打ち抜きを用いてもよい。
切断工程Ｓ１０８では、図１５（ｋ）に示すように、ワーク１００を切断する。切断には、例えば、図１５（ｋ）に示すダイシングブレードＤＢが用いられる。なお、ダイシングブレードＤＢによる切断に代えて、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッター、ウォータージェットによる切断や、刃型による打ち抜きを用いてもよい。
【0135】
【0136】
図１５（Ｌ）には、光導波路１のＹ軸方向における屈折率ｎの分布をグラフで示している。
【0137】
本実施形態に係る光導波路の製造方法では、前述したように、切り取り線ＣＬがコア部形成領域１３０の内側に位置している。このため、コア部形成領域１３０の外側に前述した「屈折率差の漸減」が生じていたとしても、切り出された光導波路１では、その屈折率差の漸減の影響が回避される。つまり、光導波路１では、導波コア部１４のＹ軸マイナス側に位置する側面クラッド部の屈折率ｎ２が、Ｙ軸プラス側に位置する側面クラッド部の屈折率ｎ１と等しいか、屈折率ｎ１と近い値になる。その結果、導波コア部１４を介したＹ軸方向の両側における屈折率差のずれは小さくなる。このため、屈折率差のずれに伴って導波コア部１４の伝送損失が増加するという課題が解消される。その結果、複数の導波コア部１４、すなわち複数のチャンネルにおいて、チャンネル間における伝送損失のバラつきが抑制された光導波路１を実現することができる。
【0138】
なお、図２に示す切り取り線ＣＬを設定する場合、コア部形成領域１３０の外縁から、好ましくはコア部２本分以上、より好ましくはコア部３本分以上内側に設定するのが好ましい。これにより、照射領域３０１と非照射領域３０２との境界線が高密度に配置されることになるため、「屈折率差の漸減」の影響が特に抑制された光導波路１を製造することができる。なお、図２では、一例として、コア部形成領域１３０の外縁からコア部２本分、内側に切り取り線ＣＬを設定している。コア部形成領域１３０は、要件（ｂ）を満たしているため、このような設定を確実に行うことができる。その結果、「屈折率差の漸減」の影響が特に抑制された光導波路１を確実に製造することができる。
【0139】
以上のように、本実施形態に係る光導波路の製造方法は、ワーク準備工程Ｓ１０６と、切断工程Ｓ１０８と、を有する。ワーク準備工程Ｓ１０６では、コア部形成領域１３０を含むコア層１３を備え、シート状をなしているワーク１００を準備する。切断工程Ｓ１０８では、ワーク１００のうち、コア部形成領域１３０の内側から光導波路１を切り出す。
そして、コア層１３は、以下の要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の全てを満たしている。
そして、コア層１３は、以下の要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の全てを満たしている。
【0140】
（ａ）コア層１３は、ポリマー１３１およびモノマー１３２を含み、モノマー１３２の濃度差またはモノマー１３２由来の構造の濃度差に基づく屈折率の分布を有する。
【0141】
（ｂ）コア部形成領域１３０は、複数の導波コア部１４（第１コア部）と、導波コア部１４の両側に設けられているダミーコア部１６（第２コア部）と、導波コア部１４とダミーコア部１６との間に設けられている第１側面クラッド部１５と、を備え、かつ、コア部形成領域１３０は、コア部形成領域１３０の外縁に複数のダミーコア部１６（第２コア部）が位置付けられるように、画定される。
【0142】
（ｃ）コア部形成領域１３０は、１ｍｍ角の範囲において導波コア部１４およびダミーコア部１６が占める合計の面積比率が５０％以上となる領域である。
【0143】
このような構成によれば、ワーク１００のうち、コア部形成領域１３０の内側から光導波路１を切り出すため、前述した屈折率差の漸減の影響が光導波路１に及びにくい。このため、導波コア部１４と第１側面クラッド部１５との間で屈折率差が十分に確保された光導波路１が得られる。その結果、チャンネル間における伝送損失のバラつきが少ない光導波路１を製造することができる。
【0144】
また、図２に示すコア層１３は、互いに離間している複数のコア部形成領域１３０と、余白領域１３５と、を含む。余白領域１３５は、隣り合うコア部形成領域１３０の間に位置し、上記（ｃ）を満たさない領域である。つまり、余白領域１３５は、導波コア部１４やダミーコア部１６を有していてもよいが、その合計の面積比率は５０％未満である領域である。
【0145】
このように複数のコア部形成領域１３０を含むことにより、１つのワーク１００から複数の光導波路１を切り出すことができる。
【0146】
また、図２に示す余白領域１３５は、導波コア部１４やダミーコア部１６が設けられていない領域であるため、コア層形成工程Ｓ１０２において照射領域３０１に対応し、モノマー１３２の重合が進んでいる領域である。したがって、照射領域３０１に対応する余白領域１３５では、モノマー１３２の減少に伴う体積減少が抑えられる。これに対し、非照射領域３０２に対応するコア部形成領域１３０では、モノマー１３２の減少に伴う体積減少が生じやすい。よって、コア部形成領域１３０同士の間に余白領域１３５を設けることにより、ワーク１００全体の変形（反り）を抑制することができる。
【0147】
また、図２に示す余白領域１３５は、さらに、コア部形成領域１３０を取り囲む位置にも設けられている。
【0148】
このような位置にも余白領域１３５を設けることにより、余白領域１３５によってワーク１００が支持されることになるため、ワーク１００全体の変形を特に抑制することができる。また、コア部形成領域１３０の縁部の全体が余白領域１３５に隣接することになる。このため、コア部形成領域１３０内に対して余白領域１３５が及ぼす影響が均一になり、チャンネル間における伝送損失のバラつきが特に少なくなる。
【0149】
４．変形例
次に、変形例に係る光導波路の製造方法について説明する。
次に、変形例に係る光導波路の製造方法について説明する。
【0150】
図１６は、変形例に係る光導波路の製造方法で製造された光導波路１Ｂを示す平面図である。
【0151】
以下、変形例について説明するが、以下の説明では、前記実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。なお、各図では、前記実施形態と同様の構成について同一の符号を付している。
【0152】
【0153】
光導波路１Ｂでは、ダミーコア部１６（第２コア部）の少なくとも一方の端部の幅が、導波コア部１４と異なっている。図１６の例では、Ｘ軸方向の両端部において、ダミーコア部１６の幅が導波コア部１４の幅の半分程度になっている。具体的には、図１６に示すダミーコア部１６は、図２に示すダミーコア部１６の幅の中央に、新たな第１側面クラッド部１５を追加することによって、２つに分割されてなる部位である。
【0154】
このような構成によれば、一方の端部を端面から見たとき、幅が異なることから、導波コア部１４をダミーコア部１６と区別しやすくなる。このため、導波コア部１４と光学部品とを光学的に接続するとき、接続作業が容易になる。
【0155】
５．マーク
図１６に示す光導波路１Ｂは、コア部形成領域１３０と重なる位置に設けられている第１マーク８０１を有する。具体的には、光導波路１Ｂのうち、Ｘ軸方向の両端部以外には、ダミーコア部１６の幅と導波コア部１４の幅とが等しくなっている部位がある。そして、この部位に、第１マーク８０１が設けられている。
図１６に示す光導波路１Ｂは、コア部形成領域１３０と重なる位置に設けられている第１マーク８０１を有する。具体的には、光導波路１Ｂのうち、Ｘ軸方向の両端部以外には、ダミーコア部１６の幅と導波コア部１４の幅とが等しくなっている部位がある。そして、この部位に、第１マーク８０１が設けられている。
【0156】
第１マーク８０１は、コア部形成領域１３０と重なる位置に設けられているため、光導波路１に含まれる可能性が高くなる。このため、第１マーク８０１は、例えば、光導波路１に光コネクターを取り付けるとき、光導波路１と光コネクターとの位置合わせを行うときの位置基準として用いることができる。その結果、位置合わせの精度を高めることができる。なお、第１マーク８０１の利用方法は、これに限定されない。例えば、光導波路１にミラー等の光路変換部を形成する場合、光導波路１に光学部品を組み付ける場合等にも、第１マーク８０１を位置基準として利用することができる。
【0157】
また、第１マーク８０１は、例えば印刷や転写等の方法で付与されてもよい。なお、本変形例では、第１マーク８０１の構成材料が、コア層１３Ｂが含む側面クラッド部と同じ材料になっている。つまり、図１６に示す第１マーク８０１は、ダミーコア部１６（第２コア部）を背景として設けられており、ダミーコア部１６よりも屈折率が低い低屈折率部８０２を有する。具体的には、図２に示す第１マーク８０１は、ダミーコア部１６を横切る低屈折率部８０２で構成されている。
【0158】
このような構成によれば、ダミーコア部１６を背景にしたときの第１マーク８０１の見え方、例えば光の通り方を異ならせることができる。これにより、第１マーク８０１の視認性を高めることができる。
【0159】
また、低屈折率部８０２は、側面クラッド部と同じ材料で構成されているため、側面クラッド部と同時に製造することが可能である。このため、低屈折率部８０２を有する第１マーク８０１は、製造が容易である。
【0160】
さらに、低屈折率部８０２は、活性放射線Ｒの照射領域３０１に応じて形成可能である。一方、導波コア部１４やダミーコア部１６も、活性放射線Ｒの非照射領域３０２に対応して形成される。したがって、導波コア部１４やダミーコア部１６に対する第１マーク８０１の位置精度は、照射領域３０１の位置精度と同等であり、非常に高くなる。
【0161】
なお、第１マーク８０１の形状は、図示した形状に限定されず、いかなる形状であってもよい。
【0162】
また、上述した光導波路の製造方法では、活性放射線Ｒの照射やワーク１００の切断において、ワーク１００と装置との位置合わせが必要となる。図１に示すワーク１００は、この位置合わせに用いる各種マークを有している。
【0163】
図２に示すワーク１００は、余白領域１３５と重なる位置に設けられている第２マーク８０３を有する。
【0164】
第２マーク８０３は、余白領域１３５と重なる位置に設けられているため、ワーク１００から光導波路１を切り出すときの位置基準として利用することができる。なお、第２マーク８０３の利用方法は、これに限定されない。例えば、切り出される前に、ワーク１００に対してミラー等の光路変換部を形成する場合、光導波路１に光学部品を組み付ける場合等にも、第２マーク８０３を位置基準として利用することができる。
【0165】
【0166】
例えば、図２に示すワーク１００のうち、ユニット２００の外側には、図１７に示すように、第２マーク８０３としての＋字状のマークが設けられている。また、図２に示すユニット２００の内側には、図１７に示すように、第２マーク８０３としての同心円状のマークが設けられている。さらに、図２に示すユニット２００の内側で、かつ、ピース３００の幅の中心には、図１７に示すように、第２マーク８０３としての円形のマークが設けられている。
【0167】
なお、第２マーク８０３の形状は、図示した形状に限定されず、いかなる形状であってもよい。
【0168】
図２に示す余白領域１３５は、第１側面クラッド部１５と一体になっている第２側面クラッド部１７を備えている。このとき、余白領域１３５と重なる位置に設けられている第２マーク８０３は、図１７に示すように、第２側面クラッド部１７よりも屈折率が高い高屈折率部８０４を有する。
【0169】
このような構成によれば、第２側面クラッド部１７を背景としたときの第２マーク８０３の見え方、例えば光の通り方を異ならせることができる。これにより、第２マーク８０３の視認性を高めることができる。
【0170】
また、本実施形態では、この高屈折率部８０４の構成材料が、導波コア部１４やダミーコア部１６と同じ材料になっている。これにより、高屈折率部８０４を導波コア部１４やダミーコア部１６と同時に製造することが可能になる。このため、高屈折率部８０４を有する第２マーク８０３は、製造が容易である。
【0171】
さらに、高屈折率部８０４は、活性放射線Ｒの非照射領域３０２に応じて形成可能である。一方、導波コア部１４やダミーコア部１６も、活性放射線Ｒの非照射領域３０２に対応して形成される。したがって、導波コア部１４やダミーコア部１６に対する第２マーク８０３の位置精度は、非照射領域３０２の位置精度と同等であり、非常に高くなる。
【0172】
また、図１に示すワーク１００におけるユニット２００やピース３００の数や配置は、これに限定されない。
【0173】
以上、本発明の光導波路の製造方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されない。
【0174】
例えば、本発明の光導波路の製造方法は、前記実施形態に任意の目的の工程を追加した製造方法であってもよい。
【実施例】
【0175】
【0176】
図１８に示す評価用光導波路１Ｄには、図１９に示すように、１６本のコア部１４Ｄが並列するように配置されている。なお、以下の説明では、１６本のコア部１４Ｄを「コア部群１４０Ｄ」ともいい、各コア部１４Ｄを「チャンネル」ともいう。また、１６本のチャンネルには、ｃｈ１～ｃｈ１６の名称を付している。
【0177】
また、評価用光導波路１ＤのＸ軸方向の全長は７０ｍｍ、コア部１４ＤのＹ軸方向の幅は４５μｍ、コア部１４ＤのＹ軸方向のピッチは６２．５μｍである。したがって、コア部１４Ｄ同士の間に位置する第１側面クラッド部１５ＤのＹ軸方向の幅は１７．５μｍである。そして、コア部群１４０ＤのＹ軸方向の両側には、Ｙ軸方向の幅が４５０μｍである第２側面クラッド部１７Ｄが設けられている。
【0178】
さらに、コア部群１４０Ｄは、Ｘ軸方向の途中で湾曲している。湾曲部の曲げ半径ｒは１０ｍｍとした。
【0179】
以上のような評価用光導波路１Ｄを、前記実施形態に係る光導波路の製造方法により製造した。ただし、切断工程は省略した。評価用光導波路１Ｄにおいて、コア部群１４０Ｄが占める範囲では、コア部の面積比率が５０％以上になっている。また、コア部群１４０Ｄの両端に、複数のコア部１４Ｄ（ダミーコアとして使用され得る複数のコア部）が位置している。したがって、この範囲が、前記実施形態における「コア部形成領域」に相当する。
【0180】
７．評価用光導波路の評価
得られた評価用光導波路１Ｄについて、挿入損失を測定した。挿入損失は、ＪＰＣＡ（社団法人 日本電子回路工業会）の規格である「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」に規定された挿入損失の測定方法に準じて、チャンネルごとに測定した。そして、測定された挿入損失のうち、１６個のチャンネルの中で最も低かった損失に対する、各チャンネルの相対損失を算出した。また、同じ測定および計算を３回行い、３回の計算結果を＃１、＃２、＃３とした。計算結果を図２０に示す。
得られた評価用光導波路１Ｄについて、挿入損失を測定した。挿入損失は、ＪＰＣＡ（社団法人 日本電子回路工業会）の規格である「高分子光導波路の試験方法（ＪＰＣＡ－ＰＥ０２－０５－０１Ｓ－２００８）」に規定された挿入損失の測定方法に準じて、チャンネルごとに測定した。そして、測定された挿入損失のうち、１６個のチャンネルの中で最も低かった損失に対する、各チャンネルの相対損失を算出した。また、同じ測定および計算を３回行い、３回の計算結果を＃１、＃２、＃３とした。計算結果を図２０に示す。
【0181】
図２０は、評価用光導波路についてチャンネルごとの相対損失を示すグラフである。
図２０から明らかなように、１６個のチャンネルで相対損失を比較すると、コア部群１４０Ｄの端、つまりｃｈ１やｃｈ１６から、コア部群１４０Ｄの中央、つまりｃｈ８やｃｈ９に向かうにつれて、相対損失が減少する傾向が読み取れる。したがって、コア部群１４０Ｄにおける相対損失の分布は、全体としてＵ字状になっているといえる。よって、コア部群１４０Ｄの両端を避け、内側から光導波路を切り出すようにすれば、各チャンネルの挿入損失が少なく、かつ、チャンネル間で挿入損失のバラつきが少ない光導波路を製造可能であることがわかった。
図２０から明らかなように、１６個のチャンネルで相対損失を比較すると、コア部群１４０Ｄの端、つまりｃｈ１やｃｈ１６から、コア部群１４０Ｄの中央、つまりｃｈ８やｃｈ９に向かうにつれて、相対損失が減少する傾向が読み取れる。したがって、コア部群１４０Ｄにおける相対損失の分布は、全体としてＵ字状になっているといえる。よって、コア部群１４０Ｄの両端を避け、内側から光導波路を切り出すようにすれば、各チャンネルの挿入損失が少なく、かつ、チャンネル間で挿入損失のバラつきが少ない光導波路を製造可能であることがわかった。
【0182】
特に、ｃｈ３～ｃｈ１４の範囲では、相対損失が０．２０ｄＢ以下に抑えられている。この結果から、コア部群１４０Ｄの端からチャンネル２個分は、コア部群１４０Ｄの外側の影響を受けて、伝送損失が悪化する傾向があるといえる。コア部群１４０Ｄの外側の影響としては、例えば、前述した「屈折率差の漸減」が考えられる。
【0183】
さらに、ｃｈ４～ｃｈ１３の範囲では、相対損失が０．１５ｄＢ以下に抑えられている。一方、ｃｈ１～ｃｈ３およびｃｈ１４～ｃｈ１６では、相対損失が０．１５ｄＢ超になっている。
【0184】
以上の結果から、図２に示す切り取り線ＣＬを設定する場合、コア部形成領域１３０の外縁から、好ましくはコア部２本分以上、より好ましくはコア部３本分以上内側に設定することの優位性が裏付けられた。このような位置に切り取り線ＣＬを設定することにより、「屈折率差の漸減」の影響が抑制された光導波路を製造することができる。換言すれば、一部のコア部をワーク側に残すように切り出すことで、屈折率差の漸減の影響が抑えられ、伝送損失のバラつきが少ない光導波路を得ることができる。一方、切り取り線ＣＬをコア部形成領域１３０の外縁よりも外側に設定した場合、切り出された光導波路では、屈折率差の漸減の影響を受けやすくなる。前述したコア部形成領域１３０におけるコア部の面積比率は、このような効果の差が生じるか否かのしきい値であるといえる。
【産業上の利用可能性】
【0185】
本発明によれば、チャンネル間における伝送損失のバラつきが少ない光導波路を製造することができる。したがって、本発明は、産業上の利用可能性を有する。
【符号の説明】
【0186】
１ 光導波路
１Ｂ 光導波路
１Ｄ 評価用光導波路
１Ｘ 光導波路
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１３Ｂ コア層
１３Ｘ コア層
１４ 導波コア部
１４Ｄ コア部
１５ 第１側面クラッド部
１５Ｄ 第１側面クラッド部
１６ ダミーコア部
１７ 第２側面クラッド部
１７Ｄ 第２側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
１００ ワーク
１００Ｘ ワーク
１３０ コア部形成領域
１３０Ｘ 比較用コア部形成領域
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１３５ 余白領域
１４０Ｄ コア部群
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ ユニット
３００ ピース
３０１ 照射領域
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
５００ 基材
６００ コアフィルム
７０１ クラッドフィルム
７０２ クラッドフィルム
８０１ 第１マーク
８０２ 低屈折率部
８０３ 第２マーク
８０４ 高屈折率部
ＣＬ 切り取り線
ＤＢ ダイシングブレード
Ｒ 活性放射線
Ｓ１００ 部材準備工程
Ｓ１０２ コア層形成工程
Ｓ１０４ クラッド層形成工程
Ｓ１０６ ワーク準備工程
Ｓ１０８ 切断工程
ｎ 屈折率
ｎ１ 屈折率
ｎ２ 屈折率
ｒ 曲げ半径
１Ｂ 光導波路
１Ｄ 評価用光導波路
１Ｘ 光導波路
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１３Ｂ コア層
１３Ｘ コア層
１４ 導波コア部
１４Ｄ コア部
１５ 第１側面クラッド部
１５Ｄ 第１側面クラッド部
１６ ダミーコア部
１７ 第２側面クラッド部
１７Ｄ 第２側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
１００ ワーク
１００Ｘ ワーク
１３０ コア部形成領域
１３０Ｘ 比較用コア部形成領域
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１３５ 余白領域
１４０Ｄ コア部群
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ ユニット
３００ ピース
３０１ 照射領域
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
５００ 基材
６００ コアフィルム
７０１ クラッドフィルム
７０２ クラッドフィルム
８０１ 第１マーク
８０２ 低屈折率部
８０３ 第２マーク
８０４ 高屈折率部
ＣＬ 切り取り線
ＤＢ ダイシングブレード
Ｒ 活性放射線
Ｓ１００ 部材準備工程
Ｓ１０２ コア層形成工程
Ｓ１０４ クラッド層形成工程
Ｓ１０６ ワーク準備工程
Ｓ１０８ 切断工程
ｎ 屈折率
ｎ１ 屈折率
ｎ２ 屈折率
ｒ 曲げ半径
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
