特許 7368572 基板処理装置および方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-10-16

(45)【発行日】2023-10-24

(54)【発明の名称】基板処理装置および方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20231017BHJP

   B01D 61/14 20060101ALI20231017BHJP

   B01D 61/18 20060101ALI20231017BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20231017BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648F

B01D61/14 500

B01D61/18

H01L21/306 J

H01L21/304 648K

H01L21/304 648G

【請求項の数】 19

(21)【出願番号】P 2022148775

(22)【出願日】2022-09-20

(65)【公開番号】P2023099286

(43)【公開日】2023-07-12

【審査請求日】2022-09-20

(31)【優先権主張番号】10-2021-0192106

(32)【優先日】2021-12-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】598123150

【氏名又は名称】セメス株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】７７，４ｓａｎｄａｎ ５－ｇｉｌ，Ｊｉｋｓａｎ－ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ－ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ－ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ－ｄｏ，３３１－８１４ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】キム，ソン ヒョン

(72)【発明者】

【氏名】チョイ，ギ ヒュン

(72)【発明者】

【氏名】ヤン，スン テ

(72)【発明者】

【氏名】パク，ソ ヨン

(72)【発明者】

【氏名】ミン，キュン ハン

【審査官】小池 英敏

(56)【参考文献】

【文献】特開２００７－２６６２１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－２２０３７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２１－０５２０３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－２０４３０２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｂ０１Ｄ ６１／１４

Ｂ０１Ｄ ６１／１８

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｂ０８Ｂ １／０４

Ｂ０８Ｂ ３／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインを含み、
前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第１区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインし、前記第１区間後の第２区間の間、前記フィルタを通過する薬液の一部はドレインしながら、他の一部は前記供給ラインを介してチャンバに供給する、基板処理装置。

【請求項2】

前記第２区間の間前記チャンバに供給された薬液はノズルフラッシングに使用される、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記第２区間後の第３区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインせず、前記供給ラインを介してチャンバに供給する、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第１区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第４区間の間、前記フィルタのメンブレン上にはパーティクルによるケーキが完成されていない、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項6】

薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインを含み、
前記薬液供給ユニットから供給される薬液の第１流量は、前記ドレインラインを介してドレインされる薬液の第２流量と前記供給ラインを介して前記チャンバに供給される薬液の第３流量の合計より大きいか同じである、基板処理装置。

【請求項7】

前記第１ノードと前記第２ノードの間に、前記供給ラインに薬液を供給するかどうかを決定する第１オンオフ弁をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記ドレインラインに設けられ、前記薬液をドレインするかどうかを決定する第２オンオフ弁をさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項9】

薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインと、
前記ドレインラインに設けられ、前記薬液をドレインするかどうかを決定する第２オンオフ弁と、
前記ドレインラインに設けられ、ドレインされる薬液の流量を調節するための流量調節弁と、を含む、基板処理装置。

【請求項10】

薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインと、
前記循環ラインで、前記第１ノードの下流には、前端の圧力を一定に維持する背圧弁と、を含む、基板処理装置。

【請求項11】

前記供給ラインで、後端の圧力を一定に維持して前記チャンバに吐出される薬液の流量を一定に維持するための定圧弁をさらに含む、請求項１０に記載の基板処理装置。

【請求項12】

薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、前記薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインと、
前記循環ラインで、前記第１ノードと前記第２ノードの間に配置された第１オンオフ弁と、
前記ドレインラインに設けられた第２オンオフ弁を含み、
第１区間の間、前記第１オンオフ弁はターンオフし、前記第２オンオフ弁はターンオンし、
前記第１区間後の第２区間の間、前記第１オンオフ弁はターンオンし、前記第２オンオフ弁はオン状態を維持し、
前記第２区間後の第３区間の間、前記第２オンオフ弁はターンオフし、前記第１オンオフ弁はオン状態を維持することを含む、基板処理装置。

【請求項13】

前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第４区間の間、前記フィルタのメンブレン上にはパーティクルによるケーキが完成されていない、請求項１２に記載の基板処理装置。

【請求項14】

前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働される時点から第１区間の間または前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第１区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項１２に記載の基板処理装置。

【請求項15】

薬液供給ユニットと連結された循環ラインと、前記循環ラインに設けられたフィルタと、前記循環ラインの第１ノードと連結された供給ラインと、前記循環ラインで前記フィルタと前記第１ノードの間の第２ノードに連結されるドレインラインを含む、基板処理装置が提供され、
第１区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液をドレインし、
前記第１区間後の第２区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液の一部はドレインし、他の一部は前記供給ラインを介してチャンバに供給し、
前記第２区間後の第３区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインせず、前記供給ラインを介してチャンバに薬液を供給することを含む、基板処理方法。

【請求項16】

前記フィルタに加えられるフィルタ圧が維持されると、前記フィルタのメンブレン上にパーティクルによるケーキが形成され、
前記フィルタに加えられるフィルタ圧が解除されると、前記ケーキをなしていたパーティクルが解散し、
前記フィルタに加えられるフィルタ圧が再生成される時点から第４区間の間、前記フィルタのメンブレン上にまだケーキが完成されず、微細パーティクルが前記メンブレンを通過し、
前記第４区間以後に、前記フィルタのメンブレン上にケーキが再形成されることを含む、請求項１５に記載の基板処理方法。

【請求項17】

前記フィルタ圧が再生成される時点から前記第４区間の間、前記ドレインラインを介して前記メンブレンを通過した微細パーティクルを含む薬液をドレインすることをさらに含む、請求項１６に記載の基板処理方法。

【請求項18】

前記薬液供給ユニットから供給される薬液の第１流量は、前記ドレインラインを介してドレインされる薬液の第２流量と前記供給ラインを介して前記チャンバに供給される薬液の第３流量の合計より大きいか同じである、請求項１５に記載の基板処理方法。

【請求項19】

前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働される時点から第１区間の間または前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第１区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項１５に記載の基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は基板処理装置および方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体装置またはディスプレイ装置を製造する際には、多様な種類の薬液が使用される。このような薬液は薬液供給ユニットにより濃度、温度および流量などの工程条件に合わせて調節して基板を処理するチャンバに供給される。一方、薬液供給ユニットからチャンバに薬液の供給中に中断し、再び供給し始めるとパーティクル水準を安定化させるのに多くの時間が必要とされる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本発明が解決しようとする課題は、薬液の再供給時に迅速にパーティクル水準を安定化させることができる基板処理装置を提供することにある。

【0004】

本発明が解決しようとする他の課題は、薬液の再供給時に迅速にパーティクル水準を安定化させることができる基板処理方法を提供することにある。

【0005】

本発明の課題は、以上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解されることができる。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記課題を達成するための本発明の基板処理装置の一面（ａｓｐｅｃｔ）は、薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインを含む。

【0007】

前記課題を達成するための本発明の基板処理装置の他の面は、薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、前記循環ラインに設けられ、前記薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、前記循環ラインの第１ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、前記循環ラインで、前記フィルタと前記第１ノードの間に位置する第２ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインと、前記循環ラインで、前記第１ノードと前記第２ノードの間に配置された第１オンオフ弁と、前記ドレインラインに設けられた第２オンオフ弁を含み、第１区間の間、前記第１オンオフ弁はターンオフし、前記第２オンオフ弁はターンオンし、前記第１区間後の第２区間の間、前記第１オンオフ弁はターンオンし、前記第２オンオフ弁はオン状態を維持し、前記第２区間後の第３区間の間、前記第２オンオフ弁はターンオフし、前記第１オンオフ弁はオン状態を維持することを含む。

【0008】

前記他の課題を達成するための本発明の基板処理方法の一面は、薬液供給ユニットと連結された循環ラインと、前記循環ラインに設けられたフィルタと、前記循環ラインの第１ノードと連結された供給ラインと、前記循環ラインで前記フィルタと前記第１ノードの間の第２ノードに連結されるドレインラインを含む、基板処理装置が提供され、第１区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液をドレインし、前記第１区間後の第２区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液の一部はドレインし、他の一部は前記供給ラインを介してチャンバに供給し、前記第２区間後の第３区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインせず、前記供給ラインを介してチャンバに薬液を供給することを含み得る。

【0009】

その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明および図面に含まれている。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明のいくつかの実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【図2】本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法を説明するためのタイミング図である。

【図3】図２の基板処理方法を説明するための中間段階図である。

【図4】図２の基板処理方法を説明するための中間段階図である。

【図5】図２の基板処理方法を説明するための中間段階図である。

【図6】フィルタにフィルタ圧が維持される状態を示す図である。

【図7】フィルタにフィルタ圧が解除されるときの状態を示す図である。

【図8】フィルタに圧力が再び生成されるときの状態を示す図である。

【図9】図１に示す薬液供給ユニットの例示的な構成である。

【図10】本発明の他の実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、添付する図面を参照して本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になる。しかし、本発明は以下に開示される実施形態に限定されるものではなく互いに異なる多様な形態で実現することができ、本実施形態は単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。明細書全体にわたって同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。

【0012】

空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは図面に示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は図面に示されている方向に加えて使用時または動作時の素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、図面に示されている素子をひっくり返す場合、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ）」または「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれ得る。したがって、例示的な用語の「下」は下と上の方向をすべて含むことができる。素子は他の方向に配向されてもよく、そのため空間的に相対的な用語は配向によって解釈されることができる。

【0013】

第１、第２などが多様な素子、構成要素および／またはセクションを叙述するために使われるが、これらの素子、構成要素および／またはセクションはこれらの用語によって制限されないのはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用する。したがって、以下で言及される第１素子、第１構成要素または第１セクションは本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素または第２セクションであり得るのはもちろんである。

【0014】

以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明し、添付図面を参照して説明するにあたり図面符号に関係なく同一であるかまたは対応する構成要素は同じ参照番号を付与し、これに係る重複する説明は省略する。

【0015】

図１は本発明のいくつかの実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【0016】

図１を参照すると、本発明のいくつかの実施形態による基板処理装置は、薬液供給ユニット１００、循環ラインＭＣＬ、供給ラインＳＬ、ドレインラインＤＬなどを含む。

【0017】

循環ラインＭＣＬは薬液供給ユニット１００と連結され、薬液を循環するためのラインである。

【0018】

フィルタＦは循環ラインＭＣＬに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングする。フィルタは例えば、メンブレンフィルタであり得る。メンブレンフィルタはＲＯ（Ｒｅｖｅｒｓｅ Ｏｓｍｏｓｉｓ）、ＮＦ（Ｎａｎｏ Ｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）、ＵＦ（Ｕｌｔｒａ Ｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）などであり得るが、これに限定されない。メンブレンフィルタの種類によって、フィルタリングできるパーティクルのサイズが変わる。

【0019】

供給ラインＳＬは循環ラインＭＣＬの第１ノードＮ１に連結され、チャンバ２００に薬液を供給するためのラインである。

【0020】

チャンバ２００は洗浄工程を行うための洗浄チャンバであり得るが、これに限定されない。洗浄工程に使用される薬液は例えば、酸性薬液、アルカリ性薬液、オゾン水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などであり得るが、これに限定されない。しかし、本実施形態は洗浄工程に限定されるものではなく、本実施形態に矛盾しない限り薬液が使用される多様な工程に適用することができる。他の例として、チャンバ２００は乾燥工程やエッチング工程などのためのチャンバであり得る。さらに、チャンバ２００が乾燥工程やエッチング工程のためのチャンバからなる場合、薬液は処理液として乾燥液またはエッチング液であり得る。

【0021】

ドレインラインＤＬは循環ラインＭＣＬの第２ノードＮ２に連結され、薬液をドレインするためのラインである。第２ノードＮ２は第１ノードＮ１とフィルタＦの間に位置する。

【0022】

第１オンオフ弁Ｖ３は第１ノードＮ１と第２ノードＮ２の間に配置され、供給ラインＳＬに薬液を供給するかどうかを決定する。第１オンオフ弁Ｖ３がオン状態であるとき、第１オンオフ弁Ｖ３を通過した薬液は供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給されるか、循環ラインＭＣＬを介して薬液供給ユニット１００に復帰する。

【0023】

第２オンオフ弁Ｖ４はドレインラインＤＬに設けられ、薬液をドレインするかどうかを決定する。すなわち、第２オンオフ弁Ｖ４がオン状態であるとき、第２オンオフ弁Ｖ４を通過した薬液はドレインされる。

【0024】

流量調節弁Ｖ５はドレインラインＤＬに設けられ、ドレインされる薬液の流量を調節する。

【0025】

第３オンオフ弁Ｖ６は供給ラインＳＬに設けられ、対応するチャンバ２００に吐出供給をするかどうかを決定する。すなわち、第３オンオフ弁Ｖ６がオン状態であるとき、第３オンオフ弁Ｖ６を通過した薬液は対応するチャンバ２００に薬液が吐出される。

【0026】

定圧弁Ｖ１は供給ラインＳＬに設けられ、定圧弁Ｖ１の後端の圧力を一定に維持する。このようにすることで、定圧弁Ｖ１はチャンバ２００内で吐出される薬液流量を一定に制御することができる。

【0027】

背圧弁Ｖ２は循環ラインＭＣＬで第１ノードＮ１の下流に設けられ、背圧弁Ｖ２の前端の圧力を一定に維持する。このようにすることで、循環ラインＭＣＬ内の圧力を一定に維持することができる。

【0028】

また、リターンラインＲＬは供給ラインＳＬと循環ラインＭＣＬを連結する。第３オンオフ弁Ｖ６がオフ状態であるとき、供給ラインＳＬに引込まれた薬液がリターンラインＲＬを介して循環ラインＭＣＬに復帰する。または、第３オンオフ弁Ｖ６がオン状態であるときも、供給ラインＳＬに引込まれた薬液の流量がチャンバ２００に吐出される薬液の流量より大きいと、残る薬液がリターンラインＲＬを介して供給ラインＳＬに復帰する。

【0029】

以下では、図２ないし図５を用いて、本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法を説明するための図である。

【0030】

図２は本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法を説明するためのタイミング図である。図３ないし図５は図２の基板処理方法を説明するための中間段階図である。

【0031】

図２および図３を参照すると、時間ｔ１で第２オンオフ弁Ｖ４はターンオンされる。
時間ｔ１～ｔ２（すなわち、第１区間）で、第１オンオフ弁Ｖ３と第３オンオフ弁Ｖ６はオフ状態であり、第２オンオフ弁Ｖ４はオン状態であるので、フィルタＦを通過した薬液はドレインラインＤＬを介してドレインされる（図面符号Ｆ１を参照）。

【0032】

図２および図４を参照すると、時間ｔ２で第１オンオフ弁Ｖ３と第３オンオフ弁Ｖ６はターンオンされる。第２オンオフ弁Ｖ４はオン状態を維持する。

【0033】

時間ｔ２～ｔ３（すなわち、第２区間）で、第１ないし第３オンオフ弁Ｖ３，Ｖ４，Ｖ６はオン状態であるので、フィルタＦを通過した薬液の一部はドレインされ（図面符号Ｆ１を参照）、他の一部は供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給され（図面符号Ｆ２を参照）、残りの一部は循環ラインＭＣＬを介して薬液供給ユニット１００に復帰する（図面符号Ｆ３を参照）。また、図示のように、供給ラインＳＬに引込まれた薬液の一部は、リターンラインＲＬを介して循環ラインＭＣＬに復帰する。

【0034】

図２および図５を参照すると、時間ｔ３で第２オンオフ弁Ｖ４はターンオフされる。第１オンオフ弁Ｖ３と第３オンオフ弁Ｖ６はオン状態を維持する。

【0035】

時間ｔ３以後（すなわち、第３区間）で、第２オンオフ弁Ｖ４はオフ状態であるので、フィルタＦを通過した薬液はこれ以上ドレインされない。フィルタＦを通過した薬液は供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給されるか（図面符号Ｆ２を参照）、循環ラインＭＣＬを介して薬液供給ユニット１００に復帰する（図面符号Ｆ３を参照）。

【0036】

以下では、図６ないし図８を参照して前述した方式でドレインする理由を説明する。図６はフィルタにフィルタ圧が維持される状態を示す図である。図７はフィルタにフィルタ圧が解除されるときの状態を示す図である。図８はフィルタに圧力が再び生成されるときの状態を示す図である。

【0037】

図６を参照すると、フィルタＦにフィルタ圧が一方向に加えられている（図示された矢印を参照）。薬液供給ユニット１００のポンプ（図１の２１を参照）は循環ラインＭＣＬを介して薬液を一方向に送るので、フィルタＦのメンブレン３１０にはフィルタ圧が一方向に生成される。

【0038】

このようなフィルタ圧によって多様な大きさのパーティクル３２０，３３０はメンブレン３１０の表面に集まってケーキを形成する。このように形成されたケーキは、小さな大きさのパーティクル（すなわち、微細パーティクル，３３０）もメンブレン３１０を通過できないようにする。すなわち、フィルタＦのメンブレン３１０上にケーキが形成されてこそ、フィルタリング動作を効率的に遂行することができる。

【0039】

図７を参照すると、フィルタＦに加えられるフィルタ圧が解除される。例えば、設備の改造、メンテナンスなどの理由でポンプ２１が中断され得る。このような場合、メンブレン３１０の表面でケーキをなしていたパーティクル３２０，３３０が解散する。

【0040】

図８を参照すると、フィルタＦにフィルタ圧が再生成される。例えば、設備の改造、メンテナンスなどが終了してポンプ２１を再稼働することができる。しかし、フィルタ圧が再生成される時点から第４区間の間には、フィルタＦのメンブレン３１０上にまだケーキが完成されていない。すなわち、大きな大きさのパーティクル３２０はメンブレン３１０の表面に引っ掛かるが、小さな大きさのパーティクル３３０はメンブレン３１０を通過する。

【0041】

メンブレン３１０の表面に大きな大きさのパーティクル３２０が十分に堆積することにより、中間の大きさのパーティクルがパーティクル３２０の上に堆積するか、パーティクル３２０の間の空間を埋める。その後に小さな大きさのパーティクル３３０がパーティクル３２０の上に堆積するか、パーティクル３２０の間の空間を埋めてケーキが完成される。

【0042】

まとめると、フィルタ圧が再生成される時点から第４区間の間には、メンブレン３１０上にケーキが形成されず、第４区間以後にはじめてメンブレン３１０上にケーキが再形成される。

【0043】

再び図２および図３を参照すると、時間ｔ１の前には、フィルタＦにフィルタ圧が加えられない。すなわち、薬液供給ユニット１００のポンプ２１が稼働しない。フィルタＦのメンブレン３１０の表面にはパーティクル３２０，３３０によるケーキが形成されていない状態である。

【0044】

時間ｔ１から、フィルタＦにフィルタ圧が加えられ始める。すなわち、時間ｔ１は薬液供給ユニット１００のポンプ２１が改造、メンテナンスなどの理由で中断されてから再稼働された時点（または、その直後またはその直前）であり得る。または、薬液供給ユニット１００の最初のセットアップ後に稼働される時点（または、その直後またはその直前）であり得る。

【0045】

時間ｔ１から所定時間（すなわち、前述した第４区間）の間は、フィルタＦのメンブレン３１０上にまだケーキが完成されない（図８を参照）。時間ｔ１から所定時間の間は、小さなパーティクル３３０はフィルタＦを通過する。フィルタＦを通過した薬液には、小さなパーティクル３３０が含まれている。したがって、時間ｔ１～ｔ２の間、第２オンオフ弁Ｖ４はオン状態を維持して、フィルタＦを通過した薬液を工程に使用せず、ドレインラインＤＬを介してドレインする（図面符号Ｆ１を参照）。

【0046】

時間ｔ２から、第１オンオフ弁Ｖ３と第３オンオフ弁Ｖ６もターンオンして、フィルタＦを通過した薬液の一部はドレインラインＤＬを介してドレインし（図面符号Ｆ１を参照）、他の一部は供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給し（図面符号Ｆ２を参照）、残りは循環ラインＭＣＬを介して薬液供給ユニット１００に復帰する（図面符号Ｆ３を参照）。

【0047】

改造、メンテナンスなどの理由で薬液供給ユニット１００のポンプ２１が中断されていたので、供給ラインＳＬおよび／または循環ラインＭＣＬは長時間の間空になっているか、薬液が停滞している。これはパーティクル生成に影響を及ぼす。

【0048】

したがって、一部の薬液をドレインしながら、供給ラインＳＬおよび／または循環ラインＭＣＬにも薬液を提供する。このようにすることで、供給ラインＳＬおよび／または循環ラインＭＣＬの配管が空になることを防止し、薬液停滞を防止することができる。すなわち、供給ラインＳＬおよび／または循環ラインＭＣＬに存在し得るパーティクルの生成要素を除去することができる。

【0049】

チャンバ２００に供給された薬液は工程にすぐに使用されず、オートディスペンス（ａｕｔｏ－ｄｉｓｐｅｎｓｅ）などによるノズルフラッシング（ｎｏｚｚｌｅ ｆｌｕｓｈｉｎｇ）に使用される。このようにすることで、パーティクル生成を最小化する。

【0050】

時間ｔ３から、第２オンオフ弁Ｖ４をターンオフして、フィルタＦを通過した薬液をこれ以上ドレインしない。時間ｔ１後に十分な時間が経過し（すなわち、前述した第４区間が経過して）、フィルタＦのメンブレン３１０上にケーキが生成されて小さなパーティクル３３０もメンブレン３１０をよく通過できなくなり、供給ラインＳＬおよび／または循環ラインＭＣＬに存在し得るパーティクルの生成要素を除去したからである。

【0051】

一方、時間ｔ１～ｔ３間、薬液供給ユニット１００から供給される薬液の第１流量（すなわち、フィルタＦを通過する薬液）は、ドレインラインＤＬを介してドレインされる薬液の第２流量と供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給される薬液の第３流量の合計より大きいか同じである。

【0052】

例えば、時間ｔ１～ｔ２間には、供給ラインＳＬを介してチャンバ２００に供給される薬液の第３流量は実質的に０である。したがって、薬液供給ユニット１００から供給される薬液の第１流量はドレインラインＤＬを介してドレインされる薬液の第２流量より大きいか同じである。フィルタＦで失われる薬液がなければ第１流量と第２流量が同じであり、フィルタＦで失われる薬液が発生すると、第１流量が第２流量より大きい。結果的に、第１流量は第２流量および第３流量の合計より大きいか同じである。

【0053】

時間ｔ２～ｔ３間には、薬液供給ユニット１００から供給される薬液は、ドレインラインＤＬ、供給ラインＳＬおよび循環ラインＭＣＬに分散する。したがって、第１流量は第２流量および第３流量の合計より大きい。

【0054】

図９は図１に示す薬液供給ユニットの例示的な構成である。

【0055】

図９を参照すると、薬液供給ユニット１００におけるタンク１１，１２は一つ以上設けられることができる。例示的に図１を参照するとタンク１１，１２は２個設けられる。

【0056】

タンク１１，１２は小循環ラインＳＣＬと循環ライン（または大循環ライン，ＭＣＬ）が連結される。

【0057】

小循環ラインＳＣＬにはポンプ１５とヒータ１６が設けられる。タンク１１，１２内の薬液は、小循環ラインＳＣＬを循環しながらヒータ１６によってターゲット温度に合わせられる。弁の動作に応じて、タンク（例えば、１１）から出た薬液はヒータ１６を経てタンク１１に復帰することもでき、他のタンク（例えば、１２）に供給されることもできる。

【0058】

循環ラインＭＣＬは図１で説明したように、リターンラインＲＬ、供給ラインＳＬおよびドレインラインＤＬと連結される。

【0059】

循環ラインＭＣＬにはチャンバ２００に供給される薬液の温度および流量を制御するための多様な構成が設けられる。例えば循環ラインＭＣＬにはポンプ（またはメインポンプ，２１）、ダンパ２２、メインヒータ２３、フィルタ２４、バブルカッタ２５、流量器２６などが設けられる。

【0060】

図１０は本発明の他の実施形態による基板処理装置を説明するための図である。説明の便宜上、図１ないし図５を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0061】

図１０を参照すると、本発明の他の実施形態による基板処理装置で、供給ラインＳＬを介して薬液が供給されるチャンバ２０１～２１２が多数個設けられることができる。

【0062】

多数のチャンバ２０１～２１２は、多層に配置される。図示のように、低層にはチャンバ２０１，２０２，２１１，２１２が配置され、中層にはチャンバ２０３，２０４，２０９，２１０が配置され、上層にはチャンバ２０５，２０６，２０７，２０８が配置される。供給ラインＳＬは低層でチャンバ２０１，２０２に一番最初に薬液を供給し、中層でチャンバ２０３，２０４に、上層でチャンバ２０５，２０６に薬液を供給するように設置される。次に、供給ラインＳＬは上層でチャンバ２０７，２０８に、中層でチャンバ２０９，２１０に、低層でチャンバ２１１，２１２に薬液を供給するように設けられる（図面符号Ｆ２を参照）。

【0063】

以上と添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】