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特許7369656熱触媒ＣＶＤ用の触媒線支持部材、挿抜用治具、熱触媒ＣＶＤ用ユニット、および成膜装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-18
(45)【発行日】2023-10-26
(54)【発明の名称】熱触媒ＣＶＤ用の触媒線支持部材、挿抜用治具、熱触媒ＣＶＤ用ユニット、および成膜装置
(51)【国際特許分類】
C23C 16/44 20060101AFI20231019BHJP
C23C 16/452 20060101ALI20231019BHJP
【ＦＩ】
C23C16/44 B
C23C16/452
【請求項の数】
12
(21)【出願番号】P 2020059563
(22)【出願日】2020-03-30
(65)【公開番号】P2021155826
(43)【公開日】2021-10-07
【審査請求日】2022-09-15
(73)【特許権者】
【識別番号】309036221
【氏名又は名称】三菱重工機械システム株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】000253503
【氏名又は名称】キリンホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100100077
【弁理士】
【氏名又は名称】大場 充
(74)【代理人】
【識別番号】100136010
【弁理士】
【氏名又は名称】堀川 美夕紀
(74)【代理人】
【識別番号】100130030
【弁理士】
【氏名又は名称】大竹 夕香子
(74)【代理人】
【識別番号】100203046
【弁理士】
【氏名又は名称】山下 聖子
(72)【発明者】
【氏名】上田 敦士
(72)【発明者】
【氏名】原田 秀一
(72)【発明者】
【氏名】木下 悟
(72)【発明者】
【氏名】仲田 智明
【審査官】神▲崎▼ 賢一
(56)【参考文献】
【文献】特開２００２－０９３７２３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－２４８６０４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－０５９１６８（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｃ １６／４４
Ｃ２３Ｃ １６／４５２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
大気圧に対して減圧された雰囲気下、被処理物への成膜にあたり原料ガスの接触分解反応の触媒として用いられる触媒線を支持する部材であって、前記触媒線を長手方向の端部から所定の範囲に亘り挟む挟持要素と、
弾性体を含み、前記弾性体の弾性力により、前記触媒線を挟む挟持方向への力を前記挟持要素に与える挟持力付与要素と、を備え、
前記挟持力付与要素は、
前記弾性力を前記挟持要素に向けて伝達し、かつ、前記挟持要素から前記弾性体への熱伝導を抑える断熱要素を含む、
触媒線支持部材。
【請求項2】
大気圧に対して減圧された雰囲気下、被処理物への成膜にあたり原料ガスの接触分解反応の触媒として用いられる触媒線を支持する部材であって、
前記触媒線を長手方向の端部から所定の範囲に亘り挟む挟持要素と、
弾性体を含み、前記弾性体の弾性力により、前記触媒線を挟む挟持方向への力を前記挟持要素に与える挟持力付与要素と、を備え、
前記挟持力付与要素は、
前記長手方向への弾性力を作用させる前記弾性体と、
前記弾性体の前記長手方向への弾性力を前記挟持方向への力に変換する力変換部と、を含む、
触媒線支持部材。
【請求項3】
前記弾性体は、前記力変換部を前記長手方向に押圧するコイルばねに相当し、前記力変換部は、前記挟持要素と共にくさび構造をなす筒状体に相当する、
請求項２に記載の触媒線支持部材。
【請求項4】
前記筒状体は、前記挟持要素から前記コイルばねへの熱伝導を抑える断熱要素を兼ねる、請求項３に記載の触媒線支持部材。
【請求項5】
前記挟持要素を含み、前記触媒線の前記端部から離れる向きに前記長手方向に沿って延在したソケットと、前記ソケットの周りに配置される前記コイルばねおよび前記筒状体と、
前記ソケットの周りであって、前記コイルばねと前記筒状体との間に介在するセラミック材料から形成された断熱要素と、を備える、
請求項４に記載の触媒線支持部材。
【請求項6】
請求項４または５に記載の触媒線支持部材に対して前記触媒線を挿抜させるための治具であって、前記長手方向に対して直交する受入方向から前記挟持要素を受け入れ可能な受容溝と、
前記受入方向に沿って配置される板状の基体と、を備え、
前記基体は、前記受入方向に移動されると、前記基体に形成された斜面が係合する前記筒状体と前記挟持要素との間に前記弾性力に抗して押し込まれる、
触媒線挿抜用治具。
【請求項7】
請求項１から５のいずれか一項に記載の触媒線支持部材としての第１支持部材および第２支持部材と、前記第１支持部材および前記第２支持部材と共に一体化され、前記原料ガスを前記触媒線の周囲に導入するガス導入管と、を備え、
前記触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成され、
前記第１支持部材の前記挟持要素は、一方の前記並行部を挟み、
前記第２支持部材の前記挟持要素は、他方の前記並行部を挟み、
前記ガス導入管は、前記第１支持部材と前記第２支持部材との間を前記長手方向に延びる、熱触媒ＣＶＤ用ユニット。
【請求項8】
前記ガス導入管は、前記挟持要素を超えて前記触媒線に隣接する位置まで前記長手方向に延び、前記ガス導入管の先端部の内径は、前記挟持要素の位置における内径と比べて大きい、
請求項７に記載の熱触媒ＣＶＤ用ユニット。
【請求項9】
前記先端部は、前記ガス導入管の本体に対して着脱可能に設けられる、請求項８に記載の熱触媒ＣＶＤ用ユニット。
【請求項10】
前記先端部の少なくとも一部は、前記本体の外周部を覆っている、請求項９に記載の熱触媒ＣＶＤ用ユニット。
【請求項11】
請求項１から５のいずれか一項に記載の触媒線支持部材としての第１支持部材および第２支持部材と、前記原料ガスを前記触媒線の周囲に導入するガス導入管と、
前記触媒線、前記触媒線支持部材、および前記被処理物を収容可能なチャンバと、
前記チャンバから外部へと吸引により気体が流出する排気経路と、を備え、
前記触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成され、
前記第１支持部材の前記挟持要素は、一方の前記並行部を挟み、
前記第２支持部材の前記挟持要素は、他方の前記並行部を挟み、
前記ガス導入管は、前記第１支持部材と前記第２支持部材との間を前記長手方向に延びる、成膜装置。
【請求項12】
前記被処理物は、ボトル状の容器であり、前記第１支持部材、前記第２支持部材、および前記ガス導入管は、前記容器の口部を通じて前記容器の内側に挿入される、請求項１１に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、熱触媒ＣＶＤ法による物品への成膜に用いられる触媒線を支持する支持部材、支持部材に対して触媒線を挿抜するための挿抜用治具、触媒線の支持部材およびガス導入管を備えた熱触媒ＣＶＤ用ユニット、および触媒線の支持部材を備えた成膜装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、プラズマＣＶＤに対して生産効率を向上させることが可能な成膜技術として、触媒化学気相成長（Cat－CVD；Catalytic Chemical Vapor Deposition）法の実用化が検討されている（特許文献１）。以下、触媒化学気相成長法のことを熱触媒ＣＶＤ法と称する。
熱触媒ＣＶＤ法は、例えば2,000℃に加熱される触媒線を使用する。触媒線は、タンタル基合金や炭化タンタル等の通電により発熱する抵抗体である。
熱触媒ＣＶＤ法では、発熱した触媒線に原料ガスを接触させ、触媒線の表面で接触分解反応により原料ガスを分解し、原料ガスの分解により得られた活性種を被処理物に堆積させる。
熱触媒ＣＶＤ法は、例えば2,000℃に加熱される触媒線を使用する。触媒線は、タンタル基合金や炭化タンタル等の通電により発熱する抵抗体である。
熱触媒ＣＶＤ法では、発熱した触媒線に原料ガスを接触させ、触媒線の表面で接触分解反応により原料ガスを分解し、原料ガスの分解により得られた活性種を被処理物に堆積させる。
【0003】
特許文献１は、タンタルを主構成元素として含む触媒線が挿入されたボトル状の樹脂製容器の内側に、酸素ガスが添加された有機シラン系化合物を原料ガスとして導入し、容器の内部に成膜する技術を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開２０１２／０９１０９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
触媒線は、その両端部を支持するソケットから突出した部分が例えば容器内壁等の成膜対象に対向して配置され、通電により加熱されると、原料ガスとの接触により活性種を発生させる。触媒線の両端部はそれぞれ、ソケットの支持部にねじ等で固定されることにより、支持部材の半割部の間に拘束されている。成膜処理毎に触媒線の熱膨張が繰り返される。熱膨張により触媒線に過大な応力が作用することを避けつつ、支持部に触媒線を安定して支持したい。
以上より、本開示は、熱膨張による過大な応力が触媒線に作用することを避けつつ、触媒線を安定して支持可能な支持部材を提供することを目的とする。
以上より、本開示は、熱膨張による過大な応力が触媒線に作用することを避けつつ、触媒線を安定して支持可能な支持部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係る触媒線支持部材は、大気圧に対して減圧された雰囲気下、被処理物への成膜にあたり原料ガスの接触分解反応の触媒として用いられる触媒線を支持する部材であって、触媒線を長手方向の端部から所定の範囲に亘り挟む挟持要素と、弾性体を含み、弾性体の弾性力により、触媒線を挟む挟持方向への力を挟持要素に与える挟持力付与要素と、を備える。
【0007】
本開示に係る触媒線挿抜用治具は、上述の触媒線支持部材に対して触媒線を挿抜させるための治具であって、長手方向に対して直交する受入方向から挟持要素を受け入れ可能な受容溝と、受入方向に沿って配置される板状の基体と、を備える。基体は、受入方向に移動されると、基体に形成された斜面が係合する筒状体と、挟持要素との間に弾性力に抗して押し込まれる。
【0008】
本開示に係る熱触媒ＣＶＤ用ユニットは、上述の触媒線支持部材としての第１支持部材および第２支持部材と、第１支持部材および第２支持部材と共に一体化され、原料ガスを触媒線の周囲に導入するガス導入管と、を備える。
触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成される。
第１支持部材の挟持要素は、一方の並行部を挟む。
第２支持部材の挟持要素は、他方の並行部を挟む。
ガス導入管は、第１支持部材と第２支持部材との間を長手方向に延びる。
触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成される。
第１支持部材の挟持要素は、一方の並行部を挟む。
第２支持部材の挟持要素は、他方の並行部を挟む。
ガス導入管は、第１支持部材と第２支持部材との間を長手方向に延びる。
【0009】
本開示に係る成膜装置は、上述の触媒線支持部材としての第１支持部材および第２支持部材と、原料ガスを触媒線の周囲に導入するガス導入管と、触媒線、触媒線支持部材、および被処理物を収容可能なチャンバと、チャンバから外部へと吸引により気体が流出する排気経路と、を備える。
触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成される。
第１支持部材の挟持要素は、一方の並行部を挟む。
第２支持部材の挟持要素は、他方の並行部を挟む。
ガス導入管は、第１支持部材と第２支持部材との間を長手方向に延びる。
触媒線は、一対の並行部を有した形状に形成される。
第１支持部材の挟持要素は、一方の並行部を挟む。
第２支持部材の挟持要素は、他方の並行部を挟む。
ガス導入管は、第１支持部材と第２支持部材との間を長手方向に延びる。
【発明の効果】
【0010】
本開示の触媒線支持部材およびそれを備えた熱触媒ＣＶＤ用ユニット並びに成膜装置によれば、触媒線支持部材が触媒線の熱膨張に追従して弾性変形可能な弾性体を含むことにより、触媒線の熱膨張時に挟持要素による触媒線への締め付けを緩和しつつ、弾性力により触媒線と挟持要素との電気的接続を確保しながら、触媒線に過大な応力を作用させることなく、触媒線を安定して支持することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】第１実施形態に係る熱触媒ＣＶＤ法による成膜装置を示す図である。
【図4】触媒線支持部材の作用を説明するための図である。
【図5】触媒線支持部材の変形例を示す図である。
【図6A】支持部材から触媒線を挿抜するために治具が用いられる様子を示す図である。
【図6B】挿抜用治具を示す平面図および側面図である。
【図7】第２実施形態に係る熱触媒ＣＶＤ用ユニットに備わるガス導入管の先端部および本体を示す外観図である。
【図8B】ガス導入管の先端部および本体の変形例を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、添付図面を参照しながら、実施形態について説明する。
［第１実施形態］
〔成膜装置の概略構成〕
図１に示す成膜装置１は、加熱される触媒線３を原料ガスの接触分解反応の触媒として用いる熱触媒ＣＶＤ（Cat－CVD；Catalytic Chemical Vapor Deposition）法により、ガスバリア性を有する薄膜を被処理物の一例としての容器２に形成する。
［第１実施形態］
〔成膜装置の概略構成〕
図１に示す成膜装置１は、加熱される触媒線３を原料ガスの接触分解反応の触媒として用いる熱触媒ＣＶＤ（Cat－CVD；Catalytic Chemical Vapor Deposition）法により、ガスバリア性を有する薄膜を被処理物の一例としての容器２に形成する。
【0013】
成膜装置１は、通電により発熱する触媒線３と、折り曲げられた触媒線３の端部３１，３２を弾性的に支持する触媒線支持部としての一対の支持部材１０と、触媒線３、支持部材１０、および容器２を収容するチャンバ４と、ガス導入管５と、排気経路６とを備えている。
【0014】
〔容器〕
容器２（図１）は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂材料からボトル状に形成されている。容器２は、底部２１から筒状に立ち上がる胴部２２と、胴部２２に対して径が小さい首部２３および口部２４とを備えている。
容器２の内表面に成膜するため、成膜時には、口部２４を通じて容器２の内側に少なくとも触媒線３および支持部材１０が挿入される。
容器２（図１）は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂材料からボトル状に形成されている。容器２は、底部２１から筒状に立ち上がる胴部２２と、胴部２２に対して径が小さい首部２３および口部２４とを備えている。
容器２の内表面に成膜するため、成膜時には、口部２４を通じて容器２の内側に少なくとも触媒線３および支持部材１０が挿入される。
【0015】
成膜処理の後、容器２の内部への例えば飲料の充填処理、続いて口部２４に装着される図示しない蓋による容器２の密封処理を経て、容器入り製品が製造される。成膜装置１により容器２の内表面に形成される薄膜（以下、ガスバリア膜）は、酸素ガスや炭酸ガス、水蒸気等の気体の通過を防ぐガスバリア性を有するから、容器２に入れられた内容物の品質が保持される。
【0016】
〔触媒線〕
触媒線３（図１および図２）は、例えば、金属タンタル（Ｔａ）、タンタル基合金または炭化タンタル（ＴａＣｘ）等を用いて形成されている。
触媒線３は、第１端部３１および第２端部３２を有する一本のワイヤに相当する。触媒線３は、折り曲げ部３Ｃにおいて折り曲げられることで、所定間隔をおいて平行に延びる一対の並行部３Ａ，３Ｂを有したＵ字の形状をなしている。
なお、触媒線３は、ガス導入管５と干渉しない限り、複数箇所で折り曲げられることにより、並行部３Ａと並行部３Ｂとの間に他の１つ以上の並行部を有していてもよい。
触媒線３（図１および図２）は、例えば、金属タンタル（Ｔａ）、タンタル基合金または炭化タンタル（ＴａＣｘ）等を用いて形成されている。
触媒線３は、第１端部３１および第２端部３２を有する一本のワイヤに相当する。触媒線３は、折り曲げ部３Ｃにおいて折り曲げられることで、所定間隔をおいて平行に延びる一対の並行部３Ａ，３Ｂを有したＵ字の形状をなしている。
なお、触媒線３は、ガス導入管５と干渉しない限り、複数箇所で折り曲げられることにより、並行部３Ａと並行部３Ｂとの間に他の１つ以上の並行部を有していてもよい。
【0017】
図１に示す例では、触媒線３の両端部３１，３２がそれぞれ、チャンバ４の下壁４２から起立した支持部材１０の上端部に支持されている。並行部３Ａ，３Ｂは、支持部材１０により支持された長手方向Ｄ１の端部３１，３２から、上端に相当する折り曲げ部３Ｃに向けて、一方向に平行に延びている。
図１に示す触媒線３は、チャンバ４の軸線４Ｘの近傍で、軸線４Ｘに対して平行に配置されている。本実施形態において、軸線４Ｘは、上下方向（鉛直方向）に設定されているから、触媒線３の長手方向は上下方向に一致する。
図１に示す触媒線３は、チャンバ４の軸線４Ｘの近傍で、軸線４Ｘに対して平行に配置されている。本実施形態において、軸線４Ｘは、上下方向（鉛直方向）に設定されているから、触媒線３の長手方向は上下方向に一致する。
【0018】
触媒線３がタンタルを主たる構成元素として含む場合、原料ガスとしては、例えば、有機シラン系化合物等を用いることができる。その場合、原料ガスに酸素ガスが添加されることが好ましい。有機シラン系化合物の一例として、ビニルシラン(ＣＨ２＝ＣＨ－ＳｉＨ３)を例示できる。
【0019】
触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂは、支持部材１０を介して、絶縁体１８Ｃに設けられた端子１９１，１９２に接続されている。それらの端子１９１，１９２に接続された電線１９３を通じて、成膜処理時には電源装置２０により触媒線３に直流電流が印加される。直流電流の印加により、触媒線３は、例えば約2,000℃に発熱する。触媒線３は、成膜処理毎に熱膨張を繰り返す。
【0020】
発熱した触媒線３と接触した原料ガスの分解により、活性種が発生し、容器２に到達した活性種が容器２の内表面に堆積することで、ガスバリア膜が形成される。触媒線３から活性種が到達可能な領域（成膜可能領域）は、触媒線３から、触媒線３に対して直交する方向に所定距離だけ離れた位置までのほぼ円筒状の空間に相当する。
【0021】
触媒線３と容器２の内表面との間には、少なくとも、容器２と触媒線３との干渉を避け、かつ触媒線３から放射される熱による容器２への影響を避けるためのクリアランス分の距離が確保される。通電時における触媒線３の周囲の雰囲気は、所定の真空度まで減圧されるため、基本的には触媒線３からの放射熱のみを考慮した距離を触媒線３と容器２との間に確保することにより、成膜時の熱による樹脂製の容器２の変形を避けることができる。
【0022】
図１に示す例では、触媒線３および支持部材１０に対して、口部２４を下方に向けた倒立姿勢の容器２が昇降可能に構成されている。
例えば、一点鎖線で示すように容器２の胴部２２が触媒線３の周りに配置されており、首部２３および口部２４が支持部材１０の周りに配置されている状態から、口部２４の近傍に設けられた鍔を把持する容器把持部７が矢印で示すように上方へ駆動されることにより、容器２が二点鎖線で示す位置へと上昇すると、二点鎖線で示すように首部２３および口部２４が触媒線３の周りに配置される。
こうした触媒線３に対する容器２の相対変位により、折り曲げられた状態の長さが容器２の高さに対して短い触媒線３を用いつつ、容器２の内部の全域に亘り成膜することができる。また、触媒線３に対して容器２を触媒線３の長手方向Ｄ１に変位させることで、容器２を含め、高さの異なる複数種類の容器への成膜に同一の成膜装置１を用いることができる。
例えば、一点鎖線で示すように容器２の胴部２２が触媒線３の周りに配置されており、首部２３および口部２４が支持部材１０の周りに配置されている状態から、口部２４の近傍に設けられた鍔を把持する容器把持部７が矢印で示すように上方へ駆動されることにより、容器２が二点鎖線で示す位置へと上昇すると、二点鎖線で示すように首部２３および口部２４が触媒線３の周りに配置される。
こうした触媒線３に対する容器２の相対変位により、折り曲げられた状態の長さが容器２の高さに対して短い触媒線３を用いつつ、容器２の内部の全域に亘り成膜することができる。また、触媒線３に対して容器２を触媒線３の長手方向Ｄ１に変位させることで、容器２を含め、高さの異なる複数種類の容器への成膜に同一の成膜装置１を用いることができる。
【0023】
上記構造とは異なり、二点鎖線で示す位置に容器２が配置されているときに、触媒線３が、容器２の高さ方向のほぼ全体に亘り延びていてもよい。その場合は、容器２を昇降させる必要はない。
倒立姿勢の容器２に対して成膜することによれば、成膜時に発生するダストが容器２の内側に入り難い。
但し、成膜中の容器２の姿勢に制約はなく、正立姿勢に保持された状態で容器２への成膜が行われてもよい。その場合、触媒線３が上方から口部２４を通じて容器２内に挿入される。
倒立姿勢の容器２に対して成膜することによれば、成膜時に発生するダストが容器２の内側に入り難い。
但し、成膜中の容器２の姿勢に制約はなく、正立姿勢に保持された状態で容器２への成膜が行われてもよい。その場合、触媒線３が上方から口部２４を通じて容器２内に挿入される。
【0024】
〔支持部材の概要〕
図１および図２に示すように、触媒線３の並行部３Ａの端部３１は、第１支持部材１０－１に支持され、並行部３Ｂの端部３２は、第２支持部材１０－２に支持される。第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２を特に区別しない場合、第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２のそれぞれを単に支持部材１０と称する。
図１および図２に示すように、触媒線３の並行部３Ａの端部３１は、第１支持部材１０－１に支持され、並行部３Ｂの端部３２は、第２支持部材１０－２に支持される。第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２を特に区別しない場合、第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２のそれぞれを単に支持部材１０と称する。
【0025】
支持部材１０は、少なくとも、挟持要素１１１および挟持力付与要素１２を備えている。挟持要素１１１は、触媒線３を端部（端部３１または端部３２）から長手方向Ｄ１へ所定の範囲３Ｒに亘り挟む。この挟持範囲３Ｒの長手方向Ｄ１への長さは、触媒線３を安定して支持可能な長さに設定されている。
挟持力付与要素１２は、コイルばね１２１の弾性力により、触媒線３を挟む挟持方向Ｄ２への力を挟持要素１１１に与える。支持部材１０の詳細な構成は後述する。
挟持力付与要素１２は、コイルばね１２１の弾性力により、触媒線３を挟む挟持方向Ｄ２への力を挟持要素１１１に与える。支持部材１０の詳細な構成は後述する。
【0026】
【0027】
チャンバ部材４０は、容器２を出し入れするため、上部４０Ｕと下部４０Ｌとに分割されており、上部４０Ｕと下部４０Ｌとの間が開閉可能に構成されている。上部４０Ｕの端面と下部４０Ｌの端面との間は、環状シール４４により封止される。成膜時にチャンバ４は大気圧に対して減圧される。
【0028】
図示しない昇降機構により下部４０Ｌに対して上部４０Ｕが上昇することで、上部４０Ｕと下部４０Ｌとの間が開かれると、例えば、図示しないロボットアーム等により倒立の姿勢に支持された容器２が容器把持部７まで移動し、容器把持部７により容器２が把持される。
【0029】
チャンバ４の減圧に要する時間の短縮、および成膜のためチャンバ４に必要な原料ガスの使用量を抑える観点から、容器２のサイズに対してチャンバ部材４０が大き過ぎる場合は、チャンバ４の容積を減らすために、チャンバ部材４０の内壁に図示しないライナを配置することが好ましい。
【0030】
〔ガス導入管〕
ガス導入管５は、触媒線３の長手方向Ｄ１に対して平行に配置され、触媒線３および一対の支持部材１０（１０－１，１０－２）と共に口部２４から容器２の内側に挿入される。ガス導入管５は、供給源５Ｓから供給される原料ガスを容器２の内側に位置する吐出口５０Ａから触媒線３の周囲に導入する。ガス導入管５は、触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂの間に配置されることが好ましい。
ガス導入管５は、触媒線３の長手方向Ｄ１に対して平行に配置され、触媒線３および一対の支持部材１０（１０－１，１０－２）と共に口部２４から容器２の内側に挿入される。ガス導入管５は、供給源５Ｓから供給される原料ガスを容器２の内側に位置する吐出口５０Ａから触媒線３の周囲に導入する。ガス導入管５は、触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂの間に配置されることが好ましい。
【0031】
触媒線３の近傍に配置されるガス導入管５の変形を避けるため、ガス導入管５には、成膜時に触媒線３から放射される熱に耐えるセラミックス材料や耐熱金属等の耐熱性の高い材料から形成されている。ガス導入管５は、例えば、石英ガラス、あるいはモリブデンから形成されている。
【0032】
ガス導入管５は、同じく長手方向Ｄ１に対して平行に延びる一対の支持部材１０と共に一体化されることが好ましい。この場合、一対の支持部材１０とガス導入管５とを備えた熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００が構成されている。
ガス導入管５と一対の支持部材１０のそれぞれとの間には、部材の熱膨張を見込んだクリアランスが設定されることが好ましい。
図１に示すＣＶＤ用ユニット１００は、一対の支持部材１０およびガス導入管５を支持する基部１８を備えている。基部１８は、例えば銅から形成された基部電極１８Ａ，１８Ｂと、絶縁体１８Ｃとを含んでおり、下壁４２に設置される。熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００は、一対の支持部材１０およびガス導入管５を結束する部材を備えていてもよい。
ガス導入管５と一対の支持部材１０のそれぞれとの間には、部材の熱膨張を見込んだクリアランスが設定されることが好ましい。
図１に示すＣＶＤ用ユニット１００は、一対の支持部材１０およびガス導入管５を支持する基部１８を備えている。基部１８は、例えば銅から形成された基部電極１８Ａ，１８Ｂと、絶縁体１８Ｃとを含んでおり、下壁４２に設置される。熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００は、一対の支持部材１０およびガス導入管５を結束する部材を備えていてもよい。
【0033】
図１に示す例では、ガス導入管５が、下壁４２の軸心位置で絶縁体１８Ｃと、基部電極１８Ａ，１８Ｂの間とを貫通し、一対の支持部材１０の間を上方へ延び、さらに、触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂの間を上方へ延びている。ガス導入管５の長さは、成膜する容器２の高さ等に応じて適宜に定めることができる。
【0034】
熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００は、容器２等の被処理物の外表面への成膜に適用することもできる。その場合、単数または複数の被処理物と共に触媒線３を収容するチャンバ４に、チャンバ４に通じるガス導入経路を通じて原料ガスが導入される。
被処理物の外表面に成膜する場合、ガス導入管５が必ずしも並行部３Ａ，３Ｂの間を延びている必要はない。ガス導入管５に代えて、原料ガスをチャンバ４に導入するガス導入経路が、例えば下壁４２に形成されていれば足りる。その場合は、一対の支持部材１０が一体に組み付けられてユニット化されていてもよい。
被処理物の外表面に成膜する場合、ガス導入管５が必ずしも並行部３Ａ，３Ｂの間を延びている必要はない。ガス導入管５に代えて、原料ガスをチャンバ４に導入するガス導入経路が、例えば下壁４２に形成されていれば足りる。その場合は、一対の支持部材１０が一体に組み付けられてユニット化されていてもよい。
【0035】
被処理物としては、樹脂材料から形成されたものに限らず、他の材料、例えば、金属材料から形成されたものであってもよく、例えば、金属製のボトル状の缶であってもよい。使用する原料ガスに応じて、例えば、耐摩耗性を有する薄膜を被処理物に形成することも実現可能である。
【0036】
〔排気経路〕
チャンバ部材４０の側壁４３には、排気装置６Ｓに接続された排気経路６が設けられている。排気装置６Ｓは、真空ポンプ、真空タンク、真空バルブ、および圧力計等を含んで構成されている。この排気装置６Ｓの作動により、排気経路６を通じてチャンバ４から外部へと気体が吸引されることで、チャンバ４が所定の真空度まで減圧される。
チャンバ部材４０の側壁４３には、排気装置６Ｓに接続された排気経路６が設けられている。排気装置６Ｓは、真空ポンプ、真空タンク、真空バルブ、および圧力計等を含んで構成されている。この排気装置６Ｓの作動により、排気経路６を通じてチャンバ４から外部へと気体が吸引されることで、チャンバ４が所定の真空度まで減圧される。
【0037】
〔支持部材の詳細〕
次に、図１～図４を参照し、一対の支持部材１０（１０－１，１０－２）の構成を説明する。一対の支持部材１０はそれぞれ、触媒線３を弾性的に支持する。
以下、触媒線３の端部３１に対応する第１支持部材１０－１を例に取り説明する。触媒線３の端部３２に対応する第２支持部材１０－２は、第１支持部材１０－１と同様に構成されている。これらの支持部材１０－１，１０－２のいずれも、触媒線３の長手方向Ｄ１に沿って延びている。
次に、図１～図４を参照し、一対の支持部材１０（１０－１，１０－２）の構成を説明する。一対の支持部材１０はそれぞれ、触媒線３を弾性的に支持する。
以下、触媒線３の端部３１に対応する第１支持部材１０－１を例に取り説明する。触媒線３の端部３２に対応する第２支持部材１０－２は、第１支持部材１０－１と同様に構成されている。これらの支持部材１０－１，１０－２のいずれも、触媒線３の長手方向Ｄ１に沿って延びている。
【0038】
第１支持部材１０－１は、挟持要素１１１を含むソケット１１と、コイルばね１２１、筒状体１２２、および第１カラー１２３を含む挟持力付与要素１２と、ソケット１１が装着される棒電極１５と、ボルト１６およびナット１７とを備えている。
第１支持部材１０－１は、触媒線３の熱膨張に追従可能に、触媒線３をコイルばね１２１の弾性力により挟んだ状態に支持する。第１支持部材１０－１の各構成要素には、発熱した触媒線３から伝わる熱の勾配に応じて、適切な材質が選定される。
第１支持部材１０－１は、触媒線３の熱膨張に追従可能に、触媒線３をコイルばね１２１の弾性力により挟んだ状態に支持する。第１支持部材１０－１の各構成要素には、発熱した触媒線３から伝わる熱の勾配に応じて、適切な材質が選定される。
【0039】
触媒線３から発せられる熱が、触媒線３を挟持する挟持要素１１１に直接的に伝達され、挟持要素１１１から筒状体１２２へと熱が伝導する。そのため、少なくとも挟持要素１１１および筒状体１２２には、触媒線３から伝わる熱に対する耐熱性を有した材料が選定される。加えて、コイルばね１２１を許容温度以下に維持するため、熱伝導率が金属材料と比べて十分に低い材料から形成される断熱要素としての第１カラー１２３を筒状体１２２とコイルばね１２１との間に介在させている。
【0040】
＜ソケット＞
ソケット１１は、全体として概ね横断面が円形の棒状に形成されており、触媒線３の端部３１から離れる向きに長手方向Ｄ１に沿って延在している。また、ソケット１１は、筒状体１２２に係合される斜面１１Ｓよりも下方の領域である小径部ｄＡと、斜面１１Ｓよりも上方の領域である大径部ｄＢとを含んでいる。
ソケット１１は、全体として概ね横断面が円形の棒状に形成されており、触媒線３の端部３１から離れる向きに長手方向Ｄ１に沿って延在している。また、ソケット１１は、筒状体１２２に係合される斜面１１Ｓよりも下方の領域である小径部ｄＡと、斜面１１Ｓよりも上方の領域である大径部ｄＢとを含んでいる。
【0041】
このソケット１１は、触媒線３を長手方向Ｄ１の端部３１から挟持範囲３Ｒに亘り挟む挟持要素１１１と、挟持要素１１１から下方に連なり、棒電極１５に装着される装着要素１１２とを含んでいる。ソケット１１および棒電極１５は、触媒線３に通電するための電極に相当する。ソケット１１および棒電極１５が一体に形成されていてもよい。
【0042】
ソケット１１は、発熱した触媒線３から直接的に伝達される熱に対する耐熱性を有した材料を用いて一体に形成されている。触媒線３に近い筒状体１２２にも、ソケット１１と同等の耐熱性が要求される。ソケット１１および筒状体１２２は、例えば、導電性、強度、および耐熱性を有する金属（モリブデン合金等）を用いて形成することができる。
【0043】
（挟持要素）
挟持要素１１１は、一対の半割部１１１Ａ，１１１Ｂからなる。半割部１１１Ａ，１１１Ｂは、ソケット１１の上端１１Ｕから下方へ触媒線３の長手方向Ｄ１に対して平行に延び、触媒線３を挟持範囲３Ｒに亘り触媒線３の径方向の両側から挟む。半割部１１１Ａ，１１１Ｂが挟持範囲３Ｒを挟む方向のことを挟持方向Ｄ２と称する。挟持方向Ｄ２は、触媒線３の長手方向Ｄ１に対して直交する。
半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間には、触媒線３の直径に対応する幅の間隙が、挟持範囲３Ｒの長さとほぼ同じ長さに亘り形成されている。
挟持要素１１１は、一対の半割部１１１Ａ，１１１Ｂからなる。半割部１１１Ａ，１１１Ｂは、ソケット１１の上端１１Ｕから下方へ触媒線３の長手方向Ｄ１に対して平行に延び、触媒線３を挟持範囲３Ｒに亘り触媒線３の径方向の両側から挟む。半割部１１１Ａ，１１１Ｂが挟持範囲３Ｒを挟む方向のことを挟持方向Ｄ２と称する。挟持方向Ｄ２は、触媒線３の長手方向Ｄ１に対して直交する。
半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間には、触媒線３の直径に対応する幅の間隙が、挟持範囲３Ｒの長さとほぼ同じ長さに亘り形成されている。
【0044】
図２に示すように、第１支持部材１０－１の半割部１１１Ａ，１１１Ｂの分割位置の位相と、第２支持部材１０－２の半割部１１１Ａ，１１１Ｂの分割位置の位相とが一致していると、触媒線３を安定した姿勢に支持する観点から好ましい。分割位置の位相が一致していると、第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２のそれぞれにおける挟持方向Ｄ２が互いに平行である。
さらに、本実施形態においては、第１支持部材１０－１の挟持要素１１１と第２支持部材１０－２の挟持要素１１１とが挟持方向Ｄ２に並んでいる。
さらに、本実施形態においては、第１支持部材１０－１の挟持要素１１１と第２支持部材１０－２の挟持要素１１１とが挟持方向Ｄ２に並んでいる。
【0045】
半割部１１１Ａ，１１１Ｂは、挟持力付与要素１２により付与される挟持力により触媒線３を挟持方向Ｄ２に締め付けつつ、触媒線３の熱膨張に追従して径方向外側へ拡がる。
半割部１１１Ａ，１１１Ｂの基端には、応力集中によるソケット１１の破損を防ぐため、側面視において円形状の孔１１Ｈが、長手方向Ｄ１および挟持方向Ｄ２の双方に対して直交する方向に貫通している。
半割部１１１Ａ，１１１Ｂの基端には、応力集中によるソケット１１の破損を防ぐため、側面視において円形状の孔１１Ｈが、長手方向Ｄ１および挟持方向Ｄ２の双方に対して直交する方向に貫通している。
【0046】
挟持要素１１１の外周部には、ソケット１１の上端１１Ｕに向かうにつれて次第に外径が増加する斜面１１Ｓが周方向に連続して形成されている。この斜面１１Ｓよりも下方の小径部ｄＡの外径に対して、斜面１１Ｓよりも上方の大径部ｄＢの外径は大きい。小径部ｄＡは、斜面１１Ｓの下端から、ソケット１１の下端部１１Ｌまでに亘り延在している。
【0047】
挟持要素１１１の質量を大径化により増加させると、熱容量を増加させて変形や溶損をより十分に防ぐ上で有利である。本実施形態の大径部ｄＢの外径は、触媒線３が露出する上端１１Ｕ側では最大径部ｄＣの径にまで拡大されている。
【0048】
（装着部）
装着要素１１２は、横断面が円形の棒状に形成され、ソケット１１の下端部１１Ｌまで延びている。装着要素１１２の下端部１１Ｌ側は、棒電極１５の上端１５Ｕから長手方向Ｄ１に沿って、棒電極１５の軸心に形成された固定孔１５Ａに挿入される。装着要素１１２と棒電極１５とは、それらを径方向に貫通する貫通孔１５Ｂに挿入されるボルト１６と、ボルト１６に係合するナット１７とを用いて固定される。
棒電極１５は、ソケット１１と同軸に棒状に形成されている。棒電極１５の下端部１５Ｌは、基部電極１８Ａに図示しないボルトを用いて締結される。
装着要素１１２は、横断面が円形の棒状に形成され、ソケット１１の下端部１１Ｌまで延びている。装着要素１１２の下端部１１Ｌ側は、棒電極１５の上端１５Ｕから長手方向Ｄ１に沿って、棒電極１５の軸心に形成された固定孔１５Ａに挿入される。装着要素１１２と棒電極１５とは、それらを径方向に貫通する貫通孔１５Ｂに挿入されるボルト１６と、ボルト１６に係合するナット１７とを用いて固定される。
棒電極１５は、ソケット１１と同軸に棒状に形成されている。棒電極１５の下端部１５Ｌは、基部電極１８Ａに図示しないボルトを用いて締結される。
【0049】
支持部材１０には、ソケット１１、棒電極１５、および挟持力付与要素１２の各構成部材の全体に亘り、一定の外径が与えられている。
【0050】
＜挟持力付与要素＞
挟持力付与要素１２は、弾性体としてのコイルばね１２１と、挟持要素１１１とコイルばね１２１との長手方向Ｄ１の間に介在する筒状体１２２と、筒状体１２２とコイルばね１２１との長手方向Ｄ１の間に介在する断熱要素としての第１カラー１２３と、第１カラー１２３と共にコイルばね１２１を保持する第２カラー１２４とを含んでいる。挟持要素１１１および筒状体１２２は共にくさび構造をなしている。
本実施形態の支持部材１０は、細径化に適するくさび構造を挟持力付与要素１２に採用する。
挟持力付与要素１２は、弾性体としてのコイルばね１２１と、挟持要素１１１とコイルばね１２１との長手方向Ｄ１の間に介在する筒状体１２２と、筒状体１２２とコイルばね１２１との長手方向Ｄ１の間に介在する断熱要素としての第１カラー１２３と、第１カラー１２３と共にコイルばね１２１を保持する第２カラー１２４とを含んでいる。挟持要素１１１および筒状体１２２は共にくさび構造をなしている。
本実施形態の支持部材１０は、細径化に適するくさび構造を挟持力付与要素１２に採用する。
【0051】
コイルばね１２１、筒状体１２２、第１カラー１２３、および第２カラー１２４は、上述のソケット１１の小径部ｄＡの周りに配置されている。ソケット１１の部位で言えば、筒状体１２２および第１カラー１２３が挟持要素１１１の周りに配置され、第２カラー１２４は装着要素１１２の周りに配置されている。コイルばね１２１の上側は、挟持要素１１１の周りに配置され、コイルばね１２１の下側は、装着要素１１２の周りに配置されている。
【0052】
（コイルばね）
コイルばね１２１は、圧縮コイルばねであり、長手方向Ｄ１に作用する弾性力により筒状体１２２を挟持要素１１１に対して押圧する。コイルばね１２１の上端部は、第１カラー１２３の保持部１２３Ａに係合し、コイルばね１２１の下端部は、第２カラー１２４の保持部１２４Ａに係合する。
コイルばね１２１は、圧縮コイルばねであり、長手方向Ｄ１に作用する弾性力により筒状体１２２を挟持要素１１１に対して押圧する。コイルばね１２１の上端部は、第１カラー１２３の保持部１２３Ａに係合し、コイルばね１２１の下端部は、第２カラー１２４の保持部１２４Ａに係合する。
【0053】
コイルばね１２１は、保持部１２３Ａ，１２４Ａにより、コイルばね１２１の内側に通された小径部ｄＡとの間に空隙が存在する状態に、ソケット１１と同軸に配置される。そのため、小径部ｄＡはコイルばね１２１に干渉しない。また、空隙の存在により、小径部ｄＡからコイルばね１２１への熱伝導が抑制される。
【0054】
（筒状体）
筒状体１２２は、挟持要素１１１と共に、コイルばね１２１の長手方向Ｄ１への弾性力Ｆ１（図４）を挟持方向Ｄ２への挟持力Ｆ２（図４）へと変換する。くさび構造をなす挟持要素１１１および筒状体１２２が力変換部１２Ｆに相当する。挟持要素１１１は力変換部１２Ｆを兼ねている。
筒状体１２２の内周部には、挟持要素１１１の斜面１１Ｓに突き当てられて係合する斜面１２２Ｓが周方向に連続して形成されている。
斜面１２２Ｓは、筒状体１２２の上端１２２Ｕに向かうにつれて次第に内径が増加する。
筒状体１２２は、挟持要素１１１と共に、コイルばね１２１の長手方向Ｄ１への弾性力Ｆ１（図４）を挟持方向Ｄ２への挟持力Ｆ２（図４）へと変換する。くさび構造をなす挟持要素１１１および筒状体１２２が力変換部１２Ｆに相当する。挟持要素１１１は力変換部１２Ｆを兼ねている。
筒状体１２２の内周部には、挟持要素１１１の斜面１１Ｓに突き当てられて係合する斜面１２２Ｓが周方向に連続して形成されている。
斜面１２２Ｓは、筒状体１２２の上端１２２Ｕに向かうにつれて次第に内径が増加する。
【0055】
筒状体１２２は、コイルばね１２１により押圧されると、斜面１２２Ｓ，１１Ｓに作用する分力（Ｆ２）により挟持要素１１１を挟持方向Ｄ２に加圧する。
コイルばね１２１および筒状体１２２により挟持力Ｆ２が付与される挟持要素１１１によって、触媒線３が挟持方向Ｄ２に締め付けられることで、触媒線３がソケット１１に電気的に接続されるとともに固定される。
コイルばね１２１および筒状体１２２により挟持力Ｆ２が付与される挟持要素１１１によって、触媒線３が挟持方向Ｄ２に締め付けられることで、触媒線３がソケット１１に電気的に接続されるとともに固定される。
【0056】
挟持要素１１１に挟まれた触媒線３の膨張および収縮による径の変動に伴い、筒状体１２２は、小径部ｄＡによりガイドされつつ、斜面１２２Ｓを斜面１１Ｓに係合させつつ、ソケット１１に対して長手方向Ｄ１に相対変位する。
例えば、触媒線３の熱膨張による径の拡大によって半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間が径方向外側に向けて拡がると、斜面１２２Ｓ，１１Ｓに作用する分力により筒状体１２２がコイルばね１２１を押し下げながらソケット１１に対して下方へ変位する。
例えば、触媒線３の熱膨張による径の拡大によって半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間が径方向外側に向けて拡がると、斜面１２２Ｓ，１１Ｓに作用する分力により筒状体１２２がコイルばね１２１を押し下げながらソケット１１に対して下方へ変位する。
【0057】
筒状体１２２および挟持要素１１１には、相対変位範囲に亘り斜面１２２Ｓ，１１Ｓを係合させるに足りる高さおよび径方向の寸法が与えられている。これは、筒状体１２２および挟持要素１１１の熱容量の確保に寄与するとともに、挟持要素１１１に弾性力を安定して伝達することにも寄与する。
上述した挟持要素１１１の外径は、小径部ｄＡから斜面１１Ｓを経て大径部ｄＢの径にまで増加し、さらに、最大径部ｄＣの径にまで増加している。最大径部ｄＣは、挟持要素１１１において筒状体１２２と干渉しない領域に設定されており、筒状体１２２の外径と同等あるいはそれよりも大きい径に形成されている。
上述した挟持要素１１１の外径は、小径部ｄＡから斜面１１Ｓを経て大径部ｄＢの径にまで増加し、さらに、最大径部ｄＣの径にまで増加している。最大径部ｄＣは、挟持要素１１１において筒状体１２２と干渉しない領域に設定されており、筒状体１２２の外径と同等あるいはそれよりも大きい径に形成されている。
【0058】
（第１カラー）
第１カラー１２３は、挟持要素１１１および筒状体１２２からコイルばね１２１への熱伝導を抑制する断熱要素に相当する。
第１カラー１２３は、挟持要素１１１および筒状体１２２からコイルばね１２１への熱伝導を抑制する断熱要素に相当する。
【0059】
第１カラー１２３は、触媒線３から挟持要素１１１および筒状体１２２を介して伝わる熱に対する耐熱性を有するとともに熱伝導率が典型的な金属材料に比べて十分に低いセラミック材料を用いて筒状に形成されている。
【0060】
この第１カラー１２３は、コイルばね１２１の弾性力を、筒状体１２２を介して挟持要素１１１へと伝達する。第１カラー１２３には、筒状体１２２を確実に押すために必要な剛性が確保されている。
【0061】
触媒線３から発せられる熱の伝導が第１カラー１２３により抑制されることで、コイルばね１２１は、ソケット１１や筒状体１２２に使用されるモリブデン等の耐熱金属よりも耐熱温度の低いばね材を用いて形成することができる。コイルばね１２１は、例えば、インコネル（登録商標）600，X-750等のニッケル基合金を用いて形成されている。コイルばね１２１に伝わる熱の温度によっては、SUS631J1-WPC等のステンレス鋼を用いることもできる。
触媒線３から2,000℃の熱が発せられたとしても、挟持要素１１１とコイルばね１２１との間に第１カラー１２３が介在していることで、コイルばね１２１を使用上許容される温度以下に維持することができる。
触媒線３から2,000℃の熱が発せられたとしても、挟持要素１１１とコイルばね１２１との間に第１カラー１２３が介在していることで、コイルばね１２１を使用上許容される温度以下に維持することができる。
【0062】
（第２カラー）
第２カラー１２４は、第１カラー１２３等と比べると発熱源である触媒線３から離れており、また、第２カラー１２４と発熱源との間には断熱要素としての第１カラー１２３が介在している。そのため、第２カラー１２４に要求される耐熱温度は、第１カラー１２３やコイルばね１２１と比べて低い。したがって、第２カラー１２４は、例えば、ステンレス鋼等の適宜な金属材料を用いて形成することができる。同様の理由から、第２カラー１２４が上端１５Ｕに配置される棒電極１５も、例えば、ステンレス鋼等の適宜な金属材料を用いて形成することができる。
第２カラー１２４は、第１カラー１２３等と比べると発熱源である触媒線３から離れており、また、第２カラー１２４と発熱源との間には断熱要素としての第１カラー１２３が介在している。そのため、第２カラー１２４に要求される耐熱温度は、第１カラー１２３やコイルばね１２１と比べて低い。したがって、第２カラー１２４は、例えば、ステンレス鋼等の適宜な金属材料を用いて形成することができる。同様の理由から、第２カラー１２４が上端１５Ｕに配置される棒電極１５も、例えば、ステンレス鋼等の適宜な金属材料を用いて形成することができる。
【0063】
本実施形態では、第１カラー１２３および第２カラー１２４の部品の共通化を図る観点から、第２カラー１２４は、第１カラー１２３と同様の石英ガラス等の材料を用いて、第１カラー１２３と同一の形状に形成されている。
【0064】
支持部材１０を組み立てる際は、図３に示すように、ソケット１１の下端部１１Ｌから、筒状体１２２、第１カラー１２３、コイルばね１２１、および第２カラー１２４をこの順序で挟持要素１１１および装着要素１１２に通し、装着要素１１２を棒電極１５の固定孔１５Ａに挿入する。そして、ボルト１６およびナット１７により装着要素１１２を棒電極１５に固定すると、コイルばね１２１が圧縮方向に弾性変形し、その弾性力が筒状体１２２を介して挟持要素１１１に作用させる挟持力によって触媒線３を弾性的に支持可能となる。
【0065】
図５は、変形例に係る支持部材１０－３を示している。支持部材１０－３に備わる筒状体１２５は、熱伝導率が金属材料と比べて十分に低い材料、例えば、セラミック材料から形成されている。この筒状体１２５は、挟持要素１１１からコイルばね１２１への熱伝導を抑える断熱要素を兼ねる。そうすると、支持部材１０－３は第１カラー１２３（図４）を備える必要がないから、部品点数を減らすことが可能となる。
【0066】
さらに、棒電極１５の上端１５Ｕにコイルばね１１２の下端部と係合する保持部を形成するならば、第２カラー１２４も必要ない。
【0067】
〔成膜処理の方法〕
成膜装置１により容器２に成膜する手順の一例を簡単に説明する。
熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００が設置されたチャンバ部材４０により区画されるチャンバ４に容器２を供給するステップの後、排気経路６を通じた吸引によりチャンバ４の雰囲気を所定の真空度まで減圧させる減圧ステップを行う。このとき容器２の内側には、触媒線３と、触媒線３を支持する第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、ガス導入管５とが挿入されており、口部２４を通じて容器２の内部の圧力も真空化する。
ここで、各支持部材１０－１，１０－２およびガス導入管５の全体として、口部２４の内径に対して細いため、口部２４から容器２の内側に触媒線３、各支持部材１０－１，１０－２、およびガス導入管５をスムーズに挿入することができる。
成膜装置１により容器２に成膜する手順の一例を簡単に説明する。
熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００が設置されたチャンバ部材４０により区画されるチャンバ４に容器２を供給するステップの後、排気経路６を通じた吸引によりチャンバ４の雰囲気を所定の真空度まで減圧させる減圧ステップを行う。このとき容器２の内側には、触媒線３と、触媒線３を支持する第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、ガス導入管５とが挿入されており、口部２４を通じて容器２の内部の圧力も真空化する。
ここで、各支持部材１０－１，１０－２およびガス導入管５の全体として、口部２４の内径に対して細いため、口部２４から容器２の内側に触媒線３、各支持部材１０－１，１０－２、およびガス導入管５をスムーズに挿入することができる。
【0068】
減圧のステップに続いて、ガス導入管５を通じて原料ガスを容器２の内側に導入するステップを行う。排気ステップおよび原料ガス導入ステップは、原料ガスの流量を調整可能な流量弁５Ｖ（図１）や、排気装置６Ｓに備わる圧力計を用いて、導入される原料ガスの流量およびチャンバ４の圧力を所定の値に制御しながら行われることが好ましい。
さらに、触媒線３に直流電流を所定時間に亘り印加するステップを行う。このとき、発熱した触媒線３と接触した原料ガスの分解により発生した活性種が容器２の内壁に付着することで、容器２にガスバリア膜が形成される。ガスバリア膜が施された容器２をチャンバ４から取り出し、チャンバ４に供給された容器２に対して上記と同様のステップにより次回の成膜処理を行う。
さらに、触媒線３に直流電流を所定時間に亘り印加するステップを行う。このとき、発熱した触媒線３と接触した原料ガスの分解により発生した活性種が容器２の内壁に付着することで、容器２にガスバリア膜が形成される。ガスバリア膜が施された容器２をチャンバ４から取り出し、チャンバ４に供給された容器２に対して上記と同様のステップにより次回の成膜処理を行う。
【0069】
〔支持部材および成膜装置による作用効果〕
図４に、通電時の熱膨張によって触媒線３の径が拡大する様子を矢印Ａ１で示している。支持部材１０によれば、触媒線３の熱膨張による径の増大に追従して半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間を径方向（Ａ１）に拡げつつ、筒状体１２２を押し上げるコイルばね１２１の弾性力Ｆ１により触媒線３と挟持要素１１１との電気的接続に必要な挟持方向Ｄ２への接触圧力を維持しながら、触媒線３に過大な応力を作用させることなく、触媒線３を安定して支持することができる。
図４に、通電時の熱膨張によって触媒線３の径が拡大する様子を矢印Ａ１で示している。支持部材１０によれば、触媒線３の熱膨張による径の増大に追従して半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間を径方向（Ａ１）に拡げつつ、筒状体１２２を押し上げるコイルばね１２１の弾性力Ｆ１により触媒線３と挟持要素１１１との電気的接続に必要な挟持方向Ｄ２への接触圧力を維持しながら、触媒線３に過大な応力を作用させることなく、触媒線３を安定して支持することができる。
【0070】
成膜装置１の第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２により触媒線３が支持された状態で、容器２の内部への成膜処理を規定回数繰り返して行う成膜処理試験を実施した。当該試験によれば、触媒線３に折損が発生することなく、同一の触媒線３を用いて数万回に亘る成膜処理を完了することができた。この試験結果は、熱膨張した触媒線３の径の拡大に伴い挟持力Ｆ２が適切に制御されることで、挟持要素１１１の上方に露出した触媒線３の根元等への応力集中が回避されることを意味している。
コイルばね１２１のばね定数の選定により挟持力Ｆ２を容易に調整可能である。
コイルばね１２１のばね定数の選定により挟持力Ｆ２を容易に調整可能である。
【0071】
上記試験結果によれば、従来例の如く挟持部により触媒線をリジッドに拘束した場合の成膜処理試験の結果が示す回数（数千回）の少なくとも１０倍もの回数に亘り、触媒線３の寿命を確保できる。
また、触媒線３の熱膨張に追従して挟持力Ｆ２が適切に制御されることにより、チャンバ４および容器２の軸線に対して触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂが平行な姿勢を維持し、所定の位置に触媒線３が配置された状態で成膜が行われるため、ガスバリア膜の厚さや品質を安定させることができる。
上記試験において、挟持要素１１１、筒状体１２２、およびコイルばね１２１等に変形や溶損は見られなかった。
また、触媒線３の熱膨張に追従して挟持力Ｆ２が適切に制御されることにより、チャンバ４および容器２の軸線に対して触媒線３の並行部３Ａ，３Ｂが平行な姿勢を維持し、所定の位置に触媒線３が配置された状態で成膜が行われるため、ガスバリア膜の厚さや品質を安定させることができる。
上記試験において、挟持要素１１１、筒状体１２２、およびコイルばね１２１等に変形や溶損は見られなかった。
【0072】
触媒線３の熱膨張に追従して変位しつつ触媒線３を挟持方向Ｄ２に加圧する構造は、本実施形態に限らず、弾性体を含む適宜な構造により実現可能である。
例えば、挟持要素の斜面を上方に向けて形成し、その斜面に上方から係合する斜面を筒状体に与えることによっても、コイルばね１２１の弾性力を筒状体により挟持方向Ｄ２への力に変換するくさび構造を具備することができる。
最も簡素な構造としては、弾性力により触媒線３を挟持する弾性体としてのクリップを採用することができる。クリップは、挟持要素と挟持力付与要素とを兼ねる。
例えば、挟持要素の斜面を上方に向けて形成し、その斜面に上方から係合する斜面を筒状体に与えることによっても、コイルばね１２１の弾性力を筒状体により挟持方向Ｄ２への力に変換するくさび構造を具備することができる。
最も簡素な構造としては、弾性力により触媒線３を挟持する弾性体としてのクリップを採用することができる。クリップは、挟持要素と挟持力付与要素とを兼ねる。
【0073】
〔挿抜用治具〕
挟持要素１１１の半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間に触媒線３を挿入する、あるいは半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間から触媒線３を抜き取る際は、挟持要素１１１に対して筒状体１２２を押し下げ、半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間を触媒線３の直径に対して広げる。つまり、挟持要素１１１および挟持力付与要素１２による触媒線３への締め付けが緩い状態で、触媒線３を挟持要素１１１に対して挿抜する。
挟持要素１１１の半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間に触媒線３を挿入する、あるいは半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間から触媒線３を抜き取る際は、挟持要素１１１に対して筒状体１２２を押し下げ、半割部１１１Ａ，１１１Ｂの間を触媒線３の直径に対して広げる。つまり、挟持要素１１１および挟持力付与要素１２による触媒線３への締め付けが緩い状態で、触媒線３を挟持要素１１１に対して挿抜する。
【0074】
上記挿抜作業を行うために、例えば図６Ａおよび図６Ｂに示すような挿抜用治具８（触媒線挿抜用治具）を用いることができる。一対の支持部材１０を横断する方向に挿抜用治具８を移動させる操作により、締め付けが緩い状態を保ち、一対の支持部材１０の双方から一度に触媒線３を抜き取ったり、双方に一度に触媒線３を挿入したりすることができる。
【0075】
挿抜用治具８は、板状の基体８１と、基体８１に切欠状に形成され、一対の支持部材１０の挟持要素１１１のいずれをも受け入れる受容溝８２とを備えている。
【0076】
基体８１は、受容溝８２が各支持部材１０の挟持要素１１１を受け入れる受入方向Ｄ３に沿って配置される。受入方向Ｄ３は、触媒線３の長手方向Ｄ１に対して直交する一方向に相当する。
挿抜用治具８により支持部材１０の双方を一度に触媒線３に対して緩める限り、受入方向Ｄ３は、各支持部材の挟持要素１１１が並ぶ方向（並行部３Ａ，３Ｂが並ぶ方向に同じ）に相当する。
挿抜用治具８により支持部材１０の双方を一度に触媒線３に対して緩める限り、受入方向Ｄ３は、各支持部材の挟持要素１１１が並ぶ方向（並行部３Ａ，３Ｂが並ぶ方向に同じ）に相当する。
【0077】
受容溝８２は、受入方向Ｄ３における基体８１の一端８１Ａから他端８１Ｂに向けて受入方向Ｄ３に沿って延びている。受容溝８２は、平面視においてＵ字状に形成されている。受容溝８２の幅Ｗは、挟持要素１１１の小径部ｄＡの外径に対応する寸法に設定されている。
基体８１の一端８１Ａには、基体８１の厚さ方向に対して傾斜した斜面８１Ｃが形成されている。
基体８１の一端８１Ａには、基体８１の厚さ方向に対して傾斜した斜面８１Ｃが形成されている。
【0078】
挿抜用治具８を使用する際は、図２に挿抜用治具８を二点鎖線で示すように、挟持要素１１１の最大径部ｄＣと筒状体１２２との間の隙間Ｇに挿抜用治具８の一端を押し込み、斜面８１Ｃを筒状体１２２の上端縁に係合させる。そして、受容溝８２に各支持部材１０の挟持要素１１１を受け入れつつ、挿抜用治具８を受入方向Ｄ３に沿って移動させながら、図６Ａに示すように、筒状体１２２と最大径部ｄＣとの間に基体８１をコイルばね１２１の弾性力に抗して押し込む。
このとき、最大径部ｄＣの下端により支えられた基体８１の斜面８１Ｃに発生する分力によって筒状体１２２が基体８１の厚さの分だけ弾性力に抗して押し下げられ、半割部１１１Ａ，１１１Ｂによる触媒線３への締め付けが緩むので、触媒線３を挟持要素１１１に対して挿抜可能となる。
このとき、最大径部ｄＣの下端により支えられた基体８１の斜面８１Ｃに発生する分力によって筒状体１２２が基体８１の厚さの分だけ弾性力に抗して押し下げられ、半割部１１１Ａ，１１１Ｂによる触媒線３への締め付けが緩むので、触媒線３を挟持要素１１１に対して挿抜可能となる。
【0079】
挟持要素１１１と筒状体１２２との間に押し込まれた基体８１により、一対の支持部材１０の双方において筒状体１２２が挟持要素１１１に対して押し下げられた状態が維持されるので、挿抜用治具８を使用しない場合と比べて触媒線３の挿抜を伴う交換作業が容易である。
一対の支持部材１０のいずれか一方のみに対する挿抜で足りる場合は、挿抜用治具８により、一方の筒状体１２２を押し下げればよい。一対の支持部材１０に対して個別に挿抜用治具８を使用できることは言うまでもない。一対の支持部材１０に対して、専ら個別に使用される場合、受容溝８２の長さは、一方の支持部材１０に対応する寸法で足りる。
一対の支持部材１０のいずれか一方のみに対する挿抜で足りる場合は、挿抜用治具８により、一方の筒状体１２２を押し下げればよい。一対の支持部材１０に対して個別に挿抜用治具８を使用できることは言うまでもない。一対の支持部材１０に対して、専ら個別に使用される場合、受容溝８２の長さは、一方の支持部材１０に対応する寸法で足りる。
【0080】
［第２実施形態］
次に、図１、図７、図８Ａ、および図８Ｂを参照し、触媒線３の周囲に原料ガスを導入するガス導入管の閉塞に対処可能な構造を開示する。
以下、第１実施形態と相違する事項を中心に説明する。第１実施形態と同様の構成要素には同じ符号を付している。
第２実施形態は、発熱した触媒線３と原料ガスとの接触分解反応により発生した活性種、あるいはダストのガス導入管の先端部への堆積により、ガス導入管の吐出口が狭くなったり、塞がれたりすることを軽減することを目的とする。なお、「ダスト」は、成膜対象物への成膜に至らなかった、原料ガスに由来する粉末のことを言う。
次に、図１、図７、図８Ａ、および図８Ｂを参照し、触媒線３の周囲に原料ガスを導入するガス導入管の閉塞に対処可能な構造を開示する。
以下、第１実施形態と相違する事項を中心に説明する。第１実施形態と同様の構成要素には同じ符号を付している。
第２実施形態は、発熱した触媒線３と原料ガスとの接触分解反応により発生した活性種、あるいはダストのガス導入管の先端部への堆積により、ガス導入管の吐出口が狭くなったり、塞がれたりすることを軽減することを目的とする。なお、「ダスト」は、成膜対象物への成膜に至らなかった、原料ガスに由来する粉末のことを言う。
【0081】
図７は、ガス導入管５０と、触媒線３を支持する一対の支持部材１０とを含む熱触媒ＣＶＤ用ユニット５００の一部を拡大して示している。熱触媒ＣＶＤ用ユニット５００は、成膜装置１（図１）に具備されている。
ガス導入管５０の閉塞を軽減する目的からは、支持部材１０とは異なる部材により触媒線３が支持されていてもよい。その場合、ガス導入管５は、必ずしも触媒線３の長手方向Ｄ１には延びていない。
ガス導入管５０の閉塞を軽減する目的からは、支持部材１０とは異なる部材により触媒線３が支持されていてもよい。その場合、ガス導入管５は、必ずしも触媒線３の長手方向Ｄ１には延びていない。
【0082】
ガス導入管５０は、挟持要素１１１を上方に超えて触媒線３に隣接する位置まで一対の支持部材１０の間を長手方向Ｄ１に延びている。ガス導入管５０は、上述したガス導入管５と同様に、触媒線３から放射される熱に耐えるセラミックス材料や耐熱金属等の耐熱性の高い材料から形成されている。ガス導入管５０は、例えば、石英ガラス、あるいはモリブデンから形成されている。
【0083】
ガス導入管５０の吐出口５０Ｂの閉塞を軽減するため、図８Ａに示すように、ガス導入管５０の先端部５１の内径φ１は、挟持要素１１１（図７）の位置における内径に相当するφ２と比べて拡大されている。
先端部５１は、挟持要素１１１から上方に、触媒線３のすぐ隣に露出しているため、活性種やダストが堆積しやすいところ、その内径が拡大されているため、成膜処理が繰り返されても、吐出口５０Ｂの閉塞には至り難い。そのため、ガス導入管５０のメンテナンスや交換が必要になるまでの時間を延ばし、生産性を向上させることができる。
ガス導入管５０の径は、支持部材１０の上端１１Ｕから上方に触媒線３が突出する範囲において、触媒線３と干渉しない限りにおいて拡大することができる。
先端部５１は、挟持要素１１１から上方に、触媒線３のすぐ隣に露出しているため、活性種やダストが堆積しやすいところ、その内径が拡大されているため、成膜処理が繰り返されても、吐出口５０Ｂの閉塞には至り難い。そのため、ガス導入管５０のメンテナンスや交換が必要になるまでの時間を延ばし、生産性を向上させることができる。
ガス導入管５０の径は、支持部材１０の上端１１Ｕから上方に触媒線３が突出する範囲において、触媒線３と干渉しない限りにおいて拡大することができる。
【0084】
さらに、ガス導入管５０の先端部５１は、ガス導入管５０の本体５２に対して着脱可能に設けられることが好ましい。ガス導入管５０において活性種やダストが最も堆積するのは先端部５１であるから、ガス導入管５０における必要範囲のみの交換が可能となる。
先端部５１と本体５２とは、異なる材料から形成されていてもよい。
先端部５１と本体５２とは、異なる材料から形成されていてもよい。
【0085】
先端部５１は本体５２に適宜な方法で接続することができる。仮に先端部５１の径と本体５２の径とが同じであるとしたならば、それらの端面を突き当て、締結により着脱可能に接続することが可能である。
【0086】
図７および図８Ａに示す例では、先端部５１の内径が本体５２の外径に対して大きいから、本体５２の外周部の周りに先端部５１が配置される。先端部５１は、本体５２の外周部に形成された支持突起５２Ａにより支持される。支持突起５２Ａは、本体５２の全周に亘り設けられていても、周方向の一部に設けられていてもいずれでもよい。先端部５１が本体５２に緩く嵌合しているとしても、チャンバ４の雰囲気が所定の真空度にまで減圧されることにより、先端部５１と本体５２とが成膜中に位置ずれなく、十分に結合する。
【0087】
ここで、先端部５１を本体５２に接続するにあたり、いずれを内周側にして差し込んでもよいが、接続箇所への活性種やダストの堆積を防いで、先端部５１と本体５２との抜き差しが容易な状態に保つ観点からは、図７および図８Ａに示すように、先端部５１と本体５２との間にできる開口５３が下方を向くように、先端部５１の少なくとも下側の範囲が本体５２の外周部を覆っていることが好ましい。
【0088】
図８Ｂに示す例は、先端部５４の吐出口５０Ｃ側の内径を接続箇所の内径φ２に対して大きいφ３にまで拡大したものである。そうすることで、吐出口５０Ｃをより一層閉塞し難くすることができる。
【0089】
以上で説明した以外にも、上記実施形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更したりすることが可能である。
【0090】
〔付記〕
以上で説明した触媒線支持部材、触媒線挿抜用治具、熱触媒ＣＶＤ用ユニット、および成膜装置は、以下のように把握される。
（１）本開示の触媒線支持部材１０は、大気圧に対して減圧された雰囲気下、被処理物２への成膜にあたり原料ガスの接触分解反応の触媒として用いられる触媒線を支持する部材であって、触媒線３を長手方向Ｄ１の端部から所定の範囲３Ｒに亘り挟む挟持要素１１１と、弾性体１２１を含み、弾性体１２１の弾性力により、触媒線３を挟む挟持方向Ｄ２への力を挟持要素１１１に与える挟持力付与要素１２と、を備える。
（２）挟持力付与要素１２は、弾性力を挟持要素１１１に向けて伝達し、かつ、挟持要素１１１から弾性体１２１への熱伝導を抑える断熱要素１２３を含む。
（３）挟持力付与要素１２は、長手方向Ｄ１への弾性力を作用させる弾性体１２１と、弾性体１２１の長手方向Ｄ１への弾性力を挟持方向Ｄ２への力に変換する力変換部１２Ｆと、を含む。
（４）弾性体１２１は、力変換部１２Ｆを長手方向Ｄ１に押圧するコイルばね１２１に相当し、力変換部１２Ｆは、挟持要素１１１と共にくさび構造をなす筒状体１２２に相当する。
（５）筒状体１２５は、挟持要素１１１からコイルばね１２１への熱伝導を抑える断熱要素を兼ねる。
（６）触媒線支持部材１０は、挟持要素１１１を含み、触媒線３の端部から離れる向きに長手方向Ｄ１に沿って延在したソケット１１と、ソケット１１の周りに配置されるコイルばね１２１および筒状体１２２と、ソケット１１の周りであって、コイルばね１２１と筒状体１２２との間に介在するセラミック材料から形成された断熱要素１２３と、を備える。
（７）本開示の触媒線挿抜用治具８は、上述の触媒線支持部材１０に対して触媒線３を挿抜させるための治具であって、長手方向Ｄ１に対して直交する受入方向Ｄ３から挟持要素１１１を受け入れ可能な受容溝８２と、受入方向Ｄ３に沿って配置される板状の基体８１と、を備える。基体８１は、受入方向Ｄ３に移動されると、基体８１に形成された斜面８１Ｃが係合する筒状体１２２と挟持要素１１１との間に弾性力に抗して押し込まれる。
（８）本開示の熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００，５００は、上述の触媒線支持部材１０としての第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と共に一体化され、原料ガスを触媒線３の周囲に導入するガス導入管５と、を備える。
触媒線３は、一対の並行部３Ａ，３Ｂを有した形状に形成される。第１支持部材１０－１の挟持要素１１１は、一方の並行部３Ａを挟む。第２支持部材１０－２の挟持要素１１１は、他方の並行部３Ｂを挟む。ガス導入管５は、第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びる。
（９）ガス導入管５０は、挟持要素１１１を超える位置まで第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びている。ガス導入管５０の先端部５１の内径φ１は、挟持要素１１１の位置における内径φ２と比べて大きい。
（１０）先端部５１は、ガス導入管５０の本体５２に対して着脱可能に設けられる。
（１１）先端部５１の少なくとも一部は、本体５２の外周部を覆っている。
（１２）本開示の成膜装置１は、上述の触媒線支持部材１０としての第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、原料ガスを触媒線３の周囲に導入するガス導入管５と、触媒線３、触媒線支持部材１０、および被処理物２を収容可能なチャンバ４と、チャンバ４から外部へと吸引により気体が流出する排気経路６と、を備える。触媒線３は、一対の並行部３Ａ，３Ｂを有した形状に形成される。第１支持部材１０－１の挟持要素１１１は、一方の並行部３Ａを挟む。第２支持部材１０－２の挟持要素１１１は、他方の並行部３Ｂを挟む。ガス導入管５は、第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びる。
（１３）被処理物は、ボトル状の容器２であり、第１支持部材１０－１、第２支持部材１０－２、およびガス導入管５は、容器２の口部２４を通じて容器２の内側に挿入される。
以上で説明した触媒線支持部材、触媒線挿抜用治具、熱触媒ＣＶＤ用ユニット、および成膜装置は、以下のように把握される。
（１）本開示の触媒線支持部材１０は、大気圧に対して減圧された雰囲気下、被処理物２への成膜にあたり原料ガスの接触分解反応の触媒として用いられる触媒線を支持する部材であって、触媒線３を長手方向Ｄ１の端部から所定の範囲３Ｒに亘り挟む挟持要素１１１と、弾性体１２１を含み、弾性体１２１の弾性力により、触媒線３を挟む挟持方向Ｄ２への力を挟持要素１１１に与える挟持力付与要素１２と、を備える。
（２）挟持力付与要素１２は、弾性力を挟持要素１１１に向けて伝達し、かつ、挟持要素１１１から弾性体１２１への熱伝導を抑える断熱要素１２３を含む。
（３）挟持力付与要素１２は、長手方向Ｄ１への弾性力を作用させる弾性体１２１と、弾性体１２１の長手方向Ｄ１への弾性力を挟持方向Ｄ２への力に変換する力変換部１２Ｆと、を含む。
（４）弾性体１２１は、力変換部１２Ｆを長手方向Ｄ１に押圧するコイルばね１２１に相当し、力変換部１２Ｆは、挟持要素１１１と共にくさび構造をなす筒状体１２２に相当する。
（５）筒状体１２５は、挟持要素１１１からコイルばね１２１への熱伝導を抑える断熱要素を兼ねる。
（６）触媒線支持部材１０は、挟持要素１１１を含み、触媒線３の端部から離れる向きに長手方向Ｄ１に沿って延在したソケット１１と、ソケット１１の周りに配置されるコイルばね１２１および筒状体１２２と、ソケット１１の周りであって、コイルばね１２１と筒状体１２２との間に介在するセラミック材料から形成された断熱要素１２３と、を備える。
（７）本開示の触媒線挿抜用治具８は、上述の触媒線支持部材１０に対して触媒線３を挿抜させるための治具であって、長手方向Ｄ１に対して直交する受入方向Ｄ３から挟持要素１１１を受け入れ可能な受容溝８２と、受入方向Ｄ３に沿って配置される板状の基体８１と、を備える。基体８１は、受入方向Ｄ３に移動されると、基体８１に形成された斜面８１Ｃが係合する筒状体１２２と挟持要素１１１との間に弾性力に抗して押し込まれる。
（８）本開示の熱触媒ＣＶＤ用ユニット１００，５００は、上述の触媒線支持部材１０としての第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と共に一体化され、原料ガスを触媒線３の周囲に導入するガス導入管５と、を備える。
触媒線３は、一対の並行部３Ａ，３Ｂを有した形状に形成される。第１支持部材１０－１の挟持要素１１１は、一方の並行部３Ａを挟む。第２支持部材１０－２の挟持要素１１１は、他方の並行部３Ｂを挟む。ガス導入管５は、第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びる。
（９）ガス導入管５０は、挟持要素１１１を超える位置まで第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びている。ガス導入管５０の先端部５１の内径φ１は、挟持要素１１１の位置における内径φ２と比べて大きい。
（１０）先端部５１は、ガス導入管５０の本体５２に対して着脱可能に設けられる。
（１１）先端部５１の少なくとも一部は、本体５２の外周部を覆っている。
（１２）本開示の成膜装置１は、上述の触媒線支持部材１０としての第１支持部材１０－１および第２支持部材１０－２と、原料ガスを触媒線３の周囲に導入するガス導入管５と、触媒線３、触媒線支持部材１０、および被処理物２を収容可能なチャンバ４と、チャンバ４から外部へと吸引により気体が流出する排気経路６と、を備える。触媒線３は、一対の並行部３Ａ，３Ｂを有した形状に形成される。第１支持部材１０－１の挟持要素１１１は、一方の並行部３Ａを挟む。第２支持部材１０－２の挟持要素１１１は、他方の並行部３Ｂを挟む。ガス導入管５は、第１支持部材１０－１と第２支持部材１０－２との間を長手方向Ｄ１に延びる。
（１３）被処理物は、ボトル状の容器２であり、第１支持部材１０－１、第２支持部材１０－２、およびガス導入管５は、容器２の口部２４を通じて容器２の内側に挿入される。
【符号の説明】
【0091】
１ 成膜装置
２ 容器（被処理物）
３ 触媒線
３Ａ，３Ｂ 並行部
３Ｃ 折り曲げ部
３Ｒ 挟持範囲
４ チャンバ
４Ｘ 軸線
５ ガス導入管
５Ｓ 供給源
５Ｖ 流量弁
６ 排気経路
６Ｓ 排気装置
７ 容器把持部
８ 挿抜用治具（触媒線挿抜用治具）
１０ 支持部材（触媒線支持部材）
１１ ソケット
１１Ｈ 孔
１１Ｌ 下端部
１１Ｓ 斜面
１１Ｕ 上端
１２ 挟持力付与要素
１２Ｆ 力変換部
１５ 棒電極
１５Ａ 固定孔
１５Ｂ 貫通孔
１５Ｌ 下端部
１５Ｕ 上端
１６ ボルト
１７ ナット
１８ 基部
１８Ａ，１８Ｂ 基部電極
１８Ｃ 絶縁体
２１ 底部
２２ 胴部
２３ 首部
２４ 口部
１９１，１９２ 端子
１９３ 電線
２０ 電源装置
３１，３２ 端部
４０ チャンバ部材
４０Ｌ 下部
４０Ｕ 上部
４１ 上壁
４２ 下壁
４３ 側壁
４４ 環状シール
５０ ガス導入管
５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ 吐出口
５１，５４ 先端部
５２ 本体
５２Ａ 支持突起
５３ 開口
８１ 基体
８１Ａ 一端
８１Ｂ 他端
８１Ｃ 斜面
８２ 受容溝
１００，５００ 熱触媒ＣＶＤ用ユニット
１１１ 挟持要素
１１１Ａ，１１１Ｂ 半割部
１１２ 装着要素
１２２ 筒状体
１２２Ｓ 斜面
１２２Ｕ 上端
１２３ 第１カラー（断熱要素）
１２３Ａ 保持部
１２４ 第２カラー
１２４Ａ 保持部
１２５ 筒状体（断熱要素）
Ｄ１ 長手方向
Ｄ２ 挟持方向
Ｄ３ 受入方向
ｄＡ 小径部
ｄＢ 大径部
ｄＣ 最大径部
Ｆ１ 弾性力
Ｆ２ 挟持力
Ｇ 隙間
Ｗ 幅
φ１，φ２，φ３ 内径
２ 容器（被処理物）
３ 触媒線
３Ａ，３Ｂ 並行部
３Ｃ 折り曲げ部
３Ｒ 挟持範囲
４ チャンバ
４Ｘ 軸線
５ ガス導入管
５Ｓ 供給源
５Ｖ 流量弁
６ 排気経路
６Ｓ 排気装置
７ 容器把持部
８ 挿抜用治具（触媒線挿抜用治具）
１０ 支持部材（触媒線支持部材）
１１ ソケット
１１Ｈ 孔
１１Ｌ 下端部
１１Ｓ 斜面
１１Ｕ 上端
１２ 挟持力付与要素
１２Ｆ 力変換部
１５ 棒電極
１５Ａ 固定孔
１５Ｂ 貫通孔
１５Ｌ 下端部
１５Ｕ 上端
１６ ボルト
１７ ナット
１８ 基部
１８Ａ，１８Ｂ 基部電極
１８Ｃ 絶縁体
２１ 底部
２２ 胴部
２３ 首部
２４ 口部
１９１，１９２ 端子
１９３ 電線
２０ 電源装置
３１，３２ 端部
４０ チャンバ部材
４０Ｌ 下部
４０Ｕ 上部
４１ 上壁
４２ 下壁
４３ 側壁
４４ 環状シール
５０ ガス導入管
５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ 吐出口
５１，５４ 先端部
５２ 本体
５２Ａ 支持突起
５３ 開口
８１ 基体
８１Ａ 一端
８１Ｂ 他端
８１Ｃ 斜面
８２ 受容溝
１００，５００ 熱触媒ＣＶＤ用ユニット
１１１ 挟持要素
１１１Ａ，１１１Ｂ 半割部
１１２ 装着要素
１２２ 筒状体
１２２Ｓ 斜面
１２２Ｕ 上端
１２３ 第１カラー（断熱要素）
１２３Ａ 保持部
１２４ 第２カラー
１２４Ａ 保持部
１２５ 筒状体（断熱要素）
Ｄ１ 長手方向
Ｄ２ 挟持方向
Ｄ３ 受入方向
ｄＡ 小径部
ｄＢ 大径部
ｄＣ 最大径部
Ｆ１ 弾性力
Ｆ２ 挟持力
Ｇ 隙間
Ｗ 幅
φ１，φ２，φ３ 内径
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7】
【図8A】
【図8B】