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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-19
(45)【発行日】2023-10-27
(54)【発明の名称】基板処理装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20231020BHJP
H01L 21/677 20060101ALI20231020BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648L
H01L21/304 648K
H01L21/304 643A
H01L21/304 648A
H01L21/304 651B
H01L21/68 A
【請求項の数】
7
(21)【出願番号】P 2020030381
(22)【出願日】2020-02-26
(65)【公開番号】P2021136295
(43)【公開日】2021-09-13
【審査請求日】2022-12-19
(73)【特許権者】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100093056
【弁理士】
【氏名又は名称】杉谷 勉
(74)【代理人】
【識別番号】100142930
【弁理士】
【氏名又は名称】戸高 弘幸
(74)【代理人】
【識別番号】100175020
【弁理士】
【氏名又は名称】杉谷 知彦
(74)【代理人】
【識別番号】100180596
【弁理士】
【氏名又は名称】栗原 要
(74)【代理人】
【識別番号】100195349
【弁理士】
【氏名又は名称】青野 信喜
(72)【発明者】
【氏名】澤島 隼
(72)【発明者】
【氏名】山口 貴大
(72)【発明者】
【氏名】小林 健司
【審査官】堀江 義隆
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１８－０３２７２３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１６－０９２１４３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１３７３６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１４／１０３５２３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１３－０８９６８９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０５７００２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－０５９８０９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１７－０２２１９７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
Ｈ０１Ｌ ２１／６７７
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を搬送する基板搬送機構と、前記基板搬送機構によって搬送された基板に対して所定の薬液処理を行う複数の処理ユニットと、を備え、
前記複数の処理ユニットは、前記基板搬送機構の搬送経路に沿って並べて配置されると共に、前記搬送経路を挟んで対向するように向かい合って配置され、更に上下方向に積層するように配置されており、
かつ、前記各処理ユニットは、
基板を保持した状態で回転する保持回転部が配置され、前記保持回転部で保持回転されている基板に薬液処理を行い、基板搬送口を介して前記基板搬送機構との間で基板をやり取りする領域である処理室と、
前記処理室に薬液を供給するための薬液配管が配置される領域である薬液配管部と、
前記処理室内を排気するために排気口を介して前記処理室と連通すると共に、上下方向に延びる排気管と連通する排気室と、を備え、
前記全ての処理ユニットは、前記処理室と前記薬液配管部と前記排気室とが前記搬送経路に沿って並べて配置され、かつ、前記搬送経路側から見て、前記処理室の一方側に薬液配管部が配置され、前記処理室を挟んで前記薬液配管部と対向するように前記排気室が配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項2】
請求項１に記載の基板処理装置において、前記排気室は、上下方向に延びる複数の排気管と連通すると共に、
前記排気室は、前記複数の排気管のいずれかに前記処理室からの気体の排気路を切り換える開閉機構を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項3】
請求項２に記載の基板処理装置において、前記処理室は、前記保持回転部で保持された基板に対して薬液を供給する液供給部を更に備え、
前記開閉機構は、前記液供給部が酸系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第１排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換え、
前記開閉機構は、前記液供給部がアルカリ系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第２排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換え、
前記開閉機構は、前記液供給部が有機系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第３排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項4】
請求項２または３に記載の基板処理装置において、前記処理室は、平面視において前記保持回転部を挟んで前記基板搬送口と対向するように側壁を有し、
前記保持回転部は、前記処理室において、前記側壁よりも前記基板搬送口の近くに配置されており、
前記複数の排気管は、前記搬送経路が延びる方向と直交する水平方向に１列に並んでおり、
前記排気室の前記排気口は、前記複数の排気管よりも前記搬送経路の近くに配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項5】
請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、前記複数の処理ユニットよりも高い位置でかつ、前記搬送経路に沿って設けられた水平排気管を更に備え、
前記水平排気管は、上下方向に一列で積層された複数の処理ユニットの各々の前記排気室と前記排気管を介して連通することを特徴とする基板処理装置。
【請求項6】
請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記排気室は、前記排気口付近に設けられ、前記排気口を通過する気体の圧力を調整する圧力調整機構を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項7】
請求項１から６のいずれかに記載の基板処理装置において、１以上の基板搬送機構を更に備えており、
複数の基板搬送機構は各々、上下方向に積層された複数の処理ユニットの予め設定された段の複数の処理ユニットに対する基板の搬送を行うことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。
【背景技術】
【0002】
従来の基板処理装置は、図１７または例えば特許文献１に示すように、インデクサ部２０３と処理ブロック２１１とを備えている。インデクサ部２０３は、キャリア載置部２０４とインデクサ機構（ロボット）２０６とを備えている。キャリア載置部２０４には、基板Ｗを収容するキャリアＣが載置される。インデクサ機構２０６は、キャリア載置部２０４に載置されたキャリアＣと処理ブロック２１１との間で基板Ｗを搬送する。処理ブロック２１１は、基板搬送機構（ロボット）２１６と、複数の処理ユニット２２１とを備えている。複数の処理ユニット２２１は、上下方向に複数段（例えば２段）で構成されている。
【0003】
図１８を参照する。上下方向に複数段（例えば２段）の処理ユニット２２１の各々には、排気口２５２が設けられている。一方、最上段の処理ユニット２２１の上方には、酸系排気、アルカリ系排気および有機系排気が各々流れる３本の個別排気管２８１、２８２、２８３が設けられている。排気管２４１の一端は、処理ユニット２２１の排気口２５２に接続されており、排気管２４１の他端は、排気切換装置２５１に接続されている。排気切換装置２５１は、最上段の処理ユニット２２１の上方に設けられており、処理ユニット２２１の排気口２５２からの排気を３本の個別排気管２８１、２８２、２８３に振り分けるように構成されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開２０１４－１９７５９２号公報
【文献】特開２０１９－０１６８１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来の基板処理装置は次の問題がある。例えば、図１８において、上下方向に２段の処理ユニット２２１がある場合、２本の排気管２４１は、上段（最上段）の処理ユニット２２１の上方に設けられた排気切換装置２５１まで縦方向に延びるように配置される。図１９は、上段の処理ユニット２２１の模式的な平面図である。処理ユニット２２１は、処理室２２３と配管部２９４とを備えている。処理室２２３は、基板Ｗを保持し、保持した基板を回転させる保持回転部２３１を備えている。配管部２９４は、例えば、酸系、アルカリ系および有機系の薬液を供給するための配管と、上段および下段の処理ユニット２２１のための２本の排気管２４１とを備えている。
【0006】
ここで、２本の排気管２４１は、処理室２２３の排気を行うため、処理室２２３に隣接して配置される。例えば、処理ユニット２２１の段数を増やして、上下方向に６個（６段）の処理ユニット２２１が配置されるとする。この場合、最上段の処理ユニット２２１の配管部２９４には、図１９の破線で示すように、６本の排気管２４１が設けられることになる。そのため、６本の排気管２４１が壁になり、例えば、図１９の符号ＰＴで示すように、保持回転部２３１に保持された基板に薬液を供給するための配管を通す通路が狭くなってしまう。
【0007】
また、図１７の符号Ａ、符号Ｂで示すように、従来の基板処理装置は、同じ薬液処理を行うにも関わらず、２種類の処理ユニット２２１で構成されていた。そのため、符号Ａで示す処理ユニット２２１用の部品と、符号Ｂで示す処理ユニット２２１用の部品を準備しなければならず、部品共通化の要望があった。
【0008】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理室へ配管を通す通路が排気管によって妨げられることを防止すると共に、部品共通化を可能にした基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る基板処理装置は、基板を搬送する基板搬送機構と、前記基板搬送機構によって搬送された基板に対して所定の薬液処理を行う複数の処理ユニットと、を備え、前記複数の処理ユニットは、前記基板搬送機構の搬送経路に沿って並べて配置されると共に、前記搬送経路を挟んで対向するように向かい合って配置され、更に上下方向に積層するように配置されており、かつ、前記各処理ユニットは、基板を保持した状態で回転する保持回転部が配置され、前記保持回転部で保持回転されている基板に薬液処理を行い、基板搬送口を介して前記基板搬送機構との間で基板をやり取りする領域である処理室と、前記処理室に薬液を供給するための薬液配管が配置される領域である薬液配管部と、前記処理室内を排気するために排気口を介して前記処理室と連通すると共に、上下方向に延びる排気管と連通する排気室と、を備え、前記全ての処理ユニットは、前記処理室と前記薬液配管部と前記排気室とが前記搬送経路に沿って並べて配置され、かつ、前記搬送経路側から見て、前記処理室の一方側に薬液配管部が配置され、前記処理室を挟んで前記薬液配管部と対向するように前記排気室が配置されていることを特徴とするものである。
【0010】
本発明に係る基板処理装置によれば、全ての処理ユニットは、処理室と薬液配管部と排気室とが搬送経路に沿って並べて配置され、かつ、搬送経路側から見て、処理室の一方側に薬液配管部が配置され、処理室を挟んで薬液配管部と対向するように排気室が配置されている。排気室が処理室を挟んで薬液配管部と対向配置されるので、保持回転部に保持された基板に薬液を供給するための配管を通す通路を排気管によって妨げることを防止することができる。また、全ての処理ユニットが、搬送経路側から見て、処理室の一方側に薬液配管部が配置され、処理室を挟んで薬液配管部と対向するように排気室が配置されている。これにより、従来は２種類の処理ユニットで構成されていたところ、１種類の処理ユニットで済む。そのため、全ての処理ユニットで部品を共通化することができる。
【0011】
また、上述の基板処理装置において、前記排気室は、上下方向に延びる複数の排気管と連通すると共に、前記排気室は、前記複数の排気管のいずれかに前記処理室からの気体の排気路を切り換える開閉機構を備えていることが好ましい。
【0012】
排気室は処理室の側方に配置されている。そのため、開閉機構は、処理室の近くで排気を切り換えることができる。そのため、従来技術のように、最上段の処理ユニットよりも高い位置で排気を切り換える場合よりも、切り換えの応答性が向上する。また、排気室が処理室の側方に配置されているので、処理ユニットの高さを抑えることができる。また、開閉機構が処理室の近くで排気を切り換えることができるので、上下方向に１列に積層する複数の処理ユニットに対して共通の排気管が配置される。そのため、処理室の側方の複数の排気管をコンパクトに配置することができる。
【0013】
また、上述の基板処理装置において、前記処理室は、前記保持回転部で保持された基板に対して薬液を供給する液供給部を更に備え、前記開閉機構は、前記液供給部が酸系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第１排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換え、前記開閉機構は、前記液供給部がアルカリ系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第２排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換え、前記開閉機構は、前記液供給部が有機系の薬液を供給する場合、前記複数の排気管のうちの第３排気管に、前記処理室からの気体の排気路を切り換えることが好ましい。
【0014】
これにより、液供給部が供給する酸系、アルカリ系、有機系の薬液に応じて、開閉機構は、第１排気管、第２排気管および第３排気管に処理室からの排気を切り換えることができる。
【0015】
また、上述の基板処理装置において、前記処理室は、平面視において前記保持回転部を挟んで前記基板搬送口と対向するように側壁を有し、前記保持回転部は、前記処理室において、前記側壁よりも前記基板搬送口の近くに配置されており、前記複数の排気管は、前記搬送経路が延びる方向と直交する水平方向に１列に並んでおり、前記排気室の前記排気口は、前記複数の排気管よりも前記搬送経路の近くに配置されていることが好ましい。
【0016】
処理室において、保持回転部は、基板搬送口の近くに配置されている傾向にある。排気室の排気口は、その複数の排気管よりも搬送経路の近くに配置される。これにより、排気室と複数の排気管の平面視における設置面積をコンパクトに抑えながら、排気口を保持回転部に近づけることができる。そのため、保持回転部の周りの薬液の蒸気を比較的円滑に排気室に送ることができる。
【0017】
また、上述の基板処理装置において、前記複数の処理ユニットよりも高い位置でかつ、前記搬送経路に沿って設けられた水平排気管を更に備え、前記水平排気管は、上下方向に一列で積層された複数の処理ユニットの各々の前記排気室と前記排気管を介して連通することが好ましい。各処理ユニットにおいて処理室の側方の排気室に開閉機構が設けられているので、水平排気管と複数の排気管との接続部分の構成をシンプルにすることができる。
【0018】
また、上述の基板処理装置において、前記排気室は、前記排気口付近に設けられ、前記排気口を通過する気体の圧力を調整する圧力調整機構を備えていることが好ましい。各処理ユニットで排気の圧力調整を行うことできる。例えば、複数の処理ユニットからの排気を集合させた後に排気の圧力調整を一括して行う場合よりも、各処理ユニットの排気の圧力調整が容易である。
【0019】
また、上述の基板処理装置において、１以上の基板搬送機構を更に備えており、複数の基板搬送機構は各々、上下方向に積層された複数の処理ユニットの予め設定された段の複数の処理ユニットに対する基板の搬送を行うことが好ましい。処理ユニットの段数が多くなっても複数の基板搬送機構によって基板搬送を分担することができる。
【発明の効果】
【0020】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理室へ配管を通す通路が排気管によって妨げられることがないと共に、部品共通化を可能にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】実施例に係る基板処理装置を示す横断面図である。
【図2】基板処理装置の前後方向の縦断面図である。
【図4】基板処理装置の右部の構成を示す右側面図である。
【図5】基板処理装置の左部の構成を示す左側面図である。
【図6】処理ユニットを示す横断面図である
【図7】処理ユニットの縦断面の構成を主に示す概略構成図である。
【図8】（ａ）～（ｃ）は、３本の排気管に対する切り換え動作を説明するための図である。
【図9】基板処理装置の排気構造を示す配管図である。
【図10】基板処理装置の水平排気管を示す平面図である。
【図11】変形例に係る切り換え機構を示す図である。
【図12】変形例に係る切り換え機構を示す図である。
【図13】変形例に係る切り換え機構を示す図である。
【図14】変形例に係る切り換え機構を示す図である。
【図15】変形例に係る基板処理装置の排気構造を示す配管図である。
【図16】変形例に係る基板処理装置を示す横断面図である。
【図17】従来の基板処理装置を示す平面図である。
【図18】従来の基板処理装置の排気構造を示す配管図である。
【図19】処理ユニットの課題を説明するための図である。
【実施例】
【0022】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。図１は、実施例に係る基板処理装置を示す横断面図である。
【0023】
＜基板処理装置１の構成＞
基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。基板Ｗは、略円形状の薄い平板である。
基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。基板Ｗは、略円形状の薄い平板である。
【0024】
基板処理装置１は、インデクサ部３と処理ブロック１１を備える。処理ブロック１１はインデクサ部３に接続される。インデクサ部３と処理ブロック１１は水平方向に並ぶ。インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。処理ブロック１１は、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。
【0025】
本明細書では、便宜上、インデクサ部３と処理ブロック１１が並ぶ水平方向を、「前後方向Ｘ」と呼ぶ。前後方向Ｘのうち、処理ブロック１１からインデクサ部３に向かう方向を「前方」と呼ぶ。前方と反対の方向を「後方」と呼ぶ。前後方向Ｘと直交する水平方向を、「幅方向Ｙ」と呼ぶ。「幅方向Ｙ」の一方向を適宜に「右方」と呼ぶ。右方とは反対の方向を「左方」と呼ぶ。水平方向に対して垂直な方向を「鉛直方向Ｚ」と呼ぶ。各図では、参考として、前、後、右、左、上、下を適宜に示す。「前方」、「後方」、「右方」および「左方」を特に区別しない場合には、「側方」と呼ぶ。
【0026】
＜１．インデクサ部３の構成＞
インデクサ部３は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部４を備える。キャリア載置部４は幅方向Ｙに並ぶ。各キャリア載置部４はそれぞれ、１つのキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。
インデクサ部３は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部４を備える。キャリア載置部４は幅方向Ｙに並ぶ。各キャリア載置部４はそれぞれ、１つのキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。
【0027】
インデクサ部３は、搬送スペース５を備える。搬送スペース５は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送スペース５は、幅方向Ｙに延びる。
【0028】
インデクサ部３は、１つ以上（例えば１つ）の搬送機構６を備える。搬送機構６は、インデクサ機構とも呼ぶ。搬送機構６は、搬送スペース５に設置される。搬送機構６は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送機構６は、基板Ｗを搬送する。搬送機構６は、キャリア載置部４に載置されるキャリアＣにアクセス可能である。
【0029】
図１を参照する。搬送機構６の構造について説明する。搬送機構６はハンド７とハンド駆動部８を備える。ハンド７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部８は、ハンド７に連結される。ハンド駆動部８は、ハンド７を移動する。ハンド駆動部８は、ハンド７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび鉛直方向Ｚに移動する。ハンド駆動部８は、複数の電動モータを備えている。
【0030】
図１、２を参照する。図２は、基板処理装置１の前後方向Ｘの縦断面図である。ハンド駆動部８の構造を例示する。ハンド駆動部８は、例えば、レール８ａと水平移動部８ｂと垂直移動部８ｃと回転部８ｄと進退移動部８ｅを備える。レール８ａは、固定的に設置される。レール８ａは、搬送スペース５の底部に配置される。レール８ａは、幅方向Ｙに延びる。水平移動部８ｂは、レール８ａに支持される。水平移動部８ｂは、レール８ａに対して幅方向Ｙに移動する。垂直移動部８ｃは、水平移動部８ｂに支持される。垂直移動部８ｃは、水平移動部８ｂに対して鉛直方向Ｚに移動する。回転部８ｄは、垂直移動部８ｃに支持される。回転部８ｄは、垂直移動部８ｃに対して回転する。回転部８ｄは、回転軸線Ａ１回りに回転する。回転軸線Ａ１は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。進退移動部８ｅは、回転部８ｄに対して移動する。進退移動部８ｅは、回転部８ｄの向きによって決まる水平な一方向に往復移動する。進退移動部８ｅは、ハンド７に接続される。このようなハンド駆動部８によれば、ハンド７は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド７は、水平な任意の方向に平行移動可能である。ハンド７は、回転軸線Ａ１回りに回転可能である。
【0031】
＜２．処理ブロック１１の構成＞
図１～図７を適宜参照する。処理ブロック１１は、例えば２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂと、例えば２４個（複数個）の処理ユニット２１を備える。２４個の処理ユニット２１は各々、２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂの一方によって搬送された基板Ｗに対して所定の薬液処理を行う。２４個の処理ユニット２１は、２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂの搬送経路（搬送スペース１２Ａ、１２Ｂ）に沿って並べて配置される。また、２４個の処理ユニット２１は、搬送経路を挟んで対向するように向かい合って配置され、更に上下方向に積層するように配置されている。処理ブロック１１の詳細な構成を説明する。
図１～図７を適宜参照する。処理ブロック１１は、例えば２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂと、例えば２４個（複数個）の処理ユニット２１を備える。２４個の処理ユニット２１は各々、２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂの一方によって搬送された基板Ｗに対して所定の薬液処理を行う。２４個の処理ユニット２１は、２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂの搬送経路（搬送スペース１２Ａ、１２Ｂ）に沿って並べて配置される。また、２４個の処理ユニット２１は、搬送経路を挟んで対向するように向かい合って配置され、更に上下方向に積層するように配置されている。処理ブロック１１の詳細な構成を説明する。
【0032】
図１を参照する。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａを備える。搬送スペース１２Ａは、幅方向Ｙにおける処理ブロック１１の中央部に配置される。搬送スペース１２Ａは、前後方向Ｘに延びる。搬送スペース１２Ａの前部は、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。
【0033】
処理ブロック１１は、基板載置部１４Ａを備える。基板載置部１４Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。基板載置部１４Ａは、搬送スペース１２Ａの前部に配置される。インデクサ部３の搬送機構６は、基板載置部１４Ａにもアクセス可能である。基板載置部１４Ａは、１枚または複数枚の基板Ｗを載置する。
【0034】
処理ブロック１１は、搬送機構１６Ａを備える。搬送機構１６Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。搬送機構１６Ａは、基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ａは、基板載置部１４Ａにアクセス可能である。
【0035】
処理ブロック１１は、図１に示すように、４つの処理ユニット２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄを備える。処理ユニット２１Ａ、２１Ｂは、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。処理ユニット２１Ａ、２１Ｂは、搬送スペースに沿って前後方向Ｘに並ぶ。処理ユニット２１Ｂは、処理ユニット２１Ａの後方に配置される。処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄは、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄは、搬送スペース１２Ａに沿って前後方向Ｘに並ぶ。処理ユニット２１Ｄは、処理ユニット２１Ｃの後方に配置される。２つの処理ユニット２１Ａ、２１Ｂと２つの処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄは、搬送スペース１２Ａを挟んで対向するように配置される。
【0036】
なお、処理ユニット２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄを区別しない場合には、処理ユニット２１と呼ぶ。処理ユニット２１は、基板Ｗに処理を行う。
【0037】
図２を参照する。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａに加えて、搬送スペース１２Ｂを備える。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａの下方に配置される。搬送スペース１２Ｂは、平面視において、搬送スペース１２Ａと重なる。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａと略同じ形状を有する。搬送スペース１２Ｂも、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。搬送スペース１２Ａ、１２Ｂを区別しない場合には、搬送スペース１２と呼ぶ。
【0038】
処理ブロック１１は、１つの隔壁１３を備える。隔壁１３は、搬送スペース１２Ａの下方、かつ、搬送スペース１２Ｂの上方に配置される。隔壁１３は、水平な板形状を有する。隔壁１３は、搬送スペース１２Ａと搬送スペース１２Ｂを隔てる。
【0039】
処理ブロック１１は、基板載置部１４Ａに加えて、基板載置部１４Ｂを備える。基板載置部１４Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。基板載置部１４Ｂは、基板載置部１４Ａの下方に配置される。基板載置部１４Ｂは、平面視において、基板載置部１４Ａと重なる。基板載置部１４Ｂは、平面視において、基板載置部１４Ａと同じ位置に配置される。基板載置部１４Ｂは、搬送スペース１２Ｂの前部に配置される。インデクサ部３の搬送機構６は、基板載置部１４Ｂにもアクセス可能である。基板載置部１４Ｂは、１枚または複数枚の基板Ｗを載置する。
【0040】
処理ブロック１１は、搬送機構１６Ａに加えて、搬送機構１６Ｂを備える。搬送機構１６Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。搬送機構１６Ｂは、基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ｂは、基板載置部１４Ｂにアクセス可能である。
【0041】
搬送機構１６Ｂは、搬送機構１６Ａと同じ構造を有する。搬送機構１６Ａ、１６Ｂを区別しない場合には、搬送機構１６と呼ぶ。
【0042】
図１、図２を参照する。各搬送機構１６は、ハンド１７とハンド駆動部１８を備える。ハンド１７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部１８は、ハンド１７に連結される。ハンド駆動部１８は、ハンド１７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび鉛直方向Ｚに移動する。ハンド駆動部１８は、複数の電動モータを備えている。
【0043】
ハンド駆動部１８の構造を例示する。ハンド駆動部１８は、例えば、２つの支柱１８ａと、垂直移動部１８ｂと水平移動部１８ｃと回転部１８ｄと進退移動部１８ｅを備える。
【0044】
２つの支柱１８ａは、固定的に設置される。２つの支柱１８ａは、搬送スペース５の側部に配置される。２つの支柱１８ａは前後方向Ｘに並ぶ。各支柱１８ａは、鉛直方向Ｚに延びる。垂直移動部１８ｂは、２つの支柱１８ａに支持される。垂直移動部１８ｂは、２つの支柱１８ａの間にわたって前後方向Ｘに延びる。垂直移動部１８ｂは、２つの支柱１８ａに対して鉛直方向Ｚに移動する。水平移動部１８ｃは、垂直移動部１８ｂに支持される。水平移動部１８ｃは、垂直移動部１８ｂに対して前後方向Ｘに移動する。水平移動部１８ｃは、２つの支柱１８ａの間にわたって前後方向Ｘに移動する。回転部１８ｄは、水平移動部１８ｃに支持される。回転部１８ｄは、水平移動部１８ｃに対して回転する。回転部１８ｄは、回転軸線Ａ２回りに回転する。回転軸線Ａ２は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。
【0045】
進退移動部１８ｅは、回転部１８ｄに対して移動する。進退移動部１８ｅは、回転部１８ｄの向きによって決まる水平な一方向に往復移動する。進退移動部１８ｅは、ハンド１７に接続される。このようなハンド駆動部１８によれば、ハンド１７は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド１７は、水平な任意の方向に平行移動可能である。ハンド１７は、回転軸線Ａ２回りに回転可能である。
【0046】
図１～図５を参照する。図４は、基板処理装置１の右部の構成を示す右側面図である。図５は、基板処理装置１の左部の構成を示す左側面図である。処理ブロック１１は、６つの処理ユニット２１Ａを備える。６つの処理ユニット２１Ａは、上下方向に積層するように配置される。すなわち、６つの処理ユニット２１Ａは、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。同様に、処理ブロック１１は、６つの処理ユニット２１Ｂ、６つの処理ユニット２１Ｃ、および６つの処理ユニット２１Ｄを備える。６つの処理ユニット２１Ｂ、６つの処理ユニット２１Ｃおよび６つの処理ユニット２１Ｄは各々、上下方向に積層するように配置される。
【0047】
図２に示す上層の搬送機構１６Ａは、上側の１２個（４個×上３段）の処理ユニット２１に対して基板Ｗを搬送する。また、下層の搬送機構１６Ｂは、下側の１２個（４個×下３段）の処理ユニット２１に対して基板Ｗを搬送する。なお、搬送機構１６は、処理ユニット２１の保持部３１にアクセス可能である。
【0048】
＜２－１．処理ユニット２１の構成＞
図６は、処理ユニット２１を示す横断面図である。２４個の処理ユニット２１は各々、処理室２３（処理筐体）、薬液配管スペース９４および切り換え機構５１を備えている。
図６は、処理ユニット２１を示す横断面図である。２４個の処理ユニット２１は各々、処理室２３（処理筐体）、薬液配管スペース９４および切り換え機構５１を備えている。
【0049】
処理室２３は、基板Ｗを保持した状態で回転する保持部３１が配置され、保持部３１で保持回転されている基板Ｗに薬液処理を行い、基板搬送口２７を介して搬送機構１６との間で基板Ｗをやり取りする領域である。薬液配管スペース９４は、処理室２３に薬液を供給するための薬液配管が配置される領域である。切り換え機構５１（排気室５３）は、処理室２３内を排気するために排気口５２を介して処理室２３と連通する。また、切り換え機構５１は、上下方向に延びる３本の排気管４１、４２、４３と連通する。
【0050】
なお、排気管４１は、処理ユニット２１Ａ～２１Ｄで区別する場合は、排気管４１Ａ、４１Ｂ、４１Ｃ、４１Ｄと呼ぶ。これは排気管４２、４３についても同様である。
【0051】
＜２－１－１．処理室２３の構成＞
まず、処理室２３の構成を説明する。処理室２３は、略箱形状を有する。処理室２３は、平面視、正面視および側面視において、略矩形形状を有する。処理室２３は、その内部に処理スペース２４を有する。処理ユニット２１は、処理スペース２４において基板Ｗを処理する。
まず、処理室２３の構成を説明する。処理室２３は、略箱形状を有する。処理室２３は、平面視、正面視および側面視において、略矩形形状を有する。処理室２３は、その内部に処理スペース２４を有する。処理ユニット２１は、処理スペース２４において基板Ｗを処理する。
【0052】
図３～図５を参照する。６つの処理ユニット２１Ａの６つの処理室２３は、互いに積層される。同様に、６つの処理ユニット２１Ｂの６つの処理室２３は、互いに積層される。６つの処理ユニット２１Ｃの６つの処理室２３は、互いに積層される。６つの処理ユニット２１Ｄの６つの処理室２３は、互いに積層される。各処理室２３は、搬送スペース１２に隣接する。
【0053】
図６、図７を参照する。各処理室２３は、４つの側壁２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄと上板２５ｅと底板２５ｆとを備える。側壁２５ａ～２５ｄはそれぞれ、略垂直な板形状である。上板２５ｅと底板２５ｆは、略水平な板形状を有する。処理スペース２４は、側壁２５ａ～２５ｄと上板２５ｅと底板２５ｆによって、区画される。
【0054】
側壁２５ａ、２５ｃは、前後方向Ｘに延びる。側壁２５ｃは、側壁２５ａの反対に設けられる。側壁２５ｂ、２５ｄは、幅方向Ｙに延びる。側壁２５ｂ、２５ｄはそれぞれ、側壁２５ａから側壁２５ｃまで延びる。側壁２５ｄは、側壁２５ｂの反対に設けられる。
【0055】
側壁２５ａは、搬送スペース１２に接する位置に配置される。処理ユニット２１Ａ、２１Ｂの場合、図１に示すように、側壁２５ｃは側壁２５ａの右方に位置し、側壁２５ｄは側壁２５ｂの後方に位置する。処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄの場合、側壁２５ｃは側壁２５ａの左方に位置し、側壁２５ｄは側壁２５ｂの前方に位置する。
【0056】
処理室２３は、基板搬送口２７を有する。基板搬送口２７は、側壁２５ａに形成される。基板Ｗは、基板搬送口２７を通過可能である。基板Ｗは、基板搬送口２７を通じて、処理室２３の外部（すなわち、搬送スペース１２）と処理室２３の内部（すなわち、処理スペース２４）の間で、移動する。各処理ユニット２１は、不図示のシャッターを備える。シャッターは、側壁２５ａに取り付けられる。シャッターは、基板搬送口２７を開閉する。
【0057】
処理室２３は、保持部３１を備える。保持部３１は、処理室２３の内部に設置される。保持部３１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。保持部３１は、上面３１ａを有する。上面３１ａは、略水平である。基板Ｗは、上面３１ａの上に載置される。保持部３１は、例えば、基板Ｗの下面を真空吸着で保持してもよい。また、保持部３１は、スピンベースと、スピンベース上に立てられた３つ以上の支持ピンを備えてもよい。この場合、３つ以上の支持ピンは、スピンベースと基板Ｗとの間に隙間を有しつつ、基板Ｗを保持するために基板Ｗの側面を挟み込む。なお、図１は、保持部３１に保持される基板Ｗを破線で示す。
【0058】
各処理ユニット２１は、さらに、回転駆動部３２を備える。回転駆動部３２は、処理室２３の内部に設置される。回転駆動部３２は、保持部３１に連結される。回転駆動部３２は、例えば電動モータを備え、保持部３１を回転させる。保持部３１に保持される基板Ｗは、保持部３１と一体に回転する。基板Ｗは、回転軸線Ａ３回りに回転する。回転軸線Ａ３は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ３は、基板Ｗの中心を通る。
【0059】
なお、図１７に示す従来の基板処理装置は、ノズル２４３の配置などの各構成が左右対称に配置される２種類（Ａ，Ｂ）の処理ユニット２２１を備えていた。この場合、２種類の処理ユニット間で薬液処理を同等にするために、一方を、平面視で反時計回りに保持部を回転させ、他方を、時計回りに保持部を回転させていた。本実施例では、回転駆動部３２は、平面視で、保持部３１を所定の方向のみ（例えば反時計回り）に回転させる。
【0060】
図１を参照する。処理室２３は、液供給部３３を備える。液供給部３３は、処理室２３の内部に設置される。液供給部３３は、保持部３１に保持される基板Ｗに薬液（処理液とも呼ばれる）を供給する。液供給部３３は、第１薬液と第２薬液と第３薬液を供給する。第１薬液と第２薬液と第３薬液は互いに、種類が異なる。
【0061】
第１薬液は、例えば、酸性液（酸系の薬液）に分類される。第１薬液は、例えば、フッ酸（フッ化水素酸）、塩酸過酸化水素水、硫酸、硫酸過酸化水素水、フッ硝酸（フッ酸と硝酸との混合液）、および、塩酸の少なくとも１つを含む。
【0062】
第２薬液は、例えば、アルカリ液（アルカリ系の薬液）に分類される。第２薬液は、例えば、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）、アンモニア水、フッ化アンモニウム溶液、および、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の少なくとも１つを含む。
【0063】
第３薬液は、例えば、有機液（有機系の薬液）に分類される。有機液は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）、および、アセトンの少なくとも１つを含む。
【0064】
液供給部３３は、１つ以上（例えば３つ）のノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを備える。ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃはそれぞれ、薬液を吐出する。ノズル３４Ａは、例えば、第１薬液を吐出する。ノズル３４Ｂは、例えば、第２薬液を吐出する。ノズル３４Ｃは、例えば、第３薬液を吐出する。なお、液供給部３３は、ノズルを追加して、窒素などの不活性ガスを吐出してもよいし、不活性ガスと薬液の混合液を吐出してもよい。
【0065】
各ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃは、直線的に延びる管形状を有する。ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃはそれぞれ、先端部３５Ａ、３５Ｂ、３５Ｃと基端部３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃを備える。先端部３５Ａ、３５Ｂ、３５Ｃはそれぞれ、薬液を吐出する不図示の吐出口を有する。
【0066】
液供給部３３は、１つ以上（例えば３つ）のベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃを備える。ベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃはそれぞれ、ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを支持する。具体的には、ベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃは、基端部３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃと接続する。
【0067】
ベース部３７Ａは、ノズル３４Ａを、処理位置と退避位置に移動する。ノズル３４Ａが処理位置にあるとき、先端部３５Ａ（吐出口）は、保持部３１に保持される基板Ｗの上方に位置する。ノズル３４Ａが処理位置にあるとき、先端部３５Ａ（吐出口）は、平面視において、保持部３１に保持される基板Ｗと重なる。ノズル３４Ａが退避位置にあるとき、ノズル３４Ａの全体は、平面視において、保持部３１に保持される基板Ｗと重ならない。同様に、ベース部３７Ｂ、３７Ｃはそれぞれ、ノズル３４Ｂ、３４Ｃを処理位置と退避位置に移動させる。
【0068】
具体的には、ベース部３７Ａは、回転軸線Ａ４回りにノズル３４Ａを回転する。回転軸線Ａ４は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ４は、ベース部３７Ａを通る。同様に、ベース部３７Ｂ、３７Ｃはそれぞれ、回転軸線Ａ５、Ａ６回りにノズル３４Ｂ、３４Ｃを回転する。回転軸線Ａ５、Ａ６はそれぞれ、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ５、Ａ６はそれぞれ、ベース部３７Ｂ、３７Ｃを通る。
【0069】
ベース部３７Ａは、側壁２５ｂ、２５ｃが接続する角部に配置される。ベース部３７Ｂ、３７Ｃは、側壁２５ｃ、２５ｄが接続する角部に配置される。
【0070】
基板搬送口２７およびノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃは、平面視において、保持部３１を取り囲むように配置される。ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃが基板Ｗの外側の待機位置にある場合、基板搬送口２７とノズル３４Ｂは、保持部３１を挟んで対向するように配置される。また、ノズル３４Ａとノズル３４Ｃは、保持部３１を挟んで対向するように配置される。各処理ユニット２１は、保持部３１の周囲に配置されるカップ３８を備える。カップ３８は、薬液処理の際に基板Ｗから飛散した薬液を受け止める。
【0071】
図７を参照する。第１ノズル３４Ａは、配管ＬＮ１を介して供給源ＳＣ１に接続する。配管ＬＮ１には、開閉弁Ｖ１とポンプＰＰ１が設けられている。開閉弁Ｖ１は、供給源ＳＣ１から第１ノズル３４Ａに薬液を供給し、また、その薬液の供給を停止する。同様に、第２ノズル３４Ｂは、配管ＬＮ２を介して供給源ＳＣ２に接続する。配管ＬＮ２には、開閉弁Ｖ２とポンプＰＰ２が設けられている。開閉弁Ｖ２は、供給源ＳＣ２から第２ノズル３４Ｂに薬液を供給し、また、その薬液の供給を停止する。また、第３ノズル３４Ｃは、配管ＬＮ３を介して供給源ＳＣ３に接続する。配管ＬＮ３には、開閉弁Ｖ３とポンプＰＰ３が設けられている。開閉弁Ｖ３は、供給源ＳＣ３から第３ノズル３４Ｃに薬液を供給し、また、その薬液の供給を停止する。３つのポンプＰＰ１～ＰＰ３は各々、薬液を送り出す。
【0072】
＜２－１－２．薬液配管スペース９４の構成＞
薬液配管スペース９４は、処理室２３に薬液を供給するための３つの配管ＬＮ１、ＬＮ２、ＬＮ３が配置される領域である。すなわち、薬液配管スペース９４は、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３、および３つの開閉弁Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３を備えている。また、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３は各々、開閉弁Ｖ１（Ｖ２またはＶ３）に加えて、流量調整弁および流量計の少なくとも一方が設けられていてもよい。なお、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３は、薬液配管スペース９４から処理室２３に引き出されて、それぞれのノズル３４Ａ～３４Ｃに接続される。
薬液配管スペース９４は、処理室２３に薬液を供給するための３つの配管ＬＮ１、ＬＮ２、ＬＮ３が配置される領域である。すなわち、薬液配管スペース９４は、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３、および３つの開閉弁Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３を備えている。また、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３は各々、開閉弁Ｖ１（Ｖ２またはＶ３）に加えて、流量調整弁および流量計の少なくとも一方が設けられていてもよい。なお、３つの配管ＬＮ１～ＬＮ３は、薬液配管スペース９４から処理室２３に引き出されて、それぞれのノズル３４Ａ～３４Ｃに接続される。
【0073】
＜２－１－３．切り換え機構５１の構成（処理ユニット２１の排気構造）＞
図１を参照する。処理ブロック１１は、処理ユニット２１毎に３本の排気管４１、４２、４３を備える。排気管４１、４２、４３はいずれも、処理室２３の外部に設置される。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３の側方に設置される。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３の側方の位置を通過する。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３から気体を排出する。
図１を参照する。処理ブロック１１は、処理ユニット２１毎に３本の排気管４１、４２、４３を備える。排気管４１、４２、４３はいずれも、処理室２３の外部に設置される。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３の側方に設置される。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３の側方の位置を通過する。排気管４１～４３はそれぞれ、処理室２３から気体を排出する。
【0074】
処理ユニット２１は、切り換え機構５１を備える。切り換え機構５１は、処理室２３の側方に配置される。すなわち、切り換え機構５１は、処理室２３と略同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１は、排気口５２を介して、処理室２３と連通すると共に、３本の排気管４１～４３の各々に連通する。切り換え機構５１は、処理室２３からの気体の排気路を、３本の排気管４１～４３のいずれか１つに切り換える。
【0075】
処理ブロック１１は、図１に示すように、４つの排気管スペース４４（４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃ、４４Ｄ）を備える。２つの処理ユニット２１Ａ、２１Ｂにおいて、インデクサ部３側から順番に、排気管スペース４４、処理室２３、薬液配管スペース９４の順番に並んで配置される。排気管スペース４４は、処理室２３に隣接し、処理室２３は、薬液供給スペース９４に隣接する。また、２つの処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄにおいて、インデクサ部３側から順番に、薬液配管スペース９４、処理室２３、排気管スペース４４の順番に並んで配置される。
【0076】
４つの排気管スペース４４は各々、鉛直方向Ｚに延びる。４つの排気管スペース４４は各々、最下段（１段目）の処理ユニット２１から最上段（６段目）の処理ユニット２１にわたって延びる。４つの排気管スペース４４は各々、３本の排気管４１～４３を収容する。３本の排気管４１～４３は、幅方向Ｙに並ぶ。
【0077】
図３は、図１の矢印ＥＥから見た基板処理装置１の縦断面図である。３本の排気管４１～４３は、最下段（１段目）の処理ユニット２１と同じ高さ位置から最上段（６段目）の処理ユニット２１と同じ高さ位置にわたって延びる。３本の排気管４１～４３は、上下方向に積層された６段の処理ユニット２１の処理室２３に接する。３本の排気管４１～４３は、上下方向に積層された６段の処理ユニット２１の処理室２３の各々からの気体を排出する。すなわち、３本の排気管４１～４３は４組ある。第１組（１組目）の３本の排気管４１Ａ～４３Ａは、６段の処理ユニット２１Ａの各々に対して排気するように構成される。第２組の３本の排気管４１Ｂ～４３Ｂは、６段の処理ユニット２１Ｂの各々に対して排気するように構成される。同様に、第３組の３本の排気管４１Ｃ～４３Ｃは、６段の処理ユニット２１Ｃの排気を担当し、第４組の３本の排気管４１Ｄ～４３Ｄは、６段の処理ユニット２１Ｄの排気を担当する。
【0078】
切り換え機構５１は、図３～図５に示すように、処理室２３と略同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１は、平面視において、保持部３１および処理室２３と重ならない位置に配置される。切り換え機構５１は、処理室２３の外部に配置される。切り換え機構５１は、図１に示すように、４つの排気管スペース４４（４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃ、４４Ｄ）の各々に配置される。
【0079】
図６を参照する。切り換え機構５１の構造を説明する。切り換え機構５１は、排気室（切り換え筐体）５３を備える。排気室５３は、処理室２３に連通接続される。排気室５３は、さらに、排気管４１～４３に連通接続される。排気室５３は、その内部に、排気路である切り換えスペース５４を有する。
【0080】
排気室５３は、水平方向に延びる。排気室５３および切り換えスペース５４は、平面視において、略Ｌ字状に屈曲する。排気室５３は、導入部５５と分配部５６を備える。導入部５５は、処理室２３に連通接続される。導入部５５は、処理室２３の側壁２５ｂに接続される。導入部５５は、処理室２３から前後方向Ｘに延び、平面視で長方形に形成される。
【0081】
導入部５５は、処理室２３と連通接続する。導入部５５は、第１端５５ａと第２端５５ｂを有する。第１端５５ａは、処理室２３の内部（すなわち処理スペース２４）に配置される。第１端５５ａの開口は、排気口５２を構成する。第２端５５ｂは、処理室２３の外部（すなわち排気管スペース４４）に配置される。
【0082】
分配部５６は、導入部５５に接続される。分配部５６は、幅方向Ｙに延び、平面視で長方形に形成される。分配部５６は、さらに、排気管４１～４３に連通接続される。分配部５６は、排気管４１～４３の外側面に接続される。
【0083】
分配部５６は、処理室２３の外部（すなわち排気管スペース４４）に配置される。分配部５６は、排気管４１～４３の近傍に配置される。排気管４１～４３は、側壁２５ｂと分配部５６の間に配置される。
【0084】
排気室５３は、処理室２３と連通する。すなわち、切り換えスペース５４は、処理スペース２４と連通する。切り換えスペース５４は、第１端５５ａにおいて、処理スペース２４に開放される。排気室５３は、さらに、排気管４１～４３と連通する。すなわち、切り換えスペース５４は、分配部５６によって、排気管４１～４３と連通する。
【0085】
排気室５３は、２つの開閉部６１、６２、３つの連通口６３、６４、６５および２つの分配開口６７，６８を備える。開閉部６１、６２は、排気室５３の内部に配置される。第１連通口６３は、分配部５６と第１排気管４１を連通する。第２連通口６４は、分配部５６と第２排気管４２を連通する。第３連通口６５は、分配部５６と第３排気管４３を連通する。第１分配開口６７は、Ｙ方向に延びる分配部５６を遮るように、２つの連通口６３，６４の間に形成される。第２分配開口６８は、Ｙ方向に延びる分配部５６を遮るように、２つの連通口６４，６５の間に形成される。
【0086】
開閉部６１は、例えば、略垂直な平板形状を有する。開閉部６１は、回転軸線Ａ７回りに揺動可能に設置される。回転軸線Ａ７は、上下方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ７は、開閉部６１の一端部を通る。開閉部６１は、例えば電動モータによって駆動される。開閉部６２も、開閉部６１と同じ構造を有する。
【0087】
開閉部６１、６２は、互いに独立して作動する。開閉部６１は、第１連通口６３および分配開口６７の一方を閉じる。開閉部６２は、第２連通口６４および分配開口６８の一方を閉じる。図８（ａ）を参照する。例えば、開閉部６１が分配開口６７を閉じる場合、開閉部６２の位置に関わらず、処理室２３からの気体が第１連通口６３を介して排気管４１に送られる。図８（ｂ）を参照する。開閉部６１が第１連通口６３を閉じると共に、開閉部６２が分配開口６８を閉じる場合、処理室２３からの気体が第２連通口６４を介して排気管４２に送られる。図８（ｃ）を参照する。開閉部６１が第１連通口６３を閉じると共に、開閉部６２が第２連通口６４を閉じる場合、処理室２３からの気体が第３連通口６５を介して排気管４３に送られる。
【0088】
図６に戻る。切り換え機構５１は、圧力センサ７１と圧力調整機構７３を備える。圧力センサ７１は、排出する気体である排気の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、排気口５２を通過する気体の圧力を調整するものである。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１で計測された圧力に基づき、予め設定された圧力に調整する。圧力センサ７１と圧力調整機構７３は、導入部５５の内部に設置される。圧力調整機構７３は、排気口５２と分配部５６（２つの開閉部６１，６２）との間であって、例えば排気口５２付近に設けられる。圧力センサ７１は、排気口５２と圧力調整機構７３との間に設けられる。なお、圧力センサ７１は、圧力調整機構７３の二次側（下流側）に設けられてもよい。
【0089】
圧力調整機構７３は、例えばオートダンパ（モータダンパ）およびファンの一方で構成される。オートダンパは、流路断面積を変更するための羽根部材（板状部材）を備え、導入部５５内の風量（通気量（体積／時間））を調整する。オートダンパおよびファンは各々、電動モータを備える。
【0090】
図９を参照する。圧力センサ７１と圧力調整機構７３は、処理ユニット２１毎に設けられる。そのため、処理ユニット２１毎に排気圧（風量）の調整が容易である。
【0091】
図３、図１０を参照する。処理ブロック１１は、３本の水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａを備える。３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａは、最上段（６段目）の２つの処理ユニット２１Ａ、２１Ｂよりも高い位置に配置される。すなわち、３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａは、６段の処理ユニット２１Ａおよび６段の処理ユニット２１Ｂよりも高い位置に配置される。３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａは、搬送スペース１２に沿って前後方向（Ｘ方向）に延びるように配置される。また、３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａは、幅方向（Ｙ方向）に並んで配置される。
【0092】
第１水平排気管８１Ａは、処理ユニット２１Ａ用の排気管４１（４１Ａ）、および処理ユニット２１Ｂ用の排気管４１（４１Ｂ）の各々と連通接続する。同様に、第２水平排気管８２Ａは、処理ユニット２１Ａ用の排気管４２（４２Ａ）、および処理ユニット２１Ｂ用の排気管４２（４２Ｂ）の各々と連通接続する。第３水平排気管８３Ａは、処理ユニット２１Ａ用の排気管４３（４３Ａ）、および処理ユニット２１Ｂ用の排気管４３（４３Ｂ）の各々と連通接続する。３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａはそれぞれ、平面視において、処理ユニット２１Ａ、２１Ｂの処理層２３と重なる位置に配置される。
【0093】
水平排気管８１Ａは、排気管４１Ａ、４１Ｂから気体を排出する。水平排気管８２Ａは、排気管４２Ａ、４２Ｂから気体を排出する。水平排気管８３Ａは、排気管４３Ａ、４３Ｂから気体を排出する。
【0094】
処理ブロック１１は、水平排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂを備える。３本の水平排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂは、３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａと略同じように構成される。
３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂは、最上段（６段目）の２つの処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄよりも高い位置に配置される。３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂは、搬送スペース１２に沿って前後方向Ｘに延びるように配置される。
３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂは、最上段（６段目）の２つの処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄよりも高い位置に配置される。３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂは、搬送スペース１２に沿って前後方向Ｘに延びるように配置される。
【0095】
第４水平排気管８１Ｂは、処理ユニット２１Ｃ用の排気管４１（４１Ｃ）、および処理ユニット２１Ｄ用の排気管４１（４１Ｄ）の各々と連通接続する。同様に、第５水平排気管８２Ｂは、処理ユニット２１Ｃ用の排気管４２（４２Ｃ）、および処理ユニット２１Ｄ用の排気管４２（４２Ｄ）の各々と連通接続する。第６水平排気管８３Ｂは、処理ユニット２１Ｃ用の排気管４３（４３Ｃ）、および処理ユニット２１Ｄ用の排気管４３（４３Ｄ）の各々と連通接続する。また、３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂは、幅方向Ｙに並んで配置される。例えば水平排気管８１Ｂは、排気管４１Ｃ、４１Ｄから気体を排出する。
【0096】
３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａは、３本の水平排気管８１Ｂ～８３Ｂより長くなるように構成される。水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａはそれぞれ、前端８１Ａｆ、８２Ａｆ、８３Ａｆを有する。水平排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂはそれぞれ、前端８１Ｂｆ、８２Ｂｆ、８３Ｂｆを有する。前端８１Ａｆは、前端８１Ｂｆ、８２Ｂｆ、８３Ｂｆよりも前方に配置される。同様に、前端８２Ａｆ、８３Ａｆはそれぞれ、前端８１Ｂｆ、８２Ｂｆ、８３Ｂｆよりも前方に配置される。
【0097】
６つの前端８１Ａｆ～８３Ａｆ、８１Ｂｆ～８３Ｂｆは、基板処理装置１の外部（例えば基板処理装置１が設置されるクリーンルーム）に開放される。６本の水平排気管８１Ａ～８３Ａ、８１Ａ～８３Ａはそれぞれ、６つの前端８１Ａｆ～８３Ａｆ、８１Ｂｆ～８３Ｂｆから外気を取り込むことができる。
【0098】
気体は、水平排気管８１Ａの中を後方に流れる。同様に、気体は、５本の水平排気管８２Ａ、８３Ａ、８１Ｂ～８３Ｂの中を後方に流れる。水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａはそれぞれ、後端８１Ａｂ、８２Ａｂ、８３Ａｂを有する。水平排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂはそれぞれ、後端８１Ｂｂ、８２Ｂｂ、８３Ｂｂを有する。６つの後端８１Ａｂ～８３Ａｂ、８１Ｂｂ～８３Ｂｂは、例えば工場の排気設備に接続される。この工場の排気設備は、予め設定された圧力で、６つの後端８１Ａｂ～８３Ａｂ、８１Ｂｂ～８３Ｂｂを介して、６本の水平排気管８１Ａ～８３Ａ、８１Ｂ～８３Ｂ内の気体を吸い込んでいる。
【0099】
処理ブロック１１は、６つの圧力センサ８５と、６つの前端側の圧力調整機構８７と、６つの後端側の圧力調整機構８９とを備えている。すなわち、６本の水平排気管８１Ａ～８３Ａ、８１Ｂ～８３Ｂは各々、圧力センサ８５と前端側の圧力調整機構８７と後端側の圧力調整機構８９を備えている。
【0100】
図１０を参照する。水平排気管８１Ａを一例に説明する。前端側の圧力調整機構８７は、前端８１Ａｆと、排気管４１Ａの接続部分との間に配置される。また、圧力調整機構８７は、排気管４１Ａとの接続部分よりも前端８１Ａｆの近くに配置されていてもよい。圧力調整機構８７は、前端８１Ａｆから流入する外気の圧力（風量）を調整する。圧力調整機構８７は、圧力調整機構７３と同様に、例えばオートダンパおよびファンの一方で構成される。オートダンパおよびファンは各々、電動モータで駆動される。
【0101】
後端側の圧力調整機構８９は、排気管４１Ｂの接続部分と、後端８１Ａｂとの間に配置される。また、圧力調整機構８９は、排気管４１Ｂの接続部分よりも後端８１Ａｂの近くに配置されていてもよい。圧力調整機構８９は、基板処理装置１の外部（例えば工場の排気設備）に送り出す気体の圧力を調整する。圧力調整機構８９は、例えば板状の羽根部材と、羽根部材の傾きを調整するダイヤルとを有し、操作者がダイヤルを回して手操作で羽根部材の傾きを調整する。また、圧力調整機構８９は、圧力調整機構７３と同様に、例えばオートダンパおよびファンの一方で構成されてもよい。圧力調整機構８９は、例えば基板処理装置１の設置時に調整される。
【0102】
圧力センサ８５は、排気管４１Ｂの接続部分と、後端側の圧力調整機構８９との間に配置されている。圧力センサ８５は、２つの排気管４１Ａ、４１Ｂを集合した後の水平排気管８１Ａ内の圧力を計測する。前端側の圧力調整機構８７は、圧力センサ８５で計測された圧力に基づき、水平排気管８１Ａ内の気体の圧力を予め設定された値に調整する。
【0103】
水平排気管８１Ａと同様に、残りの５本の水平排気管８２Ａ、８３Ａ、８１Ｂ～８３Ｂについて、圧力センサ８５、および２つの圧力調整機構８７、８９が設置される。そして、前端側の圧力調整機構８７は、圧力センサ８５で計測された圧力に基づき、各水平排気管８２Ａ、８３Ａ、８１Ｂ～８３Ｂ内の気体の圧力（風量）を予め設定された値に調整する。
【0104】
＜２－２．処理ユニット２１の共通化＞
図１を参照する。各処理ユニット２１は、同じ構造を有する。そのため、全ての処理ユニット２１は、処理室２３と薬液配管スペース９４と切り換え機構５１（または排気室５３）とが搬送スペース１２に沿って並べて配置される。また、全ての処理ユニット２１は、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の一方側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように切り換え機構５１が配置されている。この点、具体的に説明する。
図１を参照する。各処理ユニット２１は、同じ構造を有する。そのため、全ての処理ユニット２１は、処理室２３と薬液配管スペース９４と切り換え機構５１（または排気室５３）とが搬送スペース１２に沿って並べて配置される。また、全ての処理ユニット２１は、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の一方側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように切り換え機構５１が配置されている。この点、具体的に説明する。
【0105】
まず、この説明における「左手側」、「右手側」は、図１に示す幅方向Ｙの「左」、「右」と関係ないものとする。図１に示すように、インデクサ部３と処理ブロック１１が横に並んでいるとする。処理ユニット２１Ａ，２１Ｂは共に、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の右手側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３の左手側に切り換え機構５１が配置される。ここで、図１の紙面を上下逆さまにする。処理ユニット２１Ｃ，２１Ｄは共に、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の右手側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３の左手側に切り換え機構５１が配置される。
【0106】
換言すると、処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄは、処理ユニット２１Ａ、２１Ｂを鉛直方向Ｚと平行な軸線回りに１８０度、回転したものに相当する。また、例えば処理室２３と保持部３１と液供給部３３の相対的な配置は、処理ユニット２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄの間で同じである。
【0107】
＜２－３．基板処理装置１の制御系＞
基板処理装置１は、制御部９７を備える（図１参照）。制御部９７は、基板処理装置１の各構成を制御する。例えば、制御部９７は、搬送機構６、１６、処理ユニット２１、開閉弁Ｖ１～Ｖ３、切り換え機構５１、圧力センサ（例えば符号７１）、圧力調整機構（例えば符号７３）を制御する。制御部９７は、これらの要素と通信可能に接続される。
基板処理装置１は、制御部９７を備える（図１参照）。制御部９７は、基板処理装置１の各構成を制御する。例えば、制御部９７は、搬送機構６、１６、処理ユニット２１、開閉弁Ｖ１～Ｖ３、切り換え機構５１、圧力センサ（例えば符号７１）、圧力調整機構（例えば符号７３）を制御する。制御部９７は、これらの要素と通信可能に接続される。
【0108】
制御部９７は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となる例えばＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体は、基板処理装置１の動作に必要なプログラムを記憶する。
【0109】
なお、搬送スペース１２は、本発明の搬送経路に相当する。搬送機構１６は、本発明の基板搬送機構に相当する。保持部３１と回転駆動部３２は、本発明の保持回転部に相当する。開閉部６１，６２は、本発明の開閉機構に相当する。薬液配管スペース９４は、本発明の薬液配管部に相当する。配管ＬＮ１～ＬＮ３は、本発明の薬液配管に相当する。
【0110】
＜３．基板処理装置１の動作＞
図１を参照する。基板処理装置１の動作の概要を説明する。インデクサ部３の搬送機構６は、キャリア載置部４上のキャリアＣから２つの基板載置部１４Ａ、１４Ｂのうち例えば基板載置部１４Ａに基板Ｗを搬送する。処理ブロック１１の搬送機構１６Ａは基板載置部１４Ａから上側の１２個の処理ユニット２１のいずれかに基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構１６Ａは、基板搬送口２７を通じて処理室２３の内部に侵入し、その後、処理ユニット２１の保持部３１上に基板Ｗを置く。
図１を参照する。基板処理装置１の動作の概要を説明する。インデクサ部３の搬送機構６は、キャリア載置部４上のキャリアＣから２つの基板載置部１４Ａ、１４Ｂのうち例えば基板載置部１４Ａに基板Ｗを搬送する。処理ブロック１１の搬送機構１６Ａは基板載置部１４Ａから上側の１２個の処理ユニット２１のいずれかに基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構１６Ａは、基板搬送口２７を通じて処理室２３の内部に侵入し、その後、処理ユニット２１の保持部３１上に基板Ｗを置く。
【0111】
処理ユニット２１は、処理室２３の内部（すなわち、処理スペース２４）において基板Ｗに薬液処理を行う。具体的には、液供給部３３は、保持部３１に保持された基板Ｗに薬液を供給する。基板Ｗが処理された後、搬送機構１６Ａは、処理ユニット２１の保持部３１から基板載置部１４Ａに基板Ｗを搬送する。搬送機構６は基板載置部１４Ａからキャリア載置部４上のキャリアＣに基板Ｗを搬送する。
【0112】
＜３－１．各処理ユニット２１の排気動作＞
図６を参照する。処理ブロック１１の搬送機構１６Ａは、処理ユニット２１の保持部３１上に基板Ｗを搬送する。保持部３１は、基板Ｗを保持する。なお、３本の排気管４１～４３（４１Ａ～４３Ａ）は、例えば次のように用いられるものとする。排気管４１は、酸系の排気に用いられる。また、排気管４２は、アルカリ系の排気に用いられ、排気管４３は、有機系の排気に用いられる。
図６を参照する。処理ブロック１１の搬送機構１６Ａは、処理ユニット２１の保持部３１上に基板Ｗを搬送する。保持部３１は、基板Ｗを保持する。なお、３本の排気管４１～４３（４１Ａ～４３Ａ）は、例えば次のように用いられるものとする。排気管４１は、酸系の排気に用いられる。また、排気管４２は、アルカリ系の排気に用いられ、排気管４３は、有機系の排気に用いられる。
【0113】
まず、基板Ｗに対して酸系の薬液を供給して薬液処理を行う場合について説明する。切り換え機構５１の開閉部６１は、図８（ａ）に示すように、第１連通口６３および分配開口６７のうちの分配開口６７を閉じる。これにより、排気室５３の分配部５６が排気管４１に切り換えられる。その後、処理室２３からの気体が排気管４１に送られる。
【0114】
その後、図６に示す液供給部３３のベース部３７Ａは、ノズル３４Ａを回転軸線Ａ４回りに回転させる。これにより、ノズル３４Ａの先端部３５Ａは、基板Ｗ外の待機位置から基板Ｗの上方の予め設定された位置（薬液吐出位置）に移動される。その後、開閉弁Ｖ１（図７参照）を開状態にすることで、先端部３５Ａの図示しない吐出口から基板Ｗに対して酸系の薬液が供給される。なお、回転駆動部３２は、必要に応じて、基板Ｗを保持する保持部３１を回転軸線Ａ３回りに回転させる。酸系の薬液が吐出されると、処理室２３内に酸系の薬液の蒸気が発生する。酸系の薬液の蒸気を含む気体は、排気口５２から排気される。排気口５２を通過した気体は、導入部５５、分配部５６の順番に送られて、分配部５６に連通する排気管４１に送られる。
【0115】
次に、基板Ｗに対してアルカリ系の薬液を供給して薬液処理を行う場合について説明する。切り換え機構５１の開閉部６１は、図８（ｂ）に示すように、第１連通口６３および第１分配開口６７のうちの第１連通口６３を閉じる。更に、開閉部６２は、第２連通口６４および第２分配開口６８のうちの第２分配開口６８を閉じる。これにより、排気室５３の分配部５６が排気管４２に切り換えられる。その後、処理室２３からの気体が排気管４２に送られる。
【0116】
その後、図６に示す液供給部３３のベース部３７Ｂは、ノズル３４Ｂの先端部３５Ｂを待機位置から基板Ｗの上方の薬液吐出位置に移動させる。その後、開閉弁Ｖ２（図７参照）を開状態にすることで、先端部３５Ｂの図示しない吐出口から基板Ｗに対してアルカリ系の薬液が供給される。アルカリ系の薬液が供給されると、処理室２３内にアルカリ系の薬液の蒸気が発生する。アルカリ系の薬液の蒸気を含む気体は、排気口５２から排気される。排気口５２を通過した気体は、排気管４２に送られる。
【0117】
次に、基板Ｗに対して有機系の薬液を供給して薬液処理を行う場合について説明する。切り換え機構５１の開閉部６１は、図８（ｃ）に示すように、第１連通口６３を閉じる。更に、開閉部６２は、第２連通口６４および第２分配開口６８のうちの第２連通口６４を閉じる。これにより、排気室５３の分配部５６が排気管４３に切り換えられる。その後、処理室２３からの気体が排気管４３に送られる。
【0118】
その後、図６に示す液供給部３３のベース部３７Ｃは、ノズル３４Ｃの先端部３５Ｃを待機位置から基板Ｗの上方の薬液吐出位置に移動させる。その後、開閉弁Ｖ３（図７参照）を開状態にすることで、先端部３５Ｃの図示しない吐出口から基板Ｗに対して有機系の薬液が供給される。有機系の薬液が供給されると、処理室２３内に有機系の薬液の蒸気が発生する。有機系の薬液の蒸気を含む気体は、排気口５２から排気される。排気口５２を通過した気体は、排気管４３に送られる。
【0119】
排気口５２付近で、圧力センサ７１は、気体の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１で計測された圧力に基づいて、排気口５２から吸引される気体の圧力（風量）を予め設定された値に調整する。
【0120】
＜３－２．処理ユニット２１Ａ、２１Ｂの排気動作＞
図９を参照する。６段の処理ユニット２１Ａの各々の切り換え機構５１（排気室５３）は、３本の排気管４１Ａ、４２Ａ、４３Ａに連通する。また、６段の処理ユニット２１Ｂの各々の切り換え機構５１は、３本の排気管４１Ｂ、４２Ｂ、４３Ｂに連通する。また、２本の排気管４１Ａ、４１Ｂは、第１水平排気管８１Ａに連通する。２本の排気管４２Ａ、４２Ｂは、第２水平排気管８２Ａに連通し、２本の排気管４３Ａ、４３Ｂは、第３水平排気管８３Ａに連通する。
図９を参照する。６段の処理ユニット２１Ａの各々の切り換え機構５１（排気室５３）は、３本の排気管４１Ａ、４２Ａ、４３Ａに連通する。また、６段の処理ユニット２１Ｂの各々の切り換え機構５１は、３本の排気管４１Ｂ、４２Ｂ、４３Ｂに連通する。また、２本の排気管４１Ａ、４１Ｂは、第１水平排気管８１Ａに連通する。２本の排気管４２Ａ、４２Ｂは、第２水平排気管８２Ａに連通し、２本の排気管４３Ａ、４３Ｂは、第３水平排気管８３Ａに連通する。
【0121】
１２個の切り換え機構５１は個々に、切り換え動作を行う。例えば、次のように薬液処理を行うものとする。６段の処理ユニット２１Ａは、酸系の薬液を基板Ｗに供給する。また、上４段の処理ユニット２１Ｂは、アルカリ系の薬液を基板Ｗに供給し、下２段の処理ユニット２１Ｂは、有機系の薬液を基板Ｗに供給する。この場合、６段の処理ユニット２１Ａの各々の切り換え機構５１は、処理室２３からの気体の排気路を排気管４１Ａに切り換える。また、上４段の処理ユニット２１Ｂの各々の切り換え機構５１は、処理室２３からの気体の排気路を排気管４２Ｂに切り換え、下２段の処理ユニット２１Ｂの各々の切り換え機構５１は、処理室２３からの気体の排気路を排気管４３Ｂに切り換える。
【0122】
６段の処理ユニット２１Ａからの気体は、排気管４１Ａおよび水平排気管８１Ａを通って、後端８１Ａｂから外部に送られる。また、上４段の処理ユニット２１Ｂからの気体は、排気管４２Ｂおよび水平排気管８２Ａを通って、後端８２Ａｂから外部に送られ、下２段の処理ユニット２１Ｂからの気体は、排気管４３Ｂおよび水平排気管８３Ａを通って、後端８３Ａｂから外部に送られる。
【0123】
図９において、１２個の処理ユニット２１Ａ、２１Ｂの１２個の圧力調整機構７３は個々に、対応する圧力センサ７１で計測された圧力に基づいて圧力調整を行う。また、３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａに設けられた３つの圧力調整機構８７は個々に、対応する圧力センサ８５で計測された圧力に基づいて圧力調整を行う。なお、図９において、３つの圧力調整機構８７は、１２個の圧力調整機構７３に対して独立して制御される。
【0124】
例えば、第１水平排気管８１Ａの圧力調整機構８７は、６段の処理ユニット２１Ａから排気管４１Ａを通じて送られる気体（例えば酸系の薬液の蒸気を含む気体）の圧力を圧力センサ８５で計測して、圧力調整を行う。同様に、第２水平排気管８２Ａの圧力調整機構８７は、上４段の処理ユニット２１Ｂから排気管４２Ｂを通じて送られる気体（例えばアルカリ系の薬液の蒸気を含む気体）の圧力を圧力センサ８５で計測して、圧力調整を行う。また、第３水平排気管８３Ａの圧力調整機構８７は、下２段の処理ユニット２１Ｂから排気管４３Ｂを通じて送られる気体（例えば有機系の薬液の蒸気を含む気体）の圧力を圧力センサ８５で計測して、圧力調整を行う。
【0125】
なお、図９に示す６段の処理ユニット２１Ａにおいて、例えば水平排気管８１Ａまでの排気管４１Ａの距離が最上段（６段目）の処理ユニット２１Ａよりも最下段（１段目）の処理ユニット２１Ａの方が長いので、最下段の処理ユニット２１Ａになるほど、圧力調整機構７３（例えばオートダンパ）の開度を大きくする。すなわち、風量を大きくする。また、例えば水平排気管８１Ａが水平排気管８１Ｂよりも長いので、圧力調整機構７３（例えばオートダンパ）の開度を大きくする。
【0126】
本実施例によれば、全ての処理ユニット２１は、処理室２３と薬液配管スペース９４と排気室５３（切り換え機構５１）とが搬送スペース１２に沿って並べて配置され、かつ、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の一方側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように排気室５３が配置されている。排気室５３が処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように配置されるので、保持部３１に保持された基板Ｗに薬液を供給するための配管を通す通路を排気管によって妨げることを防止することができる。また、全ての処理ユニット２１が、搬送スペース１２側から見て、処理室２３の一方側に薬液配管スペース９４が配置され、処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように排気室５３が配置されている。これにより、従来は２種類の処理ユニットで構成されていたところ、１種類の処理ユニット２１で済む。そのため、全ての処理ユニット２１で部品を共通化することができる。
【0127】
なお、図１において、排気室５３、処理室２３、薬液配管スペース９４の前後方向Ｘにおける幅は互いに異なる。この場合、例えば、２つの処理室２３が搬送スペース１２を挟んで向かい合うように配置されると、余分な領域が生じ、それによって、処理ブロック１１の前後方向Ｘにおける床面積、すなわち、フットプリントが大きくなる。この点、本実施例によれば、４つの処理ユニット２１Ａ～２１Ｄの処理室２３が搬送スペース１２に沿って、いわゆる互い違い（ジグザグ状）に配置される。すなわち、上述の余分な領域が極力生じないように、それらが配置される。そのため、処理ブロック１１のフットプリントを小さくすることができる。
【0128】
また、排気室５３は、上下方向に延びる３本の排気管４１～４３と連通する。排気室５３は、３本の排気管４１～４３のいずれかに処理室２３からの気体の排気路を切り換える開閉部６１、６２を備えている。
【0129】
排気室５３（切り換え機構５１）は処理室２３の側方に配置されている。そのため、開閉部６１、６２は、処理室２３の近くで排気を切り換えることができる。すなわち、処理室２３と、排気室５３の開閉部６１、６２との間の流路を好適に短くできる。そのため、従来技術のように、最上段の処理ユニット２１よりも高い位置で排気を切り換える場合よりも、切り換えの応答性が向上する。
【0130】
また、図１８に示す従来の排気管２４１の場合、処理室２２３から排気切換装置２５１までの間が共通排気配管となるので、例えば酸系とアルカリ系の薬液処理を連続して行うと、排気混合による結晶（塩）が発生および堆積する。そのため、その堆積物が排気を妨げ、それにより、定期的に排気管内を洗浄液で洗浄する必要があった。排気管の洗浄中は、排気圧が不安定になるので、基板処理を行うことができず、基板処理装置１のスループットを低下する可能性があった。本実施例の切り換え機構５１によれば、排気配管での例えば酸とアルカリの混合を最小限に抑えることができる。よって、処理室２３と排気室５３の間の流路が汚損されることを好適に抑制できる。
【0131】
また、排気室５３が処理室２３の側方に配置されているので、処理ユニット２１の高さを抑えることができる。また、開閉部６１、６２が処理室２３の近くで排気を切り換えることができるので、上下方向に１列に積層する複数の処理ユニット２１に対して共通の排気管４１～４３が配置される。そのため、処理室２３の側方の３本の排気管４１～４３をコンパクトに配置することができる。
【0132】
また、処理室２３は、保持部３１で保持された基板Ｗに対して薬液を供給する液供給部３３を更に備える。開閉部６１、６２は、液供給部３３が酸系の薬液を供給する場合、３本の排気管４１～４３のうちの第１排気管４１に、処理室２３からの気体の排気路を切り換える。開閉部６１、６２は、液供給部３３がアルカリ系の薬液を供給する場合、３本の排気管４１～４３のうちの第２排気管４２に、処理室２３からの気体の排気路を切り換える。開閉部６１、６２は、液供給部３３が有機系の薬液を供給する場合、３本の排気管４１～４３のうちの第３排気管４３に、処理室２３からの気体の排気路を切り換える。
【0133】
これにより、液供給部３３が供給する酸系、アルカリ系、有機系の薬液に応じて、開閉部６１、６２は、第１排気管４１、第２排気管４２および第３排気管４３に処理室２３からの排気を切り換えることができる。
【0134】
なお、処理室２３は、平面視において保持部３１を挟んで基板搬送口２７と対向するように側壁２５ｃを有する。保持部３１は、処理室２３において、側壁２５ｃよりも基板搬送口２７の近くに配置されている。図６において、基板搬送口２７と保持部３１の回転軸線Ａ３との距離ＤＴ１は、保持部３１の回転軸線Ａ３と側壁２５ｃとの距離ＤＴ２よりも短い（ＤＴ１＜ＤＴ２）。３本の排気管４１～４３は、搬送スペース１２が延びる方向と直交する水平方向（幅方向Ｙ）に１列に並んでおり、排気室５３の排気口５２は、３本の排気管４１～４３よりも搬送スペース１２の近くに配置されている。
【0135】
処理室２３において、側壁２５ｃには、ノズル３４Ｂなどが配置されるため、保持部３１は、基板搬送口２７の近くに配置されている傾向にある。排気室５３の排気口５２は、その３本の排気管４１～４３よりも搬送スペース１２の近くに配置される。これにより、排気室５３と３本の排気管４１～４３の平面視における設置面積をコンパクトに抑えながら、排気口５２を保持部３１に近づけることができる。そのため、保持部３１の周りの薬液の蒸気を比較的円滑に排気室５３に送ることができる。
【0136】
また、２４個の処理ユニット２１よりも高い位置でかつ、搬送スペース１２に沿って設けられた３本（複数）の水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａを更に備える。３本の水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａは、上下方向に一列で積層された６段の処理ユニット２１の各々の排気室５３と、３本の排気管４１、４２、４３を介して連通する。各処理ユニット２１において処理室２３の側方の排気室５３に開閉部６１、６２が設けられているので、３本の水平排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａと３本の排気管４１、４２、４３との接続部分の構成をシンプルにすることができる。
【0137】
また、排気室５３は、圧力調整機構７３を備えている。圧力調整機構７３は、排気口５２付近に設けられ、排気口５２を通過する気体の圧力を調整する。これにより、各処理ユニット２１で排気の圧力調整を行うことできる。例えば、複数の処理ユニット２１からの排気を集合させた後に排気の圧力調整を一括して行う場合よりも、各処理ユニット２１の排気の圧力調整が容易である。
【0138】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【0139】
（１）上述した実施例では、図１に示すように、３本の排気管４１～４３は、処理室２３に接してＹ方向に並んで配置された。この点、図１１に示すように、３本の排気管４１～４３と処理室２３が分配部５６を挟み込むように配置されてもよい。また、図１２に示すように、３本の排気管４１～４３と処理室２３には、隙間ＧＰが形成されてもよい。
【0140】
（２）上述した実施例および変形例（１）では、図６に示す切り換え機構５１の分配部５６は、２つの開閉部６１、６２を備えていた。この２つの開閉部６１，６２は、平板状（Ｉ型）に形成されていた。この点、図１３に示すように、２つの開閉部１６１、１６２は、平板と回転軸線Ａ７までのアームとを有する形状、すなわち断面Ｔ字状（Ｔ型）に形成されていてもよい。また、図６に示す分配部５６は、３つの連通口６３、６４、６５をそれぞれ開閉する３つの開閉部を備えていてもよい。
【0141】
（３）上述した実施例および各変形例では、図６に示すように、３本の排気管４１～４３は、排気路である１つの分配部５６に連通していた。この点、図１４に示すように、３本の排気管４１～４３は各々、排気路１５６を有してもよい。なお、符号１６２は、第３の開閉部である。
【0142】
（４）上述した実施例および各変形例では、図２に示すように、処理ブロック１１は、２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂを備えていた。上側の搬送機構１６Ａは、上３段の処理ユニット２１（２１Ａ～２１Ｄ）に対する基板Ｗの搬送を行い、下側の搬送機構１６Ｂは、下３段の処理ユニット２１に対する基板Ｗの搬送を行っていた。これにより、処理ユニット２１の段数（例えば６段）が多くなっても２つの搬送機構１６Ａ、１６Ｂによって基板搬送を分担することができる。ここで、処理ブロック１１は、２つの搬送機構１６に限定されず、１つまたは３以上の搬送機構１６を備えてもよい。３以上の搬送機構１６は、上下方向に積層された複数の処理ユニット２１の予め設定された段の複数の処理ユニットに対する基板Ｗの搬送を行う。
【0143】
（５）上述した実施例および各変形例では、処理室２３の側方、すなわち、処理室２３と略同じ高さに切り換え機構５１を備えていた。必要に応じて、図１５に示すように、排気を切り換える手段１５１は、３本の水平排気管８１Ａ～８３Ａに設けられてもよい。この場合、処理室２３に接して薬液配管スペース９４が配置される。排気室５３は、処理室２３を挟んで薬液配管スペース９４と対向するように配置される。排気室５３は、処理室２３と連通すると共に、１本の排気管４１と連通する。
【0144】
この変形例の場合、最上段（６段目）の処理ユニット２１の側方において、排気管スペース４４（図６参照）には、６本の排気管４１が配置されることになる。そのため、排気管スペース４４を圧迫する。そのため、図６に示す処理ユニット２１によれば、切り換え機構５１（排気室５３）は、共通の３本の排気管４１～４３に接続されるので、処理ユニット２１の段数を増加させても上下方向に延びる排気管の本数（３本）は変わらない。これにより、処理室２３の側方の３本の排気管４１～４３をコンパクトに配置することができる。
【0145】
（６）上述した実施例および各変形例では、液供給部３３は、酸系、アルカリ系および有機系の薬液を供給していた。この点、液供給部３３は、酸系、アルカリ系および有機系以外の１種類以上の薬液を更に供給してもよい。この場合、上下方向に延びる４本以上の共通排気管が排気室５３に連通する。また、液供給部３３は、酸系、アルカリ系および有機系のうちの異なる２種類の薬液を供給するように構成されてもよい。この場合、上下方向に延びる２本の供給排気管が排気室５３に連通する。
【0146】
（７）上述した実施例および各変形例では、保持部３１の回転軸線Ａ３（図６参照）は、前後方向Ｘにおいて、処理ユニット２１の中央に配置されていなかった。この点、保持部３１の回転軸線Ａ３は、前後方向Ｘにおいて、処理ユニット２１の中央に配置されていてもよい。
【0147】
（８）上述した実施例および各変形例では、処理ユニット２１は、図６の紙面上側に基板搬送口２７がある場合、図６の紙面左側から順番に薬液配管スペース９４、処理室２３、切り換え機構５１が配置されるように構成された。この点、図６に示す処理ユニット２１の各構成は、左右逆に配置されていてもよい（図１６参照）。この場合、図６の紙面上側に基板搬送口２７があると仮定すると、図６の紙面左側から順番に切り換え機構５１、処理室２３、薬液配管スペース９４が配置されることになる。また、処理ブロック１１の２４個の処理ユニット２１は、その左右逆に各構成が配置された１種類の処理ユニットで構成される。
【0148】
また、図１に示す搬送機構６の水平移動部８ｂは、レール８ａに対して幅方向Ｙに移動していた。そのため、垂直移動部８ｃは、幅方向Ｙに移動することができた。この点、図１６に示す搬送機構１０６の垂直移動部１０８は、幅方向Ｙに移動せずに、搬送スペース５の底部に固定していてもよい。この場合、搬送機構１０６は、垂直移動部１０８、２本の多関節アーム１０９ａ、１０９ｂおよび２つのハンド１０７ａ、１０７ｂを備えている。垂直移動部１０８は、上下方向Ｚに垂直移動すると共に、回転軸線Ａ１回りに回転する。垂直移動部１０８は、２本の多関節アーム１０９ａ、１０９ｂを支持する。第１多関節アーム１０９ａの先端には、第１ハンド１０７ａが取り付けられ、第２多関節アーム１０９ｂの先端には、第２ハンド１０７ｂが取り付けられる。搬送機構１０６は、４つのキャリア載置部４上の各キャリアＣにアクセス可能である。
【符号の説明】
【0149】
１ … 基板処理装置
３ … インデクサ部
５ … 搬送スペース
１１ … 処理ブロック
１２（１２Ａ、１２Ｂ） … 搬送スペース
１６（１６Ａ、１６Ｂ） … 搬送機構
２１（２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄ） … 処理ユニット
２３ … 処理室
２５ｃ … 側壁
２７ … 基板搬送口
３１ … 保持部
３２ … 回転駆動部
３３ … 液供給部
４１（４１Ａ、４１Ｂ、４１Ｃ、４１Ｄ） … 排気管
４２（４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ） … 排気管
４３（４３Ａ、４３Ｂ、４３Ｃ、４３Ｄ） … 排気管
５１ … 切り換え機構
５２ … 排気口
５３ … 排気室
６１，６２ … 開閉部
７３ … 圧力調整機構
８１Ａ、８２Ａ、８３Ａ … 水平排気管
８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂ … 水平排気管
９４ … 薬液配管スペース
３ … インデクサ部
５ … 搬送スペース
１１ … 処理ブロック
１２（１２Ａ、１２Ｂ） … 搬送スペース
１６（１６Ａ、１６Ｂ） … 搬送機構
２１（２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄ） … 処理ユニット
２３ … 処理室
２５ｃ … 側壁
２７ … 基板搬送口
３１ … 保持部
３２ … 回転駆動部
３３ … 液供給部
４１（４１Ａ、４１Ｂ、４１Ｃ、４１Ｄ） … 排気管
４２（４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ） … 排気管
４３（４３Ａ、４３Ｂ、４３Ｃ、４３Ｄ） … 排気管
５１ … 切り換え機構
５２ … 排気口
５３ … 排気室
６１，６２ … 開閉部
７３ … 圧力調整機構
８１Ａ、８２Ａ、８３Ａ … 水平排気管
８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂ … 水平排気管
９４ … 薬液配管スペース
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】