特許 7370588 真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-10-20

(45)【発行日】2023-10-30

(54)【発明の名称】真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法

(51)【国際特許分類】

   F16K 51/02 20060101AFI20231023BHJP

   F16K 3/00 20060101ALI20231023BHJP

   F16K 3/02 20060101ALI20231023BHJP

   F16K 3/312 20060101ALI20231023BHJP

   B65G 65/40 20060101ALN20231023BHJP

   B65G 51/02 20060101ALN20231023BHJP

【ＦＩ】

F16K51/02 B

F16K3/00 D

F16K3/02 E

F16K3/312

B65G65/40 B

B65G51/02 C

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2020087286

(22)【出願日】2020-05-19

(65)【公開番号】P2021181800

(43)【公開日】2021-11-25

【審査請求日】2022-04-26

【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用 １．公開の事実 ▲１▼ウェブサイトの掲載日 令和２年３月１１日 ▲２▼ウェブサイトのアドレス ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｆｕｊｉｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ．ｃｏ．ｊｐ／ ▲３▼公開者 株式会社フジ・テクノロジー ▲４▼公開された発明の内容 株式会社フジ・テクノロジーが、上記アドレスのウェブサイトで公開されている株式会社フジ・テクノロジーのウェブサイトにて、谷口嘉教が発明した流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法について公開した。 ２．特許を受ける権利の承継等の事実 ▲１▼公開された発明の発明者 谷口嘉教（神奈川県横浜市南区井土ヶ谷下町１１番地７ 株式会社フジ・テクノロジー内） ▲２▼発明の公開の原因となる行為時の特許を受ける権利を有する者（行為時の権利者） 株式会社フジ・テクノロジー（神奈川県横浜市南区井土ヶ谷下町１１番地７） ▲３▼特許出願人（願書に記載された者） 株式会社フジ・テクノロジー ▲４▼公開者 株式会社フジ・テクノロジー ▲５▼特許を受ける権利の承継について 公開の事実に記載の公開行為により公開された発明は、谷口嘉教によって発明されたものであり、令和２年３月２日にその発明に係る特許を受ける権利は谷口嘉教から株式会社フジ・テクノロジーに譲渡された。公開時の令和２年３月１１日において、株式会社フジ・テクノロジーはその発明についての特許を受ける権利を保有していた。 その後、令和２年５月１９日に株式会社フジ・テクノロジーは特許出願を行った。 ▲６▼行為時の権利者と公開者との関係等について 行為時の権利者である株式会社フジ・テクノロジー自ら、流体開閉装置、ゲートバルブ装置及び流体の開閉方法について、公開の事実に記載のとおり公開を行った。

(73)【特許権者】

【識別番号】500219216

【氏名又は名称】株式会社フジ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】100092680

【弁理士】

【氏名又は名称】入江 一郎

(72)【発明者】

【氏名】谷 口 嘉 教

【審査官】加藤 昌人

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１９－５３３１２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０４３７４１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ１６Ｋ ５１／０２

Ｆ１６Ｋ ３／００－ ３／１６

Ｂ６５Ｇ ６５／３０－６５／４８

Ｂ６５Ｇ ５１／０２

Ｆ２６Ｂ １／００－２５／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

流体が通過する通路を開閉する真空室用の流体開閉装置であって、
前記通路の真空室入口側通路を開閉する第１の開閉弁と、
この第１の開閉弁の開閉を制御する第１の開閉弁開閉制御手段と、
前記第１の開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室入口側通路の開口部を第１の弁体でスライドして開閉するようにした第１のゲートバルブと、
この第１のゲートバルブの開閉を制御する第１のゲートバルブ開閉制御手段と、
前記第１のゲートバルブより前記流体の流れの下流に位置した真空室と、
この真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する第２の開閉弁と、
この第２の開閉弁の開閉を制御する第２の開閉弁開閉制御手段と、
前記第２の開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を第２の弁体でスライドして開閉するようにした第２のゲートバルブと、
この第２のゲートバルブの開閉を制御する第２のゲートバルブ開閉制御手段と、
前記真空室入口側通路を有する真空室入口側通路本体と、
前記真空室出口側通路を有する真空室出口側通路本体とを備え、
前記第１の弁体には、前記真空室入口側通路の開口部を塞ぐ第１の閉塞部と前記真空室入口側通路の開口部と同じ大きさの第１の弁体側開口部が設けられ、
前記真空室入口側通路本体に前記第１の弁体の表面に対向するように入口側第１の環状のシール部材が、前記第１の弁体の裏面に対向するように入口側第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記入口側第２の環状のシール部材は第１の昇降手段により、上昇して前記第１の弁体の裏面に当接、前記第１の昇降手段により、下降して前記第１の弁体の裏面に非当接し、
前記第１の昇降手段は、第１の昇降制御手段により昇降し、
前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を降下させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に非当接させ、前記第１のゲートバルブ開閉制御手段により前記第１の弁体が、前記入口側第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第１の弁体側開口部が位置し、その後、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を上昇させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を開とし、
前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を降下させて、前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に非当接させ、前記第１のゲートバルブ開閉制御手段により前記第１の弁体が、前記入口側第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第１の閉塞部が位置し、その後、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を上昇させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を閉とし、
前記第２の弁体には、前記真空室出口側通路の開口部を塞ぐ第２の閉塞部と前記真空室出口側通路の開口部と同じ大きさの第２の弁体側開口部が設けられ、
前記真空室出口側通路本体に前記第２の弁体の表面に対向するように出口側第１の環状のシール部材が、前記第２の弁体の裏面に対向するように出口側第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記出口側第２の環状のシール部材は第２の昇降手段により、上昇して前記第２の弁体の裏面に当接、前記第２の昇降手段により、下降して前記第２の弁体の裏面に非当接し、
前記第２の昇降手段は、第２の昇降制御手段により昇降し、
前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を降下させて前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に非当接させ、前記第２のゲートバルブ開閉制御手段により前記第２の弁体が、前記出口側第２の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第２の弁体側開口部が位置し、その後、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を上昇させて前記出口側第２の環状のシール
部材を前記第２の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を開とし、
前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を降下させて、前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に非当接させ、前記第２のゲートバルブ開閉制御手段により前記第２の弁体が、前記出口側第２の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第２の閉塞部が位置し、その後、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を上昇させて前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を閉とし、
前記真空室から前記流体を排出する際、前記第２のゲートバルブを開、その後、前記第２の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出する
ことを特徴とする真空室用の流体開閉装置。

【請求項2】

請求項１の真空室用の流体開閉装置の通路を開閉する流体の開閉方法であって、
前記真空室出口側通路を前記第２の開閉弁及び前記第２のゲートバルブにより閉、前記真空室入口側通路を前記第１の開閉弁及び前記第１のゲートバルブにより閉とした状態で、前記真空室入口側通路に流体を導き、
前記第１のゲートバルブを開、その後、前記第１の開閉弁を開として、前記真空室に前記流体を導き、
その後、前記第１の開閉弁を閉、その後、前記第１のゲートバルブを閉として、前記真空室内で前記流体を生成処理し、
生成処理後、前記第２のゲートバルブを開、その後、前記第２の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出する
ことを特徴とする流体の開閉方法。

【請求項3】

流体が通過する通路を開閉する真空室の出口側に設けられたゲートバルブ装置であって、
前記真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する開閉弁と、
この開閉弁の開閉を制御する開閉弁開閉制御手段と、
前記開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を弁体でスライドして開閉するようにしたゲートバルブと、
このゲートバルブの開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段と、
前記通路を有する通路本体とを備え、
前記弁体には、前記通路の開口部を塞ぐ閉塞部と前記通路の開口部と同じ大きさの弁体側開口部が設けられ、
前記通路本体に前記弁体の表面に対向するように第１の環状のシール部材が、前記弁体の裏面に対向するように第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、
前記第２の環状のシール部材は昇降手段により、上昇して前記弁体の裏面に当接、前記昇降手段により、下降して前記弁体の裏面に非当接し、
前記昇降手段は、昇降制御手段により昇降し、
前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記弁体側開口部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開とし、
前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて、前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記閉塞部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を閉となり、
前記真空室から前記流体を排出する際、前記ゲートバルブを開、その後、前記開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出する
ことを特徴とする真空室用のゲートバルブ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法に係り、特に、ゲートバルブの動作不良を防ぐことができる真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法に関する。

【背景技術】

【0002】

通路内を弁板で開閉するようにしたゲートバルブがある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

ところが、上記ゲートバルブを通路内で開閉すると、例えば、通路を流れる流体、例えば、粉体の場合、ゲートバルブの摺動部に粉体が付着し、動作不良を起こすという問題点が生じた。

【0004】

本発明は、上記の問題点を考慮してなされたもので、ゲートバルブの動作不良を防ぐことができる真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

請求項１記載の真空室用の流体開閉装置は、流体が通過する通路を開閉する真空室用の流体開閉装置であって、前記通路の真空室入口側通路を開閉する第１の開閉弁と、この第１の開閉弁の開閉を制御する第１の開閉弁開閉制御手段と、前記第１の開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室入口側通路の開口部を第１の弁体でスライドして開閉するようにした第１のゲートバルブと、この第１のゲートバルブの開閉を制御する第１のゲートバルブ開閉制御手段と、前記第１のゲートバルブより前記流体の流れの下流に位置した真空室と、この真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する第２の開閉弁と、この第２の開閉弁の開閉を制御する第２の開閉弁開閉制御手段と、前記第２の開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を第２の弁体でスライドして開閉するようにした第２のゲートバルブと、この第２のゲートバルブの開閉を制御する第２のゲートバルブ開閉制御手段と、前記真空室入口側通路を有する真空室入口側通路本体と、前記真空室出口側通路を有する真空室出口側通路本体とを備え、前記第１の弁体には、前記真空室入口側通路の開口部を塞ぐ第１の閉塞部と前記真空室入口側通路の開口部と同じ大きさの第１の弁体側開口部が設けられ、前記真空室入口側通路本体に前記第１の弁体の表面に対向するように入口側第１の環状のシール部材が、前記第１の弁体の裏面に対向するように入口側第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記入口側第２の環状のシール部材は第１の昇降手段により、上昇して前記第１の弁体の裏面に当接、前記第１の昇降手段により、下降して前記第１の弁体の裏面に非当接し、前記第１の昇降手段は、第１の昇降制御手段により昇降し、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を降下させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に非当接させ、前記第１のゲートバルブ開閉制御手段により前記第１の弁体が、前記入口側第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第１の弁体側開口部が位置し、その後、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を上昇させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を開とし、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を降下させて、前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に非当接させ、前記第１のゲートバルブ開閉制御手段により前記第１の弁体が、前記入口側第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室入口側通路の開口部に前記第１の閉塞部が位置し、その後、前記第１の昇降制御手段により前記第１の昇降手段を上昇させて前記入口側第２の環状のシール部材を前記第１の弁体の裏面に当接させて前記真空室入口側通路を閉とし、前記第２の弁体には、前記真空室出口側通路の開口部を塞ぐ第２の閉塞部と前記真空室出口側通路の開口部と同じ大きさの第２の弁体側開口部が設けられ、前記真空室出口側通路本体に前記第２の弁体の表面に対向するように出口側第１の環状のシール部材が、前記第２の弁体の裏面に対向するように出口側第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記出口側第２の環状のシール部材は第２の昇降手段により、上昇して前記第２の弁体の裏面に当接、前記第２の昇降手段により、下降して前記第２の弁体の裏面に非当接し、前記第２の昇降手段は、第２の昇降制御手段により昇降し、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を降下させて前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に非当接させ、前記第２のゲートバルブ開閉制御手段により前記第２の弁体が、前記出口側第２の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第２の弁体側開口部が位置し、その後、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を上昇させて前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を開とし、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を降下させて、前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に非当接させ、前記第２のゲートバルブ開閉制御手段により前記第２の弁体が、前記出口側第２の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記真空室出口側通路の開口部に前記第２の閉塞部が位置し、その後、前記第２の昇降制御手段により前記第２の昇降手段を上昇させて前記出口側第２の環状のシール部材を前記第２の弁体の裏面に当接させて前記真空室出口側通路を閉とし、前記真空室から前記流体を排出する際、前記第２のゲートバルブを開、その後、前記第２の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出するものである。

【0006】

また、請求項２記載の流体の開閉方法は、請求項１の真空室用の流体開閉装置の通路を開閉する流体の開閉方法であって、前記真空室出口側通路を前記第２の開閉弁及び前記第２のゲートバルブにより閉、前記真空室入口側通路を前記第１の開閉弁及び前記第１のゲートバルブにより閉とした状態で、前記真空室入口側通路に流体を導き、前記第１のゲートバルブを開、その後、前記第１の開閉弁を開として、前記真空室に前記流体を導き、その後、前記第１の開閉弁を閉、その後、前記第１のゲートバルブを閉として、前記真空室内で前記流体を生成処理し、生成処理後、前記第２のゲートバルブを開、その後、前記第２の開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出するものである。

【0007】

また、請求項３記載のゲートバルブ装置は、流体が通過する通路を開閉する真空室の出口側に設けられたゲートバルブ装置であって、前記真空室の出口側の通路である真空室出口側通路を開閉する開閉弁と、この開閉弁の開閉を制御する開閉弁開閉制御手段と、前記開閉弁より前記流体の流れの下流に位置し、前記真空室出口側通路の開口部を弁体でスライドして開閉するようにしたゲートバルブと、このゲートバルブの開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段と、前記通路を有する通路本体とを備え、前記弁体には、前記通路の開口部を塞ぐ閉塞部と前記通路の開口部と同じ大きさの弁体側開口部が設けられ、前記通路本体に前記弁体の表面に対向するように第１の環状のシール部材が、前記弁体の裏面に対向するように第２の環状のシール部材が、それぞれ設けられ、前記第２の環状のシール部材は昇降手段により、上昇して前記弁体の裏面に当接、前記昇降手段により、下降して前記弁体の裏面に非当接し、前記昇降手段は、昇降制御手段により昇降し、前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記弁体側開口部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を開とし、前記昇降制御手段により前記昇降手段を降下させて、前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に非当接させ、前記ゲートバルブ開閉制御手段により前記弁体が、前記第１の環状のシール部材に当接してスライドさせ、前記通路の開口部に前記閉塞部が位置し、その後、前記昇降制御手段により前記昇降手段を上昇させて前記第２の環状のシール部材を前記弁体の裏面に当接させて前記通路を閉となり、前記真空室から前記流体を排出する際、前記ゲートバルブを開、その後、前記開閉弁を開として、前記真空室出口側通路の開により前記真空室から前記流体を排出するものである。

【発明の効果】

【0008】

請求項１記載の真空室用の流体開閉装置によれば、第１のゲートバルブ開閉制御手段により第１の弁体が、入口側第１の環状のシール部材に当接してスライドするため、真空室入口側通路内の流体が第１の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第１の弁体の作動不良を防ぐことができ、また、第２のゲートバルブ開閉制御手段により第２の弁体が、出口側第１の環状のシール部材に当接してスライドするため、真空室出口側通路内の流体が第２の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第２の弁体の作動不良を防ぐことができ、しかも、真空室入口
側通路の開及び閉においては、第１の弁体の表裏は、入口側第１の環状のシール部材、入口側第２の環状のシール部材により、真空室出口側通路の開及び閉においては、第２の弁体の表裏は、出口側第１の環状のシール部材、出口側第２の環状のシール部材により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【0009】

また、請求項２記載の流体の開閉方法によれば、第１の弁体の表裏を入口側第１の環状のシール部材、入口側第２の環状のシール部材に、第２の弁体の表裏を出口側第２の環状のシール部材、出口側第２の環状のシール部材に、それぞれ当接して、真空室の真空状態を保持するのみならず、第１の弁体の表面は入口側第１の環状のシール部材に当接しながら移動するため、真空室入口側通路内の流体が第１の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第１の弁体の作動不良を防ぐことができ、また、第２の弁体の表面は出口側第１の環状のシール部材に当接しながら移動するため、真空室出口側通路内の流体が第２の弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第２の弁体の作動不良を防ぐことができる。

【0010】

また、請求項３記載の真空室用のゲートバルブ装置によれば、ゲートバルブ開閉制御手段により弁体が、第１のシール環状の部材に当接してスライドするため、通路内の流体が弁体の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う弁体の作動不良を防ぐことができる。しかも、通路の開及び閉においては、弁体の表裏は、第１の環状のシール部材、第２の環状のシール部材により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】図１は、本発明の一実施例の真空室用の流体開閉装置の概略的一部破断斜視図である。

【図2】図２は、図１の真空室入口側通路（真空室出口側通路）を閉じた状態を示す概略的平面図である。

【図3】図３は、図２の一部を外して示す概略的斜視図である。

【図4】図４は、図１の真空室入口側通路（真空室出口側通路）を開いた状態を示す概略的平面図である。

【図5】図５は、図４の一部を外して示す概略的斜視図である。

【図6】図６（ａ）は、図１の第１のゲートバルブ（第２のゲートバルブ）と第１のゲートバルブ開閉制御手段（第２のゲートバルブ開閉制御手段）との関係を示す概略的図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）の一部を拡大して示す概略的一部拡大図である。

【図7】図７（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、図１の第１のゲートバルブ（第２のゲートバルブ）の動きを示す概略的断面図であり、図７（ａ）は、真空室入口側通路（真空室出口側通路）を閉じた状態の概略的断面図であり、図７（ｂ）は、入口側第２の環状のシール部材（出口側第２の環状のシール部材）が第１の弁体（第２の弁体）から離間した状態の概略的断面図であり、図７（ｃ）は、第１の弁体（第２の弁体）が真空室入口側通路（真空室出口側通路）を開とするために移動した状態の概略的断面図であり、図７（ｄ）は、入口側第２の環状のシール部材（出口側第２の環状のシール部材）が第１の弁体（第２の弁体）に当接した状態の概略的断面図である。

【図8】図８（ａ）は、第１の開閉弁及び第１のゲートバルブで真空室入口側通路を閉とした状態の概略的断面図であり、図７（ｂ）は、第１のゲートバルブを開とした状態の概略的断面図である。

【図9】図９（ａ）は、第１の開閉弁を開とした状態の概略的断面図であり、図９（ｂ）は、真空室内に流体を取り入れた状態の概略的断面図である。

【図10】図１０（ａ）は、第１の開閉弁を閉とした状態の概略的断面図であり、図１０（ｂ）は、第１のゲートバルブを閉とした状態の概略的断面図である。

【図11】図１１（ａ）は、真空室内の流体を生成処理を行っている状態の概略的断面図であり、図１１（ｂ）は、第２のゲートバルブを開とした状態の概略的断面図である。

【図12】図１２（ａ）は、第２の開閉弁を開とした状態の概略的断面図であり、図１２（ｂ）は、真空室内の流体を排出した状態の概略的断面図である。

【図13】図１３（ａ）は、第１の開閉弁を閉とした状態の概略的断面図であり、図１３（ｂ）は、第２のゲートバルブを閉とした状態の概略的断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

本発明の一実施例の真空室用の流体開閉装置、真空室用のゲートバルブ装置及び流体の開閉方法を図面（図１乃至図１３）を参照して説明する。
図１に示す１は真空室用の流体開閉装置で、真空室用の流体開閉装置１は、流体Ｘ（例えば、粒子、粉等）が通過する通路２を開閉するものである。

【0013】

３は、通路２の真空室入口側通路２１を開閉する第１の開閉弁で、第１の開閉弁３は、例えば、バタフライ弁である。この第１の開閉弁３の開閉は、第１の開閉弁開閉制御手段４により制御されるようになっている。２１０は、真空室入口側通路２１を有する真空室入口側通路本体である。
第１の開閉弁開閉制御手段４は、例えば、第１の開閉弁３を真空室入口側通路２１内に進退させる手段（例えば、第１の開閉弁３をシリンダーのロッドに機構的に接続して、ロッドを前進させて第１の開閉弁３で真空室入口側通路２１を塞ぎ、ロッドを後退させて真空室入口側通路２１内の第１の開閉弁３を開く）でも良く、
また、第１の開閉弁開閉制御手段４は、例えば、第１の開閉弁３を真空室入口側通路２１内で回動させる手段（例えば、第１の開閉弁３に軸を設け、この軸を回動して、時計回りに回動させて第１の開閉弁３で真空室入口側通路２１を塞ぎ、第１の開閉弁３に設けた軸を反時計回りに回動させて真空室入口側通路２１内の第１の開閉弁３を開く）でも良く、また、第１の開閉弁開閉制御手段４は、例えば、特開２０１６－１１４２２３に開示されたもの、つまり、第１の開閉弁３に取り付けられた弁棒（図示せず）の軸を回動するもので、エアシリンダー（図示せず）で動くラック（図示せず）に弁棒（図示せず）に取り付けられた平歯車（図示せず）を噛み合わせて行うようにしても良い。

【0014】

５は、第１の開閉弁３より流体流れの下流に位置し、真空室入口側通路２１の開口部を第１の弁体５１でスライドして開閉するようにした第１のゲートバルブである。
第１の弁体５１には、真空室入口側通路２１の開口部を塞ぐ第１の閉塞部５１Ａと真空室入口側通路２１の開口部と同じ大きさの第１の弁体側開口部５１Ｂが設けられている。
また、真空室入口側通路本体２１０に第１の弁体５１の表面５１Ｃに対向するように入口側第１の環状のシール部材Ｓ１が、第１の弁体５１の裏面５１Ｄに対向するように入口側第２の環状のシール部材Ｓ２が、それぞれ設けられている。
７は、第１のゲートバルブ５の開閉を制御する第１のゲートバルブ開閉制御手段で、
第１のゲートバルブ開閉制御手段７は、例えば、第１のゲートバルブ５の第１の弁体５１を真空室入口側通路２１内に進退させる手段（例えば、エアシリンダー５０のロッドに接続された第１の弁体５１を前進させて、真空室入口側通路２１の開口部を閉じ、逆に、エアシリンダー５０のロッドに接続された第１のゲートバルブ５の第１の弁体５１を後退させて、真空室入口側通路２１の開口部を開としている。

【0015】

また、入口側第２の環状のシール部材Ｓ１は第１の昇降手段１００により、上昇して第１の弁体５１の裏面に当接、第１の昇降手段１００により、下降して第１の弁体５１の裏面に非当接する。第１の昇降手段１００は、第１の昇降制御手段２００により昇降するようになっている［図６（ａ）（ｂ）、図７（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）参照］。
第１の昇降制御手段２００により第１の昇降手段１００を降下させて入口側第２の環状のシール部材Ｓ２を第１の弁体５１の裏面に非当接させ［図７（ａ）から図７（ｂ）の状態］、第１のゲートバルブ開閉制御手段７により第１の弁体５１が、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１に当接してスライドさせ、真空室入口側通路２１の開口部に第１の弁体側開口部５１Ｂが位置し［図７（ｃ）参照］、その後、第１の昇降制御手段２００により第１の昇降手段１００を上昇させて入口側第２の環状のシール部材Ｓ２を第１の弁体５１の裏面に当接させて真空室入口側通路２１を開とし［図７（ｄ）参照］、
第１の昇降制御手段２００により第１の昇降手段１００を降下させて［図７（ｄ）の矢印と逆方向］、入口側第２の環状のシール部材Ｓ２を第１の弁体５１の裏面に非当接させ［図７（ｃ）の状態］、第１のゲートバルブ開閉制御手段７により第１の弁体５１が、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１に当接してスライドさせ、真空室入口側通路２１の開口部に第１の閉塞部５１Ａが位置し［図７（ｃ）の矢印と逆方向から図７（ｂ）の状態］、その後、第１の昇降制御手段２００により第１の昇降手段１００を上昇させて入口側第２の環状のシール部材Ｓ２を第１の弁体５１の裏面に当接させて真空室入口側通路２１を閉とする［図７（ａ）参照］。

【0016】

従って、第１の開閉弁３が閉状態で、第１のゲートバルブ開閉制御手段７により第１の弁体５１が、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１に当接してスライドし、真空室入口側通路２１の開口部に第１の閉塞部５１Ａが位置した時、真空室入口側通路２１が閉、真空室入口側通路２１の開口部に第１の弁体側開口部５１Ｂが位置した時、真空室入口側通路通路２１が開となる。しかも、真空室入口側通路２１の開及び閉においては、第１の弁体５１の表裏は、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１、入口側第２の環状のシール部材Ｓ２により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【0017】

８は、第１のゲートバルブ５より前記流体流れの下流に位置した大気圧より低い圧力に保持される真空室（減圧室）である。２２０は、真空室出口側通路２２を有する真空室出口側通路本体である。
３’は、真空室８の出口側の通路である真空室出口側通路２２を開閉する第２の開閉弁で、第２の開閉弁３’は、上述した第１の開閉弁３と同様なもので、第２の開閉弁３’は、例えば、バタフライ弁である。
４’は、第２の開閉弁３’の開閉を制御する第２の開閉弁開閉制御手段で、第２の開閉弁開閉制御手段４’は、上述した第１の開閉弁開閉制御手段４と同様なもので、第２の開閉弁開閉制御手段４’は、例えば、第２の開閉弁３’を真空室出口側通路２２内で回動させる手段（例えば、第２の開閉弁３’に軸を設け、この軸を回動して、時計回りに回動させて第２の開閉弁３’で真空室入口側通路２２を塞ぎ、第２の開閉弁３’に設けた軸を反時計回りに回動させて真空室出口側通路２２内の第２の開閉弁３’を開く）でも良く、また、第２の開閉弁開閉制御手段４’は、例えば、特開２０１６－１１４２２３に開示されたもの、つまり、第２の開閉弁３’に取り付けられた弁棒（図示せず）の軸を回動するもので、エアシリンダー（図示せず）で動くラック（図示せず）に弁棒（図示せず）に取り付けられた平歯車（図示せず）を噛み合わせて行うようにしても良い。

【0018】

５’は、第２の開閉弁３’より前記流体流れの下流に位置し、真空室出口側通路２２の開口部を第２の弁体５１’でスライドして開閉するようにした第２のゲートバルブで、第２のゲートバルブ５’は、上述した第１のゲートバルブ５と同様なものである。
第２の弁体５１’には、第１の弁体５１と同様、真空室出口側通路２２の開口部を塞ぐ第２の閉塞部５１Ａ’と真空室出口側通路２２の開口部と同じ大きさの第２の弁体側開口部５１Ｂ’が設けられている。
また、真空室出口側通路本体２２０に第２の弁体５１’の表面５１Ｃ’に対向するように出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’が、第２の弁体５１’の裏面５１Ｄ’に対向するように出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’が、それぞれ設けられている。

【0019】

また、出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’は第２の昇降手段１００’により、上昇して第２の弁体５１’の裏面に当接、第２の昇降手段１００’により、下降して第２の弁体５１’の裏面に非当接する。第２の昇降手段１００’は、第２の昇降制御手段２００’により昇降するようになっている［図６（ａ）（ｂ）、図７（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）参照］。
第２の昇降制御手段２００’により第２の昇降手段１００’を降下させて出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’を第２の弁体５１’の裏面に非当接させ［図７（ａ）から図（ｂ）の状態］、第２のゲートバルブ開閉制御手段７’により第２の弁体５１’が、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’に当接してスライドさせ、真空室出口側通路２２の開口部に第２の弁体側開口部５１Ｂ’が位置し［図７（ｃ）参照］、その後、第２の昇降制御手段２００’により第２の昇降手段１００’を上昇させて出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’を第２の弁体５１’の裏面に当接させて真空室出口側通路２２を開とし［図７（ｄ）参照］、
第２の昇降制御手段２００’により第２の昇降手段１００’を降下させて［図７（ｄ）の矢印と逆方向］、出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’を第２の弁体５１’の裏面に非当接させ［図７（ｃ）の状態］、第２のゲートバルブ開閉制御手段７’により第２の弁体５１’が、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’に当接してスライドさせ、真空室出口側通路２２の開口部に第２の閉塞部５１Ａ’が位置し［図７（ｃ）の矢印と逆方向から図７（ｂ）の状態］、その後、第２の昇降制御手段２００’により第２の昇降手段１００’を上昇させて出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’を第２の弁体５１’の裏面に当接させて真空室出口側通路２２を閉とする［図７（ａ）参照］。

【0020】

従って、第２の開閉弁３’が閉状態で、第２のゲートバルブ開閉制御手段７’により第２の弁体５１’が、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’に当接してスライドし、真空室出口側通路２２の開口部に第２の閉塞部５１Ａ’が位置した時、真空室出口側通路２２が閉、真空室出口側通路２２の開口部に第２の弁体側開口部５１Ｂ’が位置した時、真空室出口側通路通路２２が開となる。しかも、真空室出口側通路２２の開及び閉においては、第２の弁体５１’の表裏は、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’、出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【0021】

上述した流体開閉装置１によれば、第１のゲートバルブ開閉制御手段４により第１の弁体５１が、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１に当接してスライドするため、真空室入口側通路２１内の流体が第１の弁体５１の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第１の弁体５１の作動不良を防ぐことができ、また、第２のゲートバルブ開閉制御手段４’により第２の弁体５１’が、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’に当接してスライドするため、真空室出口側通路２２内の流体が第２の弁体５１’の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第２の弁体５１’の作動不良を防ぐことができ、しかも、真空室入口側通路２１の開及び閉においては、第１の弁体５１の表裏は、入口側第１の環状のシール部材Ｓ１、入口側第１の環状のシール部材Ｓ２により、真空室出口側通路２２の開及び閉においては、第２の弁体５１’の表裏は、出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’、出口側第１の環状のシール部材Ｓ２’により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【0022】

次に、上述した流体開閉装置１を使用した流体の開閉方法について、図８乃至図１３を参照して説明する。
真空室出口側通路２２を第２の開閉弁３’及び第２のゲートバルブ５’により閉、真空室入口側通路２１を第１の開閉弁３及び第１のゲートバルブ５により閉とした状態で［図８（ａ）］、第１のゲートバルブ５を開とする［図８（ｂ）］。
次に、第１の開閉弁３を開とし［図９（ａ）］、真空室８内に流体Ｘを導く ［図９（ｂ）］。
その後、第１の開閉弁３を閉［図１０（ａ）］、その後、第１のゲートバルブ５を閉として、真空室８内に流体Ｘを閉じ込める［図１０（ｂ）］。
そして、真空室８内で流体Ｘを生成処理し［図１１（ａ）］、生成処理後、第２のゲートバルブ５’を開とする［図１１（ｂ）］。
その後、第２の開閉弁３’を開として［図１２（ａ）］、真空室８から流体Ｘを排出する［図１２（ｂ）］。
そして、次に処理される流体Ｘを受け入れるために第２の開閉弁３’を閉として［図１３（ａ）参照］、その後、第２のゲートバルブ５’を閉とする［図１３（ｂ）参照］。

【0023】

次に、上述した流体の開閉方法によれば、第１の弁体５１の表面を入口側第１の環状のシール部材Ｓ１、第１の弁体５１の裏面を入口側第２の環状のシール部材Ｓ２に当接して、また、第２の弁体５１’の表面を出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’、第２の弁体５１’の裏面を出口側第２の環状のシール部材Ｓ２’に当接して、真空室８の真空状態を保持するのみならず、第１の弁体５１の表面は入口側第１の環状のシール部材Ｓ１に当接しながら移動するため、真空室入口側通路２１内の流体が第１の弁体５１の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第１の弁体５１の作動不良を防ぐことができ、また、第２の弁体５１’の表面は出口側第１の環状のシール部材Ｓ１’に当接しながら移動するため、真空室出口側通路２２内の流体が第２の弁体５１’の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う第２の弁体５１’の作動不良を防ぐことができる。

【0024】

上述した実施例においては、真空室入口側通路２１を第１のゲートバルブ５により開閉、真空室出口側通路２２を第２のゲートバルブ５’により開閉するようにしたが、本願発明にあっては、これに限らず、一般的な通路にも同様に適用することができる。

【0025】

この場合、流体が通過する通路２（２１又は２２）を開閉するゲートバルブ装置は、通路２（２１又は２２）の開口部を弁体（５１又は５１’）でスライドして開閉するようにしたゲートバルブ（５又は５’）と、このゲートバルブ（５又は５’）の開閉を制御するゲートバルブ開閉制御手段（７又は７’）と、通路２（２１又は２２）を有する通路本体（２１０又は２２０）とを備え、弁体（５１又は５１’）には、通路２（２１又は２２）の開口部を塞ぐ閉塞部（５１Ａ又は５１Ａ’）と通路２（２１又は２２）の開口部と同じ大きさの弁体側開口部（５１Ｂ又は５１Ｂ’）が設けられ、通路本体（２１０又は２２０）に弁体（５１又は５１’）の表面に対向するように第１の環状のシール部材（Ｓ１又はＳ１’）が、弁体（５１又は５１’）の裏面に対向するように第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）が、それぞれ設けられ、第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）は昇降手段（１００又は１００’）により、上昇して弁体（５１又は５１’）の裏面に当接、昇降手段（１００又は１００’）により、下降して弁体（５１又は５１’）の裏面に非当接し、昇降手段（１００又は１００’）は、昇降制御手段（２００又は２００’）により昇降し、昇降制御手段（２００又は２００’）により昇降手段（１００又は１００’）を降下させて第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）を弁体（５１又は５１’）の裏面に非当接させ、ゲートバルブ開閉制御手段（７、７’）により弁体（５１、５１’）が、第１の環状のシール部材（Ｓ１又はＳ１’）に当接してスライドさせ、通路２（２１又は２２）の開口部に弁体側開口部（５１Ｂ又は５１Ｂ’）が位置し、その後、昇降制御手段（２００又は２００’）により昇降手段（１００又は１００’）を上昇させて第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）を弁体（５１又は５１’）の裏面に当接させて通路２（２１又は２２）を開とし、昇降制御手段（２００又は２００’）により昇降手段（１００又は１００’）を降下させて、第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）を弁体（５１又は５１’）の裏面に非当接させ、ゲートバルブ開閉制御手段（７又は７’）により弁体（５１又は５１’）が、第１の環状のシール部材（Ｓ１又はＳ１’）に当接してスライドさせ、通路２（２１又は２２）の開口部に閉塞部（５１Ａ又は５１Ａ’）が位置し、その後、昇降制御手段（２００又は２００’）により昇降手段（１００又は１００’）を上昇させて第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）を弁体（５１又は５１’）の裏面に当接させて通路２（２１又は２２）を開となるものである。

【0026】

上述したゲートバルブ装置によれば、ゲートバルブ開閉制御手段（７又は７’）により弁体（５１又は５１’）が、第１のシール環状の部材（Ｓ１又はＳ１’）に当接してスライドするため、通路２（２１又は２２）内の流体が弁体（５１又は５１’）の作動部内への侵入を阻止することができ、作動部内への流体の侵入に伴う弁体（５１又は５１’）の作動不良を防ぐことができる。しかも、通路２（２１又は２２）の開及び閉においては、弁体（５１又は５１’）の表裏は、第１の環状のシール部材（Ｓ１又はＳ１’）、第２の環状のシール部材（Ｓ２又はＳ２’）により、それぞれシールされるため、気密性を保持することができる。

【符号の説明】

【0027】

１ 流体開閉装置
２ 通路
２１ 真空室入口側通路
２２ 真空室出口側通路
３ 第１の開閉弁
３’ 第２の開閉弁
４ 第１のゲートバルブ開閉制御手段
４’ 第２のゲートバルブ開閉制御手段
５ 第１のゲートバルブ
５’ 第２のゲートバルブ
８ 真空室
５１ 第１の弁体
５１’ 第２の弁体
５１Ａ 第１の閉塞部
５１Ａ’第２の閉塞部
５１Ｂ 第１の弁体側開口部
５１Ｂ’第２の弁体側開口部
Ｓ１ 入口側第１の環状のシール部材
Ｓ１’ 出口側第１の環状のシール部材
Ｓ２ 入口側第２の環状のシール部材
Ｓ２’ 出口側第２の環状のシール部材

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】