特許 7371619出願番号 特願 2020-513350
導電パターンの製造方法
公報発行日 2023年10月31
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7371619 ログイン済みの方はこのURLへ
［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
技術分野
導電パターンの製造方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献１～２の技術により、従来より低温で導電性を発現することができるものの、近年、さらに低温での導電性が求められており、１００℃以下の低温条件においてはなお導電性が不十分である課題があった。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、
（１）基材上に、導電性粒子（ａ）、樹脂（ｂ）、ならびに、双性イオン化合物（ｃ１）および／または４級アンモニウム塩化合物（ｃ２）を含むパターンを形成する工程と、
（２）形成されたパターンに２５℃におけるｐＨが１．２～３．５である酸性水溶液を接触させる工程と
を有する導電パターンの製造方法である。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、１００℃以下の低温においても、導電性に優れた微細な導電パターンを形成することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
実施例において導電性の評価に用いたフォトマスクの透光パターンの概略図である。
［広告欄］
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります