特許 7373722 衝撃吸収材

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-10-26

(45)【発行日】2023-11-06

(54)【発明の名称】衝撃吸収材

(51)【国際特許分類】

   F16F 7/00 20060101AFI20231027BHJP

   C08L 83/04 20060101ALI20231027BHJP

   C08K 3/013 20180101ALI20231027BHJP

【ＦＩ】

F16F7/00 F

C08L83/04

C08K3/013

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2020569602

(86)(22)【出願日】2020-01-27

(86)【国際出願番号】 JP2020002684

(87)【国際公開番号】W WO2020158640

(87)【国際公開日】2020-08-06

【審査請求日】2022-10-11

(31)【優先権主張番号】P 2019013671

(32)【優先日】2019-01-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】314012076

【氏名又は名称】パナソニックＩＰマネジメント株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】306026980

【氏名又は名称】株式会社タイカ

(74)【代理人】

【識別番号】110002527

【氏名又は名称】弁理士法人北斗特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】英 翔

(72)【発明者】

【氏名】中西 多公歳

(72)【発明者】

【氏名】川村 基

(72)【発明者】

【氏名】名塚 正範

(72)【発明者】

【氏名】小野 洋介

【審査官】大谷 謙仁

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－９０３６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１７／０６５１３１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２００５－７５９５９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ１６Ｆ ７／００

Ｃ０８Ｌ ８３／０４

Ｃ０８Ｋ ３／０１３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項6】

表示パネルの遮光及び衝撃吸収のために使用される、
請求項１～５のいずれか１項に記載の衝撃吸収材。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、一般に衝撃吸収材に関し、より詳細には、粘着性を有するシリコーン組成物に遮光性が付与された衝撃吸収材に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、積層体を有する衝撃吸収フィルムが記載されている。該積層体は、第１の伸縮性フィルムと発泡体とが積層されている。第１の伸縮性フィルムは、引張強度１０％モジュラスが０．１５～０．５Ｎ／１０ｍｍであり、且つ引張る力がなくなったときに元の長さに戻る伸縮性を有する。発泡体は、厚さが０．０５ｍｍ以上０．５ｍｍ以下の発泡体であって、該発泡体のみからなるシートを複数重ねて１ｃｍの厚みにし、５０％の厚みに圧縮したときに測定する前記シートの反発応力が０．０２ＭＰａ以上３．０ＭＰａ以下である。

【0003】

このような衝撃吸収フィルムは、特に、スマートフォン、タブレット型端末、ノートパソコンなどの製品のディスプレイパネル、電子回路、電池等を保護するために使用される。すなわち、上記のような衝撃吸収フィルムは、スマートフォン、タブレット型端末などの製品が、落下などによる衝撃を受けた際に、そのディスプレイパネルが破壊しないように、衝撃を吸収する材料として使用される。

【0004】

特許文献１の衝撃吸収フィルムは、衝撃吸収フィルム自体に遮光性を付与することが困難であり、粘着層を介して遮光フィルムを衝撃吸収フィルムに貼り付ける必要があった。すなわち、上記の衝撃吸収フィルムは、発泡体を有しているので、その表面空孔により表面散乱が発生するため、発泡体自体に遮光性を付与することが困難であり、別途、遮光フィルムを衝撃吸収フィルムに貼り付ける必要があった。

【0005】

また特許文献１の衝撃吸収フィルムをディスプレイパネル等に貼り付ける場合、衝撃吸収フィルムとディスプレイパネル等とを接着するための粘着層が必要であった。しかも、上記の遮光フィルムを必要とする場合には、遮光フィルムと衝撃吸収フィルムとを接着するための粘着層も必要であった。したがって、遮光フィルムと衝撃吸収フィルムとを貼り付けたディスプレイパネル等は積層体として剛直となり、ディスプレイパネル等に本来求められている自由に曲げ伸ばしできるなどの機能を発現することを妨げられやすくなる。

【0006】

衝撃吸収材料としては、ウレタン、アクリル、シリコーンのフォームまたはゴム状のものが多く使用されているが、繰り返し使用時の性能安定性を必要とすることの多いディスプレイ用途の場合はシリコーンが有利である。また衝撃吸収材料は保護対象に接触して効果を発揮するため、繰り返し衝撃を受けた際に衝撃吸収材と保護対象とが剥離しないように粘着性を有している必要がある。さらに部品が高価であるディスプレイではリワーク性を求められることから、衝撃吸収材料の粘着性のコントロールは重要である。

【0007】

特許文献２には、遮光性を有した付加硬化型シリコーン組成物の接着シートが記載されている。この接着シートは、電極の遮光及び保護を目的としたものである。但し、この接着シートは、半硬化（Ａステージ）シートの状態で保護対象に圧着させ、熱で硬化させることで接着性を得ることから、生産工程が複雑になる。また、この半硬化状態のシートを保持するためには低温保管を要し、生産上管理が難しい。

【0008】

特許文献３には、付加硬化型のシリコーン組成物でありシート化可能な材料が記載されている。この材料は、添加材によって、遮光性、熱伝導性、振動吸収性を付与することが可能であるが、材料の粘着力に関する記述がない。

【0009】

特許文献４及び５には、接着性を保有したシリコーン組成物が記載されている。このシリコーン組成物は保護対象と接触した上で熱を介して接着するものである。特許文献４には遮光性に関して記載されていない。このようなシリコーン組成物ではリワーク時にディスプレイを破損してしまう可能性が高いため、有用ではない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0010】

【文献】特開２０１６－３０３９４号公報

【文献】特開２０１０－９０３６３号公報

【文献】特開２０１０－１４４１３３号公報

【文献】特開２００２－１７３６６１号公報

【文献】特開昭６２－２４０３６１号公報

【発明の概要】

【0011】

本開示は、上記事由に鑑みてなされており、粘着性及び遮光性を有する衝撃吸収材を提供することを目的とする。

【0012】

また本開示は、常温保管が可能でポストキュアを必要としない衝撃吸収材を提供することを目的とする。

【0013】

本開示の一態様に係る衝撃吸収材は、粘着性および応力緩和性を有するシリコーン組成物中に、絶縁無機黒色顔料が含有されている。前記衝撃吸収材は、厚み４０μｍ以上５００μｍ以下である。前記衝撃吸収材は、ガラス板に対する粘着力が２Ｎ／２０ｍｍ以上である。また前記衝撃吸収材は、波長が３００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の光の透過率が０．１％以下である。さらに前記衝撃吸収材は、ＪＩＳ Ｋ ２２０７に準拠した２５℃における針入度が５０以上１１０以下である。加えて、前記衝撃吸収材は、衝撃吸収率が２０％以上である。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】図１Ａは、本開示に係る一実施形態の衝撃吸収材を示す模式図である。図１Ｂは、比較例の衝撃吸収積層体を示す説明図である。

【図2】図２は、本開示に係る一実施形態の衝撃吸収材の粘着力を測定する試験を示す模式図である。

【図3】図３は、本開示に係る一実施形態の衝撃吸収材の衝撃加速度を測定する試験を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

（衝撃吸収材の概要）
図１Ａは、本実施形態に係る衝撃吸収材１を示している。衝撃吸収材１は、粘着性および応力緩和性を有するシリコーン化合物の反応物であるシリコーン組成物２中に、絶縁無機黒色顔料３を含有している。また衝撃吸収材１の厚みは４０μｍ以上５００μｍ以下である。さらに、衝撃吸収材１は、シリコーン組成物２中に、放熱微粒子４を含有している。なお、放熱微粒子４は、衝撃吸収材１の必須の構成要素ではなく、必要に応じて、使用される。

【0016】

図１Ｂは、衝撃吸収材１と同等程度の衝撃吸収性、遮光性及び貼付性を得ようとした場合の衝撃吸収積層体１００を示している。衝撃吸収積層体１００では、衝撃吸収性を得るために多孔構造層１０１を有している。多孔構造層１０１は、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリル、ポリウレタンなどの発泡体を素材として形成され、厚みが５０～１０００μｍに形成されている。また衝撃吸収積層体１００は、遮光性を得るために、光の透過率が小さい遮光基材１０２を備えている。遮光基材１０２は厚み５～５０μｍに形成され、厚み３～５０μｍの粘着層１０３により、多孔構造層１０１の片面に貼り付けられている。さらに衝撃吸収積層体１００は、貼付性を得るために、厚み３～５０μｍの二つの粘着層１０４、１０５を有している。貼付性は、衝撃吸収積層体１００と他の部材とを貼り付けることを可能する性能である。したがって、一方の粘着層１０４は多孔構造層１０１の他の片面（遮光基材１０２がない面）に設けられている。もう一方の粘着層１０５は遮光基材１０２の片面（粘着層１０３がない面）に設けられている。

【0017】

このように衝撃吸収積層体１００は、衝撃吸収性を得るための多孔構造層１０１と、遮光性を得るための遮光基材１０２と、貼付性を得るための二つの粘着層１０４，１０５、及び遮光基材１０２と多孔構造層１０１とを粘着（接着）するための粘着層１０３とで構成されているため、厚みが非常に大きくなる。一方、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、粘着性および応力緩和性を有するシリコーン組成物２中に、絶縁無機黒色顔料３を含有しているため、シリコーン組成物２により衝撃吸収性と貼付性が得られ、絶縁無機黒色顔料３により遮光性が得られる。したがって、遮光基材１０２及び三つの粘着層１０３、１０４，１０５がなくても衝撃吸収積層体１００と同程度の衝撃吸収性、遮光性及び貼付性を有するものである。よって、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、衝撃吸収性、遮光性及び貼付性を有しながら、衝撃吸収積層体１００よりも厚みを薄くする（薄型化を図る）ことができる。具体的には、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、多孔構造層１０１と同等の厚みか、それよりも薄い４０μｍ以上５００μｍ以下の厚みで形成することが可能である。衝撃吸収材１の厚みは５０μｍ以上４５０μｍ以下であることが、好ましい。衝撃吸収材１の厚みは１００μｍ以上４００μｍ以下であることが、より好ましい。

【0018】

本実施形態に係る衝撃吸収材１は、例えば、表示パネルの遮光及び衝撃吸収のために使用されることが好ましい。これにより、表示パネルは衝撃吸収材１により衝撃から保護されやすい。また表示パネルは衝撃吸収材１により遮光されて表示が鮮明になりやすい。表示パネルは、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどである。

【0019】

本実施形態に係る衝撃吸収材１は、単層からなることが好ましい。すなわち、衝撃吸収材１は、他の層と積層されずに、一層で、粘着性、遮光性及び衝撃吸収性を有することが好ましい。これにより、本実施形態に係る衝撃吸収材１は薄く形成しやすい。粘着性とは、他の部材と粘着することが可能な機能をいう。本実施形態に係る衝撃吸収材１の粘着性は、ガラス板に対する粘着力で規定される。また遮光性とは、光を遮ることが可能な機能をいう。本実施形態に係る衝撃吸収材１の遮光性は、波長が３００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の光の透過率で規定される。衝撃吸収性とは、衝撃を吸収できる機能をいう。本実施形態に係る衝撃吸収材１の衝撃吸収性は、衝撃吸収率で規定される。

【0020】

本実施形態に係る衝撃吸収材１は、表示パネルの表面に配置された状態で使用される。すなわち、衝撃吸収材１は、フラットパネルディスプレイなどに使用されている液晶パネルなどの表示パネルの表面に積層されて用いられる。本実施形態に係る衝撃吸収材１は、表示パネルの表面に配置された状態で、熱及び紫外線によるポストキュアを必要としない。ここで、ポストキュアとは、製造工程の最終段階での硬化工程を意味する。したがって、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、表示パネルの表面に配置した状態で、熱及び紫外線により最終的に硬化させる工程を必要としない。すなわち、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、熱及び紫外線によるポストキュアを行わなくても、表示パネルの表面に粘着可能である。したがって、本実施形態に係る衝撃吸収材１は、表示パネルが熱及び紫外線による悪影響を受けることを少なくして、粘着が可能である。

【0021】

本実施形態に係る衝撃吸収材１は、常温保管が可能である。すなわち、衝撃吸収材１は、低温にすることなく、長期間にわたって性状をほとんど変化させることなく、保管が可能である。ここで、常温とは２５℃のことをいう。また衝撃吸収材１は、常温で、粘着性、遮光性、針入度及び衝撃吸収性をほとんど変化させないで６ヶ月間保管が可能である。

【0022】

（シリコーン組成物）
シリコーン化合物の反応物であるシリコーン組成物２は、衝撃吸収材１の主体を構成する。すなわち、シリコーン組成物２は、絶縁無機黒色顔料３を内在して保持するマトリックスのような機能を有する。また衝撃吸収材１は、主に、シリコーン組成物２により、多孔構造を用いずに物理的に衝撃エネルギーを緩和することができる。

【0023】

本実施形態に係る衝撃吸収材１において、シリコーン組成物２はシート状、板状及びフィルム状の形態を有する。これらの形態のシリコーン組成物２は厚みが５０μｍ以上４５０μｍ以下である。すなわち、シリコーン組成物２の厚みが衝撃吸収材１の厚みとなる。

【0024】

シリコーン組成物２は粘着性を有する。ここで、粘着性とは、シリコーン組成物２と他の部材とを粘着（接着）することを可能とする機能をいう。具体的には、ＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠した粘着力試験の９０度引きはがしモードにおいて、ソーダガラスに対して剥離に要する力で規定される。このとき、シリコーン組成物２の粘着力は２Ｎ／２０ｍｍ以上であることが好ましい。なお、本開示における粘着性に関する測定方法は、引張り速度３００ｍｍ／ｍｉｎであり、試験片は、幅２０ｍｍ、長さは１００ｍｍ、厚み１５０μｍの短冊状である。また、試験片とソーダガラスとの貼合条件は、２ｋｇのローラーで１往復とし、その後２３℃で２４ｈ放置としている。

【0025】

シリコーン組成物２は応力緩和性を有する。ここで、応力緩和性とは、シリコーン組成物２に応力が加わったときに、その応力による衝撃エネルギーを変形や熱エネルギーに変換して吸収し、応力が伝達されにくくする機能をいう。具体的には、シリコーン組成物２の応力緩和性は０℃から２００℃の間の動的粘弾性測定（捻り剪断モード）における複素弾性率が、１０^３Ｐａ以上１０^５Ｐａ以下の範囲で、かつ、ｔａｎδが１０^－２以上１以下の範囲で規定される。複素弾性率及びｔａｎδの測定にはφ２５ｍｍ（直径２５ｍｍ）、厚み２ｍｍの円盤状試験片を用い、ひずみは１％、振動周波数は１０Ｈｚの条件で測定する。

【0026】

動的弾性率には貯蔵弾性率Ｇ’（Ｐａ）と損失弾性率Ｇ”（Ｐａ）がある。貯蔵弾性率Ｇ’（Ｐａ）は物体に外力とひずみにより生じたエネルギーのうち物体の内部に保存する成分であり、損失弾性率Ｇ”（Ｐａ）は外部へ拡散する成分である。複素弾性率Ｇ＊（Ｐａ）はＧ＊＝（Ｇ‘^２＋Ｇ“^２）^１/２で表され、物体の硬さを示す。また、ｔａｎδは損失係数といい、Ｇ”とＧ’の比である（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’＝損失弾性率／貯蔵弾性率）。

【0027】

複素弾性率Ｇ＊（Ｐａ）が、０℃から２００℃の間において、１０^３Ｐａ以上１０^５Ｐａ以下の範囲、かつｔａｎδが１０^－２以上１以下の範囲であることによって、シリコーン組成物２は、外力やひずみなどが与えられた場合に、シリコーン組成物２の内部にエネルギーを保存したうえで、徐々に外部に熱エネルギーとして拡散させる特性を発現することができ、衝撃吸収特性を発現する。上記以外の範囲においては、シリコーン組成物２は外力やひずみなどによるエネルギーを内部に蓄えることなく弾性的な反発力を外部に向けて発生させるか、塑性変形をしてしまい、衝撃吸収材１は当初の形状を維持しにくくなる。

【0028】

シリコーン組成物２は、複素弾性率Ｇ＊（Ｐａ）が、０℃から２００℃の間において、２０，０００Ｐａ以上８０，０００Ｐａ以下の範囲、かつｔａｎδが０．１以上０．９以下であることが、より好ましい。

【0029】

なお、複素弾性率Ｇ＊（Ｐａ）の測定装置としては、例えば、ＴＡインスツルメンツ株式会社製の「ＡＲＥＳ Ｇ２」が使用される。

【0030】

本実施形態で用いられるシリコーン組成物は、所望の緩衝吸収性能が得られれば公知のゴム弾性や粘弾性を有するものを適用でき、緩衝吸収性の観点からシリコーンゲルをシリコーン組成物として用いることが好ましく、硬化性等の観点から付加反応型（又は架橋）シリコーンゲルをシリコーン組成物として用いることが特に好ましい。付加反応型シリコーンゲルは、特に限定されないが、通常は、シリコーン化合物の一例として、後述するオルガノハイドロジエンポリシロキサンとアルケニルポリシロキサンとを原料とし、両者を触媒の存在下でハイドロシリル化反応（付加反応）させることにより得られる。すなわち、本実施形態においてシリコーンゲルの原料物質に成り得るシリコーン化合物とは、多くの場合、オルガノハイドロジエンポリシロキサンとアルケニルポリシロキサンを指す。原料の１つとして用いられるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、下記の一般式（１）で表されるものが好ましい。

【0031】

【化1】

【0032】

式中、Ｒ^１は、同一又は異種の置換若しくは非置換の１価の炭化水素基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、Ｒ^１又は－Ｈを表し、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも２つは、－Ｈを表し、ｘ及びｙは、各単位の数を示す整数であり、各単位は、ブロックあるいはランダムに配置されており、ランダムが好ましく、ｘは、０以上の整数であるが１０～３０が好ましく、ｙは、０以上の整数であるが１～１０が好ましい。ｘ＋ｙは、５～３００の整数であるが３０～２００が好ましい。また、ｙ／（ｘ＋ｙ）≦０．１の範囲が好ましい。この範囲を超えると架橋点が多くなり、衝撃緩衝性が低下する場合がある。

【0033】

Ｒ^１の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基、或いは、これらの水素原子が部分的に塩素原子、フッ素原子などで置換されたハロゲン化炭化水素などが挙げられる。

【0034】

ケイ素原子に直接結合した水素（Ｓｉ－Ｈ）は、ケイ素原子に直接または間接的に結合したアルケニル基と付加反応（ハイドロシリル反応）を行うために必要であり、オルガノハイドロジェンポリシロキサン分子中に少なくとも２個有することが好ましい。

【0035】

また、本実施形態で使用する架橋シリコーンゲルを製造する際に用いられるもう１つの原料であるアルケニルポリシロキサンは、下記の一般式（２）で表されるものが好ましい。

【0036】

【化2】

【0037】

式中、Ｒ^１は、同一又は異種の置換もしくは非置換の１価の炭化水素基を表し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、Ｒ^１又はアルケニル基を表し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の少なくとも２つはアルケニル基を表し、ｓ及びｔは、各単位の数を示す整数であり、各単位はブロックあるいはランダムに配置されており、ランダムが好ましく、ｓは、０以上の整数を表し、ｔは、０以上の整数を表し、ｓ＋ｔは、１０～６００の整数であり、かつｔ／（ｓ＋ｔ）≦０．１ある。また、ｔ／（ｓ＋ｔ）≦０．１の範囲が好ましい。この範囲を超えると架橋点が多くなり、衝撃緩衝性が低下する場合がある。

【0038】

Ｒ^１の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基、或いはこれらの水素原子が部分的に塩素原子、フッ素原子などで置換されたハロゲン化炭化水素などが挙げられる。ケイ素原子に直接または間接的に結合したアルケニル基（ビニル基、アリル基等）は、ケイ素原子に直接結合した水素（Ｓｉ－Ｈ）と付加反応（ハイドロシリル反応）を行うために必要であり、アルケニルポリシロキサン分子中に少なくとも２個有することが好ましい。

【0039】

本実施形態において、一般式（１）で表されるハイドロジェンポリシロキサンは、珪素原子に直結した－Ｈ（水素基）を有しており、一般式（２）で表されているアルケニルポリシロキサンは、炭素－炭素二重結合を有しているので、炭素－炭素二重結合と－Ｈ（水素基）が付加反応をおこすが、これをハイドロシリル化反応という。そして、一般式（１）で表されるハイドロジェンポリシロキサンは、珪素原子に直結した－Ｈ（水素基）と一般式（２）で表されているアルケニルポリシロキサンのアルケニル基との当量比を調整することによって、シリコーン組成物２の硬度や緩衝性能を調整することができる。上記ハイドロシリル化反応は、公知の技術を用いて行うことができ、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコールより得られる錯体、白金－オレフィン錯体、白金－ビニルシロキサン錯体、白金－リン錯体等の触媒を用い反応させることができる。触媒の使用量は、アルケニルポリシロキサンに対して、白金原子として通常１ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下であり、硬化性及び硬化後の製品の物理的特性を考慮して、３ｐｐｍ以上２５０ｐｐｍ以下が好ましい。

【0040】

（絶縁無機黒色顔料）
絶縁無機黒色顔料３は、主に、衝撃吸収材１に遮光性を付与するためにシリコーン組成物２に含有される。すなわち、衝撃吸収材１は、絶縁無機黒色顔料３により所望の遮光性が得られる。

【0041】

絶縁無機黒色顔料３は、電気的な絶縁性を有する。本開示において、電気的な絶縁性とは、電気抵抗値が大きく電気を通しにくい機能をいう。絶縁無機黒色顔料３の抵抗率は１×１０^５Ω・ｃｍ以上１×１０^１９Ω・ｃｍ以下の範囲とすることが好ましく、これにより、衝撃吸収材１の電気的な絶縁性が得やすくなる。絶縁無機黒色顔料３の抵抗率は１×１０^１１Ω・ｃｍ以上１×１０^１９Ω・ｃｍ以下の範囲とすることが、より好ましく、１×１０^１５Ω・ｃｍ以上１×１０^１９Ω・ｃｍ以下の範囲とすることが、さらに好ましい。

【0042】

絶縁無機黒色顔料３は、無機材料を含む。本開示において、無機材料は、絶縁性を有する金属、金属酸化物、金属窒化物及びセラミックスなどが例示される。具体的には、絶縁無機黒色顔料３は、チタン、鉄、亜鉛、酸化チタン、窒化チタン、アルミナ、から選ばれる少なくとも一種の元素を含む金属の単体または合金や、酸化物、窒化物及びセラミックスが使用可能である。無機材料を含む絶縁無機黒色顔料３は脱色しにくく性状が安定しており、これにより、衝撃吸収材１の遮光性が低下しにくくなる。

【0043】

絶縁無機黒色顔料３は、黒色である。本開示において、黒色とはカラーコードがＣＩＥ１９７６ Ｌ*ａ*ｂ*色空間（測定用光源Ｃ：色温度６７７４Ｋ）を用いた座標において、０≦Ｌ*≦１４、６≦ａ*≦８、-１０≦ｂ*≦-５の範囲のものをいい、Ｌ*が１．２６、ａ*が６．９、ｂ*が-８．１２であることが最も好ましい。絶縁無機黒色顔料３は、例えば、カラーコードが＃０ｄ００１５の漆黒である。絶縁無機黒色顔料３が黒色であれば、衝撃吸収材１の所望の遮光性が得られる。絶縁無機黒色顔料３は、粒子である。絶縁無機黒色顔料３はほぼ球形であるが、様々な形状を有している。絶縁無機黒色顔料３は、平均一次粒子径が１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。これにより、絶縁無機黒色顔料３は、シリコーン化合物中及びシリコーン組成物２中に均一に分散させやすくなる。ここで、均一とは、単位体積あたりの衝撃吸収材１を構成する組成がほぼ同じであることをいう。絶縁無機黒色顔料３の平均一次粒子径は２０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲であることが、より好ましい。

【0044】

なお、本開示において、平均一次粒子径は、次の方法で特定される。シリコーン組成物２に含まれる、顔料の粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて倍率５０００倍以上にて観察する。ＴＥＭまたはＳＴＥＭで得られた像又はＳＥＭで観察された複数の粒子の中で、凝集体を形成していない顔料の粒子を、一次粒子とみなす。この一次粒子の長径を、一次粒子径とみなす。百個の一次粒子について、一次粒子径を測定する。一次粒子径の個数基準の算術平均値を算出した結果を、平均一次粒子径とする。

【0045】

衝撃吸収材１における絶縁無機黒色顔料３の含有量は、シリコーン組成物２の１００質量部に対して、２．５質量部以上８０質量部以下の範囲である。絶縁無機黒色顔料３の含有量がこの範囲であれば、シリコーン組成物２の粘着性及び応力緩和性を損なわずに、衝撃吸収材１の遮光性が得やすくなる。絶縁無機黒色顔料３の含有量は、シリコーン組成物２の１００質量部に対して、５質量部以上４０質量部以下の範囲であることが、より好ましい。

【0046】

また絶縁無機黒色顔料３は、シリコーン化合物中及びシリコーン組成物２中への分散性を向上させるためにシリコーン系処理剤で表面処理をされたものが好ましい。

【0047】

絶縁無機黒色顔料３は、チタン酸窒化物（酸窒化チタン）が挙げられる。チタン酸窒化物は、窒素の含有量が多く、一般式ＴｉＯ_ｘＮ_ｙにおいて、ｘ＝０．０５以上０．５０以下、ｙ＝０．６以上１．０以下の組成を有する。酸素量ｘが０．０５より少ないと絶縁性が不十分となりやすく、０．５０より多いと遮光性が低下しやすいので好ましくない。窒素量ｙが０．６０より少ないと遮光性が低下しやすく、１．０より多いと絶縁性が不足しやすいので、好ましくない。

【0048】

また、衝撃吸収材１には、本発明の効果を阻害しない範囲で、放熱微粒子や難燃剤、熱安定化剤などの成分を配合してもよい。

【0049】

（放熱微粒子）
放熱微粒子４は、主に、衝撃吸収材１に放熱性を付与するために含有され、例えば、水酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、無水炭酸マグネシウム、アルミナ、シリカ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素のような無機材料が使用できる。

【0050】

放熱微粒子４の添加によって、衝撃吸収材１の硬度や粘弾性特性が変化するので、放熱微粒子４の粒子径や含有量は、所望の衝撃吸収材１の遮光性と衝撃緩衝性が得られる範囲で適宜設定すればよい。

【0051】

（衝撃吸収材の製造方法）
衝撃吸収材１は、シリコーン化合物と、絶縁無機黒色顔料３とを混合及び混練し、押出成形法などの成形方法で成形し、この後、シリコーン化合物を乾燥及び反応・硬化することでシリコーン組成物を形成することによって製造される。

【0052】

（衝撃吸収材の物性）
衝撃吸収材１は、ガラス板に対する粘着力が２Ｎ／２０ｍｍ以上である。この粘着力は以下のようにして測定される。ＪＩＳ Ｚ０２３７「粘着テープ・粘着シート試験方法」に準拠した粘着力試験における９０度引きはがしの剥離強度を粘着力とし、９０度ピール試験機で引張り速度３００ｍｍ／ｍｉｎの速さにて衝撃吸収材とガラス板との粘着力を測定した。粘着力評価用の試験試料は、図２に模式的に示すように、衝撃吸収材１の一方の表面にガラス板３００を貼合し、次いで、他方の面（裏面）に樹脂フィルム（ユニチカ社製ＰＥＴ、エンブレット）３０１を、プライマー（信越化学工業製 プライマーＡ）３０２を介して貼合することによって作製した。前記貼合条件は、２ｋｇのローラーで１往復とし、その後２３℃で２４時間放置した。また、ガラス板３００は、厚さ１ｍｍのソーダガラス製のガラス板（平岡ガラス社製）とした。

【0053】

衝撃吸収材１は、ガラス板に対する粘着力が２Ｎ／２０ｍｍ以上であるため、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどの表示パネルを構成するガラス板に貼り付けやすく、容易に脱落しないように粘着（接着）される。また衝撃吸収材１は、表示パネルへの貼り直し（リワーク）など、作業性の観点から、衝撃吸収材１のガラス板に対する粘着力は５Ｎ／２０ｍｍ以下であることが好ましい。

【0054】

衝撃吸収材１は、波長が３００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の光の透過率が０．１％以下である。この透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠し、分光光度計等を用いて測定される。

【0055】

衝撃吸収材１の光の透過率は低いほうが好ましいので、その下限は０％である。

【0056】

衝撃吸収材１は、ＪＩＳ Ｋ ２２０７に準拠した２５℃における針入度が５０以上１１０以下である。衝撃吸収材１の針入度が５０未満であると、衝撃吸収材１が硬質すぎて、曲げたり伸ばしたりしにくくなり、柔軟な変形に対応しにくくなる。衝撃吸収材１の針入度が１１０より大きいと、衝撃吸収材１が軟質すぎて、他部材への貼り付けしにくくなるなどの取扱性が低下する。衝撃吸収材１の上記条件の針入度が６０以上１００以下の範囲であることが好ましく、７０以上９０以下の範囲が更に好ましい。

【0057】

衝撃吸収材１は、衝撃吸収率が２０％以上である。この衝撃吸収率は以下のようにして測定される。神栄テストマシナリー製の振子式衝撃試験装置ＰＳＴ－３００を用いてＪＩＳＣ ６００６８－２－２７に準拠して衝撃加速度を測定したうえで、次の式により衝撃吸収率を算出した。

【0058】

衝撃吸収率（％）＝（１－（衝撃吸収材付きの試験片の衝撃加速度））／（ＰＣ板単体の衝撃加速度）×１００
衝撃加速度を測定するための試験片は、厚みが１．０ｍｍのポリカーボネートの板（ＰＣ板）４００に衝撃吸収材１を貼り合わせ、さらにその上にΦ２０ｍｍ（＝直径２０ｍｍ）、厚みが４ｍｍの金属円柱４０１を貼り合わせて作製した。この試験片を図３に模式的に示す。

【0059】

衝撃吸収材１の衝撃吸収率は高いほうが好ましいので、その上限は１００％であるが、現状で得られる衝撃吸収材１の衝撃吸収率の上限は８５％であり、少なくとも８０％である。

【0060】

（衝撃吸収材の使用）
本実施形態に係る衝撃吸収材１は、他の部材に貼り付けて使用される。この場合、衝撃吸収材１は粘着性を有しているので、他の部材の表面に衝撃吸収材１の表面を接触させて貼り付けることが可能である。ただし、他の部材へ衝撃吸収材１を強固に貼り付けたい場合は、接着剤や粘着剤を併用してもよい。

【0061】

他の部材としては、衝撃が加わると破損しやすい部材であり、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどの表示パネルが例示される。衝撃吸収材１は表示パネルの裏面（文字や画像が表示される側と反対側の面）に貼り付けられる。表示パネルとしては、フレキシブル有機液晶ディスプレイ（ＯＬＣＤ）、電子ペーパー（Ｅ Ｐａｐｅｒ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、量子ドットディスプレイ（ＱＬＥＤ）、マイクロＬＥＤディスプレイ（μＬＥＤ）が例示される。

【0062】

本実施形態に係る衝撃吸収材１は、従来技術よりも、薄く柔軟な可撓性をもち、軽量で折り畳むなどの機能を有し、遮光性も有する。よって、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどの表示パネルに貼り付けた場合に、使用時は大画面でありながら、持ち運ぶときなどは折りたたんで小型になるというような光学表示セルを得ることも可能となる。

【実施例】

【0063】

（実施例１）
シリコーン組成物としては、信越化学工業株式会社製の２液付加反応型シリコーンゲル（型式：Ｘ３２－３４４３）を使用した。このシリコーン組成物の原料となり得るシリコーン化合物は、主剤（Ａ）と硬化剤（Ｂ）とを含んでおり、主剤（Ａ）に対する硬化剤（Ｂ）の配合割合が少ないほど、得られるシリコーン組成物の針入度が大きくなる（すなわち、柔らかくなる）。

【0064】

絶縁無機黒色顔料としては、三菱マテリアル株式会社製の品番１３Ｍ－Ｃを使用した。

【0065】

表１及び表２に示す配合量により、これらの材料を混合及び混練し、押出成形によりシート状に成形し、この後、乾燥及び硬化させることによってシリコーン組成物を形成し、厚み１５０μｍの衝撃吸収材を形成した。

【0066】

（実施例２～９、比較例１～５）
表１及び表２に示すように、実施例１において、使用する材料の配合量を変更し、物性の異なる複数種類の衝撃吸収材を形成した。

【0067】

（物性）
上記の各実施例及び各比較例について、ガラス板に対する粘着力、波長が３００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の光の透過率、ＪＩＳ Ｋ ２２０７に準拠した２５℃における針入度、衝撃吸収率を測定した。

【0068】

（有機ＥＬ表示素子の作製と評価）
各実施例及び各比較例の衝撃吸収材を有機ＥＬ表示素子の裏面に貼り付けて評価した。有機ＥＬ表示素子の作成方法と、評価項目は以下の通りである。

【0069】

（有機ＥＬ表示素子の作製）
無アルカリガラス基板（厚さ３．０ｍｍ）にポリイミドテープにて半面マスクし、スパッタリングにより厚さ１０００ÅのＩＴＯ透明電極を成膜したものを透明支持基板とし、真空蒸着により、Ｎ，Ｎ’－ジ（１－ナフチル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルベンジジン（α－ＮＰＤ）を蒸着速度１５Å／ｓで基板に堆積させ、膜厚６００Åの正孔輸送層を成膜した。次に、トリス（８－ヒドロキシキノリラ）アルミニウム（Ａｌｑ３）を１５Å／ｓの蒸着速度で膜厚６００Åに堆積し、発光層を形成した。その後、この基板を別の真空蒸着装置に移し、フッ化リチウムを０．２Å／ｓの蒸着速度で５Å成膜した後、アルミニウムを２０Å／ｓの速度で１０００Å成膜し、最後にポリイミドテープを除去することで、基材の半面に対し有機発光材料層を有する積層体を得た。

【0070】

得られた積層体が配置された基板の、該積層体全体を覆うように、開口部を有するマスクを設置し、プラズマＣＶＤ法にて無機材料膜を形成し、表示部分と非表示部分を有する有機ＥＬ表示素子を得た。プラズマＣＶＤ法は、原料ガスとしてＳｉＨ_４ガス及び窒素ガスを用い、各々の流量をＳｉＨ_４ガス１０ｓｃｃｍ、窒素ガス２００ｓｃｃｍとし、チャンバー内温度を１００℃、チャンバー内圧力を１２０Ｐａ（０．９Ｔｏｒｒ）とする条件で行った。形成された無機材料膜の厚さは、約１μｍであった。

【0071】

（評価）
実施例および比較例で得られた衝撃吸収材を、上記方法で得られた有機ＥＬ表示素子のガラス基板側へ貼付けて評価した。評価項目は以下の通りである。

【0072】

衝撃吸収性の観点から、落下させた場合の有機ＥＬ表示素子の破損の程度として保護性を評価した。保護性は、作製した有機ＥＬ表示素子を、ガラス基材を下側に、衝撃吸収材を上側にした状態で、ポリカーボネート板（ＰＣ板）の上に載せ、２５０ｍｍの高さから、直径３３．３ｍｍ、重さ１５０．８ｇの金属製の鋼球を有機ＥＬ表示素子に落下させ、以下のように評価した。

【0073】

ＯＫ：１０回試験を行い、全ての有機ＥＬ表示素子に剥がれや割れによる外観変化なし。

【0074】

ＮＧ：１０回試験を行い、１個の有機ＥＬ表示素子でも剥がれや割れによる外観変化あり。

【0075】

また遮光性の観点から、有機ＥＬ表示素子の表示の見やすさとして表示性を評価した。表示性は、有機ＥＬ表示素子に１０Ｖの電圧を印加し、表示部分と非表示部分を目視で観察し、以下のように判定した。

【0076】

ＯＫ：表示部分と非表示部分との境界が明確であり、コントラストが高い表示素子である。

【0077】

ＮＧ：表示部分と非表示部分との境界が不明確であり、コントラストが低い表示素子である。

【0078】

また衝撃吸収材の常温保管性を評価した。常温保管性は、以下のように判定した。

【0079】

ＯＫ：常温で６ヶ月間保管した後に、保管前と比較して、性状がほとんど変化していないものである。

【0080】

ＮＧ：常温で６ヶ月間保管した後に、保管前と比較して、使用上問題が生じる程度の性状変化があったものである。

【0081】

表３、４に各実施例及び各比較例の常温保管性と、６ヶ月保管後の衝撃吸収材の粘着力、透過率、針入度、及び衝撃吸収率を示す。

【0082】

【表1】

【0083】

【表2】

【0084】

【表3】

【0085】

【表4】

【符号の説明】

【0086】

１ 衝撃吸収材
２ シリコーン組成物
３ 絶縁無機黒色顔料

【図1】

【図2】

【図3】