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  • 特許-三次元ひずみゲージ 図1
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-10-26
(45)【発行日】2023-11-06
(54)【発明の名称】三次元ひずみゲージ
(51)【国際特許分類】
   G01B 7/16 20060101AFI20231027BHJP
【FI】
G01B7/16 R
【請求項の数】 18
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2019117527
(22)【出願日】2019-06-25
(65)【公開番号】P2020160039
(43)【公開日】2020-10-01
【審査請求日】2022-06-08
(31)【優先権主張番号】16/366,502
(32)【優先日】2019-03-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】519231050
【氏名又は名称】ヴィシェイ アドヴァンスド テクノロジーズ リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100080791
【弁理士】
【氏名又は名称】高島 一
(74)【代理人】
【識別番号】100136629
【弁理士】
【氏名又は名称】鎌田 光宜
(74)【代理人】
【識別番号】100125070
【弁理士】
【氏名又は名称】土井 京子
(74)【代理人】
【識別番号】100121212
【弁理士】
【氏名又は名称】田村 弥栄子
(74)【代理人】
【識別番号】100174296
【弁理士】
【氏名又は名称】當麻 博文
(74)【代理人】
【識別番号】100137729
【弁理士】
【氏名又は名称】赤井 厚子
(74)【代理人】
【識別番号】100151301
【弁理士】
【氏名又は名称】戸崎 富哉
(74)【代理人】
【識別番号】100170184
【弁理士】
【氏名又は名称】北脇 大
(72)【発明者】
【氏名】アモス ヘルコウィッツ
(72)【発明者】
【氏名】オフィル サドリー
(72)【発明者】
【氏名】ギラード ヤロン
【審査官】飯村 悠斗
(56)【参考文献】
【文献】特開2000-111368(JP,A)
【文献】特開2016-085088(JP,A)
【文献】特開2012-047608(JP,A)
【文献】特開平04-064279(JP,A)
【文献】特開平04-162589(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G01B 7/16
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
小型ひずみゲージであって、当該小型ひずみゲージは:
変形可能な基板と
なくとも1つの導電パターンと;
前記導電パターンを覆って形成された電気絶縁層と;
前記電気絶縁層を覆って形成され、かつ、前記導電パターンを少なくとも部分的に覆う少なくとも1つの電気接続パッドと;
前記電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記導電パターンを前記の少なくとも1つの電気接続パッドに電気的に接続する少なくとも1つのビアとを有し、
当該小型ひずみゲージの特徴は、前記の少なくとも1つの導電パターンが、前記の変形可能な基板上に形成されており、前記の少なくとも1つの導電パターンが、接着剤によって、または、鋳造技術を用いて前記の変形可能な基板に接着されていることである、
前記小型ひずみゲージ。
【請求項2】
前記の変形可能な基板と前記の少なくとも1つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項1に記載の小型ひずみゲージ。
【請求項3】
前記の少なくとも1つの導電パターンと前記の少なくとも1つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項1に記載の小型ひずみゲージ。
【請求項4】
小型ひずみゲージであって、当該小型ひずみゲージは:
第1の平面に配置された変形可能な基板と;
少なくとも1つの導電パターンと;
前記導電パターンを覆って配置された電気絶縁層と;
前記の第1の平面に対して垂直方向に少なくとも部分的に前記の第1の平面から空間的に離間した第2の平面に配置された少なくとも1つの電気接続パッドと;
前記電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記導電パターンを前記の少なくとも1つの電気接続パッドに電気的に接続する少なくとも1つのビアとを有し、
当該小型ひずみゲージの特徴は、前記の少なくとも1つの導電パターンが、前記の変形可能な基板上に形成されており、前記の少なくとも1つの導電パターンが、接着剤によって、または、鋳造技術を用いて前記の変形可能な基板に接着されていることである、
前記小型ひずみゲージ。
【請求項5】
前記の少なくとも1つの導電パターンと前記の少なくとも1つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項に記載の小型ひずみゲージ。
【請求項6】
前記の少なくとも1つの電気接続パッドが、前記導電パターンを少なくとも部分的に覆う、請求項に記載の小型ひずみゲージ。
【請求項7】
ひずみゲージであって、当該ひずみゲージは:
変形可能な基板と;
前記の変形可能な基板上に形成された少なくとも2つの導電パターンと;
前記の少なくとも2つの導電パターンを覆って形成された少なくとも1つの第1の電気絶縁層と;
前記の少なくとも1つの第1の電気絶縁層を覆って形成され、かつ、前記の少なくとも2つの導電パターンを電気的に相互接続する少なくとも1つの電気相互接続線と;
前記の少なくとも1つの電気相互接続線を覆って形成された少なくとも1つの第2の電気絶縁層と;
前記の少なくとも1つの電気絶縁層を覆って形成され、かつ、前記導電パターンを少なくとも部分的に覆う少なくとも2つの電気接続パッドと;
前記の少なくとも1つの第1の電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記の少なくとも2つの導電パターンを前記の少なくとも1つの電気相互接続線に電気的に接続する少なくとも1つの第1のビアと;
前記の少なくとも1つの第2の電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記の少なくとも1つの電気相互接続線を前記の少なくとも2つの電気接続パッドと電気的に接続する少なくとも1つの第2のビアとを有する、
前記ひずみゲージ。
【請求項8】
前記の少なくとも2つの導電パターンが、接着剤によって、または、鋳造技術を用いて前記の変形可能な基板に接着されている、請求項に記載のひずみゲージ。
【請求項9】
前記の変形可能な基板と前記の少なくとも2つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項に記載のひずみゲージ。
【請求項10】
前記の少なくとも2つの導電パターンと前記の少なくとも2つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項に記載のひずみゲージ。
【請求項11】
ひずみゲージであって、当該ひずみゲージは:
第1の平面に配置された変形可能な基板と;
前記の変形可能な基板上に形成された少なくとも2つの導電パターンと;
前記の少なくとも2つの導電パターンを覆って形成された少なくとも1つの第1の電気絶縁層と;
前記の少なくとも1つの第1の電気絶縁層を覆って形成され、かつ、前記の少なくとも2つの導電パターンを電気的に相互接続する少なくとも1つの電気相互接続線と;
前記の少なくとも1つの電気相互接続線を覆って形成された少なくとも1つの第2の電気絶縁層と;
前記の第1の平面に対して垂直方向に少なくとも部分的に前記の第1の平面から空間的に離間した第2の平面に配置された少なくとも2つの電気接続パッドと;
前記の少なくとも1つの第1の電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記の少なくとも2つの導電パターンを前記の少なくとも1つの電気相互接続線に電気的に接続する少なくとも1つの第1のビアと;
前記の少なくとも1つの第2の電気絶縁層を通過して延び、かつ、前記の少なくとも1つの電気相互接続線を前記の少なくとも2つの電気接続パッドと電気的に接続する少なくとも1つの第2のビアとを有する、
前記ひずみゲージ。
【請求項12】
前記の少なくとも1つの第1のビアが、前記の第1および第2の平面の間の第3の平面に沿って延びる、請求項11に記載のひずみゲージ。
【請求項13】
前記の少なくとも1つの導電パターンが、接着剤によって、または、鋳造技術を用いて前記の変形可能な基板に接着されている、請求項11に記載のひずみゲージ。
【請求項14】
前記の少なくとも1つの導電パターンが、接着剤によって、または、鋳造技術を用いて前記の変形可能な基板に接着されている、請求項12に記載のひずみゲージ。
【請求項15】
前記の少なくとも2つの導電パターンと前記の少なくとも2つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項11に記載のひずみゲージ。
【請求項16】
前記の少なくとも2つの導電パターンと前記の少なくとも2つの電気接続パッドとが、相互に平行な平面にある、請求項12に記載のひずみゲージ。
【請求項17】
前記の少なくとも1つの電気接続パッドが、前記導電パターンを少なくとも部分的に覆う、請求項11に記載のひずみゲージ。
【請求項18】
前記の少なくとも1つの電気接続パッドが、前記導電パターンを少なくとも部分的に覆う、請求項12に記載のひずみゲージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
発明の分野
本発明は、概してひずみゲージに関する。
【背景技術】
【0002】
発明の背景
本技術分野では、種々のタイプのひずみゲージが知られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明は、改善されたひずみゲージを提供することを求める。
【課題を解決するための手段】
【0004】
したがって、本発明の好ましい実施形態によれば、ひずみゲージが提供され、当該ひずみゲージは、変形可能な基板と、該変形可能な基板上に形成された少なくとも1つの導電パターンと、該導電パターンを覆って形成された電気絶縁層と、該電気絶縁層を覆って形成され、かつ、該導電パターンを少なくとも部分的に覆う少なくとも1つの電気接続パッドと、該電気絶縁層を通過して延び、かつ、該導電パターンを該少なくとも1つの電気接続パッドに電気的に接続する少なくとも1つのビア(via;バイア)とを含む。
【0005】
また、本発明の別の好ましい実施形態によれば、ひずみゲージが提供され、当該ひずみゲージは、第1の平面(plane)に配置された変形可能な基板と、該変形可能な基板上に形成された導電パターンと、該導電パターンを覆って形成された電気絶縁層と、該第1の平面に対して垂直方向に少なくとも部分的に該第1の平面から空間的に離間した第2の平面に配置された少なくとも1つの電気接続パッドと、該電気絶縁層を通過して延び、かつ、該導電パターンを該少なくとも1つの電気接続パッドに電気的に接続する少なくとも1つのビアとを含む。
【0006】
本発明の好ましい実施形態によれば、当該ひずみゲージは小型ひずみゲージである。
【0007】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの導電パターンは、接着剤によって変形可能な基板に接着されている。代替的には、少なくとも1つの導電パターンは、鋳造技術を用いて変形可能な基板に接着されている。
【0008】
好ましくは、変形可能な基板と少なくとも1つの電気接続パッドとは、相互に平行な平面にある。
【0009】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの導電パターンと少なくとも1つの電気接続パッドとは、相互に平行な平面にある。
【0010】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの電気接続パッドは、導電パターンを少なくとも部分的に覆う。
【0011】
さらに、本発明のさらに別の好ましい実施形態によれば、ひずみゲージが提供され、当該ひずみゲージは、変形可能な基板と、該変形可能な基板上に形成された少なくとも2つの導電パターンと、該少なくとも2つの導電パターンを覆って形成された少なくとも1つの第1の電気絶縁層と、該少なくとも1つの第1の電気絶縁層を覆って形成され、かつ、該少なくとも2つの導電パターンを電気的に相互接続する少なくとも1つの電気相互接続線と、該少なくとも1つの電気相互接続線を覆って形成された少なくとも1つの第2の電気絶縁層と、該少なくとも1つの電気絶縁層を覆って形成され、かつ、該導電パターンを少なくとも部分的に覆う少なくとも2つの電気接続パッドと、該少なくとも1つの第1の電気絶縁層を通過して延び、かつ、該少なくとも2つの導電パターンを該少なくとも1つの電気相互接続線に電気的に接続する少なくとも1つの第1ビアと、該少なくとも1つの第2の電気絶縁層を通過して延び、かつ、該少なくとも1つの電気接続線を該少なくとも2つの電気接続パッドと電気的に接続する少なくとも1つの第2のビアとを含む。
【0012】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも2つの導電パターンは、接着剤によって変形可能な基板に接着されている。代替的には、少なくとも2つの導電パターンは、鋳造技術を用いて変形可能な基板に接着されている。
【0013】
好ましくは、変形可能な基板と少なくとも2つの電気接続パッドとは、相互に平行な平面にある。
【0014】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも2つの導電パターンと少なくとも2つの電気接続パッドとは、相互に平行な平面にある。
【0015】
なおもさらに、本発明のさらに別の好ましい実施形態によれば、ひずみゲージが提供され、当該ひずみゲージは、第1の平面に配置された変形可能な基板と、該変形可能な基板上に形成された少なくとも2つの導電パターンと、該少なくとも2つの導電パターンを覆って形成された少なくとも1つの第1の電気絶縁層と、該少なくとも1つの第1の電気絶縁層を覆って形成され、かつ、該少なくとも2つの導電パターンを電気的に相互接続する少なくとも1つの電気相互接続線と、該少なくとも1つの電気相互接続線を覆って形成された少なくとも1つの第2の電気絶縁層と、該第1の平面に対して垂直方向に少なくとも部分的に該第1の平面から空間的に離間した第2の平面に配置された少なくとも2つの電気接続パッドと、該少なくとも1つの第1の電気絶縁層を通過して延び、かつ、該少なくとも2つの導電パターンを該少なくとも1つの電気相互接続線に電気的に接続する少なくとも1つの第1ビアと、該少なくとも1つの第2の電気絶縁層を通過して延び、かつ、該少なくとも1つの電気接続線を該少なくとも2つの電気接続パッドと電気的に接続する少なくとも1つの第2のビアとを含む。
【0016】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの第1のビアは、第1および第2の平面の間の第3の平面に沿って延びる。
【0017】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの導電パターンは、接着剤によって変形可能な基板に接着されている。代替的には、少なくとも1つの導電パターンは、鋳造技術を用いて変形可能な基板に接着されている。
【0018】
好ましくは、少なくとも2つの導電パターンと少なくとも2つの電気接続パッドとは、相互に平行な平面にある。
【0019】
本発明の好ましい実施形態によれば、少なくとも1つの電気接続パッドは、導電パターンを少なくとも部分的に覆う。
【図面の簡単な説明】
【0020】
本発明は、図面とともに考慮した、次の詳細な説明からいっそう完全に理解および把握されるであろう。
【0021】
図1図1は、本発明の好ましい実施形態により構成され、かつ、有効であるひずみゲージの簡略図であり、かつ、平面部分と、線I-Iに沿ってとった断面部分とを含む。
図2図2は、本発明の別の好ましい実施形態により構成され、かつ、有効であるひずみゲージの簡略図であり、かつ、平面部分と、線II-IIに沿ってとった断面部分とを含む。
【発明を実施するための形態】
【0022】
好ましい実施形態の詳細な説明
ここで図1を参照すると、該図は、本発明の好ましい実施形態により構成され、かつ、有効であるひずみゲージの簡略図である。
【0023】
図1に見られるように、当該ひずみゲージは、好ましくは、変形可能な基板100を含み、該変形可能な基板100は、典型的にはポリマーで形成され、かつ、好ましくはポリイミドで形成され、厚さは7~50ミクロンである。典型的には、変形可能な基板100は、第1の平面102にある。
【0024】
変形可能な基板100の上には、典型的には結合、リソグラフィーおよび化学的手法のうちの少なくとも1つによって、少なくとも1つの導電パターン110が形成される。1つの実施形態では、導電パターン110は、好ましくは厚さが約2ミクロンであるエポキシの薄い層112によってポリイミド膜に接着されている。典型的には、エポキシ層112は、第2の平面114にある。
【0025】
別の実施形態では、ポリイミドの変形可能な基板100は、エポキシ接着剤の使用を伴わずに、導電パターン110を覆って鋳造される。図1の実例では、単一の導電パターン110のみが示されているが、多数の導電パターン110が単一の変形可能な基板100の上に形成されてもよいことが把握される。典型的には、導電パターン110は、第3の平面116にある。
【0026】
導電パターン110は、好ましくは金属合金で形成され、典型的にはニッケル銅合金であるコンスタンタンで形成され、または、代替的にはニッケルクロム合金もしくは任意のその他の適切な金属で形成され、かつ、好ましくは2.5~5ミクロンの厚さを有する。それは、好ましくはリソグラフィー技法によってパターニングされ、好ましくは10~40ミクロンのピッチを有する概して平行な細長い線の連続的で隣り合ったアレイを定める。アレイの両端が、一対の内部接続パッド118(これもまた、第3の平面116にある)と一体的に接続される。
【0027】
導電パターン110を覆って形成されるのが、典型的にはエポキシで形成され、典型的には厚さが10~12ミクロンである電気絶縁層120である。電気絶縁層120は、典型的には、第1の平面102、第2の平面114および第3の平面116に対して平行な、第4の平面122にある。
【0028】
電気絶縁層120を覆って、典型的にはスパッタリング、蒸着メッキもしくは浸漬メッキまたはそれらの任意の適切な組み合わせによって一対の電気接続パッド130が形成され、かつ、導電パターン110および内部接続パッド118を少なくとも部分的に覆う。電気接続パッド130は、平面102、114、116および122に対して平行な、第5の平面132にある。
【0029】
一対の電気接続パッド130がそれぞれ、電気絶縁層120を通過して延びるビア150によって一対の内部接続パッド118のうちの対応する1つに電気的に接続されることは、本発明のある実施形態の際立った特徴である。ビア150は、好ましくは、リソグラフィー技法により電気絶縁層120に形成された開口部を通してメッキすることによって形成される。ビア150は、典型的には、第4の平面122にある。
【0030】
図1のひずみゲージは、曲げられ得、延伸され得、圧縮され得、または、そうでなければ非平面状であるように構成され得ることが把握される。
【0031】
ここで図2を参照すると、該図は、本発明の別の好ましい実施形態により構成され、かつ、有効であるひずみゲージの簡略図である。
【0032】
図2に見られるように、当該ひずみゲージは、好ましくは、変形可能な基板200を含み、該変形可能な基板200は、典型的にはポリマーで形成され、かつ、好ましくはポリイミドで形成され、厚さは7~50ミクロンである。典型的には、変形可能な基板200は、第1の平面202にある。
【0033】
変形可能な基板200の上には、少なくとも1つの導電パターン210が形成される。1つの実施形態では、導電パターン210は、好ましくは厚さが約2ミクロンであるエポキシの薄い層212によってポリイミド膜に接着されている。典型的には、エポキシ層212は、第2の平面214にある。
【0034】
別の実施形態では、ポリイミドの変形可能な基板200は、エポキシ接着剤の使用を伴わずに、導電パターン210を覆って鋳造される。
【0035】
図2の示された実施形態では、4つの導電パターン210が閉じたホイートストンブリッジ回路構成において接続されて示されているが、多数の導電パターン210が任意の適切な電気回路構成にて単一の変形可能な基板200の上に形成されてもよいことが把握される。典型的には、導電パターン210は、平面202および214に対して平行な、第3の平面216にある。
【0036】
導電パターン210はそれぞれ、好ましくは金属合金で形成され、典型的にはニッケル銅合金であるコンスタンタンで形成され、または、代替的にはニッケルクロム合金もしくは任意のその他の適切な金属で形成され、かつ、好ましくは2.5~5ミクロンの厚さを有する。それらはそれぞれ、好ましくはリソグラフィー技法によってパターニングされ、好ましくは10~40ミクロンのピッチを有する概して平行な細長い線の連続的で隣り合ったアレイを定める。各アレイの両端が、それぞれ一対の内部接続パッド218(これもまた、第3の平面216にある)と一体的に接続される。
【0037】
導電パターン210を覆って形成されるのが、典型的にはエポキシで形成され、典型的には厚さが10~12ミクロンである第1の電気絶縁層220である。第1の電気絶縁層220は、典型的には、第1の平面202、第2の平面214および第3の平面216に対して平行な、第4の平面222にある。
【0038】
第1の電気絶縁層220を覆って、典型的にはスパッタリング、蒸着メッキまたは浸漬メッキによって複数の電気相互接続線230が形成され、かつ、導電パターン210および内部接続パッド218を少なくとも部分的に覆う。電気相互接続線230は、平面202、214、216および222に対して平行な、第5の平面232にある。電気相互接続線230は、種々の導電パターン210の内部接続パッド218を相互接続する。
【0039】
内部接続パッド218がそれぞれ、第1の電気絶縁層220を通過して延びるビア250によって対応する電気相互接続線230に電気的に接続されることは、本発明のある実施形態の際立った特徴である。ビア250は、好ましくは、リソグラフィー技法により第1の電気絶縁層220に形成された開口部を通してメッキすることによって形成される。ビア250は、典型的には、第4の平面222にある。
【0040】
電気相互接続線230を覆って形成されるのが、典型的にはエポキシで形成され、典型的には厚さが10~12ミクロンである第2の電気絶縁層260である。第2の電気絶縁層260は、典型的には、平面202、214、216、222および232に対して平行な、第6の平面262にある。
【0041】
第2の電気絶縁層260を覆って、典型的にはスパッタリング、蒸着メッキもしくは浸漬メッキまたはそれらの任意の適切な組み合わせによって複数の電気接続パッド280が形成され、かつ、導電パターン210、内部接続パッド218および電気相互接続線230を少なくとも部分的に覆う。電気接続パッド280は、典型的には、平面202、214、216、222、232および262に対して平行な、第7の平面282にある。
【0042】
一対の電気接続パッド280がそれぞれ、第2の電気絶縁層260を通過して延びるビア290によって電気相互接続線230のうちの対応する1つに電気的に接続されることは、本発明のある実施形態の際立った特徴である。ビア290は、好ましくは、リソグラフィー技法により電気絶縁層260に形成された開口部を通してメッキすることによって形成される。ビア290は、典型的には、第6の平面262にある。
【0043】
図2のひずみゲージは、曲げられ得、延伸され得、圧縮され得、または、そうでなければ非平面状であるように構成され得ることが把握される。
【0044】
図2に示されている一般的なタイプのひずみゲージは、追加の電気絶縁層および追加の電気導電線を有して形成され、追加の機能を提供してもよい(例えば、ひずみゲージに抵抗器を含んでもよい)こともまた把握される。
【0045】
種々の導電パターン間の相互接続は、開いたホイートストンブリッジ、ハーフブリッジ、クォーターブリッジまたはロゼットのような任意の適切な相互接続であってもよいことがさらに把握される。
【0046】
本発明は、上記で特に示され、かつ、説明されたものに限定されないことが当業者によって把握されるであろう。むしろ、本発明の範囲は、本明細書に記載の種々の特徴の組み合わせおよび部分的組み合わせの両方ならびに先行技術にはないその修正を含む。
図1
図2