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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-11-01
(45)【発行日】2023-11-10
(54)【発明の名称】調光シート、および、調光シートの製造方法
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1343 20060101AFI20231102BHJP
G02F 1/13 20060101ALI20231102BHJP
G02F 1/1334 20060101ALI20231102BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1343
G02F1/13 505
G02F1/1334
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2020525739
(86)(22)【出願日】2019-06-18
(86)【国際出願番号】 JP2019024042
(87)【国際公開番号】W WO2019244871
(87)【国際公開日】2019-12-26
【審査請求日】2022-05-25
(31)【優先権主張番号】P 2018115228
(32)【優先日】2018-06-18
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000003193
【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100105957
【弁理士】
【氏名又は名称】恩田 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100068755
【弁理士】
【氏名又は名称】恩田 博宣
(72)【発明者】
【氏名】吉野 昌明
【審査官】山本 貴一
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１８－５０７４７１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－２７６０５７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－００５３４５（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１５／０９８３１２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０００－０８９６８８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１１－２０２３６２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０７－３２０６３７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｆ １／１３４３，１／１３，１／１３３３
Ｂ２３Ｋ ２６／５７
Ｅ０６Ｂ ９／２４
Ｇ０２Ｆ １／０１
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
液晶組成物を含む調光層と、前記調光層を挟む一対の透明電極層である第１透明電極層および第２透明電極層と、
前記調光層および前記一対の透明電極層を挟む一対の透明支持層と、を備える調光シートであって、
前記第１透明電極層は、レーザ加工痕である絶縁部と、前記絶縁部によって分割された複数の第１電極部とを有し、
前記第２透明電極層は、レーザ加工痕を含む帯状部であって、絶縁性を有する部分が前記帯状部の延在方向に断続的に並ぶ前記帯状部と、複数の第２電極部とを有し、互いに隣り合う前記第２電極部の間に前記帯状部が位置し、
前記調光シートの表面と対向する位置から見て、前記絶縁部と前記帯状部とは、同一の方向に沿って延びるように重なり、
前記複数の第１電極部は、別々の電圧信号が入力されるように構成され、前記複数の第２電極部は、共通の電圧信号が入力されるように構成されている
調光シート。
【請求項2】
前記第１透明電極層は、導電膜から構成されている部分を含み、前記絶縁部では、導電膜が破壊されている
請求項１に記載の調光シート。
【請求項3】
前記第１透明電極層と接触する機能層を備え、前記機能層は、前記調光層、または、前記調光層と前記第１透明電極層との間に配置される層であり、前記一対の透明支持層は、第１透明支持層および第２透明支持層からなり、
前記第１透明支持層が前記第１透明電極層を支持し、
前記第１透明電極層は、導電膜から構成されている部分を含み、
前記絶縁部では、前記第１透明支持層から導電膜が剥がれており、
前記機能層のなかの前記絶縁部の近傍には、前記第１透明支持層から剥がれた前記導電膜の膜片が位置する
請求項１に記載の調光シート。
【請求項4】
前記第１透明電極層と接触する機能層を備え、前記機能層は、前記調光層、または、前記調光層と前記第１透明電極層との間に配置される層であり、前記機能層のなかの前記絶縁部に接触する部分では、前記機能層のなかの前記第１電極部に接触する部分よりも、前記第１電極部を構成する複数の元素のうちの少なくとも一部の元素の含有量が高い
請求項１または２に記載の調光シート。
【請求項5】
前記絶縁部の表面は、前記第１透明電極層のなかの前記絶縁部が隣接する部分の表面よりも粗である請求項１～４のいずれか一項に記載の調光シート。
【請求項6】
前記調光シートの表面と対向する位置から見て前記絶縁部が位置する領域の可視光線透過率は、前記表面と対向する位置から見て前記第１透明電極層のなかの前記絶縁部以外の部分が位置する領域の可視光線透過率よりも低い請求項１～５のいずれか一項に記載の調光シート。
【請求項7】
前記調光シートの表面と対向する位置から見て、前記絶縁部が位置する領域は、１つの方向に沿って複数の円が連なった外形を有する帯状領域から構成されている請求項１～６のいずれか一項に記載の調光シート。
【請求項8】
第１透明支持層に支持された第１透明導電層と、第２透明支持層に支持された第２透明導電層との間に、液晶組成物を含む調光層が挟まれた多層体を形成することと、レーザが前記第１および第２透明支持層のうち前記第１透明導電層よりも手前に位置する透明支持層を透過するように前記多層体にレーザを照射して、前記第１透明導電層に絶縁部を形成することであって、前記調光層に対して前記第１透明導電層の位置する側から前記多層体にレーザを照射し、前記第１透明導電層に前記絶縁部として絶縁性を有する部分が連続的に並ぶ部分を形成するとともに、前記第２透明導電層に、前記多層体の表面と対向する位置から見て、絶縁性を有する部分が前記絶縁部と重なりかつ前記絶縁部の延びる方向に沿って断続的に並ぶ部分を形成することと、
を含む調光シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、調光シート、および、調光シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
調光シートは、液晶組成物を含む調光層と、調光層を挟む一対の透明電極層と、調光層および一対の透明電極層を挟む一対の透明支持層とを備えている。一対の透明電極層間の電位差に応じて液晶分子の配向状態が変わることにより、調光シートの光透過率が変わる。
【0003】
近年、複数の調光部を有する調光シートを備えて調光部ごとに光透過率の変更が可能な調光装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。複数の調光部を有する調光シートにおいては、少なくとも一方の透明電極層が、複数の電極部を含む。複数の電極部の配置は、複数の調光部の配置に対応する。透明電極層内において、各電極部は他の電極部から絶縁されている。調光装置は、複数の電極部に別々に電圧信号を入力することにより、透明電極層間の電位差を調光部ごとに制御する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開第２０１８／０６１３５８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
複数の調光部を備えた調光シートは、一方の透明支持層に支持される透明電極層と、他方の透明支持層に支持される透明電極層との間に調光層を充填して形成される。複数の電極部は、調光層を充填する前に、透明支持層に支持される単一の透明導電膜を、エッチングを利用してパターニングすることにより形成される。ここで、透明導電膜のパターニングに要する、レジストマスクの形成、露光、現像、エッチング、レジストマスクの除去、および、洗浄といった一連の工程は、調光シートの製造工程数を大幅に増大させている。
なお、上記課題は、複数の調光部を有する調光シートに限らず、パターニングされた透明電極層を備える調光シートの製造において共通する。
なお、上記課題は、複数の調光部を有する調光シートに限らず、パターニングされた透明電極層を備える調光シートの製造において共通する。
【0006】
本発明は、製造に要する工程数の低減を可能とした調光シート、および、調光シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決する調光シートは、液晶組成物を含む調光層と、前記調光層を挟む一対の透明電極層である第１透明電極層および第２透明電極層と、前記調光層および前記一対の透明電極層を挟む一対の透明支持層と、を備える。そして、前記第１透明電極層のなかにレーザ加工痕である絶縁部が位置する。
【0008】
上記構成によれば、レーザが照射されることによって絶縁部が形成可能であり、絶縁部によって第１透明電極層を区切ることが可能となる。そのため、エッチングによりパターニングされた第１透明電極層を備える調光シートと比較して、調光シートの製造に要する工程数の低減が可能である。
【0009】
上記構成において、前記第１透明電極層は、導電膜から構成されている部分を含み、前記絶縁部では、導電膜が破壊されていてもよい。
上記絶縁部は、レーザ照射によって好適に形成可能である。
上記絶縁部は、レーザ照射によって好適に形成可能である。
【0010】
上記構成において、前記第１透明電極層と接触する機能層を備え、前記機能層は、前記調光層、または、前記調光層と前記第１透明電極層との間に配置される層であり、前記一対の透明支持層は、第１透明支持層および第２透明支持層からなり、前記第１透明支持層が前記第１透明電極層を支持し、前記第１透明電極層は、導電膜から構成されている部分を含み、前記絶縁部では、前記第１透明支持層から導電膜が剥がれており、前記機能層のなかの前記絶縁部の近傍には、前記第１透明支持層から剥がれた前記導電膜の膜片が位置してもよい。
上記絶縁部は、透明支持層および透明導電層からなる２つのシートに調光層が挟まれた状態での透明導電層に対するレーザ照射によって、好適に形成可能である。
上記絶縁部は、透明支持層および透明導電層からなる２つのシートに調光層が挟まれた状態での透明導電層に対するレーザ照射によって、好適に形成可能である。
【0011】
上記構成において、前記第１透明電極層と接触する機能層を備え、前記機能層は、前記調光層、または、前記調光層と前記第１透明電極層との間に配置される層であり、前記第１透明電極層のなかの前記絶縁部以外の部分が導電部であり、前記機能層のなかの前記絶縁部に接触する部分では、前記機能層のなかの前記導電部に接触する部分よりも、前記導電部を構成する複数の元素のうちの少なくとも一部の元素の含有量が高くてもよい。
上記絶縁部は、透明支持層および透明導電層からなる２つのシートに調光層が挟まれた状態での透明導電層に対するレーザ照射によって、好適に形成可能である。
上記絶縁部は、透明支持層および透明導電層からなる２つのシートに調光層が挟まれた状態での透明導電層に対するレーザ照射によって、好適に形成可能である。
【0012】
上記構成において、前記絶縁部の表面は、前記第１透明電極層のなかの前記絶縁部が隣接する部分の表面よりも粗であってもよい。
上記絶縁部は、単一の透明導電層に対するレーザ照射によって好適に形成可能である。
上記絶縁部は、単一の透明導電層に対するレーザ照射によって好適に形成可能である。
【0013】
上記構成において、前記第２透明電極層は、レーザ加工痕を含む帯状部であって、絶縁性を有する部分が前記帯状部の延在方向に断続的に並ぶ前記帯状部を有し、前記調光シートの表面と対向する位置から見て、前記絶縁部と前記帯状部とは重なってもよい。
【0014】
上記構成によれば、第１透明電極層の絶縁部と第２透明電極層の帯状部とをレーザ照射によって一括して形成可能であるため、第１透明電極層の絶縁部を形成する際に、第２透明電極層の一部で導電性が失われることが許容される。そのため、レーザ照射によって絶縁部を好適に形成可能である。
【0015】
上記構成において、前記調光シートの表面と対向する位置から見て前記絶縁部が位置する領域の可視光線透過率は、前記表面と対向する位置から見て前記第１透明電極層のなかの前記絶縁部以外の部分が位置する領域の可視光線透過率よりも低くてもよい。
上記絶縁部は、レーザ照射によって好適に形成することができる。
上記絶縁部は、レーザ照射によって好適に形成することができる。
【0016】
上記構成において、前記調光シートの表面と対向する位置から見て、前記絶縁部が位置する領域は、１つの方向に沿って複数の円が連なった外形を有する帯状領域から構成されてもよい。
【0017】
上記絶縁部は、パルス発振のレーザ照射によって好適に形成可能である。パルス発振のレーザを用いることによって、レーザ照射によって生じた熱を放散させつつ絶縁部を形成することができるため、調光層における気泡の発生が抑えられる。
【0018】
上記構成において、前記第１透明電極層は、前記絶縁部によって分割された複数の電極部を有し、前記複数の電極部は、別々の電圧信号が入力されるように構成されている。
上記構成によれば、複数の電極部の形成がレーザ照射によって可能であるため、複数の調光部を備える調光シートにおいて、製造に要する工程数の低減が可能である。
上記構成によれば、複数の電極部の形成がレーザ照射によって可能であるため、複数の調光部を備える調光シートにおいて、製造に要する工程数の低減が可能である。
【0019】
上記課題を解決する調光シートの製造方法は、第１透明支持層に支持された第１透明導電層と、第２透明支持層に支持された第２透明導電層との間に、液晶組成物を含む調光層が挟まれた多層体を形成することと、レーザが前記第１および第２透明支持層のうち前記第１透明導電層よりも手前に位置する透明支持層を透過するように前記多層体にレーザを照射して、前記第１透明導電層に絶縁部を形成することと、を含む。
【0020】
上記製法によれば、多層体に対してレーザを照射する１つの工程によって絶縁部を形成することが可能であるため、調光シートの製造に要する工程数の低減が可能である。
【0021】
上記製法において、前記多層体にレーザを照射することは、前記調光層に対して前記第１透明導電層の位置する側から、前記多層体にレーザを照射することを含んでもよい。
上記製法によれば、絶縁部の好適な形成が可能である。また、２つの透明導電層のうち、レーザの光源に対して近い方の透明導電層に絶縁部が形成されるため、焦点やレーザのパワー等の照射条件の設定が容易である。
上記製法によれば、絶縁部の好適な形成が可能である。また、２つの透明導電層のうち、レーザの光源に対して近い方の透明導電層に絶縁部が形成されるため、焦点やレーザのパワー等の照射条件の設定が容易である。
【0022】
上記製法において、前記多層体にレーザを照射することは、前記調光層に対して前記第２透明導電層の位置する側から、前記多層体にレーザを照射することを含んでもよい。
上記製法によれば、絶縁部の好適な形成が可能である。
上記製法によれば、絶縁部の好適な形成が可能である。
【0023】
上記製法において、前記多層体にレーザを照射することは、前記第１透明導電層に前記絶縁部として絶縁性を有する部分が連続的に並ぶ部分を形成するとともに、前記第２透明導電層に絶縁性を有する部分が連続的または断続的に並ぶ部分を形成することを含んでもよい。
【0024】
上記製造方法によれば、第１透明導電層に絶縁部を形成する際に、第２透明導電層の一部で導電性が失われることが許容される。したがって、第１透明導電層に絶縁部を好適に形成することができる。
【発明の効果】
【0025】
本発明によれば、調光シートの製造に要する工程数を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【0026】
【図1】調光シートの一実施形態について、ノーマルタイプの調光シートの断面構造を示す図。
【図2】調光シートの一実施形態について、リバースタイプの調光シートの断面構造を示す図。
【図3】一実施形態の調光シートの平面構造を示す図。
【図4】一実施形態の調光シートにおいて、第１形態の透明電極層の平面構造を示す図。
【図5】一実施形態の調光シートにおいて、第２形態の透明電極層の平面構造を示す図。
【図6】一実施形態の調光シートの製造工程を示す図であって、形成された多層体を示す図。
【図7】一実施形態の調光シートの製造工程を示す図であって、第１照射形態によるレーザ照射工程を示す図。
【図8】一実施形態の調光シートの製造工程を示す図であって、第２照射形態によるレーザ照射工程を示す図。
【図9】一実施形態の調光シートの製造工程を示す図であって、第３照射形態によるレーザ照射工程を示す図。
【図10】一実施形態の調光シートの製造工程を示す図であって、第４照射形態によるレーザ照射工程を示す図。
【図11】一実施形態の調光シートにおける絶縁部の構成の第１例を示す図。
【図12】一実施形態の調光シートにおける絶縁部の構成の第１例を示す図。
【図13】一実施形態の調光シートにおける絶縁部の構成の第２例を示す図。
【図14】一実施形態の調光シートにおける絶縁部の構成の第２例を示す図。
【図15】一実施形態の調光シートにおける境界部の外観の一例を示す図。
【図16】一実施形態の調光シートにおける境界部の外観の他の例を示す図。
【図17】（ａ）は、実施例の調光シートを分割した積層体における調光層表面のＳＥＭ画像を示す図、（ｂ），（ｃ），（ｄ）は、（ａ）に含まれる領域に対するＥＤＸマッピング結果を示す図。
【図18】（ａ），（ｂ），（ｃ）は、実施例の調光シートを分割した積層体に対するＥＤＸスペクトルを示す図。
【図19】実施例の調光シートを分割した積層体における絶縁部付近のＳＥＭ画像を示す図。
【図20】実施例の調光シートを分割した積層体における帯状部付近のＳＥＭ画像を示す図。
【図21】実施例の調光シートにおける境界部の実体顕微鏡画像を示す図。
【図22】変形例の調光シートの平面構造を示す図。
【図23】変形例の調光シートにおいて、透明電極層の平面構造を示す図。
【図24】変形例の調光シートの平面構造を示す図。
【図25】変形例の調光シートにおいて、透明電極層の平面構造を示す図。
【発明を実施するための形態】
【0027】
【0028】
［調光装置］
本実施形態の調光シートを備える調光装置の全体構成を説明する。
図１が示すように、調光装置は、調光シート１０と、調光シート１０への駆動電圧の印加を制御する制御部５０とを備えている。調光シート１０は、ノーマルタイプおよびリバースタイプのいずれかの構造を有する。図１は、ノーマルタイプの調光シート１０Ｎの断面構造を示す。
本実施形態の調光シートを備える調光装置の全体構成を説明する。
図１が示すように、調光装置は、調光シート１０と、調光シート１０への駆動電圧の印加を制御する制御部５０とを備えている。調光シート１０は、ノーマルタイプおよびリバースタイプのいずれかの構造を有する。図１は、ノーマルタイプの調光シート１０Ｎの断面構造を示す。
【0029】
ノーマルタイプの調光シート１０Ｎは、調光層１１と、一対の透明電極層である第１透明電極層１２Ａおよび第２透明電極層１２Ｂと、一対の透明支持層である第１透明支持層１３Ａおよび第２透明支持層１３Ｂとを備えている。第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとは、調光層１１を挟み、第１透明支持層１３Ａと第２透明支持層１３Ｂとは、調光層１１および透明電極層１２Ａ，１２Ｂを挟んでいる。第１透明支持層１３Ａは、第１透明電極層１２Ａを支持し、第２透明支持層１３Ｂは、第２透明電極層１２Ｂを支持している。
【0030】
第１透明電極層１２Ａは、第１透明電極層１２Ａの表面に配置された第１端子部１５Ａから延びる配線を通じて制御部５０に接続されている。第２透明電極層１２Ｂは、第２透明電極層１２Ｂの表面に配置された第２端子部１５Ｂから延びる配線を通じて制御部５０に接続されている。第１端子部１５Ａは、調光シート１０Ｎの端部にて、第１透明電極層１２Ａが、調光層１１、第２透明電極層１２Ｂ、および、第２透明支持層１３Ｂから露出している領域に配置されている。第２端子部１５Ｂは、調光シート１０Ｎの端部にて、第２透明電極層１２Ｂが、調光層１１、第１透明電極層１２Ａ、および、第１透明支持層１３Ａから露出している領域に配置されている。端子部１５Ａ，１５Ｂは、調光シート１０Ｎの一部を構成する。
【0031】
図２は、リバースタイプの調光シート１０Ｒの断面構造を示す。リバースタイプの調光シート１０Ｒは、調光層１１、透明電極層１２Ａ，１２Ｂ、透明支持層１３Ａ，１３Ｂに加えて、調光層１１を挟む一対の配向層である第１配向層１４Ａおよび第２配向層１４Ｂを備えている。第１配向層１４Ａは、調光層１１と第１透明電極層１２Ａとの間に位置し、第２配向層１４Ｂは、調光層１１と第２透明電極層１２Ｂとの間に位置する。
【0032】
配向層１４Ａ，１４Ｂは、例えば、垂直配向膜である。配向層１４Ａ，１４Ｂは、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが等電位であるときに、調光層１１が含む液晶分子の長軸方向を、配向層１４Ａ，１４Ｂが広がる平面の法線方向に沿わせるように、液晶分子を配向する。一方、配向層１４Ａ，１４Ｂは、透明電極層１２Ａ，１２Ｂ間に電位差が生じているときに、調光層１１が含む液晶分子の長軸方向を上記法線方向以外の方向に変更可能にする。
【0033】
ノーマルタイプとリバースタイプとで、調光シート１０の平面構造は同一である。
図３が示すように、調光シート１０の表面と対向する位置から見て、調光シート１０は、複数の調光部３０と、互いに隣り合う調光部３０の間に位置する境界部３１とを有している。調光部３０は、光透過率が可変の領域である。各調光部３０は、共通の方向に沿って帯状に延び、複数の調光部３０は、調光部３０の延びる方向と直交する方向に沿って並んでいる。図面では、例として、調光シート１０が２つの調光部３０を有する形態を示している。境界部３１は、調光部３０の延びる方向に沿って直線状に延びている。互いに隣り合う調光部３０は、境界部３１によって区切られている。
図３が示すように、調光シート１０の表面と対向する位置から見て、調光シート１０は、複数の調光部３０と、互いに隣り合う調光部３０の間に位置する境界部３１とを有している。調光部３０は、光透過率が可変の領域である。各調光部３０は、共通の方向に沿って帯状に延び、複数の調光部３０は、調光部３０の延びる方向と直交する方向に沿って並んでいる。図面では、例として、調光シート１０が２つの調光部３０を有する形態を示している。境界部３１は、調光部３０の延びる方向に沿って直線状に延びている。互いに隣り合う調光部３０は、境界部３１によって区切られている。
【0034】
なお、図面では、境界部３１の幅を誇張して示している。また、図面では、調光シート１０の一辺に沿って第１端子部１５Ａが位置し、この一辺と対向する辺に沿って第２端子部１５Ｂが位置する形態を例示しているが、端子部１５Ａ，１５Ｂの配置は任意である。
【0035】
透明電極層１２Ａ，１２Ｂにおける電極部の分割の形態として、第１形態と第２形態とを説明する。図４および図５は、第１透明電極層１２Ａと第１透明支持層１３Ａと第１端子部１５Ａとを備える積層体を、第１透明電極層１２Ａと対向する位置から見た平面視にて示すとともに、第２透明電極層１２Ｂと第２透明支持層１３Ｂと第２端子部１５Ｂとを備える積層体を、第２透明電極層１２Ｂと対向する位置から見た平面視にて示した図である。図４は、第１形態を示し、図５は第２形態を示す。
【0036】
図４が示すように、第１形態において、第１透明電極層１２Ａは、複数の電極部４０と、互いに隣り合う電極部４０の間に位置する絶縁部４１とを有している。電極部４０は導電部の一例である。各電極部４０は、共通の方向に沿って帯状に延び、複数の電極部４０は、電極部４０の延びる方向と直交する方向に沿って並んでいる。絶縁部４１は、電極部４０の延びる方向に沿って直線状に延びている。絶縁部４１は、絶縁部４１の延びる方向に沿って、絶縁性を有する部分が連続的に並ぶ構成を有する。互いに隣り合う電極部４０は、絶縁部４１によって絶縁されている。
【0037】
調光シート１０の表面と対向する位置から見たとき、調光層１１の位置する領域内において、電極部４０の位置する領域は、調光部３０の位置する領域と一致し、絶縁部４１の位置する領域は、境界部３１の位置する領域と一致する。
【0038】
第１端子部１５Ａは、電極部４０ごとに配置されている。複数の電極部４０は、各別に制御部５０に接続されており、複数の電極部４０に対しては、制御部５０から別々の電圧信号が入力される。
【0039】
第１形態において、第２透明電極層１２Ｂは、電極部を区画する絶縁部を含んでおらず、第２透明電極層１２Ｂの全体が１つの電極部として機能する。第２透明電極層１２Ｂに対して、１つの第２端子部１５Ｂが配置されている。
【0040】
図５が示すように、第２形態において、第１透明電極層１２Ａは、第１形態と同様の構成を有する。一方、第２形態において、第２透明電極層１２Ｂは、複数の電極部４５と、互いに隣り合う電極部４５の間に位置する帯状部４６とを有している。各電極部４５は、共通の方向に沿って帯状に延び、複数の電極部４５は、電極部４５の延びる方向と直交する方向に沿って並んでいる。帯状部４６は、電極部４５の延びる方向に沿って直線状に延びている。調光シート１０の表面と対向する位置から見たとき、調光層１１の位置する領域内において、電極部４５の位置する領域は、調光部３０の位置する領域と一致し、帯状部４６の位置する領域は、境界部３１の位置する領域と一致する。
【0041】
帯状部４６は、帯状部４６の延びる方向の少なくとも一部において絶縁性を有する。帯状部４６は、帯状部４６の延びる方向に沿って、絶縁性を有する部分が断続的に並ぶ構成、あるいは、絶縁性を有する部分が連続的に並ぶ構成を有する。
【0042】
複数の電極部４５に対しては、単一の第２端子部１５Ｂが配置されている。複数の電極部４５には、制御部５０から共通の電圧信号が入力される。なお、複数の電極部４５に共通の電圧信号が入力される構成であれば、電極部４５ごとに第２端子部１５Ｂが配置されていてもよい。
【0043】
第１形態および第２形態のいずれにおいても、制御部５０は、第２透明電極層１２Ｂに１つの電圧信号を入力し、第１透明電極層１２Ａに電極部４０ごとの電圧信号を入力する。これにより、調光部３０ごとに、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとの間の電位差が制御される。
【0044】
ノーマルタイプにおいては、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとの間に電位差が生じているとき、調光層１１が含む液晶分子が配向され、液晶分子の長軸方向が透明電極層１２Ａ，１２Ｂ間の電界方向に沿った向きとなる。その結果、調光層１１を光が透過しやすくなるため、調光部３０は、透明になる。一方、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが等電位であるとき、液晶分子の長軸方向の向きは不規則になる。そのため、調光層１１に入射した光は散乱する。その結果、調光部３０は白濁して不透明になる。
【0045】
リバースタイプにおいては、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとの間に電位差が生じているとき、調光層１１が含む液晶分子の長軸方向が、配向層１４Ａ，１４Ｂの法線方向とは異なる向きになるため、調光部３０は不透明になる。一方、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが等電位であるとき、配向層１４Ａ，１４Ｂによって液晶分子が配向され、液晶分子の長軸方向が配向層１４Ａ，１４Ｂの法線方向に沿った向きとなる。その結果、調光部３０は、透明になる。
【0046】
透明電極層１２Ａ，１２Ｂに加えられる電圧信号の制御によって、調光部３０の光透過率は、透明と不透明との２段階に制御されてもよいし、３段階以上に制御されてもよい。制御部５０は、例えば、各調光部３０に対応して設けられた外部スイッチからの信号に基づき、外部スイッチに対する調光装置の使用者の操作に応じて、各調光部３０の光透過率を調光部３０ごとに変更する。
【0047】
［調光シートの製造方法］
上述した調光シート１０の製造方法を、ノーマルタイプの調光シート１０Ｎを例に説明する。
上述した調光シート１０の製造方法を、ノーマルタイプの調光シート１０Ｎを例に説明する。
【0048】
図６が示すように、まず、調光層１１、透明導電層２１Ａ，２１Ｂ、および、透明支持層１３Ａ，１３Ｂを備える多層体２０が形成される。第１透明導電層２１Ａは、第１透明支持層１３Ａに支持され、第２透明導電層２１Ｂは、第２透明支持層１３Ｂに支持されている。そして、第１透明導電層２１Ａと第２透明導電層２１Ｂとは、調光層１１を挟んでいる。透明導電層２１Ａ，２１Ｂは、電極部４０，４５が形成される前の透明電極層１２Ａ，１２Ｂであって、絶縁性を有する部分を含まない透明で一様な導電膜である。
【0049】
多層体２０は、例えば、調光層１１、透明導電層２１Ａ，２１Ｂ、および、透明支持層１３Ａ，１３Ｂが積層された大判のシートからの切り出しによって、調光シート１０の貼付対象に応じた所望の形状に形成される。
【0050】
調光層１１は、液晶組成物を含む。調光層１１は、例えば、高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、カプセル型ネマティック液晶(ＮＣＡＰ：Ｎｅｍａｔｉｃ Ｃｕｒｖｉｌｉｎｅａｒ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｐｈａｓｅ)等から構成される。例えば、高分子ネットワーク型液晶は、３次元の網目状を有した高分子ネットワークを備え、高分子ネットワークが有する空隙に液晶分子を保持する。調光層１１が含む液晶分子は、例えば、誘電率異方性が正であって、液晶分子の長軸方向の誘電率が液晶分子の短軸方向の誘電率よりも大きい。液晶分子は、例えば、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、ビフェニル系、ターフェニル系、安息香酸エステル系、トラン系、ピリミジン系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ジオキサン系の液晶分子である。
【0051】
なお、調光層１１は、所定の色を有する色素であって、調光層１１に印加された電圧の大きさに応じた液晶分子の運動を妨げない色素を含んでもよい。こうした構成によれば、所定の色を有する調光部３０が実現される。
【0052】
透明導電層２１Ａ，２１Ｂを構成する材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、ポリ（３，４-エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）を含むポリマー、Ａｇ合金薄膜を含む多層膜等が挙げられる。
【0053】
第１透明支持層１３Ａおよび第２透明支持層１３Ｂの各々は、透明な基材である。透明支持層１３Ａ，１３Ｂとしては、例えば、ガラス基板やシリコン基板、あるいは、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリサルホン、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース等からなる高分子フィルムが用いられる。
【0054】
続いて、多層体２０に対するレーザ照射によって、透明電極層１２Ａ，１２Ｂが形成される。レーザ照射の形態として、第１照射形態、第２照射形態、第３照射形態、第４照射形態の４つの形態を説明する。第１照射形態および第２照射形態は、上述した第１形態の透明電極層１２Ａ，１２Ｂを形成するための照射形態であり、第３照射形態および第４照射形態は、上述した第２形態の透明電極層１２Ａ，１２Ｂを形成するための照射形態である。
【0055】
図７が示すように、第１照射形態においては、調光層１１に対して第１透明導電層２１Ａが位置する側から、多層体２０における境界部３１となる予定の領域にレーザＬａが照射される。レーザＬａの照射によって、２つの透明導電層２１Ａ，２１Ｂのうち、レーザ装置６０が備える光源から近い方の透明導電層である第１透明導電層２１Ａに絶縁性を有する部分が形成される。これにより、第１透明導電層２１Ａに、絶縁部４１と、絶縁部４１によって分割された複数の電極部４０とが形成され、その結果、第１透明電極層１２Ａが形成される。
【0056】
詳細には、第１透明導電層２１Ａもしくはその近傍にレーザＬａの焦点が合わせられ、第１透明支持層１３Ａと対向する位置から、第１透明支持層１３Ａを透過するようにレーザＬａが多層体２０に照射される。第１透明支持層１３Ａの少なくとも外表面はレーザＬａによって改質されず、第１透明導電層２１Ａに絶縁性を有する部分が形成されることによって絶縁部４１が形成される。一方、第２透明導電層２１Ｂには、絶縁性を有する部分は形成されず、帯状部４６を有さない第２透明電極層１２Ｂが形成される。
【0057】
なお、レーザ装置６０の光源から見て第１透明導電層２１Ａを越えた位置にレーザＬａの焦点が合わせられ、レーザＬａの波長が第１透明導電層２１Ａに吸収される波長とされることにより、第１透明導電層２１Ａに絶縁部４１が形成されてもよい。
【0058】
図８が示すように、第２照射形態においては、調光層１１に対して第２透明導電層２１Ｂが位置する側から、多層体２０における境界部３１となる予定の領域にレーザＬａが照射される。レーザＬａの照射によって、２つの透明導電層２１Ａ，２１Ｂのうち、レーザ装置６０の光源から遠い方の透明導電層である第１透明導電層２１Ａに絶縁性を有する部分が形成される。これにより、第１透明導電層２１Ａに、絶縁部４１と、絶縁部４１によって分割された複数の電極部４０とが形成され、その結果、第１透明電極層１２Ａが形成される。
【0059】
詳細には、第１透明導電層２１Ａもしくはその近傍にレーザＬａの焦点が合わせられ、第２透明支持層１３Ｂと対向する位置から、第２透明支持層１３Ｂを透過するようにレーザＬａが多層体２０に照射される。第２透明支持層１３Ｂおよび第２透明導電層２１ＢはレーザＬａによって改質されず、帯状部４６を有さない第２透明電極層１２Ｂが形成される。一方、第１透明導電層２１Ａには、絶縁性を有する部分が形成されることによって絶縁部４１が形成される。
【0060】
図９が示すように、第３照射形態においては、調光層１１に対して第１透明導電層２１Ａが位置する側から、多層体２０における境界部３１となる予定の領域にレーザＬａが照射される。レーザＬａの照射によって、２つの透明導電層２１Ａ，２１Ｂのうち、レーザ装置６０の光源から近い第１透明導電層２１Ａと、上記光源から遠い第２透明導電層２１Ｂとの双方に、絶縁性を有する部分が形成される。これにより、第１透明導電層２１Ａに、絶縁部４１と、絶縁部４１によって分割された複数の電極部４０とが形成され、その結果、第１透明電極層１２Ａが形成される。また、第２透明導電層２１Ｂに、帯状部４６と、帯状部４６によって分割された複数の電極部４５とが形成され、その結果、第２透明電極層１２Ｂが形成される。
【0061】
詳細には、第１透明導電層２１Ａもしくはその近傍にレーザＬａの焦点が合わせられ、第１透明支持層１３Ａと対向する位置から、第１透明支持層１３Ａを透過するようにレーザＬａが多層体２０に照射される。第１透明支持層１３Ａの少なくとも外表面はレーザＬａによって改質されず、第１透明導電層２１Ａに絶縁性を有する部分が形成されることによって絶縁部４１が形成される。さらに、第１透明導電層２１Ａおよび調光層１１を透過したレーザＬａによって、第２透明導電層２１Ｂに絶縁性を有する部分が形成され、これによって帯状部４６が形成される。
【0062】
なお、レーザＬａの焦点は、第２透明導電層２１Ｂもしくはその近傍に合わせられてもよい。また、レーザ装置６０の光源から見て第２透明導電層２１Ｂを越えた位置にレーザＬａの焦点が合わせられ、レーザＬａの波長が第１透明導電層２１Ａおよび第２透明導電層２１Ｂに吸収される波長とされることにより、絶縁部４１および帯状部４６が形成されてもよい。
【0063】
図１０が示すように、第４照射形態においては、調光層１１に対して第２透明導電層２１Ｂが位置する側から、多層体２０における境界部３１となる予定の領域にレーザＬａが照射される。レーザＬａの照射によって、２つの透明導電層２１Ａ，２１Ｂのうち、レーザ装置６０の光源から遠い第１透明導電層２１Ａと、上記光源から近い第２透明導電層２１Ｂとの双方に、絶縁性を有する部分が形成される。これにより、第１透明導電層２１Ａに、絶縁部４１と、絶縁部４１によって分割された複数の電極部４０とが形成され、その結果、第１透明電極層１２Ａが形成される。また、第２透明導電層２１Ｂに、帯状部４６と、帯状部４６によって分割された複数の電極部４５とが形成され、その結果、第２透明電極層１２Ｂが形成される。
【0064】
詳細には、第１透明導電層２１Ａもしくはその近傍にレーザＬａの焦点が合わせられ、第２透明支持層１３Ｂと対向する位置から、第２透明支持層１３Ｂを透過するようにレーザＬａが多層体２０に照射される。第２透明支持層１３Ｂの少なくとも外表面はレーザＬａによって改質されず、第２透明導電層２１Ｂに絶縁性を有する部分が形成されることによって帯状部４６が形成される。さらに、第２透明導電層２１Ｂおよび調光層１１を透過したレーザＬａによって、第１透明導電層２１Ａに絶縁性を有する部分が形成され、これによって絶縁部４１が形成される。
【0065】
なお、レーザＬａの焦点は、第２透明導電層２１Ｂもしくはその近傍に合わせられてもよい。また、レーザ装置６０の光源から見て第１透明導電層２１Ａを越えた位置にレーザＬａの焦点が合わせられ、レーザＬａの波長が第１透明導電層２１Ａおよび第２透明導電層２１Ｂに吸収される波長とされることにより、絶縁部４１および帯状部４６が形成されてもよい。
【0066】
第１照射形態と第３照射形態との違い、および、第２照射形態と第４照射形態との違い、すなわち、第１透明導電層２１Ａに加えて第２透明導電層２１Ｂまで加工されるか否かは、レーザＬａのパワーや焦点位置の調整によって制御が可能である。また、第３照射形態および第４照射形態によって形成される帯状部４６において、絶縁性を有する部分が占める割合も、レーザＬａのパワーや焦点位置の調整によって変更できる。
【0067】
レーザ照射に用いられるレーザの媒質および波長は特に限定されない。レーザとしては、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、Ｎｄ：ＹＶＯ４レーザ、ＣＯ２レーザ、半導体レーザ等が利用可能である。レーザの波長としては、例えば、赤外領域の波長が利用される。レーザの発振方式は連続発振であってもよいし、パルス発振であってもよい。
【0068】
レーザ照射の後に、端子部１５Ａ，１５Ｂが配置される領域の形成、および、端子部１５Ａ，１５Ｂの配置が行われることにより、調光シート１０が形成される。端子部１５Ａ，１５Ｂは、例えば、導電性テープ、導電性ペースト、および、導電性フィルム等の導電性材料から形成される。なお、端子部１５Ａ，１５Ｂが配置される領域の形成や端子部１５Ａ，１５Ｂの配置は、レーザ照射の前に行われてもよい。
【0069】
なお、リバースタイプの調光シート１０Ｒの製造に際しては、多層体２０として、調光層１１、透明導電層２１Ａ，２１Ｂ、および、透明支持層１３Ａ，１３Ｂに加え、配向層１４Ａ，１４Ｂを備える多層体が用いられる。第１配向層１４Ａは、調光層１１と第１透明導電層２１Ａとの間に位置し、第２配向層１４Ｂは、調光層１１と第２透明導電層２１Ｂとの間に位置する。
【0070】
配向層１４Ａ，１４Ｂを構成する材料としては、例えば、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリシロキサン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリレートが挙げられる。配向層１４Ａ，１４Ｂを形成するための配向処理は、例えば、ラビング処理、偏光照射処理、微細加工処理である。
【0071】
配向層１４Ａ，１４Ｂを備える多層体２０に対して、上述の４つの照射形態のいずれかの形態でレーザ照射が行われることにより、ノーマルタイプの場合と同様に、第１透明電極層１２Ａおよび第２透明電極層１２Ｂが形成される。
【0072】
本実施形態の製造方法によれば、レーザ照射によって絶縁部４１を形成することにより第１透明電極層１２Ａがパターニングされるため、フォトリソグラフィおよびエッチングによりパターニングを行う製造方法と比較して、調光シート１０の製造に要する工程数の低減が可能であり、製造時間の短縮もできる。また、フォトリソグラフィおよびエッチングによりパターニングを行う製造方法と比較して、製造コストの削減も可能である。また、レーザ照射を用いることによって、フォトリソグラフィおよびエッチングによって形成された絶縁部よりも、視認されにくい絶縁部４１の形成が可能である。したがって、互いに隣り合う調光部３０の間の境界部３１が目立つことを抑えることができる。さらに、多層体２０の形成後に第１透明電極層１２Ａのパターニングが行われるため、調光シート１０の形状や電極部４０の形状等の設計の変更にも容易に対応が可能である。
【0073】
なお、調光シート１０は、調光層１１、透明電極層１２Ａ，１２Ｂ、透明支持層１３Ａ，１３Ｂ、配向層１４Ａ，１４Ｂに加えて、他の層を備えていてもよい。上記他の層は、例えば、紫外線バリア機能を有する層等のように、調光層１１や透明電極層１２Ａ，１２Ｂを保護するための層や、調光部３０における光の透過性の制御に寄与する層や、調光シート１０の強度や耐熱性等の特性を高める層等が挙げられる。調光シート１０が上記他の層を備える場合も、調光シート１０の層構成に対応する層構成を有する多層体２０に対してレーザ照射が行われることにより、第１透明電極層１２Ａおよび第２透明電極層１２Ｂが形成される。
【0074】
［調光シートの構成］
上述の製造方法によって製造された調光シート１０の詳細構成について、境界部３１の構成を中心に説明する。上述のように、第１透明電極層１２Ａの絶縁部４１は、レーザ照射によって形成されたレーザ加工痕である。まず、このレーザ加工痕の詳細について説明する。
上述の製造方法によって製造された調光シート１０の詳細構成について、境界部３１の構成を中心に説明する。上述のように、第１透明電極層１２Ａの絶縁部４１は、レーザ照射によって形成されたレーザ加工痕である。まず、このレーザ加工痕の詳細について説明する。
【0075】
図１１および図１２は、絶縁部４１付近の断面構造の第１例を拡大して示す図である。第１例において、絶縁部４１は、第１透明導電層２１Ａを構成する導電膜が小片状に破壊されている部分である。図１１が示すように、絶縁部４１では、レーザ照射によって導電膜が粉々となり、第１透明導電層２１Ａの一部が第１透明支持層１３Ａから剥がれる。すなわち、絶縁部４１は、第１透明支持層１３Ａから導電膜が剥がれている部分である。
【0076】
調光層１１や第１配向層１４Ａ等の第１透明電極層１２Ａと接触する機能層における絶縁部４１の近傍の部分には、第１透明支持層１３Ａから剥がれた導電膜の膜片Ｆｇが位置する。したがって、上記機能層のなかで絶縁部４１と接触する部分では、上記機能層のなかで電極部４０と接触する部分よりも、電極部４０を構成する元素の含有量が高い。
【0077】
なお、レーザ照射による導電膜の破壊の程度によっては、図１２が示すように、絶縁部４１は、導電膜が第１透明支持層１３Ａに接した状態で物理的に破壊されている部分であることもあり得る。絶縁部４１の表面は、電極部４０の表面よりも粗い。この場合、機能層の内部への膜片Ｆｇの分散は生じない。
【0078】
図１３および図１４は、絶縁部４１付近の断面構造の第２例を拡大して示す図である。第２例において、絶縁部４１はレーザ照射によって化学的に改質された領域である。
例えば、図１３が示すように、絶縁部４１は、電極部４０と比較して、導電性に寄与する原子、あるいは、導電性に寄与する分子の一部である元素Ｐｃが第１透明電極層１２Ａの下層に流出することにより組成が変化している領域である。こうした組成の変化に起因して、絶縁部４１は、絶縁性を有している。
例えば、図１３が示すように、絶縁部４１は、電極部４０と比較して、導電性に寄与する原子、あるいは、導電性に寄与する分子の一部である元素Ｐｃが第１透明電極層１２Ａの下層に流出することにより組成が変化している領域である。こうした組成の変化に起因して、絶縁部４１は、絶縁性を有している。
【0079】
調光層１１や第１配向層１４Ａ等の第１透明電極層１２Ａと接触する機能層のなかで絶縁部４１と接触する部分では、上記機能層のなかで電極部４０と接触する部分よりも、元素Ｐｃの含有量が高い。
【0080】
絶縁部４１と、絶縁部４１に隣接する電極部４０とは、相互に連続した１つの層を構成しており、第１透明電極層１２Ａは平膜状を有する。ただし、元素Ｐｃが抜け出していることに起因して、絶縁部４１は電極部４０よりも脆くなっている。例えば、絶縁部４１の表面は、電極部４０の表面よりも粗い。
【0081】
また例えば、図１４が示すように、絶縁部４１は、電極部４０と比較して、化合物内での原子位置の移動や、分子内での結合の切断等による化学構造の変化が生じている領域である。こうした化学構造の変化に起因して、絶縁部４１は、絶縁性を有している。絶縁部４１では組成の変化は生じていない。絶縁部４１と、絶縁部４１に隣接する電極部４０とは、相互に連続した１つの層を構成しており、第１透明電極層１２Ａは平膜状を有する。
【0082】
絶縁部４１が、第１例および第２例のいずれの構造を有するかは、第１透明電極層１２Ａを構成する材料、すなわち、第１透明導電層２１Ａを構成する材料や、レーザのパワー等によって決まる。また、絶縁部４１は、第１例と第２例とを組み合わせた構造を有し得る。例えば、第１透明電極層１２Ａは、絶縁部４１にて、元素Ｐｃが第１透明電極層１２Ａの下層に流出しているとともに、導電膜が物理的に破壊された構造を有していてもよい。元素Ｐｃは、電極部４０を構成する複数の元素に含まれる元素である。
【0083】
また、第２透明電極層１２Ｂが帯状部４６を有する形態において、帯状部４６のなかで絶縁性を有する部分も、第１例、第２例、およびその組み合わせのいずれかの絶縁部４１と同様の構造を有する。
【0084】
なお、図１２～図１４においては、絶縁部４１の断面形状を、第１透明支持層１３Ａに向かって絶縁部４１の幅方向の長さが拡大し、絶縁部４１の外縁が、絶縁部４１の外側に向かって膨らむように湾曲した曲線から構成される形状に図示した。この形状は、第１照射形態もしくは第３照射形態にて、第１透明導電層２１Ａの中央部から第１透明支持層１３Ａに接する表面の付近にレーザの焦点が合わせられてレーザ照射が行われた場合に形成される絶縁部４１の形状を想定している。レーザの焦点の位置やレーザのパワー等によっては、絶縁部４１の断面形状は、図１２～図１４に示した形状とは異なる形状になり得る。
【0085】
次に、絶縁部４１の外観について説明する。図１５は、調光シート１０における境界部３１の付近の平面構造の一例を拡大して示す図である。調光シート１０の表面と対向する位置、すなわち、第１透明支持層１３Ａと対向する位置から見て、絶縁部４１が位置する領域である境界部３１は、幅が一定の帯状の領域である直線形帯状領域Ｓｓから構成される。直線形帯状領域Ｓｓから構成される境界部３１は、連続発振により出力されるレーザの照射によって形成される。
【0086】
直線形帯状領域Ｓｓにおける少なくとも一部は、変色してくすんで見える。それゆえ、境界部３１の可視光線透過率は、透明な状態での調光部３０の可視光線透過率よりも低い。図１５では、直線形帯状領域Ｓｓにおける幅方向の端部付近が変色している形態を例示している。
【0087】
直線形帯状領域Ｓｓ内において変色の程度に差が生じる理由は、多層体２０がレーザから受けるエネルギーが、レーザの中心が当たっている位置から離れるほど、減少するためであると考えられる。レーザのパワーに応じて、直線形帯状領域Ｓｓのなかで変色が生じる部分は変わり得る。例えば、直線形帯状領域Ｓｓにおける幅方向の中央部が変色する場合や、幅方向の端部付近と中央部とが変色する場合もあり得る。
【0088】
変色の要因の１つは、例えば第１透明支持層１３Ａがポリエチレンテレフタレートフィルムである場合等に、レーザ照射によって、第１透明支持層１３Ａのなかで絶縁部４１に接する部分がアモルファスとなることである。こうした第１透明支持層１３Ａのアモルファスへの変化は、特に、直線形帯状領域Ｓｓにおける幅方向の中央部で生じやすい。
【0089】
第１透明支持層１３Ａのアモルファスへの変化の有無は、レーザのパワーや焦点の位置等によって制御可能である。境界部３１の視認性を高めたいか否かに応じて、第１透明支持層１３Ａのアモルファスへの変化が生じるように、あるいは、生じないように、レーザの照射条件が調整されてもよい。
【0090】
なお、境界部３１は、複数の直線形帯状領域Ｓｓが、直線形帯状領域Ｓｓの幅方向に沿って並ぶ構成を有していてもよい。複数の直線形帯状領域Ｓｓからなる境界部３１は、境界部３１となる領域に対して、当該領域の幅方向にレーザの照射位置を徐々にずらしつつ、複数回のレーザの走査を行うことによって形成される。境界部３１が複数の直線形帯状領域Ｓｓから構成される形態であれば、絶縁部４１による電極部４０間の絶縁の信頼性が高められる。
【0091】
図１６は、調光シート１０における境界部３１の付近の平面構造の他の例を拡大して示す図である。調光シート１０の表面と対向する位置から見て、境界部３１は、１つの方向に沿って円が連なる外形を有する円形帯状領域Ｃｓから構成される。詳細には、円形帯状領域Ｃｓは、複数の円が、円内の領域が連通するように順に結合した外形を有する。円形帯状領域Ｃｓから構成される境界部３１は、パルス発振により出力されるレーザの照射によって形成される。
【0092】
円形帯状領域Ｃｓにおける少なくとも一部は、変色してくすんで見える。それゆえ、境界部３１の可視光線透過率は、透明な状態での調光部３０の可視光線透過率よりも低い。図１６では、円形帯状領域Ｃｓにおける幅方向の端部付近、換言すれば、結合している円の円周付近が変色している形態を例示している。
【0093】
円形帯状領域Ｃｓ内において変色の程度に差が生じる理由は、多層体２０がレーザから受けるエネルギーが、レーザの中心が当たっている位置から離れるほど、減少するためであると考えられる。レーザのパワーに応じて、円形帯状領域Ｃｓのなかで変色が生じる部分は変わり得る。例えば、円形帯状領域Ｃｓにおける円の中央部が変色する場合や、円の円周付近と中央部とが変色する場合もあり得る。
【0094】
変色の要因の１つは、直線形帯状領域Ｓｓと同様、レーザ照射によって、第１透明支持層１３Ａのなかで絶縁部４１に接する部分がアモルファスとなることである。こうした第１透明支持層１３Ａのアモルファスへの変化は、特に、円形帯状領域Ｃｓにおける円の中央部で生じやすい。直線形帯状領域Ｓｓと同様、第１透明支持層１３Ａのアモルファスへの変化の有無は、レーザのパワーや焦点の位置等によって制御可能である。
【0095】
連続発振のレーザを用いて絶縁部４１を形成する場合、多層体２０にレーザが当たり続けるため、レーザの照射によって生じた熱が放散しにくい。その結果、調光層１１が含む液晶が気体となって、気泡が生じる場合がある。これに対し、パルス発振のレーザを用いれば、多層体２０にレーザが間欠的に当たるため、連続発振のレーザを用いる場合と比較して、レーザの照射によって生じた熱が放散しやすい。したがって、調光層１１に気泡が生じることが抑えられる。
【0096】
なお、境界部３１は、複数の円形帯状領域Ｃｓが、円形帯状領域Ｃｓの幅方向に沿って並ぶ構成を有していてもよい。複数の円形帯状領域Ｃｓからなる境界部３１は、境界部３１となる領域に対して、当該領域の幅方向にレーザの照射位置を徐々にずらしつつ、複数回のレーザの走査を行うことによって形成される。境界部３１が複数の円形帯状領域Ｃｓから構成される形態であれば、絶縁部４１による電極部４０間の絶縁の信頼性が高められる。特に、パルス発振のレーザを用いる場合、連続発振のレーザを用いる場合と比較して、帯状領域の幅、すなわち、絶縁性を有する部分の幅が不均一になりやすいため、複数の円形帯状領域Ｃｓが並ぶことにより絶縁の信頼性が高められることの有益性が高い。
【0097】
また、第２透明電極層１２Ｂが帯状部４６を有する場合、調光シート１０の表面と対向する位置から境界部３１を見ると、絶縁部４１と帯状部４６とが重なって見える。この場合も、境界部３１は、直線形帯状領域Ｓｓもしくは円形帯状領域Ｃｓから構成され、境界部３１の可視光線透過率は、透明な状態での調光部３０の可視光線透過率よりも低い。第２透明電極層１２Ｂが帯状部４６を有する場合と有さない場合とで、調光シート１０の表面と対向する位置から見て、帯状領域Ｓｓ，Ｃｓの変色の程度は変わり得るが、外形は大きくは変わらない。
【0098】
［ＩＴＯ層におけるレーザ照射領域の解析］
ＩＴＯから構成された透明導電層２１Ａ，２１Ｂを備えるリバースタイプの多層体２０に対してレーザ照射を行うことにより形成された絶縁部４１の解析を行った。透明支持層１３Ａ，１３Ｂとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、調光層１１には、高分子ネットワーク型液晶を用いた。また、配向層１４Ａ，１４Ｂの材料としては、ポリイミドを用いた。
ＩＴＯから構成された透明導電層２１Ａ，２１Ｂを備えるリバースタイプの多層体２０に対してレーザ照射を行うことにより形成された絶縁部４１の解析を行った。透明支持層１３Ａ，１３Ｂとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、調光層１１には、高分子ネットワーク型液晶を用いた。また、配向層１４Ａ，１４Ｂの材料としては、ポリイミドを用いた。
【0099】
＜レーザ照射条件＞
種類：ＩＲ半導体レーザ
スポット径：３０μｍ
発振方式：パルス発振
繰り返し周波数：１．２ｋＨｚ
パルス幅：４１７μｓ
出力：０．００８Ｗ
多層体２０が載置される載置台の移動速度：３０ｍｍ／ｓ
種類：ＩＲ半導体レーザ
スポット径：３０μｍ
発振方式：パルス発振
繰り返し周波数：１．２ｋＨｚ
パルス幅：４１７μｓ
出力：０．００８Ｗ
多層体２０が載置される載置台の移動速度：３０ｍｍ／ｓ
【0100】
＜解析手順＞
上記レーザ照射条件に従って、レーザの波長をＩＴＯに吸収される波長として、多層体２０に第３照射形態でレーザ照射を行い、リバースタイプの調光シート１０Ｒを形成した。調光層１１を厚さ方向に分割することによって、調光シート１０Ｒを、第１透明支持層１３Ａ、第１透明電極層１２Ａ、第１配向層１４Ａ、および、調光層１１の一部を有する第１積層体と、第２透明支持層１３Ｂ、第２透明電極層１２Ｂ、第２配向層１４Ｂ、および、調光層１１の一部を有する第２積層体とに分離した。
第１積層体と第２積層体とを、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて観察するとともに、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ－ｒａｙ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）による解析を行った。走査型電子顕微鏡は、日本電子社製ＪＳＭ－７００１Ｆを用いた。なお、ＥＤＸによる解析は、解析対象の層厚の確保のために、上記積層体の表面を水平面に対して３０°傾けた状態で水平面と直交する方向から測定する方法により行った。
上記レーザ照射条件に従って、レーザの波長をＩＴＯに吸収される波長として、多層体２０に第３照射形態でレーザ照射を行い、リバースタイプの調光シート１０Ｒを形成した。調光層１１を厚さ方向に分割することによって、調光シート１０Ｒを、第１透明支持層１３Ａ、第１透明電極層１２Ａ、第１配向層１４Ａ、および、調光層１１の一部を有する第１積層体と、第２透明支持層１３Ｂ、第２透明電極層１２Ｂ、第２配向層１４Ｂ、および、調光層１１の一部を有する第２積層体とに分離した。
第１積層体と第２積層体とを、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて観察するとともに、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ－ｒａｙ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）による解析を行った。走査型電子顕微鏡は、日本電子社製ＪＳＭ－７００１Ｆを用いた。なお、ＥＤＸによる解析は、解析対象の層厚の確保のために、上記積層体の表面を水平面に対して３０°傾けた状態で水平面と直交する方向から測定する方法により行った。
【0101】
＜解析結果＞
上記手順に従って第１積層体および第２積層体における外観と組成との解析を行うことにより、上記レーザ照射条件に従って形成された絶縁部４１は、上述の第１例の構造を有することが確認された。以下、解析結果について詳述する。
上記手順に従って第１積層体および第２積層体における外観と組成との解析を行うことにより、上記レーザ照射条件に従って形成された絶縁部４１は、上述の第１例の構造を有することが確認された。以下、解析結果について詳述する。
【0102】
図１７（ａ）は、第１積層体における調光層１１が位置する側の表面のＳＥＭ画像を示す。図１７（ｂ）～（ｄ）は、図１７（ａ）の画像に含まれる領域のＥＤＸマッピング結果を示す図であって、図１７（ｂ）はインジウム（Ｉｎ）の分布を示し、図１７（ｃ）は炭素（Ｃ）の分布を示し、図１７（ｄ）は酸素（Ｏ）の分布を示す。各図において、２つの破線で挟まれている領域がレーザの照射された領域であり、２つの破線の外側の領域がレーザの照射されていない領域である。
【0103】
図１７（ａ）が示すように、レーザ照射領域では、レーザ非照射領域と比較して、第１積層体の表面が荒れている。
図１７（ｂ）が示すように、レーザ照射領域では、レーザ非照射領域と比較して、調光層１１および第１配向層１４ＡにおけるＩｎの濃度が高くなっていることが確認できる。なお、レーザ非照射領域にてＩｎが検出されている理由は、調光層１１の下方の第１透明電極層１２Ａに含まれるＩｎが検出されているためと考えられる。
図１７（ｂ）が示すように、レーザ照射領域では、レーザ非照射領域と比較して、調光層１１および第１配向層１４ＡにおけるＩｎの濃度が高くなっていることが確認できる。なお、レーザ非照射領域にてＩｎが検出されている理由は、調光層１１の下方の第１透明電極層１２Ａに含まれるＩｎが検出されているためと考えられる。
【0104】
図１７（ｃ）および図１７（ｄ）が示すように、レーザ照射領域とレーザ非照射領域とで、ＣおよびＯの分布には差が見られない。
以上により、レーザ照射領域では、第１透明電極層１２Ａが含む元素であるＩｎが、調光層１１にまで流出していることが示唆される。後述する第１透明電極層１２Ａの外観の観察結果から、レーザ照射領域でのＩｎの増加は、レーザ照射によって第１透明支持層１３Ａから第１透明導電層２１Ａを構成するＩＴＯ膜が剥がれ、その膜片が調光層１１の内部まで分散しているために生じていると考えられる。
以上により、レーザ照射領域では、第１透明電極層１２Ａが含む元素であるＩｎが、調光層１１にまで流出していることが示唆される。後述する第１透明電極層１２Ａの外観の観察結果から、レーザ照射領域でのＩｎの増加は、レーザ照射によって第１透明支持層１３Ａから第１透明導電層２１Ａを構成するＩＴＯ膜が剥がれ、その膜片が調光層１１の内部まで分散しているために生じていると考えられる。
【0105】
図１８（ａ）～（ｃ）は、メチルエチルケトンを用いて調光層１１と第１配向層１４Ａとを拭き取った後の第１積層体を対象として、レーザ照射領域に含まれる点、および、レーザ照射領域を挟む２つのレーザ非照射領域の各々に含まれる点について測定を行ったＥＤＸスペクトルを示す。図１８（ａ）は、レーザ照射領域のＥＤＸスペクトルであり、図１８（ｂ），（ｃ）は、レーザ非照射領域のＥＤＸスペクトルである。
【0106】
図１８（ａ）が示すように、レーザ照射領域ではＩｎが検出されていない。一方、図１８（ｂ），（ｃ）が示すように、レーザ非照射領域ではＩｎが検出されている。このことから、第１透明電極層１２Ａにおいて、レーザ非照射領域にはＩＴＯ膜が存在している一方で、レーザ照射領域ではＩＴＯ膜が欠損していることが示唆される。すなわち、レーザ照射領域では、レーザ照射によってＩＴＯ膜が破壊され、その膜片が第１透明電極層１２Ａの外に飛び散っていることが示唆される。なお、検出されているＰｔは、試料に前処理として行ったコーティングに由来する。
【0107】
図１９は、メチルエチルケトンを用いて調光層１１と第１配向層１４Ａとを拭き取った後の第１積層体の表面のＳＥＭ画像を示す。図２０は、メチルエチルケトンを用いて調光層１１と第２配向層１４Ｂとを拭き取った後の第２積層体の表面のＳＥＭ画像を示す。図１９および図２０において、領域Ｒａはレーザの照射された領域を示し、領域Ｒｂはレーザの照射されていない領域を示す。
【0108】
図１９および図２０から、レーザ照射領域では、ＩＴＯ膜が欠損していることが確認できる。図１９と図２０とを比較すると、レーザの光源に近い第１透明電極層１２Ａの方が、光源から遠い第２透明電極層１２Ｂよりも、レーザ照射によって破壊されている領域が大きいことが確認される。このことから、光源に近い層の方が、レーザ照射によって大きなエネルギーを与えられたことがわかる。なお、図１９において、第１透明電極層１２ＡのなかでＩＴＯ膜が欠損している領域の幅は約３０μｍである。図２０において、第２透明電極層１２ＢのなかでＩＴＯ膜が欠損している領域の最大幅は約２５μｍである。
【0109】
また、図２０に領域Ｘとして示すように、光源から遠い第２透明電極層１２Ｂにおいては、レーザ非照射領域から延びるＩＴＯ膜がレーザ照射領域にて繋がっている箇所が存在することが確認される。すなわち、図２０に示す第２透明電極層１２Ｂにおいては、レーザ照射によって破壊された部分が断続的に並んでいる。こうした第２透明電極層１２Ｂに形成されている帯状部４６は、帯状部４６の延在方向に沿って絶縁性を有する部分が断続的に並ぶ構成を有する。
【0110】
以上の解析により、透明導電層２１Ａ，２１ＢがＩＴＯから構成されている場合、換言すれば、透明電極層１２Ａ，１２Ｂの電極部４０，４５がＩＴＯから構成されている場合、上記レーザ照射条件に従って形成された絶縁部４１は、上述の第１例の構造を有することが示唆される。すなわち、絶縁部４１では、第１透明導電層２１Ａの物理構造が破壊されており、第１透明支持層１３Ａから導電膜が剥がれ、その膜片が調光層１１の内部まで分散していると考えられる。
【0111】
図２１は、上記レーザ照射条件に従って第３照射形態でレーザ照射を行うことによって形成したリバースタイプの調光シート１０Ｒを、第１透明支持層１３Ａと対向する位置から実体顕微鏡を用いて撮影した画像を示す。
【0112】
図２１から、境界部３１が、円が連なる外形を有する円形帯状領域Ｃｓから構成されることが確認される。また、調光部３０と比較して境界部３１がくすんで見えることにより、境界部３１の可視光線透過率が調光部３０の可視光線透過率よりも低いことが示唆される。なお、第１透明支持層１３Ａのみを観察したところ、レーザ照射領域における第１透明電極層１２Ａに接する表面に、アモルファスへの変化による白濁が確認された。
【0113】
［調光装置の他の形態］
上記調光シート１０における電極部の分割の形態としては、第１透明電極層１２Ａのみが分割される形態、および、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが同一のパターンに分割される形態を例示した。これに限らず、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが互いに異なるパターンに分割されていてもよい。例として、調光シートが、マトリクス状に配置された調光部３０を有する形態について説明する。
上記調光シート１０における電極部の分割の形態としては、第１透明電極層１２Ａのみが分割される形態、および、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが同一のパターンに分割される形態を例示した。これに限らず、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが互いに異なるパターンに分割されていてもよい。例として、調光シートが、マトリクス状に配置された調光部３０を有する形態について説明する。
【0114】
図２２が示すように、調光シート１６は、調光シート１６の表面と対向する位置から見て、直交する２つの方向である第１方向と第２方向との各々に沿って並ぶ複数の調光部３０を有している。すなわち、複数の調光部３０はマトリクス状に並んでいる。互いに隣接する調光部３０の間には、直線状に延びる境界部３１が位置している。
【0115】
図２３が示すように、第１透明電極層１２Ａは、第１方向に沿って延びるとともに第２方向に沿って並ぶ複数の電極部４０と、互いに隣り合う電極部４０の間に位置する絶縁部４１とを有している。互いに隣り合う電極部４０は、絶縁部４１によって絶縁されている。
第１端子部１５Ａは、電極部４０ごとに配置されている。複数の電極部４０に対しては、制御部５０から別々の電圧信号が入力される。
第１端子部１５Ａは、電極部４０ごとに配置されている。複数の電極部４０に対しては、制御部５０から別々の電圧信号が入力される。
【0116】
一方、第２透明電極層１２Ｂは、第２方向に沿って延びるとともに第１方向に沿って並ぶ複数の電極部４５と、互いに隣り合う電極部４５の間に位置する絶縁部４７とを有している。絶縁部４７は、絶縁部４７の延びる方向に沿って、絶縁性を有する部分が連続的に並ぶ構成を有する。互いに隣り合う電極部４５は、絶縁部４７によって絶縁されている。
第２端子部１５Ｂは、電極部４５ごとに配置されている。複数の電極部４５に対しては、制御部５０から別々の電圧信号が入力される。
第２端子部１５Ｂは、電極部４５ごとに配置されている。複数の電極部４５に対しては、制御部５０から別々の電圧信号が入力される。
【0117】
調光シート１６の表面と対向する位置から見て、第１透明電極層１２Ａの電極部４０と第２透明電極層１２Ｂの電極部４５とが重なる領域が、調光部３０である。また、調光シート１６の表面と対向する位置から見て、第１透明電極層１２Ａの絶縁部４１と第２透明電極層１２Ｂの絶縁部４７との少なくとも一方が位置する領域が、境界部３１である。
【0118】
制御部５０は、第１透明電極層１２Ａに電極部４０ごとの電圧信号を入力し、第２透明電極層１２Ｂに電極部４５ごとの電圧信号を入力する。これにより、各調光部３０における第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとの間の電位差が制御され、その結果、各調光部３０の光透過率が制御される。
【0119】
上記調光シート１６の製造工程において、第１透明電極層１２Ａの絶縁部４１と、第２透明電極層１２Ｂの絶縁部４７とは別々に形成される。例えば、多層体２０に対して、調光層１１に対して第１透明導電層２１Ａが位置する側からレーザ照射が行われることにより第１透明導電層２１Ａに絶縁部４１が形成され、調光層１１に対して第２透明導電層２１Ｂが位置する側からレーザ照射が行われることにより第２透明導電層２１Ｂに絶縁部４７が形成される。
【0120】
また、調光部３０は、帯状に限らず、任意の形状を有していればよく、境界部３１は、直線状に限らず、曲線状を有していてもよい。例えば、図２４が示す調光シート１７のように、境界部３１が曲線状であって、調光部３０の幅は一定でなくてもよい。また、調光部３０ごとに、調光部３０の形状や面積が異なってもよい。
【0121】
図２５が示すように、調光シート１７は、上述した調光シート１０と同様に、第１透明電極層１２Ａのみが調光部３０に対応した電極部４０に分割される形態を有していてもよいし、第１透明電極層１２Ａと第２透明電極層１２Ｂとが調光部３０に対応した電極部４０，４５に分割される形態を有していてもよい。
【0122】
上記調光シート１７の製造工程においては、調光シート１０と同様に、多層体２０に対して、上述の４つの照射形態のいずれかの形態でレーザ照射が行われる。本実施形態の製造方法によれば、レーザ照射によって加工するライン形状の変更によって、調光部３０の形状の変更が可能であるため、複雑な外形を有する調光部３０を容易に形成することができる。
【0123】
以上説明したように、上記実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）第１透明電極層１２Ａのなかにレーザ加工痕である絶縁部４１が位置する。すなわち、レーザ照射によって絶縁部４１を形成することにより第１透明電極層１２Ａがパターニングされるため、フォトリソグラフィおよびエッチングによりパターニングを行う製造方法と比較して、調光シート１０の製造に要する工程数の低減が可能である。また、多層体２０の形成後に第１透明電極層１２Ａのパターニングが行われるため、調光シート１０の形状や電極部４０の形状等の設計の変更にも容易に対応が可能である。
（１）第１透明電極層１２Ａのなかにレーザ加工痕である絶縁部４１が位置する。すなわち、レーザ照射によって絶縁部４１を形成することにより第１透明電極層１２Ａがパターニングされるため、フォトリソグラフィおよびエッチングによりパターニングを行う製造方法と比較して、調光シート１０の製造に要する工程数の低減が可能である。また、多層体２０の形成後に第１透明電極層１２Ａのパターニングが行われるため、調光シート１０の形状や電極部４０の形状等の設計の変更にも容易に対応が可能である。
【0124】
（２）第１照射形態および第３照射形態では、調光層１１に対して第１透明導電層２１Ａの位置する側から、多層体２０にレーザを照射することにより、第１透明導電層２１Ａに絶縁部４１が形成される。こうした製造方法によれば、２つの透明導電層のうち、レーザの光源に対して近い方の透明導電層に絶縁部４１が形成されるため、焦点やレーザのパワー等の照射条件の設定が容易である。
【0125】
（３）第３照射形態および第４照射形態によれば、第１透明導電層２１Ａに絶縁部４１を形成する際に、第２透明導電層２１Ｂの一部で導電性が失われることが許容される。したがって、第１透明導電層２１Ａのみに絶縁性を有する部分を形成する場合と比較して、第１透明導電層２１Ａがレーザから十分なエネルギーを受けやすいため、第１透明導電層２１Ａに絶縁部４１を好適に形成することができる。すなわち、第２透明電極層１２Ｂが絶縁部４１と重なる帯状部４６を有する構成であれば、第１透明電極層１２Ａの絶縁部４１と第２透明電極層１２Ｂの帯状部４６とをレーザ照射によって一括して形成することができるため、絶縁部４１を好適に形成することができる。
【0126】
（４）境界部３１が円形帯状領域Ｃｓから構成されている形態における絶縁部４１は、パルス発振のレーザ照射によって好適に形成することができる。パルス発振のレーザを用いることによって、レーザ照射によって生じた熱を放散させつつ絶縁部４１を形成することができるため、調光層１１における気泡の発生が抑えられる。
【0127】
（変形例）
上記実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
・第１透明電極層１２Ａが有する絶縁部４１は、複数の調光部３０に対応した複数の電極部４０を形成するための絶縁部４１でなくてもよく、絶縁部４１によって第１透明電極層１２Ａが区画されていればよい。すなわち、第１透明電極層１２Ａが複数の領域に分割されており、こうした複数の領域のうちの互いに隣り合う領域の境界部分にレーザ加工痕が位置し、当該レーザ加工痕における幅方向の少なくとも中央部が絶縁性を有することにより、上記互いに隣り合う領域が絶縁されていればよい。絶縁部４１を設ける目的に関わらず、第１透明電極層１２Ａのパターニングがレーザ照射によって行われる形態であれば、上記（１）と同様の効果が得られる。
上記実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
・第１透明電極層１２Ａが有する絶縁部４１は、複数の調光部３０に対応した複数の電極部４０を形成するための絶縁部４１でなくてもよく、絶縁部４１によって第１透明電極層１２Ａが区画されていればよい。すなわち、第１透明電極層１２Ａが複数の領域に分割されており、こうした複数の領域のうちの互いに隣り合う領域の境界部分にレーザ加工痕が位置し、当該レーザ加工痕における幅方向の少なくとも中央部が絶縁性を有することにより、上記互いに隣り合う領域が絶縁されていればよい。絶縁部４１を設ける目的に関わらず、第１透明電極層１２Ａのパターニングがレーザ照射によって行われる形態であれば、上記（１）と同様の効果が得られる。
【0128】
・調光シートは、透明な部材に貼り付けられて使用される。調光シートが貼り付けられる面は、平面であってもよいし、曲面であってもよい。例えば、調光シートは、窓ガラスやパーテーションやガラス壁等の建材、あるいは、自動車の窓ガラス等の車両用部材に取り付けられる。上記実施形態の製造方法であれば、エッチングにより絶縁部を形成する場合と異なり、多層体２０を、多層体２０の表面が曲面となる形状に加工した後に、絶縁部４１を形成することも容易に可能である。したがって、上記実施形態の製造方法は、表面が曲面である調光シートの製造にも好適に用いることができる。
【符号の説明】
【0129】
Ｃｓ…円形帯状領域、Ｓｓ…直線形帯状領域、Ｆｇ…膜片、Ｐｃ…元素、１０，１０Ｎ，１０Ｒ，１６，１７…調光シート、１１…調光層、１２Ａ，１２Ｂ…透明電極層、１３Ａ，１３Ｂ…透明支持層、１４Ａ，１４Ｂ…配向層、１５Ａ，１５Ｂ…端子部、２０…多層体、２１Ａ，２１Ｂ…透明導電層、３０…調光部、３１…境界部、４０，４５…電極部、４１，４７…絶縁部、４６…帯状部、５０…制御部、６０…レーザ装置。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】