特許 7378323 ガスマニホールド

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-02

(45)【発行日】2023-11-13

(54)【発明の名称】ガスマニホールド

(51)【国際特許分類】

   F23D 14/08 20060101AFI20231106BHJP

   F23K 5/00 20060101ALI20231106BHJP

【ＦＩ】

F23D14/08 H

F23K5/00 301B

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2020045972

(22)【出願日】2020-03-17

(65)【公開番号】P2021148325

(43)【公開日】2021-09-27

【審査請求日】2022-10-20

(73)【特許権者】

【識別番号】000115854

【氏名又は名称】リンナイ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100111970

【弁理士】

【氏名又は名称】三林 大介

(72)【発明者】

【氏名】志知 和幸

(72)【発明者】

【氏名】片岡 邦夫

【審査官】河野 俊二

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－００２５９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００８－０５１３９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－０１１７５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－２７１０６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－０２９２５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】英国特許出願公告第０１０２２０１８（ＧＢ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０２００３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭６１－１６１３２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－２１３７１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０８－０８６４１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１１／０１１１３５４（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ２３Ｄ １４／０８

Ｆ２３Ｋ ５／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

燃料ガスを燃焼させる複数のバーナが複数のバーナ群にまとめられ、前記バーナ群単位で前記燃料ガスを燃焼させることで、前記燃料ガスを燃焼させる前記バーナの数を段階的に切り換えることが可能な燃焼装置に搭載されて、前記複数のバーナに前記燃料ガスを分配するガスマニホールドであって、
外部から供給された前記燃料ガスが通過するメイン通路と、
前記複数のバーナ群の各々に対して設けられて、前記バーナ群内の前記バーナに供給される前記燃料ガスが前記メイン通路から流入する複数の分配室と、
前記複数のバーナの各々に対して設けられて、前記分配室に流入した前記燃料ガスを前記バーナに供給する複数のノズルと、
前記メイン通路から分岐することによって、前記メイン通路と前記複数の分配室とを接続する複数の分配通路と、
前記複数の分配通路に設けられて、前記分配通路を開閉する複数の開閉弁と
を備えるガスマニホールドにおいて、
前記複数の分配室の中の１つは、対応する前記バーナ群に含まれる前記バーナの数が他の前記分配室よりも多い最大分配室となっており、
前記メイン通路には、前記最大分配室に接続された前記分配通路である最大分配通路に向かって前記燃料ガスを導流する導流部が設けられており、
前記導流部は、前記最大分配通路以外の前記分配通路への前記燃料ガスの流れを制限するように、前記メイン通路を狭窄して設けられており、
前記導流部によって狭窄された部分での前記メイン通路の通路面積は、前記最大分配通路以外の前記分配通路が前記メイン通路から分岐する部分での開口面積の合計よりも大きな面積に設定されている
ことを特徴とするガスマニホールド。

【請求項2】

請求項１に記載のガスマニホールドにおいて、
前記最大分配通路が前記メイン通路から分岐する位置は、他の複数の前記分配通路が前記メイン通路から分岐する位置に対して最端部の位置となっており、
前記メイン通路に前記燃料ガスが流入する流入口は、前記最大分配通路が前記メイン通路から分岐する位置と、他の前記分配通路が前記メイン通路から分岐する位置との間の位置となっている
ことを特徴とするガスマニホールド。

【請求項3】

請求項２に記載のガスマニホールドにおいて、
前記複数の分配室の中の１つは、対応する前記バーナ群に含まれる前記バーナの数が他の前記分配室よりも少ない最小分配室となっており、
前記最小分配室に接続された前記分配通路である最小分配通路は、前記導流部よりも下流側で前記メイン通路から分岐する複数の前記分配通路の中で、最も上流側の位置で前記メイン通路から分岐する
ことを特徴とするガスマニホールド。

【請求項4】

請求項１ないし請求項３の何れか一項に記載のガスマニホールドにおいて、
前記メイン通路は、マニホールド本体に形成された通路溝部を、マニホールドカバーで覆うことによって形成されており、
複数の前記分配室は、前記マニホールド本体の前記通路溝部に隣接して形成された複数の凹部を、前記マニホールドカバーで覆うことによって形成されており、
前記メイン通路に前記燃料ガスが流入する流入口は、前記マニホールド本体から、前記マニホールドカバーに向かって開口しており、
複数の前記分配通路は前記通路溝部に開口すると共に、前記分配通路が開口する位置は、前記マニホールドカバーよりも前記通路溝部の底部側の位置となっている
ことを特徴とするガスマニホールド。

【請求項5】

請求項４に記載のガスマニホールドにおいて、
前記マニホールドカバーと前記マニホールド本体との間には、圧縮性材料で形成されたシール部材が圧縮された状態で挟持されており、
前記導流部は、前記通路溝部の底部から開口部に向かって壁状に突設されており、
前記導流部が突設された高さは、前記通路溝部の深さよりも低いが、前記マニホールドカバーと前記マニホールド本体との間に挟持された前記シール部材に接触する高さに設定されている
ことを特徴とするガスマニホールド。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、燃料ガスを燃焼させる複数のバーナを搭載して、バーナの数を段階的に切り換えて燃料ガスを燃焼させることが可能な燃焼装置に搭載されて、複数のバーナに燃料ガスを分配するガスマニホールドに関する。

【背景技術】

【0002】

給湯システムや暖房システムなどには、燃料ガスを燃焼させる燃焼装置が搭載されている。この燃焼装置には複数のバーナが搭載されており、それらのバーナに対しては、バーナ毎に設けられたノズルから個別に燃料ガスが供給されている。また、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を段階的に切り換えることが可能となっており、必要な火力に応じて、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を増減させるようになっている。

【0003】

ここで、バーナには個別に設けられたノズルから燃料ガスが供給されるので、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を段階的に切り換えるためには、燃料ガスを供給するノズルの数を段階的に切り換える必要がある。このため、複数のバーナを搭載した燃焼装置では、各バーナに燃料ガスを分配するガスマニホールドに、次のような構造が採用されている。先ず、ガスマニホールドの内部には、外部から供給された燃料ガスが通過するメイン通路が形成されており、メイン通路からは複数の分配通路が分岐すると共に、それぞれの分配通路には電磁開閉弁を介して分配室が接続されている。また、複数のバーナに燃料ガスを供給するノズルは、複数の分配室の何れかから燃料ガスの供給を受けるようになっている。

【0004】

このような構造のガスマニホールドでは、メイン通路に燃料ガスを供給すると、分配通路の電磁開閉弁が開状態となっている分配室には燃料ガスが流入して、ノズルからバーナに向かって燃料ガスが供給される。これに対して、分配通路の電磁開閉弁が閉状態の分配室には燃料ガスが流入しないので、その分配室から燃料ガスの供給を受けるノズルには燃料ガスが供給されることが無く、従って、バーナに燃料ガスが供給されることもない。このため、分配通路に設けられた電磁開閉弁の開閉状態を切り換えることによって、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を段階的に切り換えることが可能となる。

【0005】

また、各分配室が（ノズルを介して）燃料ガスを供給するバーナの数は、分配室毎に異なる数に設定されている。この理由は、バーナに燃料ガスを供給する分配室を切り換えることによって、あるいは、バーナに燃料ガスを供給する分配室の組み合わせを変更することによって、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を複数段階に変更することが可能となり、その結果、火力を複数段階に変更することが可能となるためである。一例として、バーナの総数が９個で、分配室の数が３つの場合について説明する。９つのバーナを３つの分配室に均等に割り振った場合には、各分配室には何れも３つのバーナが割り振られることになる。このため、燃料ガスを燃焼させるバーナの数は、燃料ガスを供給する分配室の数に応じて、３つ、６つ、９つの３段階にしか切り換えることができない。これに対して、９つのバーナを、２つ、３つ、４つのバーナに分けて、それぞれを分配室に割り振った場合には、分配室の選び方、あるいは分配室の組み合わせを変更することによって、燃料ガスを燃焼させるバーナの数を７段階に切り換えることが可能となる。

【0006】

このように、各分配室から燃料ガスを供給するバーナの数を異ならせると、分配室に供給するべき燃料ガスの流量も、分配室毎に異なった流量となる。上述した例では、燃料ガスを供給するバーナが４つの分配室には、バーナが２つの分配室に比べて、２倍の流量の燃料ガスを供給する必要が生じる。そこで、各分配室に供給すべき燃料ガスの流量に応じて、分配通路に設けられた電磁開閉弁の大きさを異ならせたり、分配通路内に異なる大きさのオリフィスを設けたりすることによって、各分配室に適切な流量の燃料ガスが供給されるようにした技術が提案されている（特許文献１、特許文献２）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】特開平８－０８６４１６号公報

【文献】特開２０１９－００２５９４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかし、近年の燃焼装置では、よりきめ細かい火力調整を可能とするために、バーナの数を切換可能な段数が増加する傾向にあり、これに伴って、各分配室に適切な流量の燃料ガスを供給することが困難になっているという問題があった。この理由は、次のようなものである。先ず、バーナの数の切換可能な段数が増加すると、ガスマニホールド内に形成される分配室の数も増加する。また、前述したように分配室から燃料ガスを供給するバーナの数は、分配室毎に異なる数に設定されるから、分配室の数が増加すると、バーナの数が最小の分配室と最大の分配室との差が大きくなり、供給すべき燃料ガスの流量の差も大きくなる。そして、この流量の差があまりに大きくなると、それぞれの分配室に適切な流量の燃料ガスを供給することが困難となるためである。

【0009】

この発明は、従来の技術が有する上述した課題を解決するためになされたものであり、内部に形成された分配室の数が多くなっても、それぞれの分配室に適切な流量の燃料ガスが供給することが可能なガスマニホールドを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上述した課題を解決するために、本発明のガスマニホールドは次の構成を採用した。すなわち、
燃料ガスを燃焼させる複数のバーナが複数のバーナ群にまとめられ、前記バーナ群単位で前記燃料ガスを燃焼させることで、前記燃料ガスを燃焼させる前記バーナの数を段階的に切り換えることが可能な燃焼装置に搭載されて、前記複数のバーナに前記燃料ガスを分配するガスマニホールドであって、
外部から供給された前記燃料ガスが通過するメイン通路と、
前記複数のバーナ群の各々に対して設けられて、前記バーナ群内の前記バーナに供給される前記燃料ガスが前記メイン通路から流入する複数の分配室と、
前記複数のバーナの各々に対して設けられて、前記分配室に流入した前記燃料ガスを前記バーナに供給する複数のノズルと、
前記メイン通路から分岐することによって、前記メイン通路と前記複数の分配室とを接続する複数の分配通路と、
前記複数の分配通路に設けられて、前記分配通路を開閉する複数の開閉弁と
を備えるガスマニホールドにおいて、
前記複数の分配室の中の１つは、対応する前記バーナ群に含まれる前記バーナの数が他の前記分配室よりも多い最大分配室となっており、
前記メイン通路には、前記最大分配室に接続された前記分配通路である最大分配通路に向かって前記燃料ガスを導流する導流部が設けられており、
前記導流部は、前記最大分配通路以外の前記分配通路への前記燃料ガスの流れを制限するように、前記メイン通路を狭窄して設けられており、
前記導流部によって狭窄された部分での前記メイン通路の通路面積は、前記最大分配通路以外の前記分配通路が前記メイン通路から分岐する部分での開口面積の合計よりも大きな面積に設定されている
ことを特徴とする。

【0011】

かかる本発明のガスマニホールドにおいては、メイン通路に供給された燃料ガスは、メイン通路から分岐した分配通路を介して複数の分配室に流入した後、それぞれの分配室からノズルを介してバーナに供給される。そして、メイン通路には、最大分配室（最も多くのバーナに燃料ガスが供給される分配室）の分配通路である最大分配通路に向かって燃料ガスを導流するとともに、他の分配室の分配通路への燃料ガスの流れを制限するように、メイン通路を狭窄する導流部が設けられている。更に、導流部によって狭窄された部分でのメイン通路の通路面積は、最大分配通路以外の分配通路がメイン通路に開口する部分での開口面積の合計よりも大きな面積に設定されている。

【0012】

こうすれば、最大分配室には、他の分配室よりも燃料ガスが供給され易くなるので、ガスマニホールドの内部に形成された分配室の数が多くなった場合でも、最大分配室に対して十分な流量の燃料ガスを供給することができる。加えて、メイン通路に導流部を設けたことでメイン通路が狭窄されているにも拘わらず、最大分配室以外の分配室に供給される燃料ガスが不足する事態を回避することができる。その結果、複数の分配室に対して、適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0015】

また、上述した本発明のガスマニホールドにおいては、最大分配通路がメイン通路から分岐する位置は、他の複数の分配通路がメイン通路から分岐する位置に対して最端部の位置としても良い。そして、メイン通路に燃料ガスが流入する流入口は、最大分配通路がメイン通路から分岐する位置と、他の分配通路がメイン通路から分岐する位置との間の位置に設けることとしても良い。

【0016】

こうすれば、流入口からメイン通路内に流入した燃料ガスを導流部によって最大分配通路に導くと、他の分配通路に対しては燃料ガスを逆方向に導くことになる。このため、導流部でメイン通路を狭窄する程度が少なくても、最大分配通路に十分な流量の燃料ガスを供給することができ、それと同時に、導流部で狭窄された部分を通過する燃料ガスの通過抵抗も減らすことができるので、最大分配通路以外の分配通路にも、十分な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0017】

また、上述したように、最大分配通路がメイン通路から分岐する位置と、最大分配通路以外の分配通路がメイン通路から分岐する位置との間に導流部が設けられた本発明のガスマニホールドにおいては、最小分配室（燃料ガスを供給するバーナの数が他の分配室よりも少ない分配室）に接続された分配通路（最小分配通路）がメイン通路から分岐する位置を、次のような位置としても良い。すなわち、導流部よりも下流側でメイン通路から分岐する複数の分配通路の中で、最小分配通路が最も上流側の位置で、メイン通路から分岐するようにしても良い。

【0018】

導流部よりも下流側のメイン通路には燃料ガスの流れに伴う圧力勾配が生じるので、上流側になる程、燃料ガスの圧力は高くなる。また、最小分配通路は、複数の分配通路の中で最も通路抵抗が大きくなる。従って、導流部よりも下流側でメイン通路から分岐する複数の分配通路の中で、最小分配通路が最も上流側の位置でメイン通路から分岐するようにしておけば、最小分配通路にも十分な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0019】

また、上述した本発明のガスマニホールドにおいては、メイン通路や、複数の分配室や、燃料ガスの流入口を、次のようにして形成しても良い。すなわち、マニホールド本体に通路溝部を形成すると共に、通路溝部に隣接する位置には複数の凹部を形成しておく。そして、マニホールド本体にマニホールドカバーを取り付けることによって、マニホールドカバーで覆われた通路溝部の部分にメイン通路を形成し、マニホールドカバーで覆われた複数の凹部の部分に複数の分配室を形成する。更に、流入口は、マニホールド本体からマニホールドカバーに向かって開口するように形成する。そして、メイン通路と分配室とを接続する複数の分配通路を通路溝部に開口させ、この時、分配通路を通路溝部に開口させる位置は、マニホールドカバーよりも通路溝部の底部側の位置としておく。

【0020】

こうすれば、流入口から流入した燃料ガスはマニホールドカバーに衝突して向きを変えた後、マニホールドカバーに沿って（従って、通路溝部の底部から離れた位置を）流れることになる。従って、分配通路が通路溝部に開口する位置を、マニホールドカバーよりも通路溝部の底部側の位置としておけば、メイン通路内を流れる燃料ガスが、何れかの分配通路に直接流れ込むことが無い。その結果、何れかの分配通路に偏って燃料ガスが供給されてしまう事態が発生することを防止することができるので、複数の分配室に対して適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0021】

また、上述した本発明のガスマニホールドにおいては、マニホールドカバーをマニホールド本体に取り付ける際に、マニホールドカバーとマニホールド本体とのの間に、圧縮性材料で形成されたシール部材を挟持してもよい。更に、通路溝部の底部から壁状の導流部を突設すると共に、導流部の高さを、通路溝部の深さよりも低いが、マニホールドカバーとマニホールド本体との間に挟持されたシール部材に接触する高さとしても良い。

【0022】

こうすれば、マニホールド本体にシール部材を介してマニホールドカバーを取り付けた時に、導流部がシール部材やマニホールドカバーに対して及ぼす反力を十分に小さくすることができる。このため、導流部を設けたことによって、シール部材に加わる面圧が低下して、メイン通路内の燃料ガスが漏れてしまう事態を生じる虞が無い。その一方で、導流部がシール部材に接触しているので、導流部とシール部材との間を燃料ガスが通過する事態を抑制することができるので、流入口から流入した燃料ガスを確実に最大分配通路に導流することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】燃焼装置１０を備える給湯器１を例示した説明図である。

【図2】本実施例のガスマニホールド１００およびバーナ１２の構造を示した説明図

【図3】本実施例のガスマニホールド１００の分解組立図である。

【図4】通路溝部１１１の側壁に形成された開口部１１３ｃの詳細な形状を示した斜視図である。

【図5】本実施例のガスマニホールド１００内での燃料ガスの流れを示した説明図である。

【図6】本実施例のガスマニホールド１００の各分配室１０２ａ～１０２ｄから燃料ガスを供給するバーナ１２の数を比較した説明図である。

【図7】本実施例のガスマニホールド１００で各分配室１０２ａ～１０２ｄに適切な流量で燃料ガスを分配可能とする基本的な考え方を示した説明図である。

【図8】本実施例のガスマニホールド１００のマニホールド本体１１０に形成された通路溝部１１１や、凹部１１２ａ～１１２ｄの具体的な形状を示した正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

図１は、燃焼装置１０を備える給湯器１を例示した説明図である。給湯器１は、大まかにいうと、燃料ガスを燃焼させる燃焼装置１０と、燃焼装置１０で生成された高温の燃焼ガスを利用して湯を生成する熱交換器２０とを組み合わせた構造となっている。熱交換器２０には、上水が供給される給水通路２１と、熱交換器２０で生成した湯を給湯するための給湯通路２２とが接続されている。給水通路２１の途中には、熱交換器２０に流入する上水の流量を検出する流量センサ２３が搭載されている。更に、給湯通路２２の端部には、給湯カラン２４などが接続されている。

【0025】

燃焼装置１０は、内部の空間に燃焼室が形成されている燃焼缶１１と、燃焼缶１１の内部に搭載された複数のバーナ１２と、複数のバーナ１２に燃料ガスを供給するガスマニホールド１００と、燃料ガスを燃焼させるための燃焼用空気を燃焼缶１１内に供給する燃焼ファン１３と、バーナ１２に点火する点火プラグ１４と、バーナ１２の炎を検知するフレームロッド１５とを備えている。また、ガスマニホールド１００には燃料ガスを供給するガス通路１６が接続されており、ガス通路１６の途中には、ガス通路１６を開閉する元弁１７と、元弁１７よりも下流側でガスマニホールド１００に供給される燃料ガスの流量を調節する比例弁１８とが設けられている。

【0026】

また、図１に示されるように、本実施例の燃焼装置１０には１９個のバーナ１２が搭載されているが、これらのバーナ１２は、バーナ１２の数が異なる４つのバーナ群１２ａ～１２ｄにまとめられている。図示した例では、バーナ群１２ａには隣接する８つのバーナ１２がまとめられており、バーナ群１２ｂには隣接する２つのバーナ１２がまとめられており、バーナ群１２ｃには隣接する３つのバーナ１２が、バーナ群１２ｄには隣接する６つのバーナ１２がまとめられている。

【0027】

ガスマニホールド１００には、バーナ１２に燃料ガスを供給する複数のノズル１０１が形成されており、個々のノズル１０１は予め１つのバーナ１２に対応付けられると共に、そのバーナ１２に燃料ガスを供給するようになっている。また、ガスマニホールド１００の内部には、ガス通路１６から供給された燃料ガスを複数のノズル１０１に燃料ガスを分配する４つの分配室１０２ａ～１０２ｄが形成されている。ここで、分配室１０２ａ～１０２ｄの数が４つとなっているのは、上述したバーナ群１２ａ～１２ｄの数が４つであることに対応している。分配室１０２ａの上流には電磁開閉弁１９ａが搭載されており、分配室１０２ｂの上流には電磁開閉弁１９ｂが、分配室１０２ｃの上流には電磁開閉弁１９ｃが、分配室１０２ｄの上流には電磁開閉弁１９ｄが搭載されている。このため、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄを開閉することにより、分配室１０２ａ～１０２ｄに対して個別に燃料ガスを供給することが可能となっている。尚、本実施例の電磁開閉弁１９ａ～１９ｄが、本発明における「開閉弁」に対応する。

【0028】

また、上述したように、個々のノズル１０１は予め対応付けられた固有のバーナ１２に燃料ガスを供給するが、バーナ群１２ａに属するバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル１０１は、分配室１０２ａから燃料ガスの供給を受けるようになっている。同様に、バーナ群１２ｂに属するバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル１０１は、分配室１０２ｂから燃料ガスの供給を受けるようになっており、バーナ群１２ｃに属するバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル１０１は、分配室１０２ｃから燃料ガスの供給を受け、バーナ群１２ｄに属するバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル１０１は、分配室１０２ｄから燃料ガスの供給を受けるようになっている。このため、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの開閉状態を切り換えることで、バーナ群１２ａ～１２ｄの単位で、複数のバーナ１２への燃料ガスの供給を開始したり、供給を停止したりすることができる。その結果、バーナ１２での燃料ガスの燃焼も、バーナ群１２ａ～１２ｄの単位で燃焼を開始したり、燃焼を終了したりすることが可能となる。

【0029】

以上のような給湯器１では、給湯器１の使用者が給湯通路２２に設けられた給湯カラン２４などを開くと、給水通路２１から熱交換器２０に上水が供給される。そして、流量センサ２３によって、上水の流れが所定の流量以上になったことが検知されると、バーナ１２での燃焼が開始される。この時、必要な火力に応じて、比例弁１８の開度が制御されると共に、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの開閉状態が切り換えられる。その結果、燃料ガスを燃焼させるバーナ１２の数を、多段階に切り換えることが可能となる。また、燃焼によって生じた高温の燃焼ガスは、燃焼装置１０の上方に設けられた熱交換器２０を通過し、この時、熱交換器２０内を通過する上水と熱交換することによって湯が生成されて、給湯通路２２を経由して給湯カラン２４から流出する。また、熱交換して低温となった燃焼ガスは、熱交換器２０の上方に設けられた排気口２から、給湯器１の外部に排出される。

【0030】

図２は、本実施例のガスマニホールド１００とバーナ１２との位置関係を示した説明図である。尚、前述したように、本実施例の給湯器１には１９個のバーナ１２が搭載されているが、図示が煩雑となることを避けるため、図２では１つのバーナ１２を表示し、他の１８個のバーナ１２については図示を省略している。

【0031】

バーナ１２は、板金部材を組み合わせて形成されており、バーナ１２の側部には、燃料ガスが流入する２つのガス流入口１２ｏが上下２段に設けられている。それぞれのガス流入口１２ｏに向かって燃料ガスを噴射すると、燃料ガスが周囲の空気を巻き込みながらガス流入口１２ｏからバーナ１２内に流入する。そして、バーナ１２内で燃料ガスと空気とが混合して混合ガスを生成した後、バーナ１２の上部に形成された複数の炎口１２ｆから流出する。この混合ガスに点火プラグ１４（図１参照）を用いて点火することによって、バーナ１２の燃焼が開始される。

【0032】

このように、本実施例のバーナ１２には、上下２段にガス流入口１２ｏが形成されていることに対応して、本実施例のガスマニホールド１００には、複数のノズル１０１が上下２列に形成されている。そして、上下に並んだ一組のノズル１０１から、バーナ１２の上下のガス流入口１２ｏに向かって燃料ガスが噴射されるようになっている。前述したように本実施例の給湯器１には１９個のバーナ１２が搭載されており、各バーナ１２に対して上下一組のノズル１０１が形成されているから、ガスマニホールド１００には全部で３８個（＝１９×２）のノズル１０１が形成されていることになる。また、前述したように、１９個のバーナ１２は、４つのバーナ群１２ａ～１２ｄにまとめられているから、各バーナ１２に燃料ガスを供給する３８個のノズル１０１も、バーナ群１２ａのバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル群１０１ａと、バーナ群１２ｂのバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル群１０１ｂと、バーナ群１２ｃのバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル群１０１ｃと、バーナ群１２ｄのバーナ１２に燃料ガスを供給するノズル群１０１ｄとに分けて考えることができる。

【0033】

図２に示されるように、複数のノズル１０１の下方には、４つの電磁開閉弁１９ａ～１９ｄが取り付けられており、それらの電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの下方には、ガス通路１６が接続されて燃料ガスが流入する流入口１０３が形成されている。ガスマニホールド１００の内部の構造については後述するが、流入口１０３に燃料ガスを供給した状態で、電磁開閉弁１９ａを開弁すると、ノズル群１０１ａのノズル１０１からバーナ群１２ａのバーナ１２に向かって燃料ガスが供給され、電磁開閉弁１９ｂを開弁すると、ノズル群１０１ｂのノズル１０１からバーナ群１２ｂのバーナ１２に向かって燃料ガスが供給される。同様に、電磁開閉弁１９ｃを開弁すると、ノズル群１０１ｃのノズル１０１からバーナ群１２ｃのバーナ１２に燃料ガスが供給され、電磁開閉弁１９ｄを開弁すると、ノズル群１０１ｄのノズル１０１からバーナ群１２ｄのバーナ１２に燃料ガスが供給される。

【0034】

図３は、本実施例のガスマニホールド１００の分解組立図である。図示されるように、ガスマニホールド１００は、ダイカスト製あるいは鋳造製のマニホールド本体１１０に、ゴムなどの圧縮性材料で形成されたシール部材１２０を挟んで、板金製のマニホールドカバー１３０が、複数の取付ネジ１４０を用いて取り付けられた構造となっている。尚、本実施例では、マニホールドカバー１３０が板金製であるものとしているが、ダイカスト製や鋳造製などとしても良い。

【0035】

図示されるように、マニホールド本体１１０には、４つの凹部１１２ａ～１１２ｄが並んで形成されており、凹部１１２ａ～１１２ｄの下方に隣接する位置には通路溝部１１１が形成されている。そして、マニホールド本体１１０にシール部材１２０を介してマニホールドカバー１３０を組み付けると、凹部１１２ａの部分がマニホールドカバー１３０で覆われることによって分配室１０２ａ（図１参照）が形成される。また、凹部１１２ｂの部分には分配室１０２ｂ（図１参照）が形成され、凹部１１２ｃの部分には分配室１０２ｃ（図１参照）が、凹部１１２ｄの部分には分配室１０２ｄ（図１参照）が形成される。図３中で、凹部１１２ａの下に（１０２ａ）と表示されているのは、マニホールドカバー１３０を取り付けると凹部１１２ａが分配室１０２ａになることを表している。同様に、図３中で、凹部１１２ｂの下に（１０２ｂ）と表示されているのは、凹部１１２ｂが分配室１０２ｂになることを表しており、凹部１１２ｃの下に（１０２ｃ）と表示されているのは、凹部１１２ｃが分配室１０２ｃになることを、凹部１１２ｄの下に（１０２ｄ）と表示されているのは、凹部１１２ｄが分配室１０２ｄになることを表している。更に、マニホールド本体１１０の通路溝部１１１が形成された部分には、マニホールドカバー１３０で覆われることによってメイン通路１０４が形成される。図３中で、通路溝部１１１の下に（１０４）と表示されているのは、通路溝部１１１がメイン通路１０４になることを表している。

【0036】

また、凹部１１２ａの下部（通路溝部１１１に隣接する位置）には、図２に示した電磁開閉弁１９ａの弁口１１４ａが形成されており、弁口１１４ａの奥側には電磁開閉弁１９ａの弁室が形成されている。同様に、凹部１１２ｂの下部には、電磁開閉弁１９ｂ（図２参照）の弁口１１４ｂが形成されており、凹部１１２ｃの下部には、電磁開閉弁１９ｃ（図２参照）の弁口１１４ｃが、凹部１１２ｄの下部には、電磁開閉弁１９ｄ（図２参照）の弁口１１４ｄが形成されている。そして、弁口１１４ｂの奥側には電磁開閉弁１９ｂの弁室が形成されており、弁口１１４ｃの奥側には電磁開閉弁１９ｃの弁室が、弁口１１４ｄの奥側には電磁開閉弁１９ｄの弁室が形成されている。

【0037】

更に、これらの電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの弁室は、それぞれの側部が通路溝部１１１の側壁に開口することによって、開口部を形成している。図３に示した開口部１１３ｂは、電磁開閉弁１９ｂの弁室が通路溝部１１１の側壁に形成した開口部である。また、図３中の開口部１１３ｃは、電磁開閉弁１９ｃの弁室が通路溝部１１１の側壁に形成した開口部であり、図３中の開口部１１３ｄは、電磁開閉弁１９ｄの弁室が通路溝部１１１の側壁に形成した開口部である。また、図３では隠れた位置にあるが、電磁開閉弁１９ａの弁室も通路溝部１１１の側壁に開口部１１３ａを形成している。

【0038】

図４は、通路溝部１１１の側壁に形成された開口部１１３ｃを、図３中の矢印Ｐの方向から見ることによって、開口部１１３ｃの詳細な形状を示した斜視図である。開口部１１３ａや、開口部１１３ｂ、開口部１１３ｄについても同様な形状であるため、開口部１１３ｃで代表させることとして図示は省略する。図４中で、開口部１１３ｃの下方に（１１３ａ、１１３ｂ、１１３ｄ）と表示しているのは、開口部１１３ｃが、これらを代表していることを表している。

【0039】

図４に示されるように、開口部１１３ｃは、通路溝部１１１の側壁１１１ａに開口しており、側壁１１１ａの中でも通路溝部１１１の底部１１１ｂに近い位置に開口している。また、開口部１１３ｃの奥側には、電磁開閉弁１９ｃ（図２参照）の弁室１９ｃｃが形成されており、弁室１９ｃｃ内には電磁開閉弁１９ｃの弁体１９ｃｖが収納されている。そして、弁体１９ｃｖは、電磁開閉弁１９ｃのバネ１９ｃｓによって弁口１１４ｃに付勢されている。尚、図４中で、弁口１１４ｃの下方に（１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｄ）と表示しているのは、弁口１１４ｃが弁口１１４ａや弁口１１４ｂや弁口１１４ｄを代表していることを表している。また、図４中で、弁室１９ｃｃの下方に（１９ａｃ、１９ｂｃ、１９ｄｃ）と表示しているのは、弁室１９ｃｃが弁室１９ａｃや弁室１９ｂｃや弁室１９ｄｃを代表していることを表しており、弁体１９ｃｖの下方に（１９ａｖ、１９ｂｖ、１９ｄｖ）と表示しているのは、弁体１９ｃｖが弁体１９ａｖや弁体１９ｂｖや弁体１９ｄｖを代表していることを表している。更に、バネ１９ｃｓの下方に（１９ａｓ、１９ｂｓ、１９ｄｓ）と表示しているのは、バネ１９ｃｓがバネ１９ａｓやバネ１９ｂｓやバネ１９ｄｓを代表していることを表している。

【0040】

このように、通路溝部１１１は、開口部１１３ａから弁室１９ａｃおよび弁口１１４ａを介して、凹部１１２ａ（図３参照）に繋がっている。従って、図２に示した電磁開閉弁１９ａを開弁させると、通路溝部１１１と凹部１１２ａとを接続する通路が形成されることになる。通路溝部１１１から凹部１１２ａに繋がる通路が、本発明における「分配通路」に対応する。同様に、電磁開閉弁１９ｂを開弁させると通路溝部１１１と凹部１１２ｂ（図３参照）とを接続する通路が形成され、電磁開閉弁１９ｃを開弁させると通路溝部１１１と凹部１１２ｃ（図３参照）とを接続する通路が、電磁開閉弁１９ｄを開弁させると通路溝部１１１と凹部１１２ｄ（図３参照）とを接続する通路が形成される。通路溝部１１１から凹部１１２ｂに繋がる通路や、通路溝部１１１から凹部１１２ｃに繋がる通路、通路溝部１１１から凹部１１２ｄに繋がる通路も、本発明における「分配通路」に対応する。

【0041】

図５は、上述した構造を有する本実施例のガスマニホールド１００内での燃料ガスの流れを示した説明図である。流入口１０３から供給された燃料ガスは、まず初めにメイン通路１０４に流入する。図３を用いて前述したように、メイン通路１０４はマニホールド本体１１０の通路溝部１１１とマニホールドカバー１３０との間に形成されている。また、メイン通路１０４の上方には、４つの分配室１０２ａ～１０２ｄが形成されている。図３を用いて前述したように、４つの分配室１０２ａ～１０２ｄは、マニホールド本体１１０に形成された４つの凹部１１２ａ～１１２ｄとマニホールドカバー１３０との間に形成されている。また、分配室１０２ａは電磁開閉弁１９ａ（図２参照）を介してメイン通路１０４とつながっており、分配室１０２ｂは電磁開閉弁１９ｂ（図２参照）を介して、分配室１０２ｃは電磁開閉弁１９ｃ（図２参照）を介して、分配室１０２ｄは電磁開閉弁１９ｄ（図２参照）を介してメイン通路１０４とつながっている。このため、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄを開弁させると、メイン通路１０４内の燃料ガスが、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄを介して分配室１０２ａ～１０２ｄに流入する。図中に太い一点鎖線で示した矢印は、このような燃料ガスの流れを表している。こうして分配室１０２ａ～１０２ｄに流入した燃料ガスは、それぞれの分配室１０２ａ～１０２ｄに形成されたノズル１０１からバーナ１２に供給されることになる。

【0042】

ここで、図１あるいは図２を用いて前述したように、分配室１０２ａからは８つのバーナ１２に燃料ガスを供給しており、分配室１０２ｂからは２つのバーナ１２に燃料ガスを供給し、分配室１０２ｃからは３つのバーナ１２に、分配室１０２ｄからは６つのバーナ１２に燃料ガスを供給している。各バーナ１２が燃焼させる燃料ガスの最大流量に違いは無いから、燃料ガスを供給するバーナ１２の数が多くなる程、その分配室１０２ａ～１０２ｄに供給するべき燃料ガスの流量は大きくなる。従って、図６に示したように、バーナ１２の数が最も大きい分配室１０２ａと、バーナ１２の数が最も小さい分配室１０２ｂとを比べると、供給するべき燃料ガスの流量には約４倍（＝８／２）もの違いが生じることになる。尚、以下では、バーナ１２の数が最も大きい分配室（ここでは分配室１０２ａ）を「最大分配室」と称し、バーナ１２の数が最も小さい分配室１０２（ここでは分配室１０２ｂ）を「最小分配室」と称することにする。

【0043】

図４を用いて前述したように、メイン通路１０４と各分配室１０２ａ～１０２ｄとは、開口部１１３ａ～１１３ｄ、弁室１９ａｃ～１９ｄｃ、弁口１１４ａ～１１４ｄを介して接続されており、しかも、弁室１９ａｃ～１９ｄｃ内には、電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの弁体１９ａｖ～１９ｄｖやバネ１９ａｓ～１９ｄｓなどが収納されている。従って、弁口１１４ａ～１１４ｄを大きくし、あるいは電磁開閉弁１９ａ～１９ｄを大きくした場合でも、ある程度の通路抵抗が生じることは避けられない。このため、最大分配室（ここでは分配室１０２ａ）と最小分配室（ここでは分配室１０２ｂ）とで、供給するべき燃料ガスの流量には約４倍もの違いが存在していると、最大分配室に十分な燃料ガスを供給することが困難となる。その結果、各分配室１０２ａ～１０２ｄに適切な流量で燃料ガスを分配することが困難となる。そこで、各分配室１０２ａ～１０２ｄに適切な流量で燃料ガスを分配するために、本実施例のガスマニホールド１００には、以下のような独特な構造が採用されている。

【0044】

図７は、本実施例のガスマニホールド１００で各分配室１０２ａ～１０２ｄに適切な流量で燃料ガスを分配可能とする基本的な考え方を示した説明図である。上述したように燃料ガスは、流入口１０３からメイン通路１０４に流入した後、メイン通路１０４から各分配室１０２ａ～１０２ｄに流入する。尚、図７中に示した分配通路１０５ａは、図４を用いて前述したメイン通路１０４から分配室１０２ａまでの通路（すなわち、開口部１１３ａから弁室１９ａｃを経由して弁口１１４ａまでの通路）を表している。同様に、分配通路１０５ｂは、メイン通路１０４から分配室１０２ｂまでの通路（開口部１１３ｂから弁室１９ｂｃを経由して弁口１１４ｂまでの通路）を表しており、分配通路１０５ｃは、メイン通路１０４から分配室１０２ｃまでの通路（開口部１１３ｃから弁室１９ｃｃを経由して弁口１１４ｃまでの通路）を、分配通路１０５ｄは、メイン通路１０４から分配室１０２ｄまでの通路（開口部１１３ｄから弁室１９ｄｃを経由して弁口１１４ｄまでの通路）を表している。

【0045】

これらの分配通路１０５ａ～１０５ｄは、メイン通路１０４の異なる位置から分岐しているが、最大分配室（ここでは分配室１０２ａ）への分配通路１０５ａ（以下、最大分配通路）が分岐する位置は、他の他の３つの分配室（ここでは分配室１０２ｂ～１０２ｄ）への分配通路１０５ｂ～１０５ｄが分岐する位置に対して、最も端の位置となっている。そして、最大分配通路（ここでは分配通路１０５ａ）が分岐する位置と、他の３つの分配通路１０５ｂ～１０５ｄが分岐する位置との間に、メイン通路１０４を絞るオリフィス部１１５が設けられると共に、メイン通路１０４に燃料ガスが流入する流入口１０３は、最大分配通路（ここでは分配通路１０５ａ）が分岐する側に設けられている。

【0046】

こうすれば、オリフィス部１１５の上流側は、オリフィス部１１５の下流側よりも、メイン通路１０４内の燃料ガスの圧力が高くなる。図７では、メイン通路１０４内の流入口１０３からオリフィス部１１５までの部分に、他の部分よりも細かな斜線が付されているのは、この部分では燃料ガスの圧力が他の部分よりも高くなっていることを表している。そして、分配通路１０５ａは、オリフィス部１１５の上流側のメイン通路１０４から分岐しているので、分配通路１０５ａの通路抵抗を十分に下げることができない場合でも、分配室１０２ａに対して十分な燃料ガスを供給することが可能となる。

【0047】

また、オリフィス部１１５によってメイン通路１０４が狭くなった狭窄部１１６の面積は、最大分配通路（ここでは分配通路１０５ａ）以外の分配通路１０５ｂ～１０５ｄがメイン通路１０４から分岐する部分の合計面積よりも大きな面積に設定されている。こうすれば、オリフィス部１１５を設けたことによって、分配室１０２ｂ～１０２ｄに供給される燃料ガスが不足する事態も回避することができる。

【0048】

一方、最大分配室以外の３つの分配室１０２ｂ～１０２ｄに供給される燃料ガスは、オリフィス部１１５よりも下流側のメイン通路１０４を通過し、これに伴って、オリフィス部１１５の下流側のメイン通路１０４内には、流れの方向に向かって燃料ガスの圧力低下が発生する。もっとも、オリフィス部１１５の下流側を流れる燃料ガスは、最大分配室である分配室１０２ａに燃料ガスを供給した残りの燃料ガスなので、それほど大きな流量となることはない。従って、メイン通路１０４内に生じる圧力低下もそれほど大きなものではない。図７中に太い一点鎖線で示した矢印は、オリフィス部１１５よりも下流側のメイン通路１０４内に生じる燃料ガスの流れを表している。また、オリフィス部１１５よりも下流側のメイン通路１０４内に付した斜線が、流れの方向に向かって次第に粗い斜線となっているのは、燃料ガスの圧力が少しずつ低下することを表している。このように、オリフィス部１１５よりも下流側のメイン通路１０４には、燃料ガスの流れに伴う圧力勾配が生じるが、圧力勾配の大きさは僅かなものとなる。このため、３つの分配通路１０５ｂ～１０５ｄがメイン通路１０４から分岐する位置での燃料ガスの圧力は、ほぼ同じような圧力となる。その結果、分配通路１０５ａ～１０５ｄの通路抵抗の大きさに応じて、分配通路１０５ｂ～１０５ｄに対して適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0049】

更に、本実施例のガスマニホールド１００では、図７に示したように、最小分配室（ここでは分配室１０２ｂ）への分配通路１０５ｂ（以下、最小分配通路）を、オリフィス部１１５の直ぐ下流側の位置から分岐させている。この理由は、オリフィス部１１５の下流側のメイン通路１０４内に圧力勾配が生じていることを利用して、各分配通路１０５ｂ～１０５ｄに供給される燃料ガスの流量を、より一層適切な流量とするためである。以下、この点について説明する。

【0050】

前述したように、分配通路１０５ａ～１０５ｄを形成する弁口１１４ａ～１１４ｄや電磁開閉弁１９ａ～１９ｄの大きさは、分配通路１０５ａ～１０５ｄを介して供給するべき燃料ガスの流量に応じて設定されている。このため、最小分配通路である分配通路１０５ｂの弁口１１４ｂや電磁開閉弁１９ｂは、他の弁口１１４ａ、１１４ｃ、１１４ｄや、電磁開閉弁１９ａ、１９ｃ、１９ｄに比べて小さくなり、電磁開閉弁１９ｂの弁室１９ｂｃも、他の電磁開閉弁１９ａ、１９ｃ、１９ｄの弁室１９ａｃ、１９ｃｃ、１９ｄｃよりも小さくなる。この小さな弁室１９ｂｃの中に、電磁開閉弁１９ｂの弁体１９ｂｖやバネ１９ｂｓが収納されるので、最小分配通路（ここでは分配通路１０５ｂ）の通路抵抗は、設計上の抵抗値よりも大きくなり易い。そこで、オリフィス部１１５よりも下流側のメイン通路１０４の中では、最も圧力が高い部分であるオリフィス部１１５の直ぐ下流側の位置から、最小分配通路（分配通路１０５ｂ）を分岐させることで、最小分配通路の通路抵抗が設計上の抵抗値よりも大きくなっても、適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0051】

図８は、本実施例のガスマニホールド１００のマニホールド本体１１０に形成された通路溝部１１１や、凹部１１２ａ～１１２ｄの具体的な形状を示した正面図である。図３を用いて前述したように、マニホールド本体１１０にシール部材１２０およびマニホールドカバー１３０を組み付けることによって、通路溝部１１１の部分がメイン通路１０４となり、凹部１１２ａの部分が分配室１０２ａ（本実施例では最大分配室）となり、凹部１１２ｂの部分が分配室１０２ｂ（本実施例では最小分配室）となり、凹部１１２ｃの部分が分配室１０２ｃに、凹部１１２ｄの部分が分配室１０２ｄとなる。

【0052】

図８に示されるように、４つの凹部１１２ａ～１１２ｄは、図面上で右端の位置に凹部１１２ａ（最大分配室を形成する凹部１１２ａ）が形成され、その左隣に、凹部１１２ｂ（最小分配室を形成する凹部１１２ｂ）が形成され、その左側に、残りの２つの凹部１１２ｃ、１１２ｄが形成されている。そして、これら４つの凹部１１２ａ～１１２ｄの下方に隣接する位置には、図面上で左右方向に延びる通路溝部１１１が形成されている。これに伴って、通路溝部１１１の側壁には、凹部１１２ａに連通する開口部１１３ａと、凹部１１２ｂに連通する開口部１１３ｂと、凹部１１２ｃに連通する開口部１１３ｃと、凹部１１２ｄに連通する開口部１１３ｄとが、図面上で右から左に向かって、この順番で開口している。

【0053】

尚、４つの凹部１１２ａ～１１２ｄは、逆方向に（従って、図面上で左から右に向かって）この順番で形成されていてもよい。この場合は、通路溝部１１１に４つの開口部１１３ａ～１１３ｄが開口する順番も逆になる。また、開口部１１３ａが連通する凹部１１２ａは最大分配室である分配室１０２ａを形成するから、凹部１１２ａに連通する開口部１１３ａを、以下では「最大開口部」と称するものとする。同様に、開口部１１３ｂが連通する凹部１１２ｂは最小分配室である分配室１０２ｂを形成するから、凹部１１２ｂに連通する開口部１１３ｂを、以下では「最小開口部」と称するものとする。

【0054】

図８に示すように、本実施例のマニホールド本体１１０の通路溝部１１１には、横一列に形成された開口部１１３ａ～１１３ｄに対して、開口部１１３ａ（最大開口部）と開口部１１３ｂ（最小開口部）との間の位置に、燃料ガスが流入する流入口１０３と、流入した燃料ガスの流れを開口部１１３ａ（最大開口部）に導流する導流部１１７とが形成されている。導流部１１７は、通路溝部１１１の底部１１１ｂから壁状に突設されており、導流部１１７の底部１１１ｂからの高さは、通路溝部１１１の深さよりは低いが、マニホールド本体１１０に対してシール部材１２０を介してマニホールドカバー１３０を取り付けた時に、導流部１１７の上端がシール部材１２０に接触する高さとなっている。また、導流部１１７が突設された部分では、通路溝部１１１の溝幅が狭められることによって狭窄部１１６が形成されている。

【0055】

本実施例のガスマニホールド１００には、このような導流部１１７が形成されているため、導流部１１７が図７中のオリフィス部１１５として機能することになる。その結果、図７を用いて前述したメカニズムによって、最大分配室を形成する凹部１１２ａに対して十分な燃料ガスを供給することが可能となる。また、導流部１１７よりも下流側では、初めに開口部１１３ｂ（最小開口部）が通路溝部１１１から分岐している。このため、最小分配室を形成する凹部１１２ｂに対して十分な燃料ガスを供給することが可能となり、その結果、全ての凹部１１２ａ～１１２ｄに対して適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0056】

また、図８に示したように、燃料ガスが流入する流入口１０３は、開口部１１３ａ（最大開口部）と開口部１１３ｂ（最小開口部）との間に設けられており、導流部１１７は燃料ガスの流れを開口部１１３ａの方向に導流する。このため、図８中に太い一点鎖線の矢印で示したように、燃料ガスの流れは開口部１１３ｂとは逆の方向に導流されることになり、開口部１１３ｂ～１１３ｄの方向には燃料ガスが流れにくくなる。その結果、狭窄部１１６での通路溝部１１１の面積を、開口部１１３ｂ～１１３ｄの開口面積の合計よりも大きな面積に設定しても、開口部１１３ｂ～１１３ｄに燃料ガスが流れすぎてしまうことが無いので、凹部１１２ａ（最大分配室）に十分な流量の燃料ガスを供給することができる。

【0057】

仮に、燃料ガスの流れを開口部１１３ｂとは逆の方向に導流しなかった場合、燃料ガスが開口部１１３ｂ～１１３ｄに流れすぎることを回避しようとすると、狭窄部１１６での通路溝部１１１の面積を小さくしなければならない。その結果、狭窄部１１６での面積を、開口部１１３ｂ～１１３ｄの開口面積の合計よりも小さくしなければならなくなると、開口部１１３ｂ～１１３ｄに対して十分な流量の燃料ガスを供給することが困難となる。これに対して、本実施例のガスマニホールド１００では、狭窄部１１６での通路溝部１１１の面積を、開口部１１３ｂ～１１３ｄの開口面積の合計よりも大きな面積に設定することができるので、凹部１１２ｂ～１１２ｄに対しても十分な流量の燃料ガスを供給することができる。その結果、４つの凹部１１２ａ～１１２ｄに対して、適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0058】

加えて、流入口１０３は、通路溝部１１１の底部１１１ｂに形成されている。このため、流入口１０３から流入する燃料ガスは、マニホールドカバー１３０に向かって（図８では、紙面の奥側から手前側に向かって）流入することになり、メイン通路１０４に流入した後は、（少なくとも燃料ガスの主流部分は）マニホールドカバー１３０に沿って（従って、通路溝部１１１の底部１１１ｂから離れた位置を）流れることになる。その一方で、図４に示したように、開口部１１３ａ～１１３ｄは、底部１１１ｂから近い側の通路溝部１１１の側壁１１１ａに開口している。このため、マニホールドカバー１３０に沿って流れる燃料ガスが、開口部１１３ａ～１１３ｄに直接流入することが無いので、何れかの開口部１１３ａ～１１３ｄに偏って燃料ガスが流入する事態を防止することができる。その結果、４つの凹部１１２ａ～１１２ｄに対して、適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0059】

更に加えて、導流部１１７よりも下流側に開口する開口部１１３ｂ～１１３ｄは、通路溝部１１１の側壁１１１ａが、通路溝部１１１の中央に向かって円弧上に突出した部分に開口している。仮に、開口部１１３ｂ～１１３ｄの何れかが、通路溝部１１１の側壁１１１ａが引っ込んだ位置に開口していた場合、その開口部には燃料ガスが供給されにくくなる。しかし、本実施例では、何れの開口部１１３ｂ～１１３ｄも、通路溝部１１１の側壁１１１ａが円弧上に突出した部分に開口しているので、燃料ガスが供給されにくい開口部が生じることがなく、その結果、何れの凹部１１２ａ～１１２ｄに対しても、適切な流量の燃料ガスを供給することが可能となる。

【0060】

また、通路溝部１１１に形成された導流部１１７は、通路溝部１１１の底部１１１ｂからの高さが、通路溝部１１１の深さよりも、シール部材１２０（図３参照）の圧縮代の分だけ低くなっている。このため、マニホールド本体１１０にシール部材１２０を介してマニホールドカバー１３０を取り付けた時に、導流部１１７の上端がシール部材１２０に接触するものの、シール部材１２０やマニホールドカバー１３０に対して反力を及ぼすことは無い。その結果、導流部１１７を設けても、シール部材１２０に掛かる面圧が低下して、メイン通路１０４内の燃料ガスが漏れてしまう事態を生じる虞が無い。

【0061】

以上、本実施例のガスマニホールド１００について説明したが、本発明は上記の実施例に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様で実施することが可能である。

【符号の説明】

【0062】

１…給湯器、 ２…排気口、 １０…燃焼装置、 １１…燃焼缶、
１２…バーナ、 １２ａ～１２ｄ…バーナ群、 １２ｆ…炎口、
１２ｏ…ガス流入口、 １３…燃焼ファン、 １４…点火プラグ、
１５…フレームロッド、 １６…ガス通路、 １７…元弁、
１８…比例弁、 １９ａ～１９ｄ…電磁開閉弁、 １９ａｃ～１９ｄｃ…弁室、
１９ａｓ～１９ｄｓ…バネ、 １９ａｖ～１９ｄｖ…弁体、 ２０…熱交換器、
２１…給水通路、 ２２…給湯通路、 ２３…流量センサ、
２４…給湯カラン、 １００…ガスマニホールド、 １０１…ノズル、
１０１ａ～１０１ｄ…ノズル群、 １０２ａ～１０２ｄ…分配室、
１０３…流入口、 １０４…メイン通路、 １０５ａ～１０５ｄ…分配通路、
１１０…マニホールド本体、 １１１…通路溝部、 １１１ａ…側壁、
１１１ｂ…底部、 １１２ａ～１１２ｄ…凹部、 １１３ａ～１１３ｄ…開口部、
１１４ａ～１１４ｄ…弁口、 １１５…オリフィス部、 １１６…狭窄部、
１１７…導流部、 １２０…シール部材、 １３０…マニホールドカバー、
１４０…取付ネジ。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】