(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-11-06
(45)【発行日】2023-11-14
(54)【発明の名称】表示パネル及び表示装置
(51)【国際特許分類】
G09F 9/302 20060101AFI20231107BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20231107BHJP
H10K 59/121 20230101ALI20231107BHJP
【FI】
G09F9/302 C
G09F9/30 338
G09F9/30 349D
G09F9/30 365
H10K59/121
(21)【出願番号】P 2022540645
(86)(22)【出願日】2020-11-27
(86)【国際出願番号】 CN2020132459
(87)【国際公開番号】W WO2021139444
(87)【国際公開日】2021-07-15
【審査請求日】2022-06-30
(31)【優先権主張番号】202010008641.7
(32)【優先日】2020-01-06
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】516189213
【氏名又は名称】クンシャン ゴー-ビシオノクス オプト-エレクトロニクス カンパニー リミテッド
【氏名又は名称原語表記】Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd.
【住所又は居所原語表記】Building 4, No. 1, Longteng Road, Development Zone, Kunshan, Jiangsu 215300, China
(74)【代理人】
【識別番号】110001210
【氏名又は名称】弁理士法人YKI国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】シュイ チュアンツィ
(72)【発明者】
【氏名】ザン ルー
(72)【発明者】
【氏名】シィエ ツェンファン
【審査官】村上 遼太
(56)【参考文献】
【文献】中国特許出願公開第110189639(CN,A)
【文献】特開2018-081916(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2019/0393286(US,A1)
【文献】中国特許出願公開第110278300(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第108735790(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第109801950(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第110265455(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第110504289(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第110599944(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第110649080(CN,A)
【文献】中国実用新案第208607570(CN,U)
【文献】中国特許出願公開第110503911(CN,A)
【文献】特表2022-550563(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G09F 9/00-9/46
H05B33/00-33/28
44/00
45/60
H10K50/00-99/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1の表示領域と、光透過率が前記第1の表示領域の光透過率よりも小さい第2の表示領域と、前記第1の表示領域と前記第2の表示領域との間に位置する遷移表示領域と、
前記第1の表示領域に位置する第1の画素ユニットと、
前記遷移表示領域に位置する第3の画素ユニットと、
前記遷移表示領域に位置し、前記第1の画素ユニットに電気的に接続され、前記第1の画素ユニットの表示を駆動するための第1の画素回路ユニットと、
前記遷移表示領域に位置し、前記第3の画素ユニットに電気的に接続され、前記第3の画素ユニットの表示を駆動するための第3の画素回路ユニットと、
を含み、
ここで、前記遷移表示領域は、複数のサブ領域に分けられ、各前記サブ領域は一つの前記第3の画素ユニットの占める領域に対応し、各前記サブ領域は、対応する前記第3の画素ユニットに電気的に接続された前記第3の画素回路ユニット及び少なくとも一つの前記第1の画素回路ユニットを収容する表示パネル。
【請求項2】
前記サブ領域は、複数行、複数列に配列され、前記第3の画素回路ユニットは複数行、複数列に配列され、
各行の前記第3の画素回路ユニットにおいて、隣接する前記第3の画素回路ユニットの間に第1の間隔領域を有し、前記第1の画素回路ユニットは前記第1の間隔領域に位置し、
隣接する行の前記第3の画素回路ユニットの間に第2の間隔領域を有し、前記第1の画素回路ユニットは前記第2の間隔領域に延びるリード線により前記第1の画素ユニットに電気的に接続された請求項1に記載の表示パネル。
【請求項3】
各前記第1の画素ユニットは、複数の第1のサブ画素を含み、各前記第1のサブ画素は第1の画素電極と、前記第1の画素電極に位置する第1の発光構造と、前記第1の発光構造に位置する第1の共通電極とを含む、
各前記第1の画素回路ユニットは、複数の第1の画素回路を含み、各前記第1の画素回路は対応する前記第1のサブ画素の前記第1の画素電極と電気的に接続された請求項1に記載の表示パネル。
【請求項4】
各前記第1のサブ画素において、前記第1の画素電極の数は、二つ以上であり、前記第1の発光構造の数は、前記第1の画素電極の数と同じであり、且つ一対一に対応して設けられ、各前記第1のサブ画素の全ての前記第1の画素電極は互いに電気的に接続され、且つ同一の前記第1の画素回路ユニットに電気的に接続された請求項3に記載の表示パネル。
【請求項5】
基板を含み、
前記基板における各前記第1の画素電極の正投影は、一つの第1のパターンユニットで構成されるか又は二つ以上の第1のパターンユニットが接合されて構成され、前記第1のパターンユニットは、円形、楕円形、ダンベル形、瓢箪形、矩形で構成されたグループから選択された少なくとも一つを含み、
前記基板における各前記第1の発光構造の正投影は、一つの第2のパターンユニットで構成されるか又は二つ以上の第2のパターンユニットが接合されて構成され、前記第2のパターンユニットは、円形、楕円形、ダンベル形、瓢箪形、矩形で構成されたグループから選択された少なくとも一つを含む請求項3に記載の表示パネル。
【請求項6】
前記第1の発光構造は、発光層を含み、
前記第1の発光構造は、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層又は電子輸送層のうちの少なくとも1つをさらに含み、
前記第1の画素電極は、光透過電極であり、又は、
前記第1の画素電極は、反射電極であり、前記第1の画素電極は、第1の光透過導電層と、前記第1の光透過導電層
上に位置する反射層と、前記反射層
上に位置する第2の光透過導電層とを含む請求項3に記載の表示パネル。
【請求項7】
各前記第3の画素ユニットは、複数の第3のサブ画素を含み、各前記第3のサブ画素は、第3の画素電極と、前記第3の画素電極に位置する第3の発光構造と、前記第3の発光構造に位置する第3の共通電極を含み、
各前記第3の画素回路ユニットは、複数の第3の画素回路を含み、各前記第3の画素回路は対応する前記第3のサブ画素の前記第3の画素電極と電気的に接続された請求項1に記載の表示パネル。
【請求項8】
各前記第3のサブ画素において、前記第3の画素電極の数は二つ以上であり、前記第3の発光構造の数は前記第3の画素電極の数と同じであり、且つ一対一に対応して設けられ、各前記第3のサブ画素の全ての前記第3の画素電極は互いに電気的に接続され、且つ同一の前記第3の画素回路に電気的に接続された請求項7に記載の表示パネル。
【請求項9】
前記第1の表示領域の画素密度と前記第2の表示領域の画素密度とは異なり、前記遷移表示領域の画素密度は、前記第1の表示領域又は前記第2の表示領域の画素密度と同じである請求項1に記載の表示パネル。
【請求項10】
請求項1~9のいずれか一項に記載の表示パネルを含み、
前記表示パネルは、対向する第1の面及び第2の面を含み、前記第1の面は表示面であり、
感光アセンブリをさらに含み、前記感光アセンブリは、前記表示パネルの前記第2の面側に位置し、前記第1の表示領域の位置に対応する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願は、表示の分野に関し、具体的には表示パネル及び表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
本願は、2020年1月6日に提出された出願番号が202010008641.7であり、発明名称が「表示パネル及び表示装置」である中国特許出願の優先権を主張し、その全ての内容は引用により本願に組み込まれている。
【0003】
電子機器の急速な発展に伴い、ユーザの画面占有率に対する要求がますます高くなり、電子機器のフルスクリーン表示が業界からますます注目されている。
【0004】
従来の電子機器として、例えば携帯電話、タブレットコンピュータ等は、フロントカメラ、受話器及び赤外線感知素子等を集積する必要がある。従来の技術において、表示画面に溝(Notch)又は孔を設けることにより、外光がスクリーン上の溝又は孔によりスクリーンの下方に位置する感光素子に入ることができる。しかし、これらの電子機器はいずれも本当の意味でのフルスクリーンではなく、画面全体の各領域にいずれも表示することができず、例えばそのフロントカメラの対応領域には画面を表示することができない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本願は、少なくとも一部の領域が光を透過可能であり且つ表示可能であり、感光アセンブリのアンダースクリーン集積を容易にすることを実現する表示パネル及び表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
一側面では、本願の実施例は、第1の表示領域と、光透過率が第1の表示領域の光透過率よりも小さい第2の表示領域と、第1の表示領域と第2の表示領域との間に位置する遷移表示領域と、を有する表示パネルを提供し、表示パネルは、第1の表示領域に位置する第1の画素ユニットと、遷移表示領域に位置する第3の画素ユニットと、遷移表示領域に位置し、第1の画素ユニットに電気的に接続され、第1の画素ユニットの表示を駆動するための第1の画素回路ユニットと、遷移表示領域に位置し、第3の画素ユニットに電気的に接続され、第3の画素ユニットの表示を駆動するための第3の画素回路ユニットと、を含み、ここで、遷移表示領域は、複数のサブ領域に分けられ、各サブ領域は、一つの第3の画素ユニットの占める領域に対応し、各サブ領域は、対応する第3の画素ユニットに電気的に接続された第3の画素回路ユニット及び少なくとも一つの第1の画素回路ユニットを収容する。
【0007】
他側面では、本願の実施例は、上記したいずれかの実施形態に係る表示パネルを含む表示装置を提供する。
【0008】
本願の実施例に係る表示パネルによれば、第1の表示領域の光透過率は、第2の表示領域の光透過率よりも大きく、それにより表示パネルは、第1の表示領域の背面に感光アセンブリを集積することができ、例えばカメラの感光アセンブリのアンダースクリーン集積を実現することができると共に、第1の表示領域は、画面を表示することができ、表示パネルの表示面積を向上させ、表示装置のフルスクリーン設計を実現することができる。第1の画素ユニットの表示を駆動するための第1の画素回路ユニットは、遷移表示領域に位置し、それにより第1の表示領域内の配線構造を減少させ、さらに第1の表示領域の光透過率を向上させる。
【0009】
遷移表示領域は、複数のサブ領域に分けられ、各サブ領域は、対応する第3の画素ユニットに電気的に接続された第3の画素回路ユニット及び少なくとも一つの第1の画素回路ユニットを収容する。遷移表示領域の各第3の画素回路ユニットは、対応して駆動される第3の画素ユニットの占める領域内に位置し、第3の画素回路ユニットと対応する第3の画素ユニットの位置が近いことで、両者の電気的接続を容易にし、長いリード線により両者の電気的接続を実現することを回避し、それにより遷移表示領域でより多くの配線空間を節約し、第1の画素回路ユニットと第1の画素ユニットとを接続するためのリード線の配置を容易にし、第1の画素回路ユニット、第3の画素回路ユニットの遷移表示領域での配線衝突の問題を回避することができる。遷移表示領域は、第1の画素回路ユニットと第1の画素ユニットとを接続するためのリード線を配置するためのより多くの空間を有して、さらにより多くの該リード線を配置することができ、第1の表示領域の画素密度を向上させるための駆動基盤を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【
図1】本願の一つの実施例に係る表示パネルの平面概略図である。
【
図2】
図1におけるP領域の部分拡大概略図である。
【
図3a】
図1におけるQ領域の部分拡大概略図である。
【
図3b】
図1におけるQ領域の部分拡大概略図である。
【
図3c】
図1におけるQ領域の部分拡大概略図である。
【
図4】
図1におけるR領域の部分拡大概略図である。
【
図5】
図2におけるM-M方向の断面概略図である。
【
図6】
図3aにおけるN-N方向の断面概略図である。
【
図7】本願の一つの代替実施例に係る表示パネルの遷移表示領域の平面視での部分模式図である。
【
図8】本願の一つの実施例に係る表示装置の平面概略図である。
【
図9】
図8におけるZ?Z方向の断面図を示している。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本願の目的、技術案及び利点をより明確にするために、以下に図面及び具体的な実施例を参照して、本願をさらに詳細に説明する。理解すべきことは、ここで説明された具体的な実施例は単に本願を説明するように構成され、本願を限定するものではない。当業者にとって、本願は、これらの具体的な細部のうちのいくつかの細部を必要とせずに実施することができる。
【0012】
例えば、携帯電話及びタブレットコンピュータ等の電子機器において、表示パネルを設置する側にフロントカメラ、赤外線センサ、近接光センサ等の感光アセンブリを集積する必要がある。例えば、上記電子機器に光透過表示領域を設置し、感光アセンブリを光透過表示領域の背面に設置することができ、感光アセンブリが正常に動作することを保証する状況で、電子装置のフルスクリーン表示を実現することができる。
【0013】
光透過表示領域の光透過率を向上させるために、光透過表示領域と非光透過表示領域との間に遷移表示領域を設置することができ、それにより本来光透過表示領域に位置する画素回路を遷移表示領域に設置することができる。しかしながら、遷移表示領域は、遷移表示領域のサブ画素の表示を駆動するための画素回路を配置する必要があり、また光透過表示領域のサブ画素の表示を駆動するための画素回路を配置する必要があり、遷移表示領域内の各画素回路の合理的なレイアウトに対するより高い要求がある。
【0014】
上記問題を解決するために、本願の実施例は、表示パネル及び表示装置を提供し、以下に図面を参照して表示パネル及び表示装置の各実施例を説明する。
【0015】
本願の実施例は、表示パネルを提供し、該表示パネルは、有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode、OLED)表示パネルであってもよい。
【0016】
図1は、本願の一つの実施例に基づいて提供される表示パネルの平面概略図である。表示パネル100は、第1の表示領域AA1と、第2の表示領域AA2と、第1の表示領域AA1と第2の表示領域AA2との間に位置する遷移表示領域TAとを有する。いくつかの実施例において、表示パネル100はさらに第1の表示領域AA1、第2の表示領域AA2を取り囲む非表示領域NAを有する。第1の表示領域AA1の光透過率は、第2の表示領域AA2の光透過率よりも大きい。
【0017】
本明細書において、第1の表示領域AA1の光透過率は15%以上である。第1の表示領域AA1の光透過率が15%よりも大きく、さらに40%よりも大きく、さらにより高い光透過率を有することを確保するために、本実施例における表示パネル100の第1の表示領域AA1の少なくとも一部の機能膜層の光透過率は、いずれも80%よりも大きく、さらに少なくとも一部の機能膜層の光透過率は、いずれも90%よりも大きい。
【0018】
本願の実施例に係る表示パネル100によれば、第1の表示領域AA1の光透過率は第2の表示領域AA2の光透過率よりも大きく、それにより表示パネル100は第1の表示領域AA1の背面に感光アセンブリを集積することができ、例えばカメラの感光アセンブリのアンダースクリーン集積を実現すると共に、第1の表示領域AA1は画面を表示することができ、表示パネル100の表示面積を向上させ、表示装置のフルスクリーン設計を実現することができる。
【0019】
図2は、
図1におけるP領域の部分拡大模式図である。
図3a、
図3b及び
図3cは、
図1におけるQ領域の部分拡大模式図であり、ここで遷移表示領域TAの構造を明確に示すために、
図3a、
図3b、
図3cはそれぞれ異なる部分を略して示す。
図4は、
図1におけるR領域の部分拡大模式図である。
【0020】
表示パネル100は、第1の画素ユニットPU1と、第2の画素ユニットと、第3の画素ユニットPU3と、第1の画素回路ユニットCU1と、第2の画素回路ユニットと、第3の画素回路ユニットCU3とを含む。
【0021】
第1の画素ユニットPU1は、第1の表示領域AA1に位置する。第2の画素ユニットは第2の表示領域AA2に位置する。第3の画素ユニットPU3は遷移表示領域TAに位置する。
【0022】
第1の画素回路ユニットCU1は、遷移表示領域TAに位置し、第1の画素回路ユニットCU1は、第1の画素ユニットPU1に電気的に接続され、第1の画素ユニットPU1の表示を駆動するために用いられる。
【0023】
第2の画素回路ユニットは、第2の表示領域AA2に位置し、第2の画素回路ユニットは第2の画素ユニットに電気的に接続され、第2の画素ユニットの表示を駆動するために用いられる。
【0024】
第3の画素回路ユニットCU3は、遷移表示領域TAに位置し、第3の画素回路ユニットCU3は、第3の画素ユニットPU3に電気的に接続され、第3の画素ユニットPU3の表示を駆動するために用いられる。
【0025】
図3a、
図3b及び
図3cに示すように、遷移表示領域TAは、複数のサブ領域SAに分けられ、
図3a、
図3b及び
図3cに破線で各サブ領域SAの境界を示す。各サブ領域SAは、一つの第3の画素ユニットPU3の占める領域に対応する。ここで、各サブ領域SAは対応する第3の画素ユニットPU3に電気的に接続された第3の画素回路ユニットCU3及び少なくとも一つの第1の画素回路ユニットCU1を収容する。
【0026】
遷移表示領域TAの構造を明確に示すために、
図3aにおいてリード線構造を隠し、各サブ領域SA内に第3の画素ユニットPU3、第3の画素回路ユニットCU3及び第1の画素回路ユニットCU1を有することを分かり易く示す。
図3bにおいて、第1の画素回路ユニットCU1を隠し、各サブ領域SA内の第3の画素回路ユニットCU3と対応する第3の画素ユニットPU3との電気的接続関係を分かり易く示す。
図3bに示すように、第3の画素回路ユニットCU3は、貫通孔及び少量のリード線により第3の画素ユニットPU3に電気的に接続される。
図3cにおいて、第3の画素ユニットPU3を隠し、第1の画素回路ユニットCU1と第3の画素回路ユニットCU3との相対的な位置関係を分かり易く示す。
【0027】
本願の実施例に係る表示パネル100によれば、第1の画素ユニットPU1の表示を駆動するための第1の画素回路ユニットCU1は、遷移表示領域TAに位置することで、第1の表示領域AA1内の配線構造を減少させ、さらに第1の表示領域AA1の光透過率を向上させる。
【0028】
遷移表示領域TAの各第3の画素回路ユニットCU3は、対応して駆動される第3の画素ユニットPU3が占める領域内に位置し、第3の画素回路ユニットCU3と対応する第3の画素ユニットPU3の位置が近いことで、両者の電気的接続を容易にし、長いリード線により両者の電気的接続を実現することを回避し、それにより遷移表示領域TAでより多くの配線空間を節約し、第1の画素回路ユニットCU1と第1の画素ユニットPU1とを接続するためのリード線の配置を容易にし、第1の画素回路ユニットCU1、第3の画素回路ユニットCU3の遷移表示領域TAでの配線衝突の問題を回避することができる。遷移表示領域TAは、第1の画素回路ユニットCU1及び第1の画素ユニットPU1を接続するためのリード線を配置するためのより多くの空間を有し、さらにより多くの該リード線を配置することができ、第1の表示領域AA1の画素密度(Pixels Per Inch、PPI)を向上させるための駆動基盤を提供することができる。
【0029】
いくつかの実施例において、第1の表示領域AA1の画素密度と第2の表示領域AA2の画素密度が異なり、遷移表示領域TAの画素密度は、第1の表示領域AA1又は第2の表示領域AA2の画素密度と同じであり、それにより表示パネル100の表示の差異をある程度低減させ、表示パネル100の表示の均一性を向上させる。
【0030】
いくつかの実施例において、サブ領域SAは、複数行、複数列に配列され、第3の画素回路ユニットCU3は、複数行、複数列に配列される。
図3a、
図3b及び
図3cにおいて、第3の画素回路ユニットCU3が配列する行方向は、例えば図における横方向であり、第3の画素回路ユニットCU3が配列する列方向は、例えば図における縦方向である。他のいくつかの実施例において、第3の画素回路ユニットCU3の配列する行方向、列方向は他の延伸方向であってもよく、行方向と列方向とは互いに交差する。理解されるように、いくつかの実施例において、上記行及び列は相互に交換することができる。
【0031】
各行の第3の画素回路ユニットCU3において、隣接する第3の画素回路ユニットCU3の間に第1の間隔領域を有し、第1の画素回路ユニットCU1は該第1の間隔領域に位置する。本実施例において、各行の第3の画素回路ユニットCU3において、隣接する第3の画素回路ユニットCU3ごとの間に第1の画素回路ユニットCU1が設けられる。
【0032】
いくつかの実施例において、隣接する行の第3の画素回路ユニットCU3の間に第2の間隔領域を有し、第1の画素回路ユニットCU1は第2の間隔領域に延びるリード線170により第1の画素ユニットPU1の第1のサブ画素と電気的に接続される。各第2の間隔領域は第1の表示領域AA1の縁部まで延伸することができ、それによりリード線170は整列して配置され、且つ第2の間隔領域を介して第1の表示領域AA1内に延伸し、複数の第2の間隔領域の存在によりリード線170の配置可能な面積を向上させる。第1の表示領域AA1の画素密度が向上する場合、遷移表示領域TAは依然としてより多くのリード線170を配置するためのより多くの空間を有して、より高い画素密度の光透過可能な第1の表示領域AA1の表示に対し駆動保障を提供する。
【0033】
図5は、
図2におけるM-M方向の断面概略図である。いくつかの実施例において、表示パネル100は、基板101、基板101に位置するデバイス層102及びデバイス層102に位置する画素定義層103を含む。基板101は、ガラス、ポリイミド(Polyimide、PI)等の光透過材料で製造することができる。デバイス層102は、第1の画素回路ユニットCU1と、第2の画素回路ユニットと、第3の画素回路ユニットCU3とを含んでもよい。画素定義層103は、表示パネル100の各サブ画素の少なくとも一部の構造を収容するための画素開口を含む。
【0034】
いくつかの実施例において、各第1の画素ユニットPU1は、複数の第1のサブ画素110を含む。各第1のサブ画素110は、第1の画素電極111と、第1の画素電極111に位置する第1の発光構造112と、第1の発光構造112に位置する第1の共通電極113とを含む。第1の画素電極111、第1の共通電極113の一方はアノード、他方はカソードである。本明細書では、第1の画素電極111がアノードであり、第1の共通電極113がカソードであることを例として説明する。
【0035】
いくつかの実施例において、各第1の画素回路ユニットCU1は、複数の第1の画素回路140を含み、各第1の画素回路140は、対応する第1のサブ画素110の第1の画素電極111と電気的に接続される。
【0036】
画素定義層103の第1の表示領域AA1に位置する少なくとも一部の画素開口は、第1の発光構造112を収容するために用いられる。
【0037】
いくつかの実施例において、第1の画素電極111は、光透過電極である。いくつかの実施例において、第1の画素電極111は、酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide、ITO)層又は酸化インジウム亜鉛(Indium Zinc Oxide、IZO)層を含む。いくつかの実施例において、第1の画素電極111は、反射電極であり、それにより形成された第1のサブ画素110の表示効果がより良い。反射電極は、第1の光透過導電層と、第1の光透過導電層に位置する反射層と、反射層に位置する第2の光透過導電層とを含む。ここで、第1の光透過導電層、第2の光透過導電層は、ITO、IZOなどであってもよく、反射層は、金属層であってもよく、例えば銀材質で製造される。
【0038】
第1の発光構造112は、発光層(Emitting Layer、EML)を含むことができ、EML発光の色の違いに基づいて、形成された第1のサブ画素110を色の違いに応じて複数種類に分けることができる。一例において、第1のサブ画素110は、赤色光を発する第1のサブ画素110、緑色光を発する第1のサブ画素110及び青色光を発する第1のサブ画素110を含み、当然のことながら、他の例においてこれらに限定されない。第1の発光構造112の設計需要に応じて、第1の発光構造112は、さらに正孔注入層(Hole Inject Layer、HIL)、正孔輸送層(Hole Transport Layer、HTL)、電子注入層(Electron Inject Layer、EIL)又は電子輸送層(Electron Transport Layer、ETL)のうちの少なくとも1つを含むことができる。
【0039】
いくつかの実施例において、各第1のサブ画素110において、第1の画素電極111の数は二つ以上であり、第1の発光構造112の数は第1の画素電極111の数と同じであり且つ一対一に対応して設けられる。各第1のサブ画素110の全ての第1の画素電極111は互いに電気的に接続され、且つ同一の第1の画素回路140に電気的に接続される。各第1のサブ画素110における第1の画素電極111の数が二つ以上である場合、各第1のサブ画素110が含む第1の発光構造112の発光色は同じであることにより、各第1のサブ画素110の複数の第1の発光構造112が同一の第1の画素回路140により駆動して表示される。
【0040】
いくつかの実施例において、基板101における各第1の画素電極111の正投影は一つの第1のパターンユニットで構成されるか又は二つ以上の第1のパターンユニットが接合されて構成され、第1のパターンユニットは円形、楕円形、ダンベル形、瓢箪形、矩形で構成されたグループから選択された少なくとも一つを含み、表示パネル100の第1の表示領域AA1の光線に対する回折現象を減少させることができる。
【0041】
いくつかの実施例において、基板101における各第1の発光構造112の正投影は一つの第2のパターンユニットで構成されるか又は二つ以上の第2のパターンユニットが接合されて構成され、第2のパターンユニットは円形、楕円形、ダンベル形、瓢箪形、矩形で構成されたグループから選択された少なくとも一つを含み、表示パネル100の第1の表示領域AA1の光線に対する回折現象を減少させることができる。
【0042】
いくつかの実施例において、各第2の画素ユニットは複数の第2のサブ画素を含む。各第2のサブ画素は、第2の画素電極と、第2の画素電極に位置する第2の発光構造と、第2の発光構造に位置する第2の共通電極とを含む。
【0043】
いくつかの実施例において、各第2の画素回路ユニットは複数の第2の画素回路を含み、各第2の画素回路は対応する第2のサブ画素の第2の画素電極と電気的に接続される。
【0044】
図6は、
図3aにおけるN-N方向の断面概略図である。いくつかの実施例において、各第3の画素ユニットPU3は複数の第3のサブ画素130を含む。各第3のサブ画素130は第3の画素電極131、第3の画素電極131に位置する第3の発光構造132及び第3の発光構造132に位置する第3の共通電極133を含む。
【0045】
いくつかの実施例において、各第3の画素回路ユニットCU3は複数の第3の画素回路160を含み、各第3の画素回路160は対応する第3のサブ画素130の第3の画素電極131と電気的に接続される。
【0046】
第2のサブ画素、第3のサブ画素130の層構造は第1のサブ画素110の層構造と類似し、ここで詳述しない。
【0047】
いくつかの実施例において、各第3のサブ画素130において、第3の画素電極131の数は二つ以上であり、第3の発光構造132の数は第3の画素電極131の数と同じであり且つ一対一に対応して設けられる。各第3のサブ画素130の全ての第3の画素電極131は互いに電気的に接続され、且つ同一の第3の画素回路160と電気的に接続される。各第3のサブ画素130における第3の画素電極131の数が二つ以上である場合、各第3のサブ画素130が含む第3の発光構造132の発光色は同じであることにより、各第3のサブ画素130の複数の第3の発光構造132が同一の第3の画素回路160により表示駆動される。
【0048】
例示的に、表示パネル100は、さらに封止層及び封止層の上方に位置する偏光板及び蓋板を含むことができ、封止層の上方に蓋板を直接設置してもよく、偏光板を設置する必要がなく、又は少なくとも第1の表示領域AA1の封止層の上方に蓋板を直接設置し、偏光板を設置する必要がなく、偏光板が第1の表示領域AA1の下方に対応して設置された感光素子の光線の収集量に対し影響を与えることを回避し、当然のことながら、第1の表示領域AA1の封止層の上方に偏光板を設置してもよい。
【0049】
上記実施例において、各サブ領域SAに、対応する第3の画素ユニットPU3に電気的に接続された第3の画素回路ユニットCU3及び一つの第1の画素回路ユニットCU1を収容することを例として説明したが、理解されるように、各サブ領域SAに収容された第1の画素回路ユニットCU1の数はこれらに限定されない。
【0050】
図7は、本願の代替実施例が提供する表示パネルの遷移表示領域の平面視での部分模式図であり、
図7において、第3の画素ユニットPU3を隠し、第1の画素回路ユニットCU1と第3の画素回路ユニットCU3との相対的な位置関係を分かり易く示す。ここで、代替実施例が提供する表示パネルの部分構造は、上記した実施例が提供する表示パネルの構造と同じであり、ここで詳述しないが、以下は両者の相違点を説明する。
【0051】
代替実施例が提供する表示パネルは、第1の画素ユニットと、第3の画素ユニットPU3と、第1の画素回路ユニットCU1と、第3の画素回路ユニットCU3とを備えている。表示パネルの遷移表示領域TAは、複数のサブ領域SAに分けられ、各サブ領域SAは一つの第3の画素ユニットPU3が占める領域に対応する。
【0052】
上記した実施例と異なり、代替実施例において、各サブ領域SAは、対応する第3の画素ユニットPU3に電気的に接続された第3の画素回路ユニットCU3の他に、二つの第1の画素回路ユニットCU1を収容する。
【0053】
各第1の画素回路ユニットCU1は、複数の第1の画素回路140を含み、各第1の画素回路140は対応する第1のサブ画素に電気的に接続される。各第3の画素回路ユニットCU3は、複数の第3の画素回路160を含み、各第3の画素回路160は対応する第3のサブ画素に電気的に接続される。
【0054】
サブ領域SAは、複数行、複数列に配列され、第3の画素回路ユニットCU3は複数行、複数列に配列される。ここで、各行の第3の画素回路ユニットCU3において、隣接する第3の画素回路ユニットCU3の間に第1の間隔領域があり、且つ隣接する二つの第3の画素回路ユニットCU3ごとの間の第1の間隔領域内に二つの第1の画素回路ユニットCU1が設けられる。隣接する行の第3の画素回路ユニットCU3の間に第2の間隔領域を有し、第1の画素回路ユニットCU1は第2の間隔領域に延びるリード線170により第1の表示領域の第1の画素ユニットと電気的に接続され、それにより第1の表示領域の第1の画素ユニットの表示を駆動する。
【0055】
以上の実施例において、各サブ領域SA内に第1の画素回路ユニットCU1を収容する数は例示に過ぎず、他のいくつかの実施例において、各サブ領域SAに3つ、4つ、5つ等の他の数の第1の画素回路ユニットCU1を収容することができる。各サブ領域SAにおいて第1の画素回路ユニットCU1、第3の画素回路ユニットCU3の配列方式も上記の例に限定されず、第3の画素回路ユニットCU3は各サブ領域SAのエッジ領域に設けられてもよく、非エッジ領域に設けられてもよい。第3の画素回路ユニットCU3は行方向において各サブ領域SAの端部に位置してもよく、行方向において各サブ領域SAの端部以外に位置してもよい。
【0056】
また、各第1の画素回路ユニットCU1が含む第1の画素回路140の数、各第3の画素回路ユニットCU3が含む第3の画素回路160の数も上記の例に限定されず、各第1の画素ユニットPU1が含む第1のサブ画素110の数、各第3の画素ユニットPU3が含む第3のサブ画素130の数に基づいて対応して配置を行うことができる。
【0057】
本願の実施例は、さらに表示装置を提供し、該表示装置は上記何れかの実施形態の表示パネル100を含むことができる。以下は一つの実施例の表示装置を例として説明し、該実施例において、表示装置は上記実施例の表示パネル100を含む。
【0058】
図8は、本願の一つの実施例が提供する表示装置の平面模式図であり、
図9は
図8におけるZ-Z方向の断面図を示す。本実施例の表示装置において、表示パネル100は上記のうちの一つの実施例の表示パネル100であってもよく、表示パネル100は第1の表示領域AA1、第2の表示領域AA2及び第1の表示領域AA1と第2の表示領域AA2との間に位置する遷移表示領域TAを有する。いくつかの実施例において、表示パネル100はさらに第1の表示領域AA1、第2の表示領域AA2を取り囲む非表示領域NAを有する。第1の表示領域AA1の光透過率は、第2の表示領域AA2の光透過率よりも大きい。
【0059】
表示パネル100は、対向する第1の面S1及び第2の面S2を含み、ここで第1の面S1は表示面である。表示装置は感光アセンブリ200をさらに含み、該感光アセンブリ200は表示パネル100の第2の面S2側に位置し、感光アセンブリ200は第1の表示領域AA1の位置に対応する。
【0060】
感光アセンブリ200は、外部画像情報を収集するための画像収集装置であってもよい。本実施例において、感光アセンブリ200は、相補型金属酸化物半導体(Complementary Metal Oxide Semiconductor、CMOS)画像収集装置であり、他のいくつかの実施例において、感光アセンブリ200は、電荷結合素子(Charge-Coupled Device、CCD)画像収集装置などの他の形式の画像収集装置であってもよい。理解されるように、感光アセンブリ200は画像収集装置に限定されず、例えばいくつかの実施例において、感光アセンブリ200は赤外線センサ、近接センサ、赤外線レンズ、投光感知素子、環境光センサ及びドットマトリクスプロジェクタなどの光センサであってもよい。また、表示装置は表示パネル100の第2の面S2側にさらに例えば受話器、スピーカなどの他の部材を集積することができる。
【0061】
本願の実施例に係る表示装置によれば、第1の表示領域AA1の光透過率は第2の表示領域AA2の光透過率よりも大きく、それにより表示パネル100は第1の表示領域AA1の背面に感光アセンブリ200を集積することができ、例えば画像収集装置の感光アセンブリ200のアンダースクリーン集積を実現すると共に、第1の表示領域AA1は画面を表示することができ、表示パネル100の表示面積を向上させ、表示装置のフルスクリーン設計を実現することができる。
【0062】
表示パネル100は、第1の画素ユニットPU1と、第2の画素ユニットと、第3の画素ユニットPU3と、第1の画素回路ユニットCU1と、第2の画素回路ユニットと、第3の画素回路ユニットCU3とを含む。第1の画素ユニットPU1は第1の表示領域AA1に位置する。第2の画素ユニットは第2の表示領域AA2に位置する。第3の画素ユニットPU3は遷移表示領域TAに位置する。第1の画素回路ユニットCU1は遷移表示領域TAに位置し、第1の画素回路ユニットCU1は第1の画素ユニットPU1に電気的に接続され、第1の画素ユニットPU1の表示を駆動するために用いられる。第2の画素回路ユニットは第2の表示領域AA2に位置し、第2の画素回路ユニットは第2の画素ユニットに電気的に接続され、第2の画素ユニットの表示を駆動するために用いられる。第3の画素回路ユニットCU3は遷移表示領域TAに位置し、第3の画素回路ユニットCU3は第3の画素ユニットPU3に電気的に接続され、第3の画素ユニットPU3の表示を駆動するために用いられる。
【0063】
本願の実施例に係る表示パネル100によれば、第1の画素ユニットPU1の表示を駆動するための第1の画素回路ユニットCU1は遷移表示領域TAに位置することで、第1の表示領域AA1内の配線構造を減少させ、さらに第1の表示領域AA1の光透過率を向上させる。
【0064】
遷移表示領域TAは、複数のサブ領域SAに分けられ、各サブ領域SAは対応する第3の画素ユニットPU3に電気的に接続された第3の画素回路ユニットCU3及び少なくとも一つの第1の画素回路ユニットCU1を収容する。遷移表示領域TAの各第3の画素回路ユニットCU3は対応して駆動される第3の画素ユニットPU3が占める領域内に位置し、第3の画素回路ユニットCU3と対応する第3の画素ユニットPU3の位置が近いことで、両者の電気的接続を容易にし、長いリード線により両者の電気的接続を実現することを回避し、それにより遷移表示領域TAでより多くの配線空間を節約し、第1の画素回路ユニットCU1と第1の画素ユニットPU1とを接続するためのリード線の配置を容易にし、第1の画素回路ユニットCU1、第3の画素回路ユニットCU3の遷移表示領域TAでの配線衝突の問題を回避することができる。遷移表示領域TAは、より多くの空間を有して第1の画素回路ユニットCU1及び第1の画素ユニットPU1を接続するためのリード線を配置し、さらにより多くの該リード線を配置することができ、第1の表示領域AA1の画素密度を向上させるための駆動基盤を提供することができる。
【0065】
本願のように前記実施例によれば、これらの実施例は全ての細部を詳述するものではなく、本願が前記具体的な実施例だけであることを制限するものではない。明らかに、以上の説明によれば、多くの修正及び変更を行うことができる。本明細書はこれらの実施例を選択して具体的に説明することで、本願の原理及び実際の応用をよりよく説明し、当業者が本願及び本願の基盤での修正使用をよく利用することができる。本願は特許請求の範囲及びその全ての範囲及び等価物により限定されるものである。