特許 7381238 ガラス基材の搬送装置、積層ガラスの製造装置および製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-07

(45)【発行日】2023-11-15

(54)【発明の名称】ガラス基材の搬送装置、積層ガラスの製造装置および製造方法

(51)【国際特許分類】

   B65H 20/02 20060101AFI20231108BHJP

   C03B 35/00 20060101ALI20231108BHJP

   B65H 27/00 20060101ALI20231108BHJP

【ＦＩ】

B65H20/02 Z

C03B35/00

B65H27/00 Z

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2019138891

(22)【出願日】2019-07-29

(65)【公開番号】P2021020785

(43)【公開日】2021-02-18

【審査請求日】2022-06-30

(73)【特許権者】

【識別番号】000003964

【氏名又は名称】日東電工株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103517

【弁理士】

【氏名又は名称】岡本 寛之

(74)【代理人】

【識別番号】100149607

【弁理士】

【氏名又は名称】宇田 新一

(72)【発明者】

【氏名】西森 才将

(72)【発明者】

【氏名】村上 尚史

(72)【発明者】

【氏名】梨木 智剛

【審査官】児玉 由紀

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１６－０４１８４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２７１６１９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１０１２７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１８／０１５１８５１（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２０１９－１１６３５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－１４４４１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ３２Ｂ １／００－４３／００

Ｂ６５Ｈ ２０／００－２０／４０

２３／００－２３／１６

２３／２４－２３／３４

２７／００

Ｃ０３Ｂ ２３／００－３５／２６

４０／００－４０／０４

Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８

Ｆ１６Ｃ １３／００－１５／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

可撓性を有するガラス基材を繰り出すように構成される繰出ロールと、
保護材を繰り出すように構成される保護材繰出ロールと、
前記ガラス基材と前記保護材とを備える搬送基材を巻き取るように構成される巻取ロールと、
前記ガラス基材の搬送方向における前記繰出ロールおよび前記巻取ロールの間に配置されており、前記ガラス基材を搬送するための動力が付与されるように構成される駆動ロールである、第１駆動ロールおよび第２駆動ロールと、
前記第２駆動ロールと隣接して対向配置されるニップロールとを備え、
前記第１駆動ロールは、前記搬送方向における前記繰出ロールおよび前記第２駆動ロールの間に配置され、
前記第２駆動ロールは、前記搬送方向における前記第１駆動ロールおよび前記巻取ロールの間に配置され、
前記ガラス基材は、前記第１駆動ロールにより駆動されて、前記第２駆動ロールに搬送され、一方、前記保護材は、前記ガラス基材とは別に、前記第２駆動ロールに搬送され、
前記第２駆動ロールに搬送された前記ガラス基材および前記保護材は、前記第２駆動ロールおよび前記ニップロールとの間を通過し、前記ガラス基材と前記保護材とを備える前記搬送基材として、前記巻取ロールにより巻き取られ、
前記第１駆動ロールは、前記ガラス基材および前記駆動ロールが接触している状態において、前記ガラス基材において前記駆動ロールの表面と接触する接触面に対して反対側の非接触面が、他の搬送部材と接触しないように構成されており、
前記第１駆動ロールの前記表面は、０．８μｍ以下の最大高さ粗さＲｚを有し、
前記第２駆動ロールの前記表面の最大高さ粗さＲｚは、第１駆動ロールの前記表面の最大高さ粗さＲｚを超過する
ことを特徴とする、ガラス基材の搬送装置。

【請求項2】

請求項１に記載の搬送装置と、
前記搬送方向における前記繰出ロールおよび前記巻取ロールの間に配置され、前記ガラス基材に機能層を真空下で設けるように構成される成膜装置と
を備えることを特徴とする、積層ガラスの製造装置。

【請求項3】

請求項２に記載の積層ガラスの製造装置を用いて積層ガラスを製造する方法であり、
前記ガラス基材を前記繰出ロールから繰り出す工程と、
前記ガラス基材を前記第１駆動ロールによって搬送する工程と、
前記成膜装置によって前記機能層を前記ガラス基材に真空下で設ける工程と、
前記ガラス基材および前記機能層を備える積層ガラスを前記巻取ロールによって巻き取る工程とを備えることを特徴とする、積層ガラスの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガラス基材の搬送装置、積層ガラスの製造装置および製造方法に関し、詳しくは、ガラス基材の搬送装置、これを備える積層ガラスの製造装置、および、これを用いる積層ガラスの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、ロールトゥロール方式で基材を搬送しながら、かかる基材の上に、種々の機能層を形成する装置が知られている。

【0003】

例えば、基材を、ニップ機構を用いて、樹脂基材を搬送する装置が提案されている（例えば、下記特許文献１参照。）。特許文献１のニップ機構は、金属ロールからなる駆動ロールと、ゴムロールからなるニップロール（押圧ロール）とを備える。特許文献１のニップ機構では、駆動ロールおよびニップロールで基材を挟み込み、駆動ロールが回転し、ニップロールが基材を駆動ロールに対して押圧することによって、駆動ロールが空回りすることなく、基材を搬送する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２０１４－４９６２４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

近年、耐熱性に優れる基材として、樹脂基材に代えて、薄ガラス基材を用いることが検討される。

【0006】

しかし、薄ガラス基材は、樹脂基材と比較して、脆弱である。そのため、薄ガラス基材は、厚み方向両側から駆動ロールおよびニップロールに接触されると、破損するという不具合がある。薄ガラス基材が破損すると、薄ガラス基材をロールトゥロール方式で搬送できない。

【0007】

なお、本明細書において、「破損」は、薄ガラス基材がその厚み方向全体にわたって引き裂かれることを意味し、後述する「擦傷」と区別される。

【0008】

本発明は、ガラス基材の破損を抑制できながら、ガラス基材を確実に搬送できるガラス基材の搬送装置、積層ガラスの製造装置および製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明（１）は、可撓性を有するガラス基材を繰り出すように構成される繰出ロールと、前記ガラス基材を巻き取るように構成される巻取ロールと、前記ガラス基材の搬送方向における前記繰出ロールおよび前記巻取ロールの間に配置されており、前記ガラス基材を搬送するための動力が付与されるように構成される駆動ロールとを備え、前記駆動ロールは、前記ガラス基材および前記駆動ロールが接触している状態において、前記ガラス基材において前記駆動ロールの表面と接触する接触面に対して反対側の非接触面が、他の搬送部材と接触しないように構成されており、前記駆動ロールの前記表面は、０．８μｍ以下の最大高さ粗さＲｚを有する、ガラス基材の搬送装置を含む。

【0010】

このガラス基材の搬送装置では、駆動ロールは、ガラス基材および駆動ロールが接触している状態において、ガラス基材において駆動ロールの表面と接触する接触面に対して反対側の非接触面が、他の搬送部材と接触しない。そのため、駆動ロールに接触しているガラス基材の破損を抑制できる。従って、ガラス基材を、繰出ロールおよび巻取ロールの間を確実に搬送できる。

【0011】

しかも、駆動ロールの表面は、０．８μｍ以下と小さい最大高さ粗さＲｚを有するので、駆動ロールの表面が、ガラス基材に密着でき、ガラス基材に対して滑ること（駆動ロールの空回り）を抑制できる。そのため、ガラス基材にかかる張力を制御でき、駆動ロールの回転をガラス基材の搬送に確実に変換して、ガラス基材をより一層確実に搬送できる。

【0012】

本発明（２）は、（１）に記載の搬送装置と、前記搬送方向における前記繰出ロールおよび前記巻取ロールの間に配置され、前記ガラス基材に機能層を真空下で設けるように構成される成膜装置とを備える、積層ガラスの製造装置を含む。

【0013】

この積層ガラス基材の搬送装置は、上記した搬送装置と成膜装置とを備えるため、ガラス基材の破損を抑制しながら、ガラス基材に機能層を設けることができる。そのため、積層ガラスを確実に製造できる。

【0014】

本発明（３）は、（２）に記載の積層ガラスの製造装置を用いて積層ガラスを製造する方法であり、前記ガラス基材を前記繰出ロールから繰り出す工程と、前記ガラス基材を前記駆動ロールによって搬送する工程と、前記成膜装置によって前記機能層を前記ガラス基材に真空下で設ける工程と、前記ガラス基材および前記機能層を備える積層ガラスを前記巻取ロールによって巻き取る工程とを備える、積層ガラスの製造方法を含む。

【0015】

この積層ガラスの製造方法は、上記した積層ガラスの搬送装置を用いるので、ガラス基材の破損を抑制しながら、機能層をガラス基材に設けて、積層ガラスを確実に製造できる。

【発明の効果】

【0016】

本発明のガラス基材の搬送装置は、ガラス基材の破損を抑制できながら、ガラス基材を確実に搬送できる。

【0017】

本発明の積層ガラスの製造装置および製造方法によれば、ガラス基材の破損を抑制しながら、ガラス基材に機能層を設けることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１は、本発明の製造装置の一実施形態である搬送成膜装置を示す。

【図2】図２Ａ～図２Ｄは、図１の搬送成膜装置で搬送されている搬送物の断面図であり、図２Ａが、繰出ロールから繰り出される第１保護材およびガラス基材、図２Ｂが、第１駆動ロールに搬送されるガラス基材、図２Ｃが、冷却装置に搬送されるガラス基材および透明導電層、図２Ｄは、巻取ロールに巻き取られる第２保護材、透明導電層およびガラス基材を示す。

【図3】図３は、本発明の搬送装置の変形例を示す。

【図4】図４は、ガラス基材の屈曲試験で用いられる２つの治具を示す。

【発明を実施するための形態】

【0019】

１．搬送成膜装置
本発明の製造装置の一実施形態である搬送成膜装置を、図１を参照して、説明する。

【0020】

図１に示す搬送成膜装置１０は、ガラス基材１を搬送しながらその厚み方向一方面５１に透明導電層（機能層の一例）２（図２Ｃ参照）を設けて、透明導電性ガラス（積層ガラスの一例）３を製造する。具体的には、搬送成膜装置１０は、ロール状の搬送基材４（後述）から第１保護材５を剥離してガラス基材１単体を搬送させ、次いで、ガラス基材１に透明導電層２を設けて透明導電性ガラス３を製造し、次いで、透明導電性ガラス３に第２保護材６を積層させてロール状に巻回する。

【0021】

搬送成膜装置１０は、搬送装置１１と、スパッタ装置（成膜装置の一例）１２と、冷却装置１３とを備える。さらに、搬送装置１１は、繰出部１４と、除電部１５と、巻取部１６とを備える。なお、除電部１５は、第１除電部１７と、第２除電部１８とを備える。搬送成膜装置１０は、繰出部１４と、第１除電部１７と、スパッタ装置１２と、冷却装置１３と、第２除電部１８と、巻取部１６とを搬送方向上流側（以下、「上流側」と省略する）から搬送方向下流側（以下、「下流側」と省略する）に向かってこの順で備える。以下、これらを詳述する。

【0022】

繰出部１４は、搬送装置１１の中で最上流側に配置されている。繰出部１４は、長尺な搬送基材４を繰り出す。繰出部１４は、繰出ロール２１と、第１駆動ロール（駆動ロールの一例）２２と、保護材巻取ロール２３と、繰出ケーシング２４とを備える。

【0023】

繰出ロール２１では、ロール状の搬送基材４がセットされている。すなわち、繰出ロール２１の表面（周面）に、搬送方向に長尺な搬送基材４が巻回されている。繰出ロール２１は、搬送方向に回転する回転軸を有し、幅方向に延びる円柱部材である。なお、本実施形態において、後述する各種のロール（繰出ロール２１、第１～第２駆動ロール（２２、４０）、保護材巻取ロール２３、第１～第４ガイドロール（２６、２８、３１、３８）、保護材ガイドロール４３、第１～第２冷却ロール（３４、３５）、巻取ロール４１、保護材繰出ロール４２、ニップロール４４）は、いずれも、搬送方向に回転する回転軸を有し、幅方向（搬送方向および厚み方向に直交する方向）に延びる円柱部材である。

【0024】

繰出ロール２１は、外部動力などによって駆動して、図１に示す矢印方向に回転するように構成されている。

【0025】

第１駆動ロール２２は、繰出ロール２１の下流側に配置されている。第１駆動ロール２２は、ガラス基材１を搬送するための動力が外部から付与されるように構成されている。
これによって、第１駆動ロール２２は、上記した外部の動力に基づいて、図１に示す矢印方向に回転する。具体的には、第１駆動ロール２２の回転軸の端部には、ギヤ（図示せず）が設けられており、ギヤには、第１駆動ロール２２を矢印方向に回転させるためのモータ（図示せず）が接続されている。第１駆動ロール２２は、モータの駆動力によって回転する。

【0026】

これにより、第１駆動ロール２２は、繰出ロール２１にセットされた搬送基材４のガラス基材１を第１除電部１７に搬送する。

【0027】

また、この第１駆動ロール２２は、ニップロール４４に隣接して配置される第２駆動ロール４０（後述）と異なり、ガラス基材１の厚み方向一方面（接触面）５１（図２Ｂ参照）と接触している状態において、ガラス基材１の厚み方向他方面（非接触面）５２（図２Ｂ参照）が、他の搬送部材（ニップロール４４など）と接触しないように構成されている。

【0028】

第１駆動ロール２２の材料としては、特に限定されず、例えば、金属、樹脂、セラミックスなどが挙げられ、好ましくは、金属が挙げられる。

【0029】

第１駆動ロール２２の表面は、平坦であり、具体的には、０．８μｍ以下の最大高さ粗さＲｚを有する。

【0030】

なお、第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００９）に基づいて測定される。

【0031】

第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚが０．８μｍを越えれば、第１駆動ロール２２の表面が、ガラス基材１に対して滑ることを抑制できず、つまり、第１駆動ロール２２がガラス基材１に対して空回りする。そのため、ガラス基材１にかかる張力を制御できず、第１駆動ロール２２の材料の回転をガラス基材１の搬送に確実に変換できず、ガラス基材１を搬送できない。

【0032】

また、第１駆動ロール２２の表面は、好ましくは、０．５μｍ以下、より好ましくは、０．３μｍ以下の最大高さ粗さＲｚを有する。また、第１駆動ロール２２の表面は、例えば、好ましくは、０．００１μｍ以上の最大高さ粗さＲｚを有する。

【0033】

第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚが上記した上限以下であれば、第１駆動ロール２２の表面が、ガラス基材１に対して滑ることを抑制でき、ガラス基材１にかかる張力を制御でき、第１駆動ロール２２がガラス基材１に対して空回りすることを抑制できる。そのため、第１駆動ロール２２の材料の回転をガラス基材１の搬送に確実に変換して、ガラス基材１をより一層確実に搬送できる。

【0034】

第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚが上記した下限以上であれば、ガラス基材１を確実に搬送できる。

【0035】

第１駆動ロール２２の表面を上記した最大高さ粗さＲｚに設定するには、例えば、駆動ロール２２の表面を平坦化処理する。平坦化処理としては、特に限定されず、例えば、電解めっき、無電解めっき、研磨などが挙げられる。または、上記した最大高さ粗さＲｚを有する表面の第１駆動ロール２２を予め準備することもできる。

【0036】

保護材巻取ロール２３は、繰出ロール２１の近傍に配置される。保護材巻取ロール２３は、搬送基材４から第１保護材５を剥離（離間）させるとともに、第１保護材５を巻き取る。保護材巻取ロール２３は、外部動力などによって駆動して図１に示す矢印方向に回転するように構成されている。

【0037】

繰出ケーシング２４は、その内部に、繰出ロール２１、第１駆動ロール２２および保護材巻取ロール２３を収容する。繰出ケーシング２４は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。具体的には、繰出ケーシング２４には、その内部の空気を外部に排出する真空ポンプ（図示せず）が接続されている。なお、本明細書において、真空状態とは、例えば、気圧が０．１Ｐａ以下、好ましくは、１×１０^－３Ｐａ以下である状態をいう。

【0038】

第１除電部１７は、繰出部１４の下流側に、繰出部１４と隣接するように配置されている。第１除電部１７は、ガラス基材１に対して除電する。第１除電部１７は、第１除電機２５と、第１ガイドロール２６と、第１除電ケーシング２７とを備える。

【0039】

第１除電機２５は、ガラス基材１に帯電した電気を低減させる。第１除電機２５は、第１駆動ロール２２の下流側かつ第１ガイドロール２６の上流側に配置されている。第１除電機２５としては、例えば、コロナ放電式、電離放射線式除電機などが挙げられる。

【0040】

第１ガイドロール２６は、第１駆動ロール２２から第１除電機２５を通過して搬送されるガラス基材１を、スパッタ装置１２の第２ガイドロール２８に案内（ガイド）する。第１ガイドロール２６は、第１除電機２５の下流側かつ第２ガイドロール２８の上流側に配置されている。

【0041】

第１ガイドロール２６の材料としては、特に限定されず、例えば、金属、樹脂、セラミックスなどが挙げられ、好ましくは、金属が挙げられる。

【0042】

第１ガイドロール２６の表面は、例えば、１．０μｍ以上、好ましくは、２μｍ以上、より好ましくは、５μｍ以上、さらに好ましくは、１０μｍ以上の最大高さ粗さＲｚを有し、また、例えば、好ましくは、１００μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下、さらに好ましくは、３０μｍ以下の最大高さ粗さＲｚを有する。

【0043】

第１ガイドロール２６の表面が上記した下限以上であれば、ガラス基材１が第１ガイドロール２６の表面にブロッキングすることを有効に抑制できる。そのため、搬送中のガラス基材１に大きな張力をかける必要がなく、そのため、第１ガイドロール２６は、ガラス基材１を確実に案内することができる。

【0044】

一方、第１ガイドロール２６の表面が上記した上限以下であれば、ガラス基材１の表面（厚み方向一方面および他方面）が擦傷することを抑制できる。

【0045】

第１ガイドロール２６の表面における最大高さ粗さＲｚを設定するには、例えば、表面が平坦な第１ガイドロール２６を準備し、その後、第１ガイドロール２６の表面を粗化処理（粗面化）する。粗化処理としては、特に限定されない。粗化処理の具体例としては、例えば、溶射（例えば、特開２０１７－０６６５１８９号公報などに記載の溶射皮膜の形成）、無電解めっき（例えば、特開２０１６－１０３１３８号公報などに記載の溶射皮膜の形成）、ブラスト、エッチングなどが挙げられる。または、上記した最大高さ粗さＲｚの表面を予め有する第１ガイドロール２６を準備することもできる。

【0046】

第１除電ケーシング２７は、その内部に、第１除電機２５および第１ガイドロール２６を収容する。第１除電ケーシング２７は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。

【0047】

スパッタ装置１２は、第１除電部１７の下流側に、第１除電部１７と隣接するように配置されている。スパッタ装置１２は、成膜領域３３において、ガラス基材１に対してスパッタリングを実施して、透明導電層２（図２Ｃ参照）を形成する。

【0048】

スパッタ装置１２は、第２ガイドロール２８と、スパッタターゲット２９と、加熱機３０と、第３ガイドロール３１と、スパッタケーシング３２とを備える。

【0049】

第２ガイドロール２８は、第１ガイドロール２６から搬送されるガラス基材１を成膜領域３３に案内（ガイド）する。第２ガイドロール２８は、第１ガイドロール２６の下流側かつスパッタターゲット２９の上流側に配置されている。第２ガイドロール２８の構成は、第１ガイドロール２６の構成と同一である。

【0050】

スパッタターゲット２９は、透明導電層２の原材料である。スパッタターゲット２９は、第２ガイドロール２８の下流側かつ第３ガイドロール３１の上流側に、ガラス基材１と間隔を隔てて対向配置されている。スパッタターゲット２９は、ガラス基材１の厚み方向一方面５１に面する。

【0051】

スパッタターゲット２９の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。具体的には、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。

【0052】

加熱機３０は、ガラス基材１やそれから得られる透明導電性ガラス３を加熱する。第２ガイドロール２８の下流側かつ第３ガイドロール３１の上流側に、ガラス基材１と間隔を隔てて配置されている。また、加熱機３０は、ガラス基材１を基準にして、スパッタターゲット２９とは反対側に対向配置されている。加熱機３０は、ガラス基材１の厚み方向他方面５２に面する。

【0053】

成膜領域３３は、第２ガイドロール２８と第３ガイドロール３１との搬送方向途中に区画される。成膜領域３３には、スパッタターゲット２９と、加熱機３０とが配置されている。

【0054】

第３ガイドロール３１は、成膜されたガラス基材１（具体的には、ガラス基材１および透明導電層２を厚み方向に備える透明導電性ガラス３）（図２Ｃ参照）を、冷却装置１３の第１冷却ロール３４に案内（ガイド）する。第３ガイドロール３１は、スパッタターゲット２９の下流側かつ第１冷却ロール３４（後述）の上流側に配置されている。第３ガイドロール３１の構成は、第１ガイドロール２６の構成と同一である。

【0055】

スパッタケーシング３２は、第２ガイドロール２８、スパッタターゲット２９、加熱機３０および第３ガイドロール３１を収容する。スパッタケーシング３２は、成膜領域３３を含む成膜室を構成する。スパッタケーシング３２は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。なお、スパッタ装置１２は、図示しないが、スパッタを実施するための他の素子（アノード、カソード、Ａｒガス導入手段など）を備える。スパッタ装置１２としては、具体的には、例えば、２極型スパッタ装置、電子サイクロトロン共鳴型スパッタ装置、マグネトロン型スパッタ装置、イオンビーム型スパッタ装置などが挙げられる。

【0056】

冷却装置１３は、スパッタ装置１２の下流側に、スパッタ装置１２と隣接するように配置されている。冷却装置１３は、スパッタ装置１２で加熱された透明導電性ガラス３を冷却する。冷却装置１３は、第１冷却ロール３４と、第２冷却ロール３５と、冷却ケーシング３６とを備える。

【0057】

第１冷却ロール３４は、冷却装置１３において上流側に配置されている。第２冷却ロール３５は、第１冷却ロール３４の下流側に配置されている。第１冷却ロール３４および第２冷却ロール３５は、それぞれ、外部動力などによって駆動して図１に示す矢印方向に回転するように構成されている。

【0058】

第１冷却ロール３４および第２冷却ロール３５の表面温度は、例えば、２８０℃以下、好ましくは、１５０℃以下であり、また、例えば、４０℃以上、好ましくは、１００℃以上に維持するように構成されている。

【0059】

冷却ケーシング３６は、その内部に、第１冷却ロール３４および第２冷却ロール３５を収容する。冷却ケーシング３６は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。

【0060】

第２除電部１８は、冷却装置１３の下流側に、冷却装置１３と隣接するように配置されている。第２除電部１８は、透明導電性ガラス３に対して除電する。第２除電部１８は、第２除電機３７と、第４ガイドロール３８と、第２除電ケーシング３９とを備える。

【0061】

第２除電機３７は、ガラス基材１に帯電した電気を低減させる。第２除電機３７は、第２冷却ロール３５の下流側かつ第４ガイドロール３８の上流側に配置されている。第２除電機３７の構成は、第１除電機２５の構成と同一である。

【0062】

第４ガイドロール３８は、第２冷却ロール３５から第２除電機３７を通過して搬送される透明導電性ガラス３を、巻取部１６の第２駆動ロール４０に案内（ガイド）する。第４ガイドロール３８は、第２除電機３７の下流側かつ第２駆動ロール４０の上流側に配置されている。第４ガイドロール３８の構成は、第１ガイドロール２６の構成と同一である。

【0063】

第２除電ケーシング３９は、その内部に、第２除電機３７および第４ガイドロール３８を収容する。第２除電ケーシング３９は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。

【0064】

巻取部１６は、搬送装置１１の中で最下流側に配置されており、第２除電機３７の下流側に、第２除電機３７と隣接するように配置されている。巻取部１６は、透明導電性ガラス３を第２保護材６（図２Ｄ参照）とともに巻き取る。巻取部１６は、第２駆動ロール４０と、巻取ロール４１と、保護材繰出ロール４２と、保護材ガイドロール４３と、ニップロール４４と、巻取ケーシング４５とを備える。

【0065】

第２駆動ロール４０は、第４ガイドロール３８の下流側かつ巻取ロール４１の上流側に配置されている。第２駆動ロール４０は、ガラス基材１を含む透明導電性ガラス３を搬送するための動力が外部から付与されるように構成されている。これによって、第２駆動ロール４０は、上記した外部の動力に基づいて、図１に示す矢印方向に回転する。これにより、第２駆動ロール４０は、透明導電性ガラス３を巻取ロール４１に搬送する。

【0066】

但し、第２駆動ロール４０は、透明導電性ガラス３の厚み方向一方面５３と接触している状態において、第２保護材６の厚み方向他方面５４がニップロール４４と接触するように構成されている。つまり、第２駆動ロール４０およびニップロール４４は、ニップ機構を構成する。

【0067】

第２駆動ロール４０の表面の最大高さ粗さＲｚは、特に限定されない。第２駆動ロール４０の表面の最大高さ粗さＲｚは、例えば、第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚより、大きく、具体的には、０．８μｍを越える。

【0068】

巻取ロール４１は、保護材ガイドロール４３とニップロール４４との間から搬送される透明導電性ガラス３および第２保護材６の積層体７（後述）を巻き取る。巻取ロール４１は、外部動力などによって駆動して、図１に示す矢印方向に回転するように構成されている。

【0069】

保護材繰出ロール４２は、巻取ロール４１の近傍に配置されている。保護材繰出ロール４２では、ロール状の第２保護材６がセットされている。すなわち、保護材繰出ロール４２の表面に、搬送方向に長尺な第２保護材６が巻回されている。保護材繰出ロール４２は、外部動力などによって駆動して、図１に示す矢印方向に回転するように構成されている。保護材繰出ロール４２は、第２保護材６を保護材ガイドロール４３に繰り出す。

【0070】

保護材ガイドロール４３は、保護材繰出ロール４２から繰り出される第２保護材６を、ニップロール４４に案内する。保護材ガイドロール４３は、保護材繰出ロール４２とニップロール４４との搬送方向途中に配置されている。

【0071】

ニップロール４４は、第２駆動ロール４０とともに、第２保護材６を透明導電性ガラス３に積層させる。ニップロール４４は、第２駆動ロール４０と対向配置されている。ニップロール４４は、その表面が透明導電性ガラス３および第２保護材６を第２駆動ロール４０の表面とで挟みながらラミネート可能に構成されている。ニップロール４４の材料は、例えば、ゴムなどの弾性体が挙げられる。

【0072】

巻取ケーシング４５は、その内部に、第２駆動ロール４０、巻取ロール４１、保護材繰出ロール４２、保護材ガイドロール４３およびニップロール４４を収容する。巻取ケーシング４５は、その内部を真空状態に調節するように構成されている。

【0073】

２．透明導電性ガラスの製造方法
図１および図２Ａ～図２Ｄを参照して、搬送成膜装置１０を用いて透明導電性ガラス３を製造する方法を説明する。透明導電性ガラス３の製造方法は、搬送基材４を用意する用意工程と、ガラス基材１から第１保護材５を剥離する剥離工程と、ガラス基材１を第１～第２駆動ロール（２２、４０）によって搬送する搬送工程と、ガラス基材１を第１～第４ガイドロール（２６、２８、３１、３８）によって案内する案内工程と、ガラス基材１に、透明導電層２を真空下で設ける成膜工程と、透明導電性ガラス３を冷却する冷却工程と、透明導電性ガラス３を巻取ロール４１に巻き取る巻取工程とを備える。以下、各工程を詳述する。

【0074】

まず、搬送基材４を繰出ロール２１に用意する（用意工程）。具体的には、搬送基材４を用意し、繰出ロール２１にセットする。

【0075】

搬送基材４は、保護材付きガラス基材であって、具体的には、ガラス基材１と第１保護材５とを厚み方向他方側に向かって順に備える（図２Ａ参照）。搬送基材４は、搬送方向に長尺であり、ロール状に巻回されている。このようなロール状の搬送基材４は、公知または市販のものを用いることができる。

【0076】

ガラス基材１は、フィルム形状（シート形状を含む）を有し、透明なガラスから形成されている。ガラスとしては、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどが挙げられる。

【0077】

ガラス基材１は、可撓性を有する。

【0078】

一方、ガラス基材１の機械強度は、通常低く（脆弱であり）、下記で測定される屈曲試験における破断時の両端部間距離Ｌが、例えば、１５ｍｍ以下、または、２０ｍｍ以下である。

【0079】

図４に示すように、具体的には、ガラス基材１を長さ１２０ｍｍに切断加工し、これの長手方向両端部を、間隔を対向配置される２つの治具８１のそれぞれの引っ掛け部８２に引っ掛ける。続いて、２つの治具８１を互いにゆっくりと近づけ、ガラス基材１が破断した時における２つの引っ掛け部８２間の長さＬを、破断時の両端部間距離Ｌとして得る。

【0080】

ガラス基材１の厚み方向他方面５２は、平坦である。具体的には、ガラス基材１の厚み方向他方面５２は、例えば、１μｍ以下、さらには、０．１μｍ以下、さらには、０．０１μｍ以下の最大高さ粗さＲｚであって、また、例えば、０．０００１μｍ以上の最大高さ粗さＲｚを有する。ガラス基材１の厚み方向一方面５１は、上記した他方面５２と同様に平坦であり、上記した最大高さ粗さＲｚを有する。

【0081】

ガラス基材１の厚みは、例えば、２５０μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、より好ましくは、１５０μｍ以下、さらに好ましくは、１００μｍ以下であり、また、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、４０μｍ以上である。

【0082】

このようなガラス基材１は、市販品を用いることができ、例えば、Ｇ－ｌｅａｆシリーズ（日本電気硝子社製）などが用いられる。

【0083】

第１保護材５は、ロール状のガラス基材１を繰り出す際に、ガラス基材１同士の接触による破損を防止する。第１保護材５は、フィルム形状を有し、ガラス基材１の厚み方向他方面５２に配置されている。

【0084】

第１保護材５としては、例えば、粘着剤付きフィルム、合紙などが挙げられる。

【0085】

粘着剤付きフィルムは、高分子フィルムと粘着剤層とを厚み方向に備える。

【0086】

高分子フィルムとしては、例えば、ポリエステル系フィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなど）、ポリカーボネート系フィルム、オレフィン系フィルム（ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、シクロオレフィンフィルムなど）、アクリル系フィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、ポリアリレート系フィルム、メラミン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリイミド系フィルム、セルロース系フィルム、ポリスチレン系フィルムが挙げられる。

【0087】

粘着剤層は、感圧接着剤層であり、例えば、アクリル系粘着剤層、ゴム系粘着剤層、シリコーン系粘着剤層、ポリエステル系粘着剤層、ポリウレタン系粘着剤層、ポリアミド系粘着剤層、エポキシ系粘着剤層、ビニルアルキルエーテル系粘着剤層、フッ素系粘着剤層などが挙げられる。

【0088】

合紙としては、例えば、上質紙、和紙、クラフト紙、グラシン紙、合成紙、トップコート紙などが挙げられる。

【0089】

第１保護材５の厚みは、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、３０μｍ以上であり、また、例えば、１０００μｍ以下、好ましくは、５００μｍ以下である。

【0090】

次いで、搬送成膜装置１０を作動させる。具体的には、ケーシングの全て（繰出ケーシング２４、第１除電ケーシング２７、スパッタケーシング３２、冷却ケーシング３６、第２除電ケーシング３９、巻取ケーシング４５）を真空にするとともに、駆動ロールの全て（繰出ロール２１、第１～第２駆動ロール（２２、４０）、保護材巻取ロール２３、第１～第２冷却ロール（３４、３５）、巻取ロール４１、保護材繰出ロール４２）を回転駆動させる。また、除電部１５（第１除電機２５および第２除電機３７）、冷却装置１３、スパッタ装置１２なども作動させる。これにより、搬送基材４が下流側に搬送される（搬送工程）とともに、剥離工程、成膜工程、冷却工程、および、巻取工程が順に実施される。
また、ガイドロールの全て（第１ガイドロール２６、第２ガイドロール２８、第３ガイドロール３１、第４ガイドロール３８）、保護材巻取ロール２３、保護材繰出ロール４２、保護材ガイドロール４３、ニップロール４４の回転によって、案内工程が実施される。

【0091】

具体的には、繰出部１４において、搬送基材４は、繰出ロール２１から繰り出される。その際、第１保護材５がガラス基材１から剥離される（剥離工程）。第１保護材５は、保護材巻取ロール２３に巻き取られる。他方、ガラス基材１は、単独で、第１駆動ロール２２によって第１除電部１７に搬送される（図２Ｂ参照）（搬送工程）。ガラス基材１の厚み方向一方面５１が第１駆動ロール２２と接触する状態において、ガラス基材１の厚み方向他方面５２（非接触面５２）は、他の部材と接触しない。ガラス基材１は、第１駆動ロール２２と接触して帯電しても、第１除電部１７における第１除電機２５の作動によって除電される。

【0092】

続いて、ガラス基材１は、第１ガイドロール２６によって、スパッタ装置１２に案内される（案内工程）。

【0093】

続いて、スパッタ装置１２において、ガラス基材１は、第２ガイドロール２８によって、成膜領域３３に案内される（案内工程）。成膜領域３３では、ガラス基材１に対して、スパッタリングが実施される。スパッタリングとしては、具体的には、２極スパッタリング法、電子サイクロトロン共鳴スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。スパッタリング時の気圧（すなわち、成膜領域３３の気圧）は、真空であり、好ましくは、１．０Ｐａ未満、より好ましくは、０．５Ｐａ以下である。

【0094】

これにより、成膜領域３３において、ガラス基材１の厚み方向一方面５１に透明導電層２が成膜されて、ガラス基材１と、透明導電層２とを厚み方向一方側に向かって順に備える透明導電性ガラス３が製造される（図２Ｃ参照）（成膜工程）。

【0095】

また、スパッタリングと同時に、透明導電性ガラス３は、加熱機３０によって加熱される。

【0096】

加熱機３０によって加熱される透明導電性ガラス３の表面温度としては、例えば、２００℃以上、好ましくは、３００℃以上、より好ましくは、４００℃以上であり、また、例えば、８００℃以下、好ましくは、６００℃以下である。これにより、例えば、透明導電層２の材料がＩＴＯである場合には、透明導電層２の成膜と同時に、透明導電層２を高温で結晶化させることができ、透明導電層２の導電性を向上できる。

【0097】

その後、透明導電性ガラス３は、第３ガイドロール３１によって、冷却装置１３に案内される（案内工程）。

【0098】

冷却装置１３において、透明導電性ガラス３は、第１冷却ロール３４および第２冷却ロール３５に順に接触して、冷却される（冷却工程）。

【0099】

各冷却ロール（３４、３５）の表面温度は、例えば、２８０℃以下、好ましくは、１５０℃以下であり、また、例えば、４０℃以上である。

【0100】

この際、透明導電性ガラス３と冷却ロール３４、３５との接触面積の拡大（ひいては、冷却効率の向上）の観点から、第１冷却ロール３４の回転軸と第２冷却ロール３５の回転軸とを結ぶ線分を横切るように、透明導電性ガラス３は搬送される。

【0101】

このとき、透明導電性ガラス３のガラス基材１は、その厚み方向他方面５２が第２冷却ロール３５に直接接触する。一方、透明導電性ガラス３の透明導電層２は、その厚み方向一方面５３が第１冷却ロール３４に直接接触する。その後、透明導電性ガラス３は、冷却装置１３から第２除電部１８に搬送される。

【0102】

この際、透明導電性ガラス３の厚み方向他方面５２（ガラス基材１の厚み方向他方面５２）では、第２冷却ロール３５との摩擦により、帯電が発生しても、第２除電部１８の第２除電機３７の作動によって除電される。なお、透明導電性ガラス３の厚み方向一方面５３（透明導電層２の厚み方向一方面５３）では、透明導電層２が導電性であることから、第１冷却ロール３４と摩擦しても、通常、帯電しない。

【0103】

その後、透明導電性ガラス３は、第４ガイドロール３８によって、巻取部１６に案内される（案内工程）。

【0104】

巻取部１６において、第２保護材６は、保護材繰出ロール４２から繰り出され、保護材ガイドロール４３に案内され、ニップロール４４に搬送される。

【0105】

一方、透明導電性ガラス３は、第２保護材６とともに、第２駆動ロール４０とニップロール４４との間を通過して、透明導電性ガラス３の厚み方向他方面５２に第２保護材６がラミネートされる。

【0106】

積層体７の透明導電性ガラス３の厚み方向一方面５３が第２駆動ロール４０に接触している状態において、積層体７における第２保護材６の厚み方向他方面５４（接触面５４）は、ニップロール４４に接触する（プレスされる）。

【0107】

その後、透明導電性ガラス３は、第２保護材６とともに巻取ロール４１に巻き取られる（巻取工程）。具体的には、透明導電性ガラス３と、その厚み方向他方面５２（透明導電層２と反対側の表面５２）に配置される第２保護材６とを備える積層体７（図２Ｄ参照）がロール状に巻回される。積層体７は、第２保護材６、ガラス基材１および透明導電層２を厚み方向一方側に向かって順に備える。

【0108】

３．透明導電性ガラスの用途
透明導電性ガラス３は、例えば、画像表示装置などの光学装置に用いられる。透明導電性ガラス３を画像表示装置（具体的には、ＬＣＤモジュール、有機ＥＬモジュールなどの画像表示素子を有する画像表示装置）に備える場合には、透明導電性ガラス３は、例えば、タッチパネル用基材、反射防止基材などとして用いられ、好ましくは、タッチパネル用基材として用いられる。タッチパネルの形式としては、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられ、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。

【0109】

４．一実施形態の作用効果
そして、この搬送装置１１では、第１駆動ロール２２は、ガラス基材１および第１駆動ロール２２が接触している状態において、ガラス基材１において第１駆動ロール２２の表面と接触する接触面５１に対して反対側の非接触面５２が、他の搬送部材（ニップロール４４など）と接触しない。つまり、第１駆動ロール２２は、ニップ機構を構成しない。そのため、第１駆動ロール２２に接触しているガラス基材１の破損を抑制できる。従って、ガラス基材１を、繰出ロール２１および巻取ロール４１の間を確実に搬送できる。

【0110】

しかも、第１駆動ロール２２の表面は、０．８μｍ以下と小さい最大高さ粗さＲｚを有するので、第１駆動ロール２２の表面が、ガラス基材１に密着でき、ガラス基材１に対して滑ることを抑制、具体的には、第１駆動ロール２２の空回りを抑制できる。そのため、ガラス基材１にかかる張力を制御でき、第１駆動ロール２２の回転をガラス基材１の搬送に確実に変換して、ガラス基材１をより一層確実に搬送できる。

【0111】

この搬送成膜装置１０は、上記した搬送装置１１とスパッタ装置１２とを備えるため、スパッタ装置１２の破損を抑制しながら、スパッタ装置１２に透明導電層２を設けることができる。そのため、透明導電性ガラス３を確実に製造できる。

【0112】

この透明導電性ガラス３の製造方法は、搬送成膜装置１０を用いるので、ガラス基材１の破損を抑制しながら、透明導電層２をガラス基材１に設けて、透明導電性ガラス３を確実に製造できる。

【0113】

４．変形例
以下の各変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例は、特記する以外、一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、一実施形態およびその変形例を適宜組み合わせることができる。

【0114】

一実施形態では、第１駆動ロール２２は、ガラス基材１の厚み方向一方面５１に接触しているが、例えば、図示しないが、ガラス基材１の厚み方向他方面５２に接触することもできる。なお、この場合には、ガラス基材１の厚み方向一方面５１が、他の搬送部材（ニップロール４４など）と接触しない。

【0115】

また、第１駆動ロール２２の数は、複数であってもよい。

【0116】

また、図３に示すように、本発明の搬送装置の一例として、スパッタ装置１２および第１～第４ガイドロール（２６、２８、３１、３８）（図１参照）を備えず、繰出ロール２１と、巻取ロール４１と、それらの間に配置される第１駆動ロール２２とを備える搬送装置８を例示することもできる。

【0117】

また、図１および図２に示す実施形態では、機能層として、透明導電層２を例示しているが、例えば、図示しないが、機能層としては、例えば、ハードコート層、光学調整層、金属層（例えば、銅層などの非透明導電層）などとすることもできる。また、機能層としては、１層であってもよく、２層以上であってもよい。

【0118】

図１に示す実施形態では、成膜装置として、スパッタ装置１２を例示しているが、例えば、図示しないが、真空蒸着装置、化学蒸着装置などの真空成膜装置などが挙げられる。

【実施例】

【0119】

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

【0120】

実施例１
一実施形態で説明した搬送成膜装置１０を準備した。

【0121】

第１駆動ロール２２の最大高さ粗さＲｚを、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００９）に基づいて測定したところ、０．２μｍであった。

【0122】

続いて、ガラス基材１として、厚み５０μｍ、厚み方向他方面５２の最大高さ粗さＲｚが０．００１μｍのＧ－ｌｅａｆ（日本電気硝子社製）と、その厚み方向他方面５２に配置される第１保護材５とを備える搬送基材４を繰出ロール２１にセットした（用意工程）。

【0123】

続いて、剥離工程、成膜工程、冷却工程、および、巻取工程を順に実施した。また、搬送工程を第１駆動ロール２２により実施し、案内工程を第１～第４ガイドロール（２６、２８、３１、３８）により実施した。

【0124】

成膜工程では、材料がＩＴＯであり、厚み１３０ｎｍである透明導電層２を、ガラス基材１の厚み方向一方面５１に形成した。

【0125】

実施例２
表１に従って、第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚを変更した以外は、実施例１と同様に処理した。

【0126】

比較例１～比較例３
表１に従って、第１駆動ロール２２の表面の最大高さ粗さＲｚを変更した以外は、実施例１と同様に処理し、ガラス基材１の搬送を試みた。

【0127】

しかし、ガラス基材１が第１駆動ロール２２に密着せず、第１駆動ロール２２が空回りし、ガラス基材１にかかる張力を制御できず、そのため、ガラス基材１を搬送できなかった。結局、透明導電層２を形成できず、ひいては、積層体７を得ることもできず、さらには、巻取ロール４１によって積層体７を巻き取ることもできなかった。

【0128】

比較例４
第１駆動ロール２２の近傍に、ニップロールを配置して、それらから、ニップ機構を構成した以外は、実施例１と同様に処理した。このニップ機構では、ガラス基材１を、第１駆動ロール２２およびニップロールが厚み方向両側から挟み込んだ。

【0129】

しかし、ガラス基材１は、上記した挟み込みによって、破損した。

【0130】

［評価］
＜ガラス基材の搬送＞
実施例１～比較例３のそれぞれのガラス基材の搬送を、以下の基準に従って評価した。○：第１駆動ロール２２がガラス基材１に対して滑ることが抑制され、ガラス基材１を、それにかかる張力を制御した状態で、搬送できた。
×：第１駆動ロール２２がガラス基材１に対して滑った。ガラス基材１にかかる張力を制御できず、ガラス基材１を正確に搬送できなかった。

【0131】

＜ガラス基材の破損＞
実施例１～比較例４のそれぞれのガラス基材１の破損を、以下の基準に従って評価した。
○：ガラス基材１が破損しなかった。
×：ガラス基材１が破損した。

【0132】

【表1】

【符号の説明】

【0133】

１ ガラス基材
２ 透明導電層
３ 透明導電性ガラス
１０ 搬送成膜装置
１１ 搬送装置
１２ スパッタ装置
２１ 繰出ロール
２２ 第１駆動ロール
４１ 巻取ロール
５１ 厚み方向一方面（ガラス基材）（接触面の一例）
５２ 厚み方向他方面（ガラス基材）（非接触面の一例）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】