特許7383377IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

フルサイズマスク組立体とその製造方法に関するものであって、より詳細には、基板上に蒸着物質を蒸着するためのフルサイズマスク組立体とその製造方法に関するものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明が解決しようとする技術的課題は、既存のスティックマスクの製造限界およびマスク大面積化の技術的限界を克服し、マスクの精度および機械的な強度を向上させたフルサイズマスク組立体を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

前記技術的課題を解決するために、本発明はセル単位マスクを利用したフルサイズマスク組立体を提供する。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の実施例によると、それぞれのセル単位マスク単位で設けることによって、マスクの製作面積が最小化されることによって製作が容易となるため、生産効率の上昇、高精密のマスク製作が可能および生産単価が節減される利点がある。

また、本発明の実施例によると、それぞれのセル単位マスク単位で具現することによって、スティックマスクを利用したフルサイズマスクが原版ガラスのサイズ拡大に対応し難い問題を解決することができるため、6世代フルサイズだけでなくそれ以上のフルサイズの製作が可能であるという利点がある。

また、本発明の一実施例によると、それぞれのセル単位マスク単位で具現することによって、X方向はもちろん、Y方向にセル単位マスクに引張力を加えることができるため、マスクのトータルピッチをさらに精密に制御できる利点がある。

また、本発明の一実施例によると、それぞれのセル単位マスク別に二つ以上のセル単位結合部を有することによって、フルサイズマスク組立体の使用による変形を最小化させて耐久性を向上させることができる。

また、本発明の一実施例によると、セル単位マスクの周面に沿って複数個の溶接点からなるセル単位結合部が設けられることによって、フルサイズマスク組立体内のセル単位マスクの結合力を高めるため、洗浄回数の増加およびマスク取り換え所用時間の減少、蒸着器の連続稼動時間の延長に伴う生産性を高めることができる利点がある。

また、本発明の一実施例によると、TFTガラスの接触面に対する裏面であるセル単位マスクの下面、すなわち蒸着面に溶接することによって、溶接時に発生したバリ(bur)が発生しても蒸着時に基板がフルサイズマスク組立体とに浮きがなく付着され得るため、影(shadow)現象による蒸着不良をなくすことができる利点がある。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1a】 従来技術によるスティックマスクと引張されたスティックマスクの変形状態を示す概略図。
【図1b】 従来技術によるスティックマスクと引張されたスティックマスクの変形状態を示す概略図。
【図2】 従来技術によるスティックマスクをフレームに溶接する場合に発生する問題点を説明するための概略図。
【図3】 本発明の一実施例に係るフルサイズマスク組立体の平面図。
【図4】 本発明の一実施例に係るフレームの斜視図。
【図5】 本発明の一実施例に係る構造用補助マスクの構造を示す概略図。
【図6】 本発明の一実施例に係るフレームに固定された構造用補助マスクの構造を示す斜視図。
【図7a】 本発明の一実施例に係るセル単位マスクの構造を示す概略図。
【図7b】 本発明の一実施例に係るセル単位マスクの構造を示す概略図。
【図7c】 本発明の一実施例に係るセル単位マスクの構造を示す概略図。
【図8】 本発明の一実施例に係るフレームに固定された構造用補助マスクにセル単位マスクが第1位置整列する方式を説明するための概略図。
【図9】 本発明の一実施例に係るフレームに固定された構造用補助マスクにセル単位マスクが第1位置整列する方式を説明するための概略図。
【図10】 本発明の一実施例に係るセル単位マスクが第1位置整列された状態を示す概略図。
【図11】 本発明の一実施例に係るセル単位マスクが第2位置整列された状態を示す概略図。
【図12】 本発明の一実施例に係る溶接によってセル単位マスクを構造用補助マスクに結合時、溶接方向を示す概略図。
【図13】 本発明の一実施例に係るフルサイズマスク組立体で構造用補助マスクを示す概略図。
【図14】 本発明の一実施例に係るフルサイズマスク組立体でセル単位マスクを示す概略図。
【図15】 本発明の一実施例に係るフルサイズマスク組立体の製造方法を示すブロック図。
【図16】 図15でセル単位マスクの整列する方法を示すブロック図。
10:フルサイズマスク組立体 100:フレーム 110:支持部 120:フレーム開口部 200:構造用補助マスク 210:構造用補助マスク開口部 220:支柱 221:第1セル単位支持部 222:第2セル単位支持部 223:セル単位離隔部 224:突出部 300:セル単位マスク 310:蒸着パターン部 311:第1位置整列ホール 312:第2位置整列ホール 320:セル単位結合部 321:溶接点 322:第1セル単位結合部 323:第2セル単位結合部

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