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特許 7383734出願番号 特願 2021-574883
結晶性が増加し、かつ高密度の改善されたコーティングを生成するための方法
出願人 プラックセアー エス．ティ．テクノロジー、 インコーポレイテッド（識別番号 500092413）
2026年 特許公開件数ランキング 25698位 0件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 7537位 1件（※）
公報発行日 2023年11月20
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7383734 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
結晶性が増加し、かつ高密度のコーティングを生成するための方法に関する。より具体的には、本発明は、修正された層流プラズマプルームレジームを利用して、補助加熱又は後熱処理を使用せずに溶射されたままの状態の、結晶性が増加し、かつ高密度のコーティングを形成するための新規なプロセス
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
本発明の目的及び利点は、全体を通して同じ番号が同じ特徴を示す添付図面と関連して、その好ましい実施形態の以下の詳細な説明からより良く理解される。
【図1】
本発明の一態様によるプロセス概略図を示す。
【図2】
本発明の一態様によるブロックフロー図を示す。
【図3a】
乱流プラズマプルームの代表的な熱流束プロファイルを示す。
【図3b】
半径方向の位置又は図３ａの関数としての熱エンタルピープロファイルを示す。
【図3c】
図３ａの乱流プラズマプルームのエネルギープロファイルの断面図を示す。
【図4a】
本発明の原理による、層流プラズマプルームの例示的な熱流束プロファイルを示す。
【図4b】
図４ａの半径方向の位置の関数としての熱エンタルピープロファイルを示す。
【図4c】
図４ａの層流プラズマプルームのエネルギープロファイルの断面図を示す。
【図5a】
図３ａ、図３ｂ及び図３ｃに示される従来の乱流プラズマプルームによって調製されたコーティングにおけるアモルファス相のＸ線回折データを示す。
【図5b】
図５ａのコーティングの倍率２００倍での光学顕微鏡画像を示す。
【図6a】
図４ａ、図４ｂ及び図４ｃに示される層流プラズマプルームによって調製されたコーティングにおけるＸ線回折データを示す。
【図6b】
図６ａのコーティングの倍率２００倍での光学顕微鏡画像を示す。
代表図 図1本件の代表的な図
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