特許 7384387 排ガス処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-13

(45)【発行日】2023-11-21

(54)【発明の名称】排ガス処理装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 53/78 20060101AFI20231114BHJP

   B01D 53/18 20060101ALI20231114BHJP

   B01D 53/38 20060101ALI20231114BHJP

   B01D 53/40 20060101ALI20231114BHJP

   B01D 53/42 20060101ALI20231114BHJP

   B01F 25/10 20220101ALN20231114BHJP

【ＦＩ】

B01D53/78

B01D53/18 110

B01D53/38 120

B01D53/40 200

B01D53/42 ZAB

B01F25/10

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2019204794

(22)【出願日】2019-11-12

(65)【公開番号】P2021074691

(43)【公開日】2021-05-20

【審査請求日】2022-08-25

(73)【特許権者】

【識別番号】000107941

【氏名又は名称】セイコー化工機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000556

【氏名又は名称】弁理士法人有古特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】大西 康浩

(72)【発明者】

【氏名】津田 益宏

【審査官】中村 泰三

(56)【参考文献】

【文献】特開２００５－２１９０３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特公昭４５－０３６４８２（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】特開昭５３－０１２１６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－１０５９５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－０４５５１８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ０１Ｄ ４７／００－０２

Ｂ０１Ｄ ５３／１４ー１８、３４－９６

Ｂ０１Ｆ ２３／２０－２３７５、２５／００－７４

Ｂ０１Ｊ １０／００

Ｂ０５Ｂ １／０２

Ｃ１０Ｋ １／０８－１４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

有害成分を含む処理気体の給気路と、
処理液を貯留した処理容器と、
前記給気路から前記処理容器内の前記処理液中に挿入される給気管と、
前記処理液で処理された処理済気体を前記処理容器から排出する排気路と、
前記処理液の液面から所定深さに配置され、前記給気管に接続された気体貯留部と、を備え、
前記気体貯留部は、水平方向に広がる気体放出面を有し、
前記気体放出面は、前記給気管から供給される前記処理気体を前記処理液中に噴出する複数個のスパイラルノズルを所定間隔で有しており、
前記処理容器は、前記処理液を該処理容器に供給する供給タンクと、前記処理液を該処理容器から排出する排出タンクと、をさらに備え、
前記供給タンクは、上部は大気開放となっており前記処理容器の下部から前記処理液を供給するように構成され、
前記排出タンクは、前記処理容器の上部から排出する前記処理液を排水バルブが設けられた排水管を介して排出するように構成され、
前記排出タンクの下流側には、前記排水管から排出した前記処理液を貯液して該排水管に空気が入るのを防ぐ貯液部を有している、
ことを特徴とする排ガス処理装置。

【請求項2】

前記気体貯留部は、前記処理容器の高さ方向の中間部分に配置され、前記給気管が中央部分に接続されており、
前記スパイラルノズルは、前記給気管の周囲に前記所定間隔で配置されている、
請求項１に記載の排ガス処理装置。

【請求項3】

前記処理容器内の前記処理液は、前記気体放出面から突出する前記スパイラルノズルの高さの１．５倍～６倍の位置が液面となるように構成されている、
請求項１又は２に記載の排ガス処理装置。

【請求項4】

前記排気路に接続され、前記処理容器内の気体を吸引する吸引機を備え、
前記吸引機で前記処理容器内を負圧にすることで前記給気路から前記処理気体が前記気体貯留部に引き込まれるように構成されている、
請求項１～３のいずれか１項に記載の排ガス処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、各種の製造工程における排ガスから有害成分を除去する排ガス処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、各種の製造工程において、製造装置などから有害成分を含むガスが排出される。（この明細書及び特許請求の範囲の書類中では、このガスを「排ガス」又は「処理気体」という。また、「有害成分」は、酸、アルカリ、臭気などを含む。）このような排ガスとして、例えば、化学物質の製造過程において化学反応を行わせる反応層や、汚泥処理における反応層などから排出される排ガス、生ゴミ処理機などから排出される排ガスなどがある。このような排ガスは、酸やアルカリ、臭気などの有害成分を除去した後、大気放出されている。

【0003】

例えば、排ガスを処理する先行技術として、排ガスを吸収液と気液接触させて、排ガス中の有害成分を吸収液中に溶解又は捕集させる散気処理装置がある（例えば、特許文献１参照）。この処理装置では、吸収液が通流する筒状の通路管の内側に、右捻り又は左捻りとした螺旋状の複数個の羽根体を設け、通路管の下方の気体噴出部から排ガスを噴出させて気液接触させている。

【0004】

また、他の排ガス処理に関する先行技術として、入口部から出口部に向けて排ガスを螺旋状に流す排ガス流路に向けて、交流電流に基づく電磁波により処理された電磁波処理水を噴霧することで排ガスを浄化する排ガス浄化装置もある（例えば、特許文献２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２００５－２１９０３６号公報

【文献】特開２０１３－１６７１６０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、上記した特許文献１では、吸収液と排ガスを通流させる通路管の構造が複雑で、小流量の排ガス処理を行う場合でも多くの費用が必要となる。また、上記した特許文献２では、装置全体の構造が複雑であるとともに大型化するため、小流量の排ガスを処理するために多くの費用と設置スペースが必要となる。

【0007】

そこで、本発明は、有害成分を含む小流量の排ガス（処理気体）から適切に有害成分を除去できる排ガス処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記目的を達成するために、本発明は、有害成分を含む処理気体の給気路と、処理液を貯留した処理容器と、前記給気路から前記処理容器内の前記処理液中に挿入される給気管と、前記処理液で処理された処理済気体を前記処理容器から排出する排気路と、前記処理液の液面から所定深さに配置され、前記給気管に接続された気体貯留部と、を備え、前記気体貯留部は、水平方向に広がる気体放出面を有し、前記気体放出面は、前記給気管から供給される前記処理気体を前記処理液中に噴出する複数個のスパイラルノズルを所定間隔で有している。

【0009】

この構成により、給気路から給気管を介して気体貯留部に供給した処理気体を、気体貯留部の気体放出面に設けられた複数個のスパイラルノズルから処理液中に噴出させ、処理気体を処理液と効率良く気液接触させて有害成分を除去することができる。しかも、小型化も容易であるため、例えば、排ガスの発生場所に近い位置に設置して、装置から排出された直後の、高濃度の酸やアルカリ成分などを含む排ガスを効率良く処理することができる。

【0010】

また、前記気体貯留部は、前記処理容器の高さ方向の中間部分に配置され、前記給気管が中央部分に接続されており、前記スパイラルノズルは、前記給気管の周囲に前記所定間隔で配置されていてもよい。

【0011】

このように構成すれば、気体貯留部の中央部分に供給した処理気体を周囲のスパイラルノズルから処理液中に噴出させるので、処理気体を気体放出面に設けたスパイラルノズルから処理容器の処理液中にほぼ均等に噴出させて気液接触させることができる。しかも、処理容器の高さ方向の中間部分に配置された気体貯留部から気体を噴出させるので、処理容器内の処理液に流れを生じさせて循環させ、処理気体中の有害成分を処理容器内の処理液で適切に除去するようにできる。

【0012】

また、前記処理容器内の前記処理液は、前記気体放出面から突出する前記スパイラルノズルの高さの１．５倍～６倍の位置が液面となるように構成されていてもよい。

【0013】

このように構成すれば、気体貯留部のスパイラルノズルから噴出させる処理気体によって処理液を適切にバブリングさせて有害成分を処理液によって除去することができる。

【0014】

また、前記排気路に接続され、前記処理容器内の気体を吸引する吸引機を備え、前記吸引機で前記処理容器内を負圧にすることで前記給気路から前記処理気体が前記気体貯留部に引き込まれるように構成されていてもよい。

【0015】

このように構成すれば、処理気体が高濃度の酸性、アルカリ性のガスであっても、吸引機によって処理容器内を負圧にすることで処理気体を処理容器内に引き込んで処理液中に噴出させるので、吸引機は処理済気体と接するのみで高濃度の酸性、アルカリ性による腐食などを防止できる。

【0016】

また、前記処理容器は、前記処理液を供給する供給タンクと、前記処理液を排出する排出タンクと、をさらに備え、前記供給タンクは、前記処理容器の下部から前記処理液を供給するように構成され、前記排出タンクは、前記処理容器の上部から前記処理液を排出するように構成され、前記排出タンクの下流側に、該排出タンクから排出した前記処理液の貯液部を有していてもよい。

【0017】

このように構成すれば、処理液を供給タンクから処理容器に供給し、処理容器から排出タンクに排出させることで、処理容器中の処理液を入れ替えながら処理気体中の有害成分を除去する排ガス処理の連続運転ができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、有害成分を含む小流量の排ガス（処理気体）であっても、処理液と効率良く気液接触させて有害成分を除去することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】図１は、本発明の第１実施形態に係る排ガス処理装置の一部を断面にして示す斜視図である。

【図2】図２は、図１に示すII－II矢視の断面図である。

【図3】図３は、図２に示すIII－III矢視の断面における処理気体の噴出状態を示す断面図である。

【図4】図４は、図３に示すスパイラルノズルの一例を示す正面図である。

【図5】図５は、図１に示す処理容器内においてスパイラルノズルから噴出させる処理気体と処理容器内の処理液との気液混合状態を示す図面であり、（Ａ）は処理容器内の処理液の流れを含む模式図であり、（Ｂ）はスパイラルノズルから噴出させる処理気体の流れを示す模式図である。

【図6】図６は、図１に示す排ガス処理装置を含む第２実施形態に係る排ガス処理装置を示す正面図である。

【図7】図７は、図６に示す排ガス処理装置の平面図である。

【図8】図８は、図６に示す排出タンクと貯液タンクの部分を示す図面であり、（Ａ）は図６に示す排出タンクと貯液タンクの部分の左側面図、（Ｂ）は他の例を示す側面図である。

【図9】図９は、図６に示す排ガス処理装置の一部を示す運転停止時における処理液の状態の断面図である。

【図10】図１０（Ａ）、（Ｂ）は、図６に示す排ガス処理装置の一部を示す運転時における処理液の状態の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。この明細書及び特許請求の範囲の書類中における前後左右方向の概念は、図１に示す前後左右方向の概念と一致するものとする。

【0021】

（第１実施形態に係る排ガス処理装置の構成）
図１は、第１実施形態に係る排ガス処理装置１の一部を断面にして示す斜視図である。図２は、図１に示すII－II矢視の断面図である。図３は、図２に示すIII－III矢視の断面における処理気体Ａ１の噴出状態を示す断面図である。

【0022】

図１に示すように、この実施形態の排ガス処理装置１は、有害成分を含む処理気体Ａ１の給気路２０と、処理液Ｗを貯留した処理容器１０と、給気路２０から処理容器１０の内部の処理液Ｗ中に挿入される給気管２１と、処理液Ｗで処理された処理済気体Ａ２を処理容器１０から排出する排気路４０と、を備えている。この実施形態の処理容器１０は、平面視で矩形状に形成された例である。

【0023】

処理容器１０は、処理液Ｗの液面Ｌ１から所定深さに配置された気体貯留部２２を備えている。気体貯留部２２は、処理容器１０の内面との間に、処理液Ｗが通流する所定の空間ができる大きさで形成されている。気体貯留部２２は、上面に水平方向に広がる気体放出面２３を有し、その周囲には下方に延びる周壁２４が設けられている。これにより、気体貯留部２２は、下方が開放した所定容量の内部空間２５（図３）を有している。気体貯留部２２は、気体放出面２３の中央部分に上記給気管２１が接続されており、給気管２１によって処理容器１０の高さ方向の中間部分に配置されている。気体貯留部２２は、気体放出面２３が処理容器１０中の処理液Ｗの液面Ｌ１から所定深さ（液深）となるように配置されている。給気管２１の内部は、気体貯留部２２の内部空間２５（図３）と連通している。気体放出面２３には、給気管２１から供給される処理気体Ａ１を処理液Ｗ中に噴出するように、所定間隔で複数個のスパイラルノズル３０が配置されている。処理容器１０に入れられる処理液Ｗは、水、アルカリ性溶液、酸性溶液、その他の薬液などを含む。

【0024】

図２に示すように、この実施形態では、平面視で矩形状に形成されている気体放出面２３の角部を除く部分に複数個のスパイラルノズル３０が所定間隔で配置されている。スパイラルノズル３０の数と間隔は、処理気体Ａ１の処理流量（例えば、毎分の処理流量）、処理液Ｗの液面Ｌ１からの深さによる圧力損失の大きさ、などに応じて決定することができる。気体放出面２３には、所定間隔でスパイラルノズル３０を取り付けるためのねじ穴２６（図５（Ｂ））が設けられ、そのねじ穴２６にスパイラルノズル３０のねじ部３１（図４）をねじ込むことで取り付けられている。

【0025】

図３に示すように、処理容器１０の高さ方向の中間部分に配置された気体貯留部２２は、給気管２１から供給された処理気体Ａ１を内部空間２５に溜め、全てのスパイラルノズル３０から処理液Ｗ中に噴出するようになっている。気体貯留部２２の位置と処理液Ｗの関係としては、例えば、気体放出面２３に対する処理液Ｗの液面Ｌ１の位置を、気体放出面２３から突出するスパイラルノズル３０の高さの１．５～６倍程度にできる。これにより、気体放出面２３を、処理液Ｗの液面Ｌ１から５０～２００ｍｍ程度の深さに位置させることができる。処理液Ｗの液面Ｌ１に対する気体放出面２３の深さ（液深）としては、処理気体Ａ１に含まれる有害成分と、その有害成分を除去する処理液Ｗの成分などに応じて適切に設定することができる。

【0026】

（スパイラルノズルの構成）
図４は、図３に示すスパイラルノズル３０の一例を示す正面図である。この実施形態のスパイラルノズル３０は、気体貯留部２２の気体放出面２３に取り付けるためのねじ部３１と、その上部に設けられた基部３２と、その先端部分に設けられたスパイラル部３３とを有している。ねじ部３１から基部３２まで所定径の孔部３４が設けられ、基部３２の先端部分で孔部３４は直径が小さくなっている。スパイラル部３３は、基部３２の先端部分に連なるように一体成型されており、基部３２の中心軸Ｚに向かって収束する螺旋状に形成されている。また、スパイラル部３３は、中心軸Ｚに対して直交する面が、孔部３４から噴出させる気体がスパイラル状で噴出されるように所定角度の傾斜面３５に形成されている。

【0027】

このようなスパイラルノズル３０によれば、螺旋状のスパイラル部３３から噴出させる処理気体Ａ１はスパイラル状に噴出させられて気泡が微細化されるため、処理液Ｗとの気液接触を効率良く行うことができる。

【0028】

（排ガス処理装置の運転状態例）
図５は、図１に示す処理容器１０内においてスパイラルノズル３０から噴出させる処理気体Ａ１と処理容器１０内の処理液Ｗとの気液混合状態を示す図面であり、（Ａ）は処理容器１０内の処理液Ｗの流れを含む模式図であり、（Ｂ）はスパイラルノズル３０から噴出させる処理気体Ａ１の流れを示す模式図である。

【0029】

図５（Ａ）に示すように、給気管２１から処理容器１０の高さ方向の中間部分に配置された気体貯留部２２に供給された処理気体Ａ１は、気体貯留部２２の内部空間２５に一定量が溜められた状態で、全てのスパイラルノズル３０から処理液Ｗ中に噴出させられる。これにより、処理気体Ａ１と処理液Ｗとが気液接触させられて、処理気体Ａ１中の有害成分が除去される。また、スパイラルノズル３０から噴出される処理気体Ａ１はスパイラル状に噴出させられて気泡が微細化されるため、液面Ｌ１の揺れを抑えるとともに処理液Ｗとの気液接触を効率良く行うことができる。しかも、スパイラルノズル３０から処理気体Ａ１が噴出させられた処理液Ｗは、気体貯留部２２の上方から処理容器１０の下方へと流れる流れが生じ、処理容器１０の下方の処理液Ｗと攪拌される。これにより、処理容器１０内の処理液Ｗを効率良く攪拌し、全ての処理液Ｗによって処理気体Ａ１から有害成分を除去することができる。

【0030】

また、処理液Ｗの液面Ｌ１を、処理気体Ａ１に含まれる有害成分と、その有害成分を除去する処理液Ｗの成分などに応じて、気体放出面２３から突出する前記スパイラルノズル３０の高さの１．５倍～６倍の高さで適切に設定することで、気体貯留部２２のスパイラルノズル３０から噴出させる処理気体Ａ１によって処理液Ｗを適切にバブリングさせることができる。これによっても、処理気体Ａ１を処理液Ｗと効率良く気液接触させて、処理気体Ａ１中の有害成分を除去することができる。

【0031】

さらに、図５（Ｂ）に示すように、スパイラルノズル３０から噴出させられる処理気体Ａ１は、スパイラル部３３の傾斜面３５に沿って螺旋状（一点鎖線の矢印で示す）に噴出させられるため、小さな気泡で処理液Ｗ中に噴出させられる。これにより、処理気体Ａ１が処理液Ｗと気液接触する面積を増やすことができ、効率良く処理気体Ａ１中の有害成分を除去することができる。

【0032】

（第２実施形態に係る排ガス処理装置の構成）
図６は、図１に示す排ガス処理装置１を含む第２実施形態に係る排ガス処理装置２を示す正面図である。図７は、図６に示す排ガス処理装置２の平面図である。図８は、図６に示す排出タンク６０と貯液タンク６２の部分を示す図面であり、（Ａ）は図６に示す排出タンク６０と貯液タンク６２の部分の左側面図、（Ｂ）は他の例を示す側面図である。

【0033】

第２実施形態の排ガス処理装置２は、処理気体Ａ１の処理を連続運転で行うこともできる例である。この排ガス処理装置２には、排気路４０の下流側に、ミストトラップ４１と吸引機たる吸引ブロア４２とが備えられている。この排ガス処理装置２では、吸引ブロア４２によって排気路４０を介して処理容器１０内の処理済気体Ａ２を吸引することで処理容器１０の内部を負圧にし、これによって給気路２０から処理気体Ａ１を処理容器１０の内部の気体貯留部２２に吸引する構成となっている。これにより、処理容器１０の内部に処理気体Ａ１を入れるための構成が、酸やアルカリ成分を含む処理気体Ａ１と接触しないようにしている。よって、この実施形態によれば、吸引ブロア４２の内部構成が酸やアルカリ成分の影響を受けないようにできる。この実施形態の処理容器１０には、前面から内部を確認するために透明の点検窓１１が設けられている。

【0034】

また、第２実施形態の排ガス処理装置２は、処理容器１０の一方（右方）の側面に、処理容器１０に処理液Ｗを供給する供給タンク５０が備えられ、処理容器１０の他方（左方）の側面に処理液Ｗを排出する排出タンク６０が備えられている。供給タンク５０は、処理容器１０に下部から処理液Ｗを供給するように、処理容器１０と供給口５１で連通している。供給タンク５０の上部側面には、処理液Ｗの給水口５２が設けられている。供給タンク５０の上部空間は、大気開放となっている。図８（Ａ）にも示すように、排出タンク６０は、処理容器１０の上部から処理液Ｗを排出するように、処理容器１０と排出口６１で連通している。排出タンク６０の下方には、処理液Ｗの貯液部たる貯液タンク６２が設けられている。排出タンク６０と貯液タンク６２との間には、排水バルブ６４で開閉可能な排水管６３が設けられている。排水管６３の下端は、貯液タンク６２に溜められた処理液Ｗ中に挿入されている。貯液タンク６２には、所定量が溜ったら処理液Ｗを排水する排水口６５が設けられている。排出タンク６０の上部空間は、処理容器１０の上部空間と同一圧力となっている。

【0035】

図８（Ｂ）に示すように、排出タンク６０の下方に設ける処理液Ｗの貯液部は、排水バルブ７４が設けられた排水管７３に連なる貯液管７２とすることができる。貯液管７２はＵ字状に形成され、一方が排水バルブ７４に連結され、他方に排水口７５が設けられている。排水口７５は、貯液管７２の所定高さ位置に設けられており、排水口７５より下方に処理液Ｗが溜るようになっている。貯液管７２に溜った処理液Ｗは、排水口７５の高さを超える量が排水口７５から排水される。なお、貯液部は、上記貯液タンク６２及び貯液管７２に限定されるものではない。

【0036】

このような排ガス処理装置２によれば、吸引ブロア４２を運転することで、排気路４０から処理容器１０内の処理済気体Ａ２が吸引され、ミストトラップ４１で水分が除去された後に排気管４３から大気放出される。これにより、処理容器１０の内部が負圧になって処理液Ｗの液面Ｌ１が上昇し、給気管２１の内部の処理気体Ａ１が気体貯留部２２に引き込まれる。そして、気体貯留部２２に引き込まれた処理気体Ａ１がスパイラルノズル３０から処理液Ｗ中に噴出させられる。その後、吸引ブロア４２の運転を続けることで、給気路２０から給気管２１を介して気体貯留部２２に引き込まれた処理気体Ａ１がスパイラルノズル３０から処理液Ｗ中に噴出されて排ガス処理ができる。例えば、排ガス処理装置２により、毎分１ｍ^３程度の高濃度排ガスを処理する場合、処理容器１０の大きさとしては平面視において各辺を４００ｍｍ～６００ｍｍ程度で形成し、気体貯留部２２に１０～６０個程度のスパイラルノズル３０を設けて処理することができる。

【0037】

また、供給タンク５０に処理液Ｗを供給することで、その供給分の処理液Ｗが供給口５１から処理容器１０の内部に供給されるが、その供給分の処理液Ｗは排出口６１から排出タンク６０に排出されて、処理容器１０の液面Ｌ１は一定水位に保たれる。排出タンク６０に排出された処理液Ｗは、排水管６３から貯液タンク６２に排出され、貯液タンク６２に溜った処理液Ｗは、所定量以上が排水口６５から排水される。そして、供給タンク５０への処理液Ｗの供給を続けることで、処理容器１０内の処理液Ｗを入れ替えながら排ガス処理の連続運転をすることができる。

【0038】

その上、排ガス処理装置２の全体的な大きさを抑えることができるので、排ガスの発生源に近い位置に設置して排ガス処理をすることが可能となる。

【0039】

（排ガス処理設備における運転状態例）
図９は、図６に示す排ガス処理装置２の一部を示す運転停止時における処理液Ｗの状態の断面図である。図１０（Ａ）、（Ｂ）は、図６に示す排ガス処理装置２の一部を示す運転時における処理液Ｗの状態の断面図である。

【0040】

図９に示すように、排ガス処理装置２は、運転停止状態では、処理容器１０と供給タンク５０とは供給口５１で連通しており、供給タンク５０の上部は大気開放となっているため、処理容器１０の内部、給気管２１の内部及び供給タンク５０の処理液Ｗは同一の液面Ｌ１となっている。

【0041】

図１０（Ａ）に示すように、排水バルブ６４を閉じた状態とし、排ガス処理装置２を運転して排気路４０から処理容器１０内の処理済気体Ａ２を吸引することで処理容器１０内が負圧になる。そして、処理容器１０内の静圧低下により処理液Ｗの液面Ｌ１が上昇し、給気管２１の処理気体Ａ１が気体貯留部２２に引き込まれる。気体貯留部２２の内部空間２５に入った処理気体Ａ１は、気体放出面２３に設けられたスパイラルノズル３０から処理液Ｗ中に噴出させられる。この状態では、処理容器１０の上部空間の静圧が低下しているため、処理容器１０の内部では処理液Ｗの液面Ｌ１が上昇し、供給タンク５０の液面Ｌ２は下降する。図１０（Ａ）に示すように運転すれば、排ガス処理装置２による排ガス処理のバッチ運転ができる。

【0042】

図１０（Ｂ）に示すように、図１０（Ａ）に示す運転状態で排水バルブ６４を開いた状態とし、供給タンク５０に処理液Ｗを供給することで、その供給分は供給口５１で連通している処理容器１０に供給されるが、その供給分の処理液Ｗは排出口６１から排出タンク６０に排出されて、処理容器１０の液面Ｌ１は一定水位に保たれる。排出タンク６０に排出された処理液Ｗは、排水バルブ６４が開放された排水管６３から貯液タンク６２に流出する。貯液タンク６２に流出した処理液Ｗは、貯液タンク６２に設けられた排水口６５の高さまで溜められるので、排水管６３の下端は常に処理液Ｗ中に位置した状態となる。よって、排水管６３から排出タンク６０に空気が入ることはない。排水管６３の内部の処理液Ｗは、処理容器１０内と連通している排出タンク６０の静圧に応じた高さの液面Ｌ３となる。このような状態で、供給タンク５０に処理液Ｗを供給すれば、処理容器１０の内部の処理液Ｗを入れ替えながら排ガス処理を行うことができる。図１０（Ｂ）に示すように運転すれば、排ガス処理装置２による排ガス処理の連続運転ができる。

【0043】

（その他の変形例）
上記した実施形態では、平面視で矩形状の処理容器１０を用いた例を説明したが、処理容器１０は平面視で円形やその他の形状で合ってもよく、処理容器１０の平面視の形状は、上記した実施形態に限定されるものではない。気体貯留部２２の平面視の形状も矩形に限定されるものではなく、処理容器１０の平面視の形状などに応じて決定すればよい。

【0044】

また、上記した実施形態におけるスパイラルノズル３０の数、配置は一例であり、処理気体Ａ１を適切な流速で処理液Ｗ中に噴出させることができ、噴出させる処理気体Ａ１の圧力損失を適切にできる数、配置であればよく、スパイラルノズル３０の数、配置は上記した実施形態に限定されるものではない。

【0045】

さらに、上記した実施形態は一例を示しており、本発明の要旨を損なわない範囲での種々の変更は可能であり、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。

【符号の説明】

【0046】

１ 排ガス処理装置
２ 排ガス処理装置
１０ 処理容器
２０ 給気路
２１ 給気管
２２ 気体貯留部
２３ 気体放出面
２４ 周壁
２５ 内部空間
３０ スパイラルノズル
３３ スパイラル部
４０ 排気路
４１ ミストトラップ
４２ 吸引ブロア
５０ 供給タンク
５１ 供給口
６０ 排出タンク
６１ 排出口
６２ 貯液タンク（貯液部）
６３ 排水管
６４ 排水バルブ
７２ 貯液パイプ（貯液部）
Ａ１ 処理気体
Ａ２ 処理済気体
Ｌ１ 液面
Ｌ２ 液面
Ｗ 処理液

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】