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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-11-13
(45)【発行日】2023-11-21
(54)【発明の名称】ケイ酸リチウム低温型石英ガラスセラミック
(51)【国際特許分類】
C03C 10/04 20060101AFI20231114BHJP
C03C 10/14 20060101ALI20231114BHJP
C03B 32/02 20060101ALI20231114BHJP
A61C 5/70 20170101ALN20231114BHJP
A61C 5/30 20170101ALN20231114BHJP
【ＦＩ】
C03C10/04
C03C10/14
C03B32/02
A61C5/70
A61C5/30
【請求項の数】
18
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2021014801
(22)【出願日】2021-02-02
(62)【分割の表示】P 2018510104の分割
【原出願日】2016-08-22
(65)【公開番号】P2021066658
(43)【公開日】2021-04-30
【審査請求日】2021-02-02
(31)【優先権主張番号】15182307.7
(32)【優先日】2015-08-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(31)【優先権主張番号】15190547.8
(32)【優先日】2015-10-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】501151539
【氏名又は名称】イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフト
【氏名又は名称原語表記】Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ
【住所又は居所原語表記】Ｂｅｎｄｅｒｅｒｓｔｒ．２ ＦＬ－９４９４ Ｓｃｈａａｎ Ｌｉｅｃｈｔｅｎｓｔｅｉｎ
(74)【代理人】
【識別番号】100078282
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 秀策
(74)【代理人】
【識別番号】100113413
【弁理士】
【氏名又は名称】森下 夏樹
(72)【発明者】
【氏名】クリスティアン リッツベルガー
(72)【発明者】
【氏名】マルクス ランプ
(72)【発明者】
【氏名】ウォルフラム ホランド
(72)【発明者】
【氏名】マルク ディトマー
(72)【発明者】
【氏名】マルセル シュバイガー
【審査官】菅原 洋平
(56)【参考文献】
【文献】特開２００６－２１９３６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１５－５０４３９９（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１３／０３２３４０４（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１４／０３２２５０３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１１－２２５４４２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２００３／００７３５６３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１４／１２４８７９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１５／０６７６４３（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０３Ｃ １／００ －１４／００
Ｃ０３Ｂ ３２／０２
Ａ６１Ｃ ５／７０
Ａ６１Ｃ ５／３０
ＩＮＴＥＲＧＬＡＤ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
歯科用材料としてのケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックの使用であって、前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、２．０から３．５ｗｔ％のＫ２Ｏを含み、２．２から３．５の範囲のモル比のＳｉＯ２とＬｉ２Ｏを含み、主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを含み、ここで、前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、少なくとも２０ｗｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を有し、そして／または０．２から２８ｗｔ％の低温型石英結晶を有する、使用。
【請求項2】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、５９．０から７９．０ｗｔ％のＳｉＯ２を含む、請求項１に記載の使用。
【請求項3】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、８．０から１５．０ｗｔ％のＬｉ２Ｏを含む、請求項１または２に記載の使用。
【請求項4】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、０から９．０ｗｔ％のＰ２Ｏ５を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項5】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、２．０から８．０ｗｔ％の、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、およびこれらの混合物の群から選択される、一価元素の酸化物ＭｅＩ
２Ｏを含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項6】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、１．０から９．０ｗｔ％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯおよびこれらの混合物の群から選択される、二価元素の酸化物ＭｅＩＩＯを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項7】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、１．０から６．０ｗｔ％のＭｇＯを含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項8】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、０から８．０ｗｔ％の、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３およびこれらの混合物の群から選択される、三価元素の酸化物ＭｅＩＩＩ
２Ｏ３を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の使用。
【請求項9】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、１．０から６．０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３を含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の使用。
【請求項10】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の使用。
【請求項11】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、少なくとも２０ｗｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項12】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、０．２から２８ｗｔ％の低温型石英結晶を有する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の使用。
【請求項13】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、粉末、顆粒状体、ブランク、または歯修復物の形態で存在する、請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項14】
歯修復物をコーティングするための、または歯修復物の調製のための、請求項１から１３のいずれか一項に記載のケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックの使用。
【請求項15】
前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、プレスまたは機械加工によって、所望の前記歯修復物の形状にされる、請求項１４に記載の歯修復物の調製のための使用。
【請求項16】
前記歯修復物が、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウン、クラウンまたはファセットである、請求項１４または１５に記載の使用。
【請求項17】
歯修復物の調製のための方法であって、請求項１から１２のいずれか一項に記載のケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックが、プレスまたは機械加工によって、所望の歯修復物の形状にされる、方法。
【請求項18】
請求項１から１２のいずれか一項に記載のケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックの調製のための方法であって、（ａ）核を有する出発ガラスを形成するために、２．０から３．５ｗｔ％のＫ２Ｏを含み、２．２から３．５の範囲のモル比のＳｉＯ２とＬｉ２Ｏを含む出発ガラスが４００から６００℃の温度で熱処理を施され、
（ｂ）前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成するために、核を有する前記出発ガラスが７００から９００℃の温度で熱処理を施される、
方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、好ましくは歯修復物の調製のために、特に歯科学において使用されるのに適
する、ケイ酸リチウム－低温型石英－ガラスセラミック、さらにはこのガラスセラミック
の調製のための前駆体に関する。
する、ケイ酸リチウム－低温型石英－ガラスセラミック、さらにはこのガラスセラミック
の調製のための前駆体に関する。
【背景技術】
【0002】
ケイ酸リチウムガラスセラミックは、一般に、非常に良好な機械的特性によって特徴付
けられ、この理由で、それらは歯科分野において、またそこで主に歯科クラウンおよび小
さな歯科ブリッジの調製のために、しばらくの間、使用されてきた。
けられ、この理由で、それらは歯科分野において、またそこで主に歯科クラウンおよび小
さな歯科ブリッジの調製のために、しばらくの間、使用されてきた。
【0003】
米国特許第５，５０７，９８１号および米国特許第５，７０２，５１４号は、粘性のあ
る状態でプレスすることによって加工されて、歯修復物を形成する、二ケイ酸リチウムガ
ラスセラミックを記載する。しかし、変形可能なルツボの使用が不可欠であり、このため
、加工は非常に高価になる。
る状態でプレスすることによって加工されて、歯修復物を形成する、二ケイ酸リチウムガ
ラスセラミックを記載する。しかし、変形可能なルツボの使用が不可欠であり、このため
、加工は非常に高価になる。
【0004】
欧州特許第８２７９４１号および欧州特許第９１６６２５号は、プレスまたは機械加工
によって、所望の歯修復物の形状にされ得る二ケイ酸リチウムガラスセラミックを開示す
る。
によって、所望の歯修復物の形状にされ得る二ケイ酸リチウムガラスセラミックを開示す
る。
【0005】
欧州特許第１５０５０４１号および欧州特許第１６８８３９８号は、二ケイ酸リチウム
ガラスセラミックからの歯修復物の調製のための方法を記載する。まず、中間体生成物と
して、主な結晶相としてのメタケイ酸リチウムを有するガラスセラミックが生成され、こ
れは、例えばＣＡＤ／ＣＡＭプロセスによって、非常に容易に機械加工できる。次いで、
高強度の所望の二ケイ酸リチウムガラスセラミックを形成するために、この中間体生成物
はさらなる熱処理を施される。プロセス中に使用される熱処理は、例えばクリストバライ
トのような、所望でない結晶相の形成が防げられるように、選択されるべきである。
ガラスセラミックからの歯修復物の調製のための方法を記載する。まず、中間体生成物と
して、主な結晶相としてのメタケイ酸リチウムを有するガラスセラミックが生成され、こ
れは、例えばＣＡＤ／ＣＡＭプロセスによって、非常に容易に機械加工できる。次いで、
高強度の所望の二ケイ酸リチウムガラスセラミックを形成するために、この中間体生成物
はさらなる熱処理を施される。プロセス中に使用される熱処理は、例えばクリストバライ
トのような、所望でない結晶相の形成が防げられるように、選択されるべきである。
【0006】
国際公開第２０１３／０５３８６４号は、二価の金属酸化物を含み、歯修復物を形成す
るために、ホットプレスさらには機械加工によって加工できる、ケイ酸リチウムガラスセ
ラミックを開示する。
るために、ホットプレスさらには機械加工によって加工できる、ケイ酸リチウムガラスセ
ラミックを開示する。
【0007】
主な結晶相としての二ケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としてのアパタイトとを有す
るガラスセラミックが、国際公開第２０１３／１６４２５６号により公知である。これら
のガラスセラミックは、高い化学的安定性によって特徴付けられ、機械加工またはホット
プレスによって所望の歯修復物を形成するように成形できる。
るガラスセラミックが、国際公開第２０１３／１６４２５６号により公知である。これら
のガラスセラミックは、高い化学的安定性によって特徴付けられ、機械加工またはホット
プレスによって所望の歯修復物を形成するように成形できる。
【0008】
米国特許出願公開第２０１５／０１０４６５５号は、結晶化のために選択される組成お
よび温度処理に応じて、結晶相として、二ケイ酸リチウム、メタケイ酸リチウム、リン酸
リチウム、クリストバライト、トリディマイト、石英またはリチア輝石を含むことができ
る、ガラスセラミックを記載する。これらのガラスセラミックは、特に酸化ジルコニウム
セラミックに上張りすることが意図されている。
よび温度処理に応じて、結晶相として、二ケイ酸リチウム、メタケイ酸リチウム、リン酸
リチウム、クリストバライト、トリディマイト、石英またはリチア輝石を含むことができ
る、ガラスセラミックを記載する。これらのガラスセラミックは、特に酸化ジルコニウム
セラミックに上張りすることが意図されている。
【0009】
しかし、往来の二ケイ酸リチウムガラスセラミックの機械加工は、それらの高い強度の
故に、困難を伴ってのみ可能であり、その結果、それは、一般に、使用される工具の大き
な摩耗を伴う。前駆体としての対応するメタケイ酸リチウムガラスセラミックの同様の可
能な機械加工は、ずっと容易である。しかし、これは、機械加工による成形の後、高強度
の二ケイ酸リチウムガラスセラミックによる修復物を生成するために、さらなる熱処理を
まだ必要とする。
故に、困難を伴ってのみ可能であり、その結果、それは、一般に、使用される工具の大き
な摩耗を伴う。前駆体としての対応するメタケイ酸リチウムガラスセラミックの同様の可
能な機械加工は、ずっと容易である。しかし、これは、機械加工による成形の後、高強度
の二ケイ酸リチウムガラスセラミックによる修復物を生成するために、さらなる熱処理を
まだ必要とする。
【0010】
したがって、容易に機械加工でき、この加工の後、生成した歯修復物に所望の機械特性
を与えるために、さらなる熱処理を必要としない、ケイ酸リチウムガラスセラミックが求
められている。これらのケイ酸リチウムガラスセラミックは、非常に良好な機械的特性だ
けでなく、さらに、それらが、修復歯科用材料に成される高い美的要求もまた満たすよう
に、非常に良好な光学的特性もまた有するべきである。
を与えるために、さらなる熱処理を必要としない、ケイ酸リチウムガラスセラミックが求
められている。これらのケイ酸リチウムガラスセラミックは、非常に良好な機械的特性だ
けでなく、さらに、それらが、修復歯科用材料に成される高い美的要求もまた満たすよう
に、非常に良好な光学的特性もまた有するべきである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0011】
【文献】米国特許第５，５０７，９８１号明細書
【文献】米国特許第５，７０２，５１４号明細書
【文献】欧州特許第８２７９４１号明細書
【文献】欧州特許第９１６６２５号明細書
【文献】欧州特許第１５０５０４１号明細書
【文献】欧州特許第１６８８３９８号明細書
【文献】国際公開第２０１３／０５３８６４号
【文献】国際公開第２０１３／１６４２５６号
【文献】米国特許出願公開第２０１５／０１０４６５５号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0012】
本目的は、請求項１から１４および１７に記載のケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセ
ラミックによって達成される。本発明の主題は、また、請求項１５、１６および１７に記
載の出発ガラス、請求項１８、１９および２２に記載の方法、さらには、請求項２０およ
び２１に記載の使用である。
ラミックによって達成される。本発明の主題は、また、請求項１５、１６および１７に記
載の出発ガラス、請求項１８、１９および２２に記載の方法、さらには、請求項２０およ
び２１に記載の使用である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、主な結晶相としてのケ
イ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを含むことを特徴とする。
イ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを含むことを特徴とする。
【0014】
驚くべきことに、本発明によるガラスセラミックは、修復歯科用材料にとってまさに必
要であるような、非常に望ましい機械的および光学的特性の組合せを併せ持つことが示さ
れた。このガラスセラミックは、高強度を有するにもかかわらず、機械加工によって容易
に歯修復物の形状にすることができる。満足すべき強度を達成するために、その後の熱処
理を必要としない。さらに、主な結晶相としてのケイ酸リチウムに加えて、さらなる結晶
相としての低温型石英を提供することによって、非常に良好な光学的特性を、それでもや
はり達成できることは、期待されていなかった。これは、多くのさらなる結晶相は、ケイ
酸リチウムガラスセラミックの光学的特性に悪影響を及ぼすためである。例えば、それら
は、透光性を低下させ得、そのうえ、ガラスセラミックの被着色性能を損ね得、このため
、置き換えられる自然の歯の材料の色を模倣することが、相当に難しくなり得る。
要であるような、非常に望ましい機械的および光学的特性の組合せを併せ持つことが示さ
れた。このガラスセラミックは、高強度を有するにもかかわらず、機械加工によって容易
に歯修復物の形状にすることができる。満足すべき強度を達成するために、その後の熱処
理を必要としない。さらに、主な結晶相としてのケイ酸リチウムに加えて、さらなる結晶
相としての低温型石英を提供することによって、非常に良好な光学的特性を、それでもや
はり達成できることは、期待されていなかった。これは、多くのさらなる結晶相は、ケイ
酸リチウムガラスセラミックの光学的特性に悪影響を及ぼすためである。例えば、それら
は、透光性を低下させ得、そのうえ、ガラスセラミックの被着色性能を損ね得、このため
、置き換えられる自然の歯の材料の色を模倣することが、相当に難しくなり得る。
【0015】
本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、特に、５９．０から７
９．０、好ましくは６４．０から７８．０、特に好ましくは６４．０から７６．０ｗｔ％
のＳｉＯ２を含む。
９．０、好ましくは６４．０から７８．０、特に好ましくは６４．０から７６．０ｗｔ％
のＳｉＯ２を含む。
【0016】
別の実施形態において、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは
、特に６８．０から７９．０、好ましくは６９．０から７８．０、特に好ましくは７０．
０から７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２を含む。
、特に６８．０から７９．０、好ましくは６９．０から７８．０、特に好ましくは７０．
０から７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２を含む。
【0017】
本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、８．０から１５．０、
特に好ましくは９．０から１４．０、特に非常に好ましくは１０．０から１３．５ｗｔ％
のＬｉ２Ｏを含むことが、さらに好ましい。Ｌｉ２Ｏは、ガラスマトリックスの粘度を下
げ、こうして、所望の相の結晶化を促進すると推測される。
特に好ましくは９．０から１４．０、特に非常に好ましくは１０．０から１３．５ｗｔ％
のＬｉ２Ｏを含むことが、さらに好ましい。Ｌｉ２Ｏは、ガラスマトリックスの粘度を下
げ、こうして、所望の相の結晶化を促進すると推測される。
【0018】
好ましいさらなる実施形態において、ガラスセラミックは、０から９．０、好ましくは
２．０から６．０、特に好ましくは３．０から５．０ｗｔ％のＰ２Ｏ５を含む。Ｐ２Ｏ５
は、核生成剤として働くと推測される。
２．０から６．０、特に好ましくは３．０から５．０ｗｔ％のＰ２Ｏ５を含む。Ｐ２Ｏ５
は、核生成剤として働くと推測される。
【0019】
ガラスセラミックは、１．０から８．０、特に２．０から７．０ｗｔ％の、Ｋ２Ｏ、Ｎ
ａ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、およびこれらの混合物の群から選択される、一価元素の酸
化物ＭｅＩ ２Ｏを含むこともまた好ましい。
ａ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、およびこれらの混合物の群から選択される、一価元素の酸
化物ＭｅＩ ２Ｏを含むこともまた好ましい。
【0020】
特に好ましくは、ガラスセラミックは、指定された量で、次の一価元素の酸化物ＭｅＩ
２Ｏの少なくとも１つ、特に全てを含む。
２Ｏの少なくとも１つ、特に全てを含む。
【化1】
【0021】
特に好ましい実施形態において、本発明によるガラスセラミックは、０から５．０、好
ましくは１．０から４．０、特に好ましくは２．０から３．５ｗｔ％のＫ２Ｏを含む。
ましくは１．０から４．０、特に好ましくは２．０から３．５ｗｔ％のＫ２Ｏを含む。
【0022】
さらに、ガラスセラミックが、１．０から９．０、好ましくは２．０から８．０、特に
好ましくは３．０から７．０ｗｔ％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯおよびこれらの
混合物の群から選択される二価元素の酸化物ＭｅＩＩＯを含むことが好ましい。
好ましくは３．０から７．０ｗｔ％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯおよびこれらの
混合物の群から選択される二価元素の酸化物ＭｅＩＩＯを含むことが好ましい。
【0023】
好ましいさらなる実施形態において、ガラスセラミックは、２．０ｗｔ％未満のＢａＯ
を含む。ガラスセラミックは、特に、ＢａＯを実質的に含まない。
を含む。ガラスセラミックは、特に、ＢａＯを実質的に含まない。
【0024】
好ましくは、ガラスセラミックは、指定された量で、次の二価元素の酸化物ＭｅＩＩＯ
の、少なくとも１つ、特に全てを含む。
の、少なくとも１つ、特に全てを含む。
【化2】
【0025】
特に好ましい実施形態において、本発明によるガラスセラミックは、１．０から６．０
、特に１．５から６．０、好ましくは２．０から５．５、特に好ましくは３．１から５．
５、特に非常に好ましくは３．４から５．０ｗｔ％のＭｇＯを含む。
、特に１．５から６．０、好ましくは２．０から５．５、特に好ましくは３．１から５．
５、特に非常に好ましくは３．４から５．０ｗｔ％のＭｇＯを含む。
【0026】
０から８．０、好ましくは１．０から７．０、特に好ましくは２．０から６．５ｗｔ％
の、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３およびこれ
らの混合物の群から選択される三価元素の酸化物ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３を含むガラスセラミッ
クが、さらに好ましい。
の、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３およびこれ
らの混合物の群から選択される三価元素の酸化物ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３を含むガラスセラミッ
クが、さらに好ましい。
【0027】
ガラスセラミックは、特に好ましくは、指定された量で、次の三価元素の酸化物ＭｅＩ
ＩＩ ２Ｏ３の少なくとも１つ、特に全てを含む。
ＩＩ ２Ｏ３の少なくとも１つ、特に全てを含む。
【化3】
【0028】
特に好ましい実施形態において、本発明によるガラスセラミックは、１．０から６．０
、好ましくは２．０から５．０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３を含む。
、好ましくは２．０から５．０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３を含む。
【0029】
さらに、０から１０．０、特に好ましくは０から８．０ｗｔ％の、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２
、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２およびこれらの混合物の群から選択される四価元素の酸
化物ＭｅＩＶＯ２を含むガラスセラミックが、好ましい。
、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２およびこれらの混合物の群から選択される四価元素の酸
化物ＭｅＩＶＯ２を含むガラスセラミックが、好ましい。
【0030】
ガラスセラミックは、特に好ましくは、指定された量で、次の四価元素の酸化物ＭｅＩ
ＶＯ２の少なくとも１つ、特に全てを含む。
ＶＯ２の少なくとも１つ、特に全てを含む。
【化4】
【0031】
さらなる実施形態において、ガラスセラミックは、０から８．０、好ましくは０から６
．０ｗｔ％の、Ｖ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５およびこれらの混合物の群から選択さ
れる五価元素の酸化物ＭｅＶ ２Ｏ５を含む。
．０ｗｔ％の、Ｖ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５およびこれらの混合物の群から選択さ
れる五価元素の酸化物ＭｅＶ ２Ｏ５を含む。
【0032】
ガラスセラミックは、特に好ましくは、指定された量で、次の五価元素の酸化物ＭｅＶ
２Ｏ５の少なくとも１つ、特に全てを含む。
２Ｏ５の少なくとも１つ、特に全てを含む。
【化5】
【0033】
さらなる実施形態において、ガラスセラミックは、０から５．０、好ましくは０から４
．０ｗｔ％の、ＷＯ３、ＭｏＯ３およびこれらの混合物の群から選択される六価元素の酸
化物ＭｅＶＩＯ３を含む。
．０ｗｔ％の、ＷＯ３、ＭｏＯ３およびこれらの混合物の群から選択される六価元素の酸
化物ＭｅＶＩＯ３を含む。
【0034】
ガラスセラミックは、特に好ましくは、指定された量で、次の酸化物ＭｅＶＩＯ３の少
なくとも１つ、特に全てを含む。
なくとも１つ、特に全てを含む。
【化6】
【0035】
さらなる実施形態において、本発明によるガラスセラミックは、０から１．０、特に０
から０．５ｗｔ％のフッ素を含む。
から０．５ｗｔ％のフッ素を含む。
【0036】
指定された量で、次の成分の少なくとも１つ、好ましくは全てを、含むガラスセラミッ
クが、特に好ましい。
ここで、ＭｅＩ ２Ｏ、ＭｅＩＩＯ、ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３、ＭｅＩＶＯ２、ＭｅＶ ２Ｏ５、お
よびＭｅＶＩＯ３は、上で指定された意味を有する。
クが、特に好ましい。
【化7】
ここで、ＭｅＩ ２Ｏ、ＭｅＩＩＯ、ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３、ＭｅＩＶＯ２、ＭｅＶ ２Ｏ５、お
よびＭｅＶＩＯ３は、上で指定された意味を有する。
【0037】
特に好ましいさらなる実施形態において、ガラスセラミックは、指定された量で、次の
成分の少なくとも１つ、好ましくは全てを含む。
成分の少なくとも１つ、好ましくは全てを含む。
【化8】
【0038】
上で挙げられた成分のいくつかは、着色剤および／または蛍光剤の役割を果たすことが
できる。本発明によるガラスセラミックは、また、その上に、さらなる着色剤および／ま
たは蛍光剤を含むこともできる。例えば、これらは、Ｂｉ２Ｏ３もしくはＢｉ２Ｏ５から
、特に、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、ＥｕおよびＹｂの酸化物の
ような、ｄ－ブロックおよびｆ－ブロック元素のさらなる無機顔料および／または酸化物
から選択できる。これらの着色剤および蛍光剤の助けで、特に自然の歯の材料の、所望の
光学的特性を模倣するための、ガラスセラミックの簡単な着色が可能である。さらなる結
晶相として存在する低温型石英にもかかわらず、これが問題なく可能であることは驚くべ
きことである。
できる。本発明によるガラスセラミックは、また、その上に、さらなる着色剤および／ま
たは蛍光剤を含むこともできる。例えば、これらは、Ｂｉ２Ｏ３もしくはＢｉ２Ｏ５から
、特に、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、ＥｕおよびＹｂの酸化物の
ような、ｄ－ブロックおよびｆ－ブロック元素のさらなる無機顔料および／または酸化物
から選択できる。これらの着色剤および蛍光剤の助けで、特に自然の歯の材料の、所望の
光学的特性を模倣するための、ガラスセラミックの簡単な着色が可能である。さらなる結
晶相として存在する低温型石英にもかかわらず、これが問題なく可能であることは驚くべ
きことである。
【0039】
ガラスセラミックの好ましい実施形態において、ＳｉＯ２のＬｉ２Ｏに対するモル比は
、２．２から４．１、好ましくは２．２から３．８、特に好ましくは２．２から３．５の
範囲にある。主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英
とを有する本発明によるガラスセラミックの調製が、これらの広い範囲内で達成されるこ
とは、驚くべきことである。
、２．２から４．１、好ましくは２．２から３．８、特に好ましくは２．２から３．５の
範囲にある。主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英
とを有する本発明によるガラスセラミックの調製が、これらの広い範囲内で達成されるこ
とは、驚くべきことである。
【0040】
用語「主な結晶相」は、ガラスセラミックに存在する全ての結晶相の中で、最大の質量
割合を有する結晶相を指す。結晶相の質量は、特にリートベルト法を使用して決定される
。リートベルト法による結晶相の定量分析のための適切な方法は、例えば、M. Dittmer
の博士論文「Glasses and glass ceramics in the MgO-Al2O3-SiO2 system with
ZrO2 as nucleating agent」、University of Jena、２０１１年に記載されてい
る。
割合を有する結晶相を指す。結晶相の質量は、特にリートベルト法を使用して決定される
。リートベルト法による結晶相の定量分析のための適切な方法は、例えば、M. Dittmer
の博士論文「Glasses and glass ceramics in the MgO-Al2O3-SiO2 system with
ZrO2 as nucleating agent」、University of Jena、２０１１年に記載されてい
る。
【0041】
本発明によるガラスセラミックは、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムまたはメタケ
イ酸リチウムを含むことが好ましい。特に好ましい実施形態において、本発明によるガラ
スセラミックは、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムを含み、その理由は、このガラス
セラミックが、望ましい特性の特に利点のある組合せを有するためである。
イ酸リチウムを含むことが好ましい。特に好ましい実施形態において、本発明によるガラ
スセラミックは、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムを含み、その理由は、このガラス
セラミックが、望ましい特性の特に利点のある組合せを有するためである。
【0042】
主な結晶相としてのメタケイ酸リチウムを有する本発明によるガラスセラミックの場合
、ガラスセラミックが、低温型石英に加えて、さらなる結晶相としての二ケイ酸リチウム
も含むことが好ましい。
、ガラスセラミックが、低温型石英に加えて、さらなる結晶相としての二ケイ酸リチウム
も含むことが好ましい。
【0043】
本発明によるガラスセラミックは、少なくとも２０ｗｔ％、好ましくは２５から５５ｗ
ｔ％、特に好ましくは３０から５５ｗｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を含むことが好ましい
。
ｔ％、特に好ましくは３０から５５ｗｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を含むことが好ましい
。
【0044】
本発明によるガラスセラミックは、０．２から２８ｗｔ％、特に好ましくは０．５から
２５ｗｔ％の低温型石英結晶を含むことが、さらに好ましい。
２５ｗｔ％の低温型石英結晶を含むことが、さらに好ましい。
【0045】
本発明によるガラスセラミックは、ケイ酸リチウムおよび低温型石英に加えて、その上
に、さらなる結晶相を、例えば、アパタイト、セシウムアルミノシリケート、および、特
にリン酸リチウムを、含むことができる。しかし、クリストバライトの量は、できるだけ
少量であるべきであり、特に、１．０ｗｔ％未満であるべきである。本発明によるガラス
セラミックがクリストバライトを実質的に含まないことが、特に好ましい。
に、さらなる結晶相を、例えば、アパタイト、セシウムアルミノシリケート、および、特
にリン酸リチウムを、含むことができる。しかし、クリストバライトの量は、できるだけ
少量であるべきであり、特に、１．０ｗｔ％未満であるべきである。本発明によるガラス
セラミックがクリストバライトを実質的に含まないことが、特に好ましい。
【0046】
形成される結晶相の種類および特に量は、出発ガラスの組成、さらには、出発ガラスか
らガラスセラミックを調製するために使用される熱処理によって制御できる。実施例は、
出発ガラスの組成および使用される熱処理における変化に関して、これを例示する。
らガラスセラミックを調製するために使用される熱処理によって制御できる。実施例は、
出発ガラスの組成および使用される熱処理における変化に関して、これを例示する。
【0047】
ガラスセラミックは、好ましくは少なくとも２００ＭＰａ、特に好ましくは２５０から
４６０ＭＰａの大きな２軸破壊強さを有する。２軸破壊強さは、ISO 6872（２００８年
）（３球上ピストン試験）に従って決定された。
４６０ＭＰａの大きな２軸破壊強さを有する。２軸破壊強さは、ISO 6872（２００８年
）（３球上ピストン試験）に従って決定された。
【0048】
この大きな破壊強さにもかかわらず、本発明によるガラスセラミックは、ガラスセラミ
ックを例えば歯修復物の形状にするために、コンピュータ支援のフライス削りおよび研削
装置によって容易に素早く機械加工できることは、特に驚くべきである。
ックを例えば歯修復物の形状にするために、コンピュータ支援のフライス削りおよび研削
装置によって容易に素早く機械加工できることは、特に驚くべきである。
【0049】
本発明によるガラスセラミックは、好ましくは９．５から１４．０・１０－６Ｋ－１の
熱膨張係数（ＣＴＥ）（１００から５００℃の範囲で測定される）を有する。ＣＴＥは、
ISO 6872（２００８年）に従って決定される。熱膨張係数は、特に、ガラスセラミック
に存在する結晶相の種類と量、さらにはガラスセラミックの化学組成によって、所望の値
に調節される。
熱膨張係数（ＣＴＥ）（１００から５００℃の範囲で測定される）を有する。ＣＴＥは、
ISO 6872（２００８年）に従って決定される。熱膨張係数は、特に、ガラスセラミック
に存在する結晶相の種類と量、さらにはガラスセラミックの化学組成によって、所望の値
に調節される。
【0050】
ガラスセラミックの透光性は、British Standard BS 5612によるコントラスト値（
ＣＲ値）の形で決定され、このコントラスト値は、好ましくは４０から９２であった。
ＣＲ値）の形で決定され、このコントラスト値は、好ましくは４０から９２であった。
【0051】
本発明によるガラスセラミックの場合に存在する、特性の特定の組合せは、歯科用材料
として、特に歯修復物の調製のための材料として、それが使用されることまで可能にする
。
として、特に歯修復物の調製のための材料として、それが使用されることまで可能にする
。
【0052】
本発明は、さらに、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを熱処
理によってそれから調製できる、対応する組成を有する様々な前駆体に関する。これらの
前駆体は、対応する組成を有する出発ガラス、および、対応する組成を有し、核を有する
出発ガラスである。用語「対応する組成」は、これらの前駆体が、ガラスセラミックと同
じ成分を、同じ量で含むことを意味し、この場合、ガラスおよびガラスセラミックでは慣
例であるように、フッ素を除く成分は、酸化物として計算される。
理によってそれから調製できる、対応する組成を有する様々な前駆体に関する。これらの
前駆体は、対応する組成を有する出発ガラス、および、対応する組成を有し、核を有する
出発ガラスである。用語「対応する組成」は、これらの前駆体が、ガラスセラミックと同
じ成分を、同じ量で含むことを意味し、この場合、ガラスおよびガラスセラミックでは慣
例であるように、フッ素を除く成分は、酸化物として計算される。
【0053】
したがって、本発明は、また、本発明によるニケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラ
ミックの成分を含む出発ガラスにも関する。
ミックの成分を含む出発ガラスにも関する。
【0054】
したがって、本発明による出発ガラスは、主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さら
なる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガラスセラミックを形成するのに
必要である、適切な量のＳｉＯ２およびＬｉ２Ｏを特に含む。さらに、出発ガラスは、ま
た、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックに対して上で指定された
ような、さらに他の成分も含むことができる。本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英
ガラスセラミックの成分として好ましいと指定されたこれらの全ての実施形態は、また、
出発ガラスの成分としても好ましい。
なる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガラスセラミックを形成するのに
必要である、適切な量のＳｉＯ２およびＬｉ２Ｏを特に含む。さらに、出発ガラスは、ま
た、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックに対して上で指定された
ような、さらに他の成分も含むことができる。本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英
ガラスセラミックの成分として好ましいと指定されたこれらの全ての実施形態は、また、
出発ガラスの成分としても好ましい。
【0055】
本発明は、メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウムおよび／または低温型石英の結晶化
のための核を含む、出発ガラスにも関する。
のための核を含む、出発ガラスにも関する。
【0056】
核を有するさらなる前駆体出発ガラスは、最初に、出発ガラスの熱処理によって生成さ
れ得る。次いで、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、このさ
らなる前駆体の熱処理によって生成され得る。核を有する出発ガラスの熱処理によって、
本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成することが、好ましい
。
れ得る。次いで、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、このさ
らなる前駆体の熱処理によって生成され得る。核を有する出発ガラスの熱処理によって、
本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成することが、好ましい
。
【0057】
メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウムおよび／または低温型石英の結晶化のための核
を有する出発ガラスを生成するために、出発ガラスに、４００から６００℃、特に４５０
から５５０℃の温度で、好ましくは５から１２０分、特に１０から６０分間、熱処理を施
すことが好ましい。
を有する出発ガラスを生成するために、出発ガラスに、４００から６００℃、特に４５０
から５５０℃の温度で、好ましくは５から１２０分、特に１０から６０分間、熱処理を施
すことが好ましい。
【0058】
ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを調製するために、核を有する出発ガラ
スに、７００から９００℃の温度で、特に１から１２０分、好ましくは５から１２０分、
特に好ましくは１０から６０分間、熱処理を施すことがさらに好ましい。ケイ酸リチウム
－低温型石英ガラスセラミックを調製するために、核を有する出発ガラスの熱処理は、特
に好ましくは、７００から８８０℃、特に７５０から８５０℃で、好ましくは５から１２
０分、特に好ましくは１０から６０分間、行われる。
スに、７００から９００℃の温度で、特に１から１２０分、好ましくは５から１２０分、
特に好ましくは１０から６０分間、熱処理を施すことがさらに好ましい。ケイ酸リチウム
－低温型石英ガラスセラミックを調製するために、核を有する出発ガラスの熱処理は、特
に好ましくは、７００から８８０℃、特に７５０から８５０℃で、好ましくは５から１２
０分、特に好ましくは１０から６０分間、行われる。
【0059】
本発明は、また、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックの調製の
ための方法であって、出発ガラス、または核を有する出発ガラスは、７００から９００℃
の温度で、特に１から１２０分、好ましくは５から１２０分、特に好ましくは１０から６
０分間の少なくとも１回の熱処理を施される、方法にも関する。
ための方法であって、出発ガラス、または核を有する出発ガラスは、７００から９００℃
の温度で、特に１から１２０分、好ましくは５から１２０分、特に好ましくは１０から６
０分間の少なくとも１回の熱処理を施される、方法にも関する。
【0060】
出発ガラス、および核を有する出発ガラスは、例えば、固体ガラスブランク、粉末コン
パクトまたは粉末の形態で、少なくとも１回の熱処理を施され得る。
パクトまたは粉末の形態で、少なくとも１回の熱処理を施され得る。
【0061】
本発明による方法において行われる少なくとも１回の熱処理は、また、本発明による出
発ガラス、または本発明による核を含む出発ガラスのホットプレスまたは焼結－付加の間
に行うこともできる。
発ガラス、または本発明による核を含む出発ガラスのホットプレスまたは焼結－付加の間
に行うこともできる。
【0062】
好ましい実施形態において、本発明による方法は、
（ａ）核を有する出発ガラスを形成するための、４００から６００℃の温度での、出発
ガラスの熱処理、および
（ｂ）ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成するための、７００から９
００℃の温度での、核を有する出発ガラスの熱処理
を含む。
（ａ）核を有する出発ガラスを形成するための、４００から６００℃の温度での、出発
ガラスの熱処理、および
（ｂ）ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成するための、７００から９
００℃の温度での、核を有する出発ガラスの熱処理
を含む。
【0063】
（ａ）および（ｂ）で行われる熱処理の継続時間は、特に５から１２０分、好ましくは
１０から６０分である。
１０から６０分である。
【0064】
出発ガラスを調製するために、手順は、特に、カーボネート、酸化物、ホスフェートお
よびフッ化物のような、適切な出発材料の混合物を特に１３００から１６００℃の温度で
２から１０時間、溶融させることである。特に高い均一性を達成するために、得られたガ
ラス溶融物を、顆粒状ガラス材料を形成するように、水に注入し、次いで、得られた顆粒
状体を再び溶融させる。
よびフッ化物のような、適切な出発材料の混合物を特に１３００から１６００℃の温度で
２から１０時間、溶融させることである。特に高い均一性を達成するために、得られたガ
ラス溶融物を、顆粒状ガラス材料を形成するように、水に注入し、次いで、得られた顆粒
状体を再び溶融させる。
【0065】
次に、溶融物は、出発ガラスのブランク、いわゆる固体ガラスブランクまたはモノリス
ブランクを生成するように、型に注入され得る。
ブランクを生成するように、型に注入され得る。
【0066】
顆粒状体を調製するために、溶融物を水に再び投入することもまた可能である。この顆
粒状体は、すり砕き、および任意選択でさらなる成分（例えば着色剤および蛍光剤）を添
加した後、ブランクを、いわゆる粉末コンパクトを、形成するために、プレスされ得る。
粒状体は、すり砕き、および任意選択でさらなる成分（例えば着色剤および蛍光剤）を添
加した後、ブランクを、いわゆる粉末コンパクトを、形成するために、プレスされ得る。
【0067】
最後に、出発ガラスは、また顆粒化の後、粉末を形成するために加工されてもよい。
【0068】
次いで、例えば、固体ガラスブランク、粉末コンパクトの形態または粉末の形態の出発
ガラスは、少なくとも１回の熱処理を施される。メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム
および／または低温型石英の結晶を形成するのに適する核を有する本発明による出発ガラ
スを調製するために、１回目の熱処理が最初に行われることが好ましい。次いで、ケイ酸
リチウム、特に二ケイ酸リチウム、および低温型石英の結晶化をもたらすために、核を有
するガラスは、より高い温度での少なくとも１回のさらなる熱処理を通常施される。
ガラスは、少なくとも１回の熱処理を施される。メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム
および／または低温型石英の結晶を形成するのに適する核を有する本発明による出発ガラ
スを調製するために、１回目の熱処理が最初に行われることが好ましい。次いで、ケイ酸
リチウム、特に二ケイ酸リチウム、および低温型石英の結晶化をもたらすために、核を有
するガラスは、より高い温度での少なくとも１回のさらなる熱処理を通常施される。
【0069】
本発明によるガラスセラミックおよび本発明によるガラスは、焼結されていない、部分
的に焼結された、または高密度に焼結された形態の、特に、粉末、顆粒状体または任意の
形状と大きさのブランク、例えば、板状体、立方体もしくは円柱のようなモノリスブラン
ク、または粉末コンパクトの形態で存在する。それらは、これらの形態で、容易にさらに
加工できる。しかし、それらは、また、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセ
ット、またはアバットメントのような、歯修復物の形態でも存在できる。
的に焼結された、または高密度に焼結された形態の、特に、粉末、顆粒状体または任意の
形状と大きさのブランク、例えば、板状体、立方体もしくは円柱のようなモノリスブラン
ク、または粉末コンパクトの形態で存在する。それらは、これらの形態で、容易にさらに
加工できる。しかし、それらは、また、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセ
ット、またはアバットメントのような、歯修復物の形態でも存在できる。
【0070】
ブリッジ、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセット、またはアバットメン
トのような、歯修復物は、本発明によるガラスセラミックおよび本発明によるガラスから
調製され得る。したがって、本発明は、また、歯修復物の調製のための、それらの使用に
も関する。ガラスセラミックまたはガラスは、プレスまたは機械加工によって、所望の歯
修復物の形状にされることが好ましい。
トのような、歯修復物は、本発明によるガラスセラミックおよび本発明によるガラスから
調製され得る。したがって、本発明は、また、歯修復物の調製のための、それらの使用に
も関する。ガラスセラミックまたはガラスは、プレスまたは機械加工によって、所望の歯
修復物の形状にされることが好ましい。
【0071】
プレスは、通常、上昇された圧力下で、上昇された温度で行われる。プレスは、７００
から１２００℃の温度で行われることが好ましい。プレスを２から１０ｂａｒの圧力で行
うことが、さらに好ましい。プレスの間、形状の所望の変化が、使用される材料の粘性流
れによって達成される。本発明による出発ガラス、特に、本発明による核を有する出発ガ
ラス、および本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、プレスに使
用できる。本発明によるガラスおよびガラスセラミックは、例えば、焼結されていない、
部分的に焼結された、または高密度に焼結された形態の、特に、任意の形状と大きさのブ
ランク、例えば固体ブランク、または粉末コンパクトの形態で使用され得る。
から１２００℃の温度で行われることが好ましい。プレスを２から１０ｂａｒの圧力で行
うことが、さらに好ましい。プレスの間、形状の所望の変化が、使用される材料の粘性流
れによって達成される。本発明による出発ガラス、特に、本発明による核を有する出発ガ
ラス、および本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、プレスに使
用できる。本発明によるガラスおよびガラスセラミックは、例えば、焼結されていない、
部分的に焼結された、または高密度に焼結された形態の、特に、任意の形状と大きさのブ
ランク、例えば固体ブランク、または粉末コンパクトの形態で使用され得る。
【0072】
機械加工は、通常、材料を除去するプロセスによって、特にフライス削りおよび／また
は研削によって行われる。機械加工が、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセス中に行われることが、特
に好ましい。本発明による出発ガラス、本発明による核を有する出発ガラス、および本発
明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、機械加工に使用できる。本発
明によるガラスおよびガラスセラミックは、例えば、焼結されていない、部分的に焼結さ
れた、または高密度に焼結された形態の、特に、ブランク、例えば固体ブランク、または
粉末コンパクトの形態で使用できる。本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセ
ラミックが、好ましくは、機械加工に使用される。
は研削によって行われる。機械加工が、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセス中に行われることが、特
に好ましい。本発明による出発ガラス、本発明による核を有する出発ガラス、および本発
明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックは、機械加工に使用できる。本発
明によるガラスおよびガラスセラミックは、例えば、焼結されていない、部分的に焼結さ
れた、または高密度に焼結された形態の、特に、ブランク、例えば固体ブランク、または
粉末コンパクトの形態で使用できる。本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセ
ラミックが、好ましくは、機械加工に使用される。
【0073】
例えばプレスまたは機械加工によって、所望の通り成形された歯修復物の調製の後、そ
れは、使用される例えば多孔質粉末コンパクトの、多孔度を低下させるために、さらに熱
処理されてもよい。
れは、使用される例えば多孔質粉末コンパクトの、多孔度を低下させるために、さらに熱
処理されてもよい。
【0074】
しかし、本発明によるガラスセラミック、および本発明によるガラスは、また、例えば
セラミックおよびガラスセラミックのための、コーティング材料としても適切である。し
たがって、本発明は、また、特にセラミックおよびガラスセラミックをコーティングする
ための、本発明によるガラス、または本発明によるガラスセラミックの使用も対象とする
。
セラミックおよびガラスセラミックのための、コーティング材料としても適切である。し
たがって、本発明は、また、特にセラミックおよびガラスセラミックをコーティングする
ための、本発明によるガラス、または本発明によるガラスセラミックの使用も対象とする
。
【0075】
本発明は、また、セラミック、金属、金属合金およびガラスセラミックをコーティング
するための方法にも関し、この方法では、本発明によるガラスセラミック、または本発明
によるガラスが、セラミックまたはガラスセラミックに付けられ、上昇された温度に曝さ
れる。
するための方法にも関し、この方法では、本発明によるガラスセラミック、または本発明
によるガラスが、セラミックまたはガラスセラミックに付けられ、上昇された温度に曝さ
れる。
【0076】
これは、特に、焼結－付加によって、または、ＣＡＤ／ＣＡＭによって調製された上部
構造体を適切なガラスはんだまたは接着剤を使用して接合することによって、好ましくは
プレス－付加することによって行うことができる。焼結－付加の場合、ガラスセラミック
またはガラスが、コーティングされる材料に、例えばセラミックまたはガラスセラミック
に、例えば粉末として、通常の方法で、付けられ、次いで、上昇された温度で焼結される
。好ましいプレス－付加の場合、本発明によるガラスセラミック、または本発明によるガ
ラスが、例えば７００から１２００℃の上昇された温度で、例えば２から１０ｂａｒの圧
力を加えて、粉末コンパクトまたはモノリスブランクの形態に、プレス付加される。この
ために、特に、欧州特許出願公開第２３１７７３号に記載された方法、およびそこに開示
されたプレス炉を使用できる。適切な炉は、例えば、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ
ＡＧ（リヒテンシュタイン）によるＰｒｏｇｒａｍａｔ ＥＰ ５０００である。
構造体を適切なガラスはんだまたは接着剤を使用して接合することによって、好ましくは
プレス－付加することによって行うことができる。焼結－付加の場合、ガラスセラミック
またはガラスが、コーティングされる材料に、例えばセラミックまたはガラスセラミック
に、例えば粉末として、通常の方法で、付けられ、次いで、上昇された温度で焼結される
。好ましいプレス－付加の場合、本発明によるガラスセラミック、または本発明によるガ
ラスが、例えば７００から１２００℃の上昇された温度で、例えば２から１０ｂａｒの圧
力を加えて、粉末コンパクトまたはモノリスブランクの形態に、プレス付加される。この
ために、特に、欧州特許出願公開第２３１７７３号に記載された方法、およびそこに開示
されたプレス炉を使用できる。適切な炉は、例えば、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ
ＡＧ（リヒテンシュタイン）によるＰｒｏｇｒａｍａｔ ＥＰ ５０００である。
【0077】
コーティングプロセスが終わった後、主な結晶相としてのケイ酸リチウム、特に二ケイ
酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガラスセラミ
ックが存在することが好ましく、その理由は、このようなガラスセラミックが特に良好な
特性を有するためである。
酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガラスセラミ
ックが存在することが好ましく、その理由は、このようなガラスセラミックが特に良好な
特性を有するためである。
【0078】
本発明によるガラスセラミックおよび本発明によるガラスの上記の特性の故に、これら
は、特に、歯科学における使用に適している。したがって、また、本発明の主題は、特に
歯修復物の調製のための、歯科用材料としての、または、歯修復物、例えば、クラウン、
ブリッジおよびアバットメントのためのコーティング材料としての、本発明によるガラス
セラミックまたは本発明によるガラスの使用でもある。
は、特に、歯科学における使用に適している。したがって、また、本発明の主題は、特に
歯修復物の調製のための、歯科用材料としての、または、歯修復物、例えば、クラウン、
ブリッジおよびアバットメントのためのコーティング材料としての、本発明によるガラス
セラミックまたは本発明によるガラスの使用でもある。
【0079】
本発明は、非限定的実施例に関して、より詳細に下で説明される。
【実施例】
【0080】
実施例１から３４－組成および結晶相
表Ｉに指定された組成を有する、全部で３４の本発明によるガラスおよびガラスセラミ
ックを、対応する出発ガラスを溶融させること、さらには、それに続く、制御された核生
成および結晶化のための熱処理によって調製した。
表Ｉに指定された組成を有する、全部で３４の本発明によるガラスおよびガラスセラミ
ックを、対応する出発ガラスを溶融させること、さらには、それに続く、制御された核生
成および結晶化のための熱処理によって調製した。
【0081】
制御された核生成および制御された結晶化のために使用された熱処理もまた、表Ｉに指
定されている。次の意味が適用される。
Ｔｇ ガラス転移温度、ＤＳＣによって決定
ＴＳおよびｔＳ 出発ガラスを溶融させるために使用された、温度および時間
ＴＫｂおよびｔＫｂ 出発ガラスの核生成のために使用された、温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 結晶化のために使用された、温度および時間
Ｔｐｒｅｓｓおよびｔｐｒｅｓｓ ホットプレスによる結晶化に使用された、温度お
よび時間
ＣＲ値 British Standard BS 5612による、ガラスセラミックのコントラスト値
であり、
装置：ＣＭ－３７００ｄ分光計（Ｋｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ）
測定パラメータ：
測定面積：７ｍｍ×５ｍｍ
測定方式：反射率／反射
測定範囲：４００ｎｍ～７００ｎｍ
試料の大きさ：
直径：１５～２０ｍｍ
厚さ：２ｍｍ±０．０２５ｍｍ
面の平行性：±０．０５ｍｍ
表面粗さ：約１８μｍ
を用いて決定。
ＣＴＥ ISO 6872（２００８年）によるガラスセラミックの熱膨張係数、１００か
ら５００℃の範囲で測定
σＢｉａｘ ２軸破壊強さ、ISO 6872（２００８年）に従って測定
定されている。次の意味が適用される。
Ｔｇ ガラス転移温度、ＤＳＣによって決定
ＴＳおよびｔＳ 出発ガラスを溶融させるために使用された、温度および時間
ＴＫｂおよびｔＫｂ 出発ガラスの核生成のために使用された、温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 結晶化のために使用された、温度および時間
Ｔｐｒｅｓｓおよびｔｐｒｅｓｓ ホットプレスによる結晶化に使用された、温度お
よび時間
ＣＲ値 British Standard BS 5612による、ガラスセラミックのコントラスト値
であり、
装置：ＣＭ－３７００ｄ分光計（Ｋｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ）
測定パラメータ：
測定面積：７ｍｍ×５ｍｍ
測定方式：反射率／反射
測定範囲：４００ｎｍ～７００ｎｍ
試料の大きさ：
直径：１５～２０ｍｍ
厚さ：２ｍｍ±０．０２５ｍｍ
面の平行性：±０．０５ｍｍ
表面粗さ：約１８μｍ
を用いて決定。
ＣＴＥ ISO 6872（２００８年）によるガラスセラミックの熱膨張係数、１００か
ら５００℃の範囲で測定
σＢｉａｘ ２軸破壊強さ、ISO 6872（２００８年）に従って測定
【0082】
結晶相の量は、リートベルト法によって決定した。このために、内部標準としてのＡｌ
２Ｏ３（製品名：タイミクロンＴＭ－ＤＡＲ、大明化学工業（株）（日本）による）と、
５０ｗｔ％のガラスセラミック対５０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３の比率で混合された、個々のガ
ラスセラミックの粉末を使用した。この混合物を、できるだけ良好な完全な混合を達成す
るために、アセトンでスラリーにした。次いで、混合物を約８０℃で乾燥した。次に、Ｂ
ｒｕｋｅｒによるＤ８ Ａｄｖａｎｃｅ回折計によって、ＣｕＫα線および０．０１４°
２θのステップサイズを使用して、１０から１００°２θの範囲のディフラクトグラムを
得た。次いで、このディフラクトグラムを、ＢｒｕｋｅｒによるＴＯＰＡＳソフトウェア
により評価し、相の割合を決定した。全てのディフラクトグラムで、Ｌｉ３ＰＯ４晶子サ
イズに対する約３０ｎｍの下限を使用した。
２Ｏ３（製品名：タイミクロンＴＭ－ＤＡＲ、大明化学工業（株）（日本）による）と、
５０ｗｔ％のガラスセラミック対５０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３の比率で混合された、個々のガ
ラスセラミックの粉末を使用した。この混合物を、できるだけ良好な完全な混合を達成す
るために、アセトンでスラリーにした。次いで、混合物を約８０℃で乾燥した。次に、Ｂ
ｒｕｋｅｒによるＤ８ Ａｄｖａｎｃｅ回折計によって、ＣｕＫα線および０．０１４°
２θのステップサイズを使用して、１０から１００°２θの範囲のディフラクトグラムを
得た。次いで、このディフラクトグラムを、ＢｒｕｋｅｒによるＴＯＰＡＳソフトウェア
により評価し、相の割合を決定した。全てのディフラクトグラムで、Ｌｉ３ＰＯ４晶子サ
イズに対する約３０ｎｍの下限を使用した。
【0083】
本発明によるガラスおよびガラスセラミックを生成するために、１００から２００ｇの
範囲の出発ガラスを、通例の原材料から、最初に、１５００℃または１４００℃で１から
３時間、溶融させたが、ここで、溶融は、泡または筋の形成なしに、非常に容易に可能で
あった。出発ガラスを水に注入することによって、ガラスフリットを調製し、次いで、フ
リットを、均一化のために、１５００℃または１４００℃で１時間、再度溶融させた。
範囲の出発ガラスを、通例の原材料から、最初に、１５００℃または１４００℃で１から
３時間、溶融させたが、ここで、溶融は、泡または筋の形成なしに、非常に容易に可能で
あった。出発ガラスを水に注入することによって、ガラスフリットを調製し、次いで、フ
リットを、均一化のために、１５００℃または１４００℃で１時間、再度溶融させた。
【0084】
４６０から５５０℃の温度での出発ガラスの１回目の熱処理により、核を有するガラス
が形成された。７６０から８８０℃でのさらなる熱処理の結果として、これらの核を含む
ガラスは、結晶化して、Ｘ線回折試験によって確証されたように、主な結晶相としてのケ
イ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有するガラスセラミックを形成
した。こうして、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを得た。
が形成された。７６０から８８０℃でのさらなる熱処理の結果として、これらの核を含む
ガラスは、結晶化して、Ｘ線回折試験によって確証されたように、主な結晶相としてのケ
イ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有するガラスセラミックを形成
した。こうして、本発明によるケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを得た。
【0085】
Ａ）固体ガラスブロック
【0086】
実施例１～２６、２８および３１～３４において、ガラスセラミックを、固体ガラスブ
ロックから調製した。このために、得られたガラス顆粒状体を、ＴＳの温度で、ｔＳの時
間、再び溶融させた。次いで、得られた出発ガラス溶融物を、固体ガラスブロックを生成
するために、黒鉛型に注入した。次に、これらのガラスモノリスを、ＴＫｂの温度で、ｔ
Ｋｂの時間、応力緩和させ、これによって、核生成を起こすことができた。次いで、核を
含む出発ガラスを、ＴＣの温度に、ｔＣの時間、加熱した。室温でのＸ線回折試験によっ
て確証できたように、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムと、さらなる相としての低温
型石英とを有する本発明によるガラスセラミックが、これによって形成された。
ロックから調製した。このために、得られたガラス顆粒状体を、ＴＳの温度で、ｔＳの時
間、再び溶融させた。次いで、得られた出発ガラス溶融物を、固体ガラスブロックを生成
するために、黒鉛型に注入した。次に、これらのガラスモノリスを、ＴＫｂの温度で、ｔ
Ｋｂの時間、応力緩和させ、これによって、核生成を起こすことができた。次いで、核を
含む出発ガラスを、ＴＣの温度に、ｔＣの時間、加熱した。室温でのＸ線回折試験によっ
て確証できたように、主な結晶相としての二ケイ酸リチウムと、さらなる相としての低温
型石英とを有する本発明によるガラスセラミックが、これによって形成された。
【0087】
この方法での変形では、二ケイ酸リチウムおよび低温型石英の体積結晶化が起こったと
推測される。
推測される。
【0088】
Ｂ）粉末コンパクト
【0089】
実施例２７では、ガラスセラミックを、粉末コンパクトから調製した。このために、得
られたガラス顆粒状体を、酸化ジルコニウムミルで、＜９０μｍの粒径に、すり砕いた。
次いで、約４ｇのこの粉末を、プレスして、円柱ブランクを形成し、焼結炉（Ｐｒｏｇｒ
ａｍａｔ（登録商標）、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧによる）において、Ｔ
Ｃの温度、ｔＣの保持時間で、焼結して、高密度のガラスセラミック体を形成した。室温
でのＸ線回折試験によって確証できたように、主な結晶相としてのメタケイ酸リチウム、
ならびにさらなる相としての二ケイ酸リチウムおよび低温型石英を有する、本発明による
ガラスセラミックが、焼結によって形成された。
られたガラス顆粒状体を、酸化ジルコニウムミルで、＜９０μｍの粒径に、すり砕いた。
次いで、約４ｇのこの粉末を、プレスして、円柱ブランクを形成し、焼結炉（Ｐｒｏｇｒ
ａｍａｔ（登録商標）、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧによる）において、Ｔ
Ｃの温度、ｔＣの保持時間で、焼結して、高密度のガラスセラミック体を形成した。室温
でのＸ線回折試験によって確証できたように、主な結晶相としてのメタケイ酸リチウム、
ならびにさらなる相としての二ケイ酸リチウムおよび低温型石英を有する、本発明による
ガラスセラミックが、焼結によって形成された。
【0090】
Ｃ）Ａ）によるブロックからの歯修復物の調製
【0091】
実施例１～２６、２８および３１～３４により生成されたガラスセラミックブロックを
、ＣＡＤ／ＣＡＭ装置で機械加工して、所望の歯修復物、例えばクラウンを形成した。こ
のために、結晶化したブロックを、適切な支持具で取り付け、次いで、Ｓｉｒｏｎａ Ｄ
ｅｎｔａｌ ＧｍｂＨ（ドイツ）によるｉｎＬａｂ ＭＣ ＸＬ研削装置で、所望の形状
にした。本発明によるブランクの加工のために、市販のｅ．ｍａｘ ＣＡＤブロック（Ｉ
ｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ（リヒテンシュタイン））の場合と同じ研削パラメータ
を使用することが可能であった。
、ＣＡＤ／ＣＡＭ装置で機械加工して、所望の歯修復物、例えばクラウンを形成した。こ
のために、結晶化したブロックを、適切な支持具で取り付け、次いで、Ｓｉｒｏｎａ Ｄ
ｅｎｔａｌ ＧｍｂＨ（ドイツ）によるｉｎＬａｂ ＭＣ ＸＬ研削装置で、所望の形状
にした。本発明によるブランクの加工のために、市販のｅ．ｍａｘ ＣＡＤブロック（Ｉ
ｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ（リヒテンシュタイン））の場合と同じ研削パラメータ
を使用することが可能であった。
【0092】
Ｄ）ガラスセラミックのホットプレス
【0093】
Ｔｐｒｅｓｓおよびｔｐｒｅｓｓが指定されている実施例１９では、ガラスセラミック
を、ホットプレスによって固体ガラスブロックから調製した。
を、ホットプレスによって固体ガラスブロックから調製した。
【0094】
このために、得られたガラス顆粒状体を、ＴＳの温度で、ｔＳの時間、再び溶融させた
。次いで、出発ガラスの得られた溶融物を、棒を生成するために、予め加熱されたスチー
ル型に注入した。次に、これらのモノリスガラス棒を、ＴＫｂの温度で、ｔＫｂの時間、
応力緩和させ、これによって、核生成を起こすことができた。次いで、棒を、鋸で切断し
て、約４から６ｇの質量を有する小円柱を形成した。次に、これらの小円柱を、ＴＣの温
度で、ｔＣの時間、結晶化させた。次いで、核生成し、結晶化した円柱を、Ｔｐｒｅｓｓ
の温度で、ｔｐｒｅｓｓの保持時間、ホットプレス炉でプレスして、成形体を形成した。
室温での、形成された成形体のＸ線回折試験によって確証できたように、主な結晶相とし
ての二ケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガ
ラスセラミックが、ホットプレスの後、形成された。
。次いで、出発ガラスの得られた溶融物を、棒を生成するために、予め加熱されたスチー
ル型に注入した。次に、これらのモノリスガラス棒を、ＴＫｂの温度で、ｔＫｂの時間、
応力緩和させ、これによって、核生成を起こすことができた。次いで、棒を、鋸で切断し
て、約４から６ｇの質量を有する小円柱を形成した。次に、これらの小円柱を、ＴＣの温
度で、ｔＣの時間、結晶化させた。次いで、核生成し、結晶化した円柱を、Ｔｐｒｅｓｓ
の温度で、ｔｐｒｅｓｓの保持時間、ホットプレス炉でプレスして、成形体を形成した。
室温での、形成された成形体のＸ線回折試験によって確証できたように、主な結晶相とし
ての二ケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを有する本発明によるガ
ラスセラミックが、ホットプレスの後、形成された。
【0095】
Ｅ）核生成したガラスの焼結
【0096】
実施例２９では、出発ガラスを、１５００℃で２時間、溶融させ、次いで、水中で急冷
した。次に、得られたガラス顆粒状体を、ＴＫｂの温度で、ｔＫｂの時間、核生成させた
。核生成した出発ガラスを細かく砕いて、２０μｍの平均粒径を有する粉末を形成した。
熱膨張を決定し、光学的特性を決定するために、この核生成したガラス粉末から、試験片
を調製して、ＴＣの温度で、ｔＣの時間、結晶化させ、高密度に焼結した。室温での、形
成された成形体のＸ線回折試験によって確証できたように、高密度に焼結した後、主な結
晶相としての二ケイ酸リチウムと、さらなる追加の相としての低温型石英とを有する本発
明によるガラスセラミックが、形成された。
例えば、本発明は、以下の項目を提供する。
（項目１）
主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを含むケイ
酸リチウム－低温型石英ガラスセラミック。
（項目２）
５９．０から７９．０、好ましくは６４．０から７８．０、特に好ましくは６４．０から
７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２、または６８．０から７９．０、好ましくは６９．０から７８
．０、特に好ましくは７０．０から７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２を含む、項目１に記載のガ
ラスセラミック。
（項目３）
８．０から１５．０、好ましくは９．０から１４．０、特に好ましくは１０．０から１３
．５ｗｔ％のＬｉ２Ｏを含む、項目１または２に記載のガラスセラミック。
（項目４）
０から９．０、好ましくは２．０から６．０、特に好ましくは３．０から５．０ｗｔ％の
Ｐ２Ｏ５を含む、項目１から３のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目５）
１．０から８．０、好ましくは２．０から７．０ｗｔ％の、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ
、Ｃｓ２Ｏ、およびこれらの混合物の群から選択される、一価元素の酸化物ＭｅＩ ２Ｏを
含む、項目１から４のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目６）
０から５．０、好ましくは１．０から４．０、特に好ましくは２．０から３．５ｗｔ％の
Ｋ２Ｏを含む、項目１から５のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目７）
１．０から９．０、好ましくは２．０から８．０、特に好ましくは３．０から７．０ｗｔ
％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯおよびこれらの混合物の群から選択される、二価
元素の酸化物ＭｅＩＩＯを含む、項目１から６のいずれか一項に記載のガラスセラミック
。
（項目８）
１．０から６．０、特に１．５から６．０、好ましくは２．０から５．５、特に好ましく
は３．１から５．５、特に非常に好ましくは３．４から５．０ｗｔ％のＭｇＯを含む、項
目１から７のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目９）
０から８．０、好ましくは１．０から７．０、特に好ましくは２．０から６．５ｗｔ％の
、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３およびこれら
の混合物の群から選択される、三価元素の酸化物ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３を含む、項目１から８
のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１０）
１．０から６．０、好ましくは２．０から５．０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３を含む、項目１から
９のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１１）
ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏを、２．２から４．１、好ましくは２．２から３．８、特に好ましく
は２．２から３．５の範囲のモル比で含む、項目１から１０のいずれか一項に記載のガラ
スセラミック。
（項目１２）
主な結晶相としての二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウム、好ましくは主な結晶相
としての二ケイ酸リチウムを含む、項目１から１１のいずれか一項に記載のガラスセラミ
ック。
（項目１３）
少なくとも２０ｗｔ％、好ましくは２５から５５ｗｔ％、特に好ましくは３０から５５ｗ
ｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を有する、項目１から１２のいずれか一項に記載のガラスセ
ラミック。
（項目１４）
０．２から２８ｗｔ％、好ましくは０．２から２５ｗｔ％の低温型石英結晶を有する、項
目１から１３のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１５）
項目１から１１のいずれか一項に記載のガラスセラミックの成分を含む出発ガラス。
（項目１６）
メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウムおよび／または低温型石英の結晶化のための核を
含む、項目１４に記載の出発ガラス。
（項目１７）
前記ガラスセラミックおよび出発材料が、粉末、顆粒状体、ブランクまたは歯修復物の形
態で存在する、項目１から１４のいずれか一項に記載のガラスセラミック、または項目１
５もしくは１６に記載の出発ガラス。
（項目１８）
項目１から１４のいずれか一項に記載のガラスセラミックの調製のための方法であって、
項目１５または１６に記載の出発ガラスが、７００°から９００℃の範囲で少なくとも１
回の熱処理を施される、方法。
（項目１９）
（ａ）核を有する前記出発ガラスを形成するために、前記出発ガラスが４００から６０
０℃の温度で熱処理を施され、
（ｂ）前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成するために、核を有す
る前記出発ガラスが７００から９００℃の温度で熱処理を施される、
項目１８に記載の方法。
（項目２０）
好ましくは歯修復物をコーティングするための、特に好ましくは歯修復物の調製のための
、歯科用材料としての、項目１から１４もしくは１７のいずれか一項に記載のガラスセラ
ミックの、または項目１５、１６もしくは１７に記載の出発ガラスの使用。
（項目２１）
前記ガラスセラミックが、プレスまたは機械加工によって、所望の前記歯修復物、特に、
ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウン、クラウンまた
はファセットの形状にされる、項目２０に記載の歯修復物の調製のための使用。
（項目２２）
歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウ
ン、クラウンまたはファセットの調製のための方法であって、項目１から１４のいずれか
一項に記載のガラスセラミックが、特にＣＡＤ／ＣＡＭプロセス中に、プレスまたは機械
加工によって、所望の歯修復物の形状にされる、方法。
した。次に、得られたガラス顆粒状体を、ＴＫｂの温度で、ｔＫｂの時間、核生成させた
。核生成した出発ガラスを細かく砕いて、２０μｍの平均粒径を有する粉末を形成した。
熱膨張を決定し、光学的特性を決定するために、この核生成したガラス粉末から、試験片
を調製して、ＴＣの温度で、ｔＣの時間、結晶化させ、高密度に焼結した。室温での、形
成された成形体のＸ線回折試験によって確証できたように、高密度に焼結した後、主な結
晶相としての二ケイ酸リチウムと、さらなる追加の相としての低温型石英とを有する本発
明によるガラスセラミックが、形成された。
【表1-1】
【表1-2】
【表1-3】
【表1-4】
【表1-5】
【表1-6】
【表1-7】
例えば、本発明は、以下の項目を提供する。
（項目１）
主な結晶相としてのケイ酸リチウムと、さらなる結晶相としての低温型石英とを含むケイ
酸リチウム－低温型石英ガラスセラミック。
（項目２）
５９．０から７９．０、好ましくは６４．０から７８．０、特に好ましくは６４．０から
７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２、または６８．０から７９．０、好ましくは６９．０から７８
．０、特に好ましくは７０．０から７６．０ｗｔ％のＳｉＯ２を含む、項目１に記載のガ
ラスセラミック。
（項目３）
８．０から１５．０、好ましくは９．０から１４．０、特に好ましくは１０．０から１３
．５ｗｔ％のＬｉ２Ｏを含む、項目１または２に記載のガラスセラミック。
（項目４）
０から９．０、好ましくは２．０から６．０、特に好ましくは３．０から５．０ｗｔ％の
Ｐ２Ｏ５を含む、項目１から３のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目５）
１．０から８．０、好ましくは２．０から７．０ｗｔ％の、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｒｂ２Ｏ
、Ｃｓ２Ｏ、およびこれらの混合物の群から選択される、一価元素の酸化物ＭｅＩ ２Ｏを
含む、項目１から４のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目６）
０から５．０、好ましくは１．０から４．０、特に好ましくは２．０から３．５ｗｔ％の
Ｋ２Ｏを含む、項目１から５のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目７）
１．０から９．０、好ましくは２．０から８．０、特に好ましくは３．０から７．０ｗｔ
％の、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯおよびこれらの混合物の群から選択される、二価
元素の酸化物ＭｅＩＩＯを含む、項目１から６のいずれか一項に記載のガラスセラミック
。
（項目８）
１．０から６．０、特に１．５から６．０、好ましくは２．０から５．５、特に好ましく
は３．１から５．５、特に非常に好ましくは３．４から５．０ｗｔ％のＭｇＯを含む、項
目１から７のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目９）
０から８．０、好ましくは１．０から７．０、特に好ましくは２．０から６．５ｗｔ％の
、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３およびこれら
の混合物の群から選択される、三価元素の酸化物ＭｅＩＩＩ ２Ｏ３を含む、項目１から８
のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１０）
１．０から６．０、好ましくは２．０から５．０ｗｔ％のＡｌ２Ｏ３を含む、項目１から
９のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１１）
ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏを、２．２から４．１、好ましくは２．２から３．８、特に好ましく
は２．２から３．５の範囲のモル比で含む、項目１から１０のいずれか一項に記載のガラ
スセラミック。
（項目１２）
主な結晶相としての二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウム、好ましくは主な結晶相
としての二ケイ酸リチウムを含む、項目１から１１のいずれか一項に記載のガラスセラミ
ック。
（項目１３）
少なくとも２０ｗｔ％、好ましくは２５から５５ｗｔ％、特に好ましくは３０から５５ｗ
ｔ％の二ケイ酸リチウム結晶を有する、項目１から１２のいずれか一項に記載のガラスセ
ラミック。
（項目１４）
０．２から２８ｗｔ％、好ましくは０．２から２５ｗｔ％の低温型石英結晶を有する、項
目１から１３のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
（項目１５）
項目１から１１のいずれか一項に記載のガラスセラミックの成分を含む出発ガラス。
（項目１６）
メタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウムおよび／または低温型石英の結晶化のための核を
含む、項目１４に記載の出発ガラス。
（項目１７）
前記ガラスセラミックおよび出発材料が、粉末、顆粒状体、ブランクまたは歯修復物の形
態で存在する、項目１から１４のいずれか一項に記載のガラスセラミック、または項目１
５もしくは１６に記載の出発ガラス。
（項目１８）
項目１から１４のいずれか一項に記載のガラスセラミックの調製のための方法であって、
項目１５または１６に記載の出発ガラスが、７００°から９００℃の範囲で少なくとも１
回の熱処理を施される、方法。
（項目１９）
（ａ）核を有する前記出発ガラスを形成するために、前記出発ガラスが４００から６０
０℃の温度で熱処理を施され、
（ｂ）前記ケイ酸リチウム－低温型石英ガラスセラミックを形成するために、核を有す
る前記出発ガラスが７００から９００℃の温度で熱処理を施される、
項目１８に記載の方法。
（項目２０）
好ましくは歯修復物をコーティングするための、特に好ましくは歯修復物の調製のための
、歯科用材料としての、項目１から１４もしくは１７のいずれか一項に記載のガラスセラ
ミックの、または項目１５、１６もしくは１７に記載の出発ガラスの使用。
（項目２１）
前記ガラスセラミックが、プレスまたは機械加工によって、所望の前記歯修復物、特に、
ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウン、クラウンまた
はファセットの形状にされる、項目２０に記載の歯修復物の調製のための使用。
（項目２２）
歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウ
ン、クラウンまたはファセットの調製のための方法であって、項目１から１４のいずれか
一項に記載のガラスセラミックが、特にＣＡＤ／ＣＡＭプロセス中に、プレスまたは機械
加工によって、所望の歯修復物の形状にされる、方法。