特許7385827化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法

発明の名称　化合物、樹脂、組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法及び樹脂の精製方法

出願人　三菱瓦斯化学株式会社　（識別番号 4466）

　　　　特許公開件数ランキング 447 位（26件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 197 位（59件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7385827

公報発行日　2023年11月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7385827

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