特許 7387320出願番号 特願 2019-138903
超純水又はガス溶解水供給システムの製造方法並びに洗浄方法
公報発行日 2023年11月28
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7387320 ログイン済みの方はこのURLへ
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技術分野
超純水供給システム又はガス溶解水供給システムの製造方法に関し、また、超純水供給システム又はガス溶解水供給システムの洗浄方法
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
既存の超純水供給システム又はガス溶解水供給システムを改造することがある。特には、水処理が施された水（処理水）を貯留する処理水槽として用いられていた水槽を、超純水又はガス溶解水供給システムの原水槽に転用したい場合がある。このような場合、その水槽がバイオフィルム等の有機物で汚染されていると、改造後に当該システムを再稼働させた後に、当該システムが汚染され、例えばシステム内の膜が詰まる可能性がある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の一態様により、
超純水又は超純水にガスを溶解したガス溶解水を供給する第１の水供給システムから供給された超純水又はガス溶解水、或いは逆浸透膜透過水である処理水を貯留していた処理水槽を、超純水又は超純水にガスを溶解したガス溶解水を供給する第２の水供給システムの原水槽として再利用する水供給システムの構築方法であって、
該処理水槽を過酸化水素のアルカリ性水溶液又は加温された過酸化水素・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、水処理装置の処理水槽として用いられた水槽を、超純水又はガス溶解水供給システムの原水槽に転用する場合に、当該システム再稼働後のバイオフィルムなどの有機物汚染による影響を抑制することのできる、超純水又はガス溶解水供給システムの製造方法および洗浄方法が提供される。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
ガス溶解水供給システムの、改造前の概略構成例を示すプロセスフローダイアグラムである。
【図2】
ガス溶解水供給システムの、改造後の概略構成例を示すプロセスフローダイアグラムである。
【図3】
洗浄液によるバイオフィルムの分解の様子を示す写真である。
代表図 図1本件の代表的な図
１ 一次純水タンク
２ 熱交換器
３ 脱気装置
４ 窒素ガス溶解装置
５ 紫外線照射装置
６ イオン交換装置
７ 炭酸ガス溶解装置
８ 限外ろ過膜装置
９ ユースポイント
１０ 転用する貯水槽
２１ 第２の熱交換器
２２ 第２の紫外線照射装置
２３ 第２のイオン交換装置
１００ 超純水供給システム
２００ ガス溶解水供給システム（改造前）
２０１ ガス溶解水供給システム（改造後）
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