特許 7388921 紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-20

(45)【発行日】2023-11-29

(54)【発明の名称】紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/20 20060101AFI20231121BHJP

【ＦＩ】

G02B5/20

【請求項の数】 3

(21)【出願番号】P 2019238807

(22)【出願日】2019-12-27

(65)【公開番号】P2021107856

(43)【公開日】2021-07-29

【審査請求日】2022-11-25

(73)【特許権者】

【識別番号】390002808

【氏名又は名称】マークテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100090893

【弁理士】

【氏名又は名称】渡邊 敏

(72)【発明者】

【氏名】松本 謙二

(72)【発明者】

【氏名】細矢 学

(72)【発明者】

【氏名】加藤 祐太

【審査官】渡邊 吉喜

(56)【参考文献】

【文献】特開２００１－１５４０１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０５－３４１１２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】実開平０５－０９４８０１（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２０１８－０１０２７５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０２Ｂ ５／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

紫外線照射装置から出射するビームの可視光を取り除くための紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタにおいて、該紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは第一の透光性基板及び第二の透光性基板を備え、前記第一の透光性基板の上面及び下面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、４００ナノメートルの波長において透過率１０パーセント以下、４１０ナノメートル～５００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下、の性質を持つ蒸着膜を蒸着させ、
前記第二の透光性基板の上面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、５００ナノメートル～６００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下の性質の蒸着膜、又は、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセントであり、ビームの波長が６００ナノメートル～７００ナノメートルの波長において透過率が１パーセント以下の性質の蒸着膜の、いずれか一つを蒸着させ、他の一つを前記第二の透光性基板の下面に蒸着させてなることを特徴とする、紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ。

【請求項2】

前記紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、さらに、前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の間に封止剤を含むスペーサーを、全周にわたって設けることを特徴とする、請求項１に記載の紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ。

【請求項3】

前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の離隔距離は、０．１ミリメートル～２０ミリメートルであることを特徴とする、請求項１～２に記載の紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、紫外線を照射する紫外線照射装置、及び被検査物の表面に紫外線を照射して被検査物の表面状態を解析する紫外線探傷装置に関するものであり、より詳細には蛍光磁粉探傷や蛍光浸透探傷等の蛍光体の励起に用いる紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタに関する。

【背景技術】

【0002】

鋼材等の被検査物の表面の探傷検査としては、非破壊検査方法の一種である、磁粉探傷試験や浸透探傷試験が知られている。磁粉探傷試験では、被検査物の表面に磁粉または磁粉を含有する磁粉溶液を適用するとともに、被検査物に磁場を印加する等して被検査物を磁化する。被検査物の表面のクラック等の欠陥には磁束が集中するため、この磁束に磁粉が引き寄せられて磁粉による指示模様が形成される。そして、この磁粉指示模様を観測することで欠陥を検査する。磁粉探傷試験には、欠陥の検出精度を向上させるために、磁粉に蛍光体を含有した蛍光磁粉を用いる蛍光磁粉探傷試験がある。

【0003】

一方で、浸透探傷試験では、まず、浸透液を被検査物の表面に適用して表面のクラック等の欠陥にこの浸透液を浸透させる。次に、表面に付着している余剰浸透液を除去し、現像剤粉末を表面に塗布して欠陥に浸透している浸透液を毛細管現象により表面に吸い出す。そして、この吸い上げられた浸透液による浸透指示模様を観察することで欠陥を検査する。浸透探傷試験には、欠陥の検出精度を向上させるために、蛍光体を含有する蛍光浸透液を用いる蛍光浸透探傷試験がある。

【0004】

磁粉探傷試験や浸透探傷試験において蛍光磁粉や蛍光浸透液を用いる場合には、被検査物に紫外線を照射して含有した蛍光磁粉や蛍光浸透液の蛍光体を励起させる必要がある。この紫外線探傷試験に用いる、紫外線を照射する紫外線照射装置が知られている。。

【0005】

ＬＥＤは基本的に点光源であるために均一配光を得にくく、被検査物の表面のクラック等の欠陥の検出にばらつきがでてしまい、検査精度が低下するという問題があった。このため、多くのＬＥＤを線上に並べて光源にすることで高い紫外線放射照度かつ均一な紫外線放射照度分布を得ることが考えられるが、円形配光の集合となるため均一配光を得にくく、また多くのＬＥＤが必要となることからコストアップを招くという問題が生じていた。
紫外線により磁粉探傷試験や浸透探傷試験を行う場合、検査をする者の視界が、可視光により遮られたりすることを防ぐため、可視光カットフィルタ及び紫外線透過フィルタを、紫外線照射装置に取り付けることが一般的である。可視光は一般に４００～７００ナノメートルの波長であり、この部分のみを遮り、紫外線を通すことで、上記の高い紫外線放射強度かつ均一な配光が得られる。しかし、可視光カットフィルタ及び紫外線透過フィルタを用いた場合、波長が３７５～４００ナノメートルにかけて、徐々に透過率を下げることしかできなかった。透過率を下げるには、２５ナノメートル分の波長範囲における紫外線光のエネルギーを、徐々に透過率を下げるために消費してしまうことになる。そのため、３７５～４００ナノメートルの部分の紫外線光が、エネルギーロスとなっており、４００ナノメートル直前において、かつより短い波長範囲において、急激に透過率を下げられないかが課題となっていた。

【0006】

特許文献１は、入射光に対して、可視光領域の光を遮光するとともに近赤外領域に透過帯を有する可視光カットフィルタであって、透光性基板と、前記透光性基板の表面に成膜された表面遮光膜、透光性基板の裏面に成膜された裏面遮光膜、を備えており、表面遮光膜及び裏面遮光膜の各々は、可視光領域を複数の領域に区画したときに、各領域の光を遮光させる遮光膜が積層されている。可視光領域を複数の領域に区画して、各領域の光を遮光させる遮光膜が、透光性基板の表裏両面に積層されているので、可視光領域に発生するリップルは、積層された各遮光膜によってより減衰し、リップルの発生を抑制することができる。前記表面遮光膜及び前記裏面遮光膜は、前記可視光領域が３つの領域に区画され、可視光領域の短波長端から長波長側の領域の光を遮光する膜が積層された短波長遮光多層膜と、前記可視光領域の長波長端から短波長側の領域の光を遮光する膜が積層された長波長遮光多層膜と、前記短波長遮光多層膜が光を遮光する領域の長波長端と、前記長波長遮光多層膜が光を遮光する領域の短波長端と、を含む領域の光を遮光する中間波長遮光多層膜とを設ければ、可視光領域の全域の光の透過率を低減させることができる。可視光カットフィルタであって、前記表面遮光膜及び前記裏面遮光膜は、それぞれ、高屈折率材料と低屈折率材料とが交互に複数積層されてなり、前記高屈折率材料は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、及びＴａ２Ｏ５のうち少なくとも１つを含んでおり、前記低屈折率材料は、ＳｉＯ２、及びＭｇＦ２のうち少なくとも１つを含んでいる。

【0007】

特許文献１は可視光をカットするためには有用であるものの、紫外線透過率についてはあまり考慮されていない。また、紫外線透過率のコントロールについても、フィルタ特性の脈打ちをなくすようにコントロールするとあるのみであり、この波長帯によるフィルターでカットできずに波うつ部分を、効果的に活用し、４００ナノメートル直前の波長において、急激に透過率を下げ、この部分の紫外線光を活用することは、できていない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【文献】特開２０１６－１８６５３１

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

そこで、波長が４００ナノメートルより手前のビームにおいて、透過率をなるべく高く維持しつつ、急激に透過率を下げることにより、波長４００ナノメートル以下の紫外線光のエネルギーを、無駄なく活用できるようなフィルターの開発が望まれていた。

【0010】

本発明の目的は、紫外線探傷用に紫外線を照射する紫外線照射装置において、より効率的に被照射面の照射領域における高い紫外線放射照度を実現でき、紫外線探傷検査の精度を向上させる紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタを提供する。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記課題を解決するため、本発明における紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタでは、紫外線照射装置から出射するビームの可視光を取り除くための紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタにおいて、該紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは第一の透光性基板及び第二の透光性基板を備え、前記第一の透光性基板の上面及び下面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、４００ナノメートルの波長において透過率１０パーセント以下、４１０ナノメートル～５００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下、の性質を持つ蒸着膜を蒸着させ、前記第二の透光性基板の上面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、５００ナノメートル～６００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下の性質の蒸着膜又は、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセントであり、ビームの波長が６００ナノメートル～７００ナノメートルの波長において透過率が１パーセント以下の性質の蒸着膜のいずれか一つを蒸着させ、他の一つを前記第二の透光性基板の下面に蒸着させてなることを特徴とする。

【0012】

また、本発明における紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、前記紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、さらに、前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の間に封止剤を含むスペーサーを、全周にわたって設けることを特徴とする。

【0013】

また、前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の離隔距離は、０．１ミリメートル～２０ミリメートルであることを特徴とする。

【発明の効果】

【0014】

本発明における紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタでは、紫外線照射装置から出射するビームの可視光を取り除くための紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタにおいて、該紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは第一の透光性基板及び第二の透光性基板を備え、前記第一の透光性基板の上面及び下面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、４００ナノメートルの波長において透過率１０パーセント以下、４１０ナノメートル～５００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下、の性質を持つ蒸着膜を蒸着させ、前記第二の透光性基板の上面に、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、５００ナノメートル～６００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下の性質の蒸着膜又は、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセントであり、ビームの波長が６００ナノメートル～７００ナノメートルの波長において透過率が１パーセント以下の性質の蒸着膜のいずれか一つを蒸着させ、他の一つを前記第二の透光性基板の下面に蒸着させてなることを特徴とするので、入射光の有害光カットを従来同様十分にすることができ、かつ、３８５ナノメートル前後から４００ナノメートルにかけて透過率を急激に下げることができるので、３７５ナノメートルから３８５ナノメートル前後にかけての部分がカットされないことから、この分紫外線放射照度が上昇し、視認性が向上する。また、有効波長範囲の透過率が広範囲に増加するので、紫外線探傷灯に使用する紫外線ＬＥＤの使用数を減らすことができる。
また、紫外線光のロスが少なくなる。紫外線ＬＥＤの寿命を、紫外線放射照度が、新品を１００パーセントとした場合、７０パーセント程度前後であるとする。紫外線光のロスが少なくなることで、７０パーセント以下、例えば６７パーセント前後の紫外線放射照度でも、紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの紫外線透過率が高いため、紫外線照射装置全体としては、有効な紫外線放射照度を維持することができることとなり、紫外線照射装置自体のメンテナンス頻度が減少し、寿命が増加することとなる。また、入射角０度～２０度の範囲が使用できるので、設計の自由度が拡大する。

【0015】

また、本発明における紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタでは、前記紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、さらに、前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の間に封止剤を含むスペーサーを、全周にわたって設けることを特徴とするので、フィルタ表面が汚れることで、蒸着膜の効果が低下し、蒸着フィルタ同士の間に粉塵・ミスト・水分等の侵入を防止することができるとともに、第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の間に間隔を設けることで、入射光の干渉を抑えることができ、紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの機能を有効とすることができる。

【0016】

また、本発明における紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、前記第一の透光性基板と前記第二の透光性基板の離隔距離は、０．１ミリメートル～２０ミリメートルであることを特徴とするので、製造コストをおさえ、入射光の干渉を防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの実施形態の一例を示した斜視図である。

【図2】図１の紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの上面図である。

【図3】図１の紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタのＸ－Ｘ線断面図である。

【図4】従来品の分光特性を示した図である。

【図5】本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの分光特性を示した図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

図１は、本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの実施形態の一例を示した斜視図であり、図２は、図１の本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタを上から見た上面図であり、図３は、図１における、紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの、図１に示されるＸ－Ｘ線での断面図である。図４は、本発明の特徴を有さない従来品の紫外線透過、可視光カットフィルタの分光特性を示したグラフであり、図５は、本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの分光特性を示したグラフである。

【0019】

図１を示しながら、本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの実施形態について詳述する。紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ１は、第一の透光性基板１０及び第二の透光性基板２０を備える。第一の透光性基板１０及び第二の透光性基板２０は、その間に間隔を有し、これは封止剤を含むスペーサー４によって、確保されている。スペーサー４は、第一の透光性基板１０及び第二の透光性基板２０の間の間隔に、粉塵、ミスト、水分等の侵入を防ぐ、封止剤を含んでいる。封止剤としては、シリコーン樹脂を用いることが好ましく、またスペーサーの材質としては、アルミまたはステンレス鋼(SUS)を用いることが好ましいが、これに限定されるものではなく、公知のものを用いることができる。これに加えて、スペーサー４には、第一の透光性基板１０及び第二の透光性基板２０の間の間隔を保つことで、入射光の干渉を抑えるという機能をもつ。

【0020】

図２には、図１で示した本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの実施形態の上面図が示されている。スペーサー４は、点線で内側が示されているが、全周にわたって、設けられていることが好ましい。これにより、より粉塵、ミスト、水分等の侵入を防ぐ効果がある。
図３は、図１で示した本発明に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタの実施形態の、図１に示すＸ－Ｘ線断面図が示されている。第一の透光性基板１０は、その上面に、蒸着膜１１を蒸着させて備える。本発明にいう蒸着は、物理蒸着（ＰＶＤ）と化学蒸着（ＣＶＤ）及び物理蒸着のなかでも真空蒸着等があるものの、そのいずれの方法でもよい。また、第一の透光性基板１０は、その下面に、蒸着膜１２を蒸着させて備える。第一の透光性基板１０はガラス等の光を通す材質であればよい。蒸着膜１１、１２は、いずれも、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、４００ナノメートルの波長において透過率１０パーセント以下、４１０ナノメートル～５００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下、の性質を持つ遮光膜を蒸着させて、形成されている。同じ遮光膜を２つ、蒸着膜１１、１２として、第一の透光性基板１０の両面に形成することで、のちに図５に示すように、従来品では、３７５ナノメートルから４００ナノメートルにかけて、透過率を下落させていたところ、３８５ナノメートル前後から４００ナノメートルにかけて急激に透過率を低下させることができ、１０ナノメートル分の紫外線光が、遮光されずに、活用できることとなるため、好適である。

【0021】

また、スペーサー４は、蒸着膜１２と、蒸着膜２１との間に、離間距離Ｘを設けることができる点で好適である。離間距離Ｘは、０.１ミリメートル～２０．０ミリメートルが好適である。最低でも、１．２マイクロメートル以上離間していればよいが、第一の透光性基板１０、第二の透光性基板２０及びその蒸着膜１２、２１の平面度が高くない場合であっても、面同士の距離が、すべての部分において、１．２マイクロメートル離間していることを確保するには、０．１ミリメートル以上であることが好ましい。また、製造原価の観点から、２０．０ミリメートル以上であると、製造コストが２倍以上になるため、２０．０ミリメートル以下であることが、より好ましい。また、１．２マイクロメートル未満の離間距離Ｘとしてしまうと、入射光の干渉が起き、好ましくない。
また、蒸着膜１１、１２は、ビームの入射角が０度から２０度の紫外線光を活用できるため、設計上の自由度が確保でき、好適である。

【0022】

次に、第二の透光性基板２０の蒸着膜２１、２２について詳述する。第二の透光性基板２０はガラス等の光を通す材質であればよい。蒸着膜２１、２２は、第二の透光性基板２０の上面及び下面にそれぞれ蒸着して形成されている。蒸着膜２１と、２２は、どちらが第二の透光性基板２０の上面及び下面であってもよい。蒸着膜２１が上面、蒸着膜２２が下面で図示しているが例えば蒸着膜２１が下面、蒸着膜２２が上面であってもよい。
蒸着膜２１は、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、ビームが３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセント、５００ナノメートル～６００ナノメートルの波長において透過率１パーセント以下の性質のものが蒸着されることにより、形成されている。蒸着膜２２は、ビームの入射角が０度～２０度であるときに、３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの波長において透過率９５パーセントであり、ビームの波長が６００ナノメートル～７００ナノメートルの波長において透過率が１パーセント以下の性質のものが蒸着して、形成されている。これらは、いずれも公知の技術によるものである。

【0023】

メタルハライドランプを使用した従来品(Ｄ-１０Ｂ)では、紫外線透過フィルタで、可視光４００～７００ナノメートルの大部分を遮光させ、可視光カットフィルタで、残りの透過した可視光を遮光させている。また、紫外線領域（３００～４００ナノメートル)も透過させているが、３６５ナノメートルの紫外線透過率が約７５パーセント(参考値)と低くなるという課題がある。
本発明を使用することで、３７５～４００ナノメートルの２５ナノメートル分の範囲において、分光特性が遮光から透過へと垂直的となり、入射角０度～２０度の範囲で、３５５ナノメートル～３７５ナノメートルの範囲の紫外線を容易に９０パーセント透過させることができる。そのため、３６５ナノメートルの紫外線透過率は約９０パーセントとなり、従来品と比べ、紫外線探傷灯の紫外線放射照度を増加させることができる。また、可視光領域(４００～４５０ナノメートル)の入射光を遮光する蒸着膜を第一の透光性基板１０の両面に、蒸着膜１１、１２という形で２面積層させることで、４００～４５０ナノメートルの可視光透過率を１パーセント以下とすることができ、蒸着膜２１、２２を第二の透光性基板２０に各１面積層させることで、４５０～７００ナノメートルの透過率を１パーセント以下とすることができる。２枚の多面蒸着フィルタを組み合わせることで、検査に有害な４００～７００ナノメートルの可視光透過率につき１パーセント以下を実現し、従来品と同等とすることができる。なお、本発明における蒸着膜１１、１２、２１、２２はいずれもＴａ２Ｏ５（五酸化タンタル）ＳｉＯ２(二酸化ケイ素)を交互に複数積層して形成されている。

【0024】

本実施形態に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ１は、図３における上方向、つまり蒸着膜１１側からビームをあてて、下方向、つまり蒸着膜２２側に向けてビームを通過させることにより使用する。また、紫外線照射装置において、出射口に任意の方法で固定されて使用されることが望ましい。紫外線照射装置の光源としては紫外線ＬＥＤを用いることが好ましい。

【0025】

多面蒸着フィルタの透過率仕様(入射角：０度～２０度)は、以下の通りである。
・蒸着膜１１、１２に使用される遮光膜（Ａ面）：３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、４００ナノメートル(透過率＝１０パーセント以下)、４１０～５００ナノメートル（透過率＝１パーセント以下）
・蒸着膜２１に使用されている遮光膜（Ｂ面）：３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、５００－６００ナノメートル（透過率＝1パーセント以下）
・蒸着膜２２に使用されている遮光膜（Ｃ面）：３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、６００―７００ナノメートル（透過率＝１パーセント以下）
・第一の透光性基板１０のみにおける遮光、紫外線透過の仕様
Ａ面＋Ａ面：３５５―３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、４００ナノメートル(透過率＝１パーセント以下)、４１０－５００ナノメートル（透過率＝０．０１パーセント以下）
・第一の透光性基板１０のみにおける遮光、紫外線透過の仕様
Ｂ面＋Ｃ面：３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、５００―７００ナノメートル(透過率＝１パーセント以下)
・第一の透光性基板１０と第二の透光性基板２０（それぞれ蒸着膜１１、１２、２１、２２を備える。）における遮光、透過率予測
・（Ａ面＋Ａ面）＋（Ｂ面＋Ｃ面）:３５５―３７５ナノメートル(透過率＝９０パーセント)、４００ナノメートル(透過率＝１パーセント以下)、
４１０―５００ナノメートル(透過率＝０．０１パーセント以下）、５００―７００ナノメートル(透過率＝１パーセント以下)
※波長：３６５ナノメートルにおける透過率はいずれも、９０パーセント

【実施例】

【0026】

以下に実施例を示して、本開示を更に詳細、且つ具体的に説明する。しかしながら、本開示は、以下の実施例に限定されるものではない。

【0027】

［実施例１］
図１等に示される本実施形態に係る紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ１を備えた紫外線照射装置が用いられた。紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ１は、ガラス製の第一の透光性基板１０、第二の透光性基板２０を備え、第一の透光性基板１０の上面及び下面の蒸着膜１１、１２には、Ａ面として、３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、４００ナノメートル(透過率=１０パーセント以下)、４１０―５００ナノメートル（透過率＝１パーセント以下）の膜が形成され、第二の透光性基板２０の上面には、蒸着膜２１が形成され、蒸着膜２１にはＢ面として、３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、５００―６００ナノメートル（透過率＝１パーセント以下）のものが用いられ、第二の透光性基板２０の下面には、蒸着膜２２が形成され、蒸着膜２２には、Ｃ面として、３５５－３７５ナノメートル(透過率＝９５パーセント)、６００―７００ナノメートル（透過率＝１パーセント以下）のものが用いられた。第一の透光性基板１０、第二の透光性基板２０の間には、スペーサー４が前週にわたって帯状に設けられた。スペーサーの太さであり、第一の透光性基板１０に蒸着した蒸着膜１２と、第二の透光性基板２０に蒸着した蒸着膜２１の離間距離である離間距離Ｘは、０．１ミリメートルであった。蒸着膜はいずれもＴａ２Ｏ５（五酸化タンタル）ＳｉＯ２(二酸化ケイ素)を交互に複数積層して形成されている、ＬＥＤ光源を装着した紫外線探傷灯に使用するといった本発明の特徴及び上記の条件をいずれも備えていた。

【0028】

比較例１は、従来品フィルタを用いて試験が行われた。紫外線ＬＥＤ光源を装着した紫外線探傷灯に使用するといった条件は実施例と同様であった。従来品フィルタは、マークテック社製（Ｄ－１０Ｂ）のものが用いられた。３６５ナノメートルにおける透過率は７５パーセントという仕様のものであった。

【0029】

<評価方法>
実施例１と比較例１を用いて、紫外線透過率試験が行われた。分光特性の測定には島津製作所社製紫外線可視分光高度計ＵＶ－２４５０が用いられた。これにより比較例１では、図４、実施例１では図５の結果が得られた。比較例１では、３７５ナノメートルから４００ナノメートルにかけて、透過率の低下する線の傾きが比較的緩やかであった。計算上、傾きは、透過率（パーセント）／波長（ナノメートル）×１００を傾きとすると、実施例は、９０／５×１００≒６であったのに対し、比較例は、８５／２５×１００≒２９であった。よって、実施例のほうが４００ナノメートルの手前で急激に透過率を下げることができたことが示された。

【産業上の利用可能性】

【0030】

本開示は、紫外線を照射する紫外線照射装置用、及び紫外線照射装置を備える紫外線探傷装置用に好適に利用することができる。しかしながら、本開示は、上述された実施形態、及び実施例に限定されるものではない。本開示の紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタは、紫外線を利用する、コンタミネーションチェック、漏洩検査、脱脂洗浄の確認等のいるあらゆる試験や検査に有用である。また、本開示の紫外線探傷装置は、蛍光磁粉探傷装置に限定されるものではなく、蛍光浸透液を用いて被検査物の表面の欠陥を探傷する浸透探傷装置であっても良く、紫外線を利用して欠陥を探傷するあらゆる紫外線探傷装置に適用することができる。

【符号の説明】

【0031】

１ 紫外線ＬＥＤ用蒸着フィルタ
４ スペーサー
１０ 第一の透光性基板
１１、１２、２１、２２ 蒸着膜
２０ 第二の透光性基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】