特許 7391000出願番号特願 2020-171035
乾燥剤組成物、封止構造体、有機ＥＬデバイス、及び、有機ＥＬデバイスを製造する方法

出願人双葉電子工業株式会社（識別番号 201814）

2026年特許公開件数ランキング 3225位 4件（※）

2026年特許取得件数ランキング 2005位 6件（※）

公報発行日　2023年12月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7391000　ログイン済みの方はこのURLへ

［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。

※ 共同出願を含む

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。ログインはこちら ログイン・ユーザー登録

乾燥剤組成物、封止構造体、有機ＥＬデバイス、及び、有機ＥＬデバイスを製造する方法

本発明の一側面は、乾燥剤組成物を基板等へ塗布することによって高い吸湿性能を有する乾燥剤層を形成でき、しかも形成される乾燥剤層におけるシワの発生を抑制できる、乾燥剤組成物を提供する。

本発明の一側面は、酸化ストロンチウム粒子を含み、酸化カルシウム粒子を含んでいてもよい捕水成分と、重合性成分を含むバインダーとを含むペースト状の乾燥剤組成物を提供する。前記酸化ストロンチウム粒子及び前記酸化カルシウム粒子の合計量に対する前記酸化ストロンチウム粒子の量の割合は、８７．５質量％を超える。

本発明の一側面によれば、乾燥剤組成物を基板等へ塗布することによって高い吸湿性能を有する乾燥剤層を形成でき、しかも形成される乾燥剤層におけるシワの発生を抑制できる、乾燥剤組成物を提供する。

【図1】有機ＥＬデバイスの一実施形態を示す断面図である。

【図2】有機ＥＬデバイスの一実施形態を示す断面図である。

【図3】乾燥剤組成物の重量が初期の重量に対して増加した割合（重量増加、質量％）と、放置時間との関係を示すグラフである。

【図4】高温高湿環境における有機ＥＬデバイスの発光面積残存率と経過時間との関係を示すグラフである。

【図5】乾燥剤層の電子顕微鏡写真である。

２０Ａ，２０Ｂ…有機ＥＬデバイス、１…素子基板、３…封止基板、５…シール剤、１０…乾燥剤層。

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります