特許 7392153 安定化装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-27

(45)【発行日】2023-12-05

(54)【発明の名称】安定化装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 2/20 20060101AFI20231128BHJP

   C23C 2/40 20060101ALI20231128BHJP

【ＦＩ】

C23C2/20

C23C2/40

【請求項の数】 14

(21)【出願番号】P 2022534867

(86)(22)【出願日】2020-12-10

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2023-02-13

(86)【国際出願番号】 IB2020061738

(87)【国際公開番号】W WO2021116964

(87)【国際公開日】2021-06-17

【審査請求日】2022-08-05

(31)【優先権主張番号】102019000023484

(32)【優先日】2019-12-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】IT

(73)【特許権者】

【識別番号】510152666

【氏名又は名称】ダニエリ アンド シー．オフィス メカニケ エスピーエー

【氏名又は名称原語表記】ＤＡＮＩＥＬＩ＆Ｃ．ＯＦＦＩＣＩＮＥ ＭＥＣＣＡＮＩＣＨＥ ＳＰＡ

【住所又は居所原語表記】Ｖｉａ Ｎａｚｉｏｎａｌｅ，４１－３３０４２ Ｂｕｔｔｒｉｏ（ＵＤ），Ｉｔａｌｙ

(74)【代理人】

【識別番号】100166338

【弁理士】

【氏名又は名称】関口 正夫

(72)【発明者】

【氏名】コナ アレッサンドロ

(72)【発明者】

【氏名】ヴィニョーロ ルチャーノ

【審査官】▲辻▼ 弘輔

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１３－５１０２３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１８０４３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２００８－５０６８３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】独国特許出願公開第１０２００６０５２０００（ＤＥ，Ａ１）

【文献】特開昭５０－０９１５３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２６１０７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０２５９７２９５（ＣＮ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ ２／００－２／４０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

溶融金属浴から理論的供給面（Ｘ）に沿って上がる金属ストリップを安定化する安定化装置であって、
第１のエアナイフが第１の側に配置され、第２のエアナイフが前記理論的供給面（Ｘ）に対して前記第１の側の反対側の第２の側に配置される、少なくとも１対のエアナイフ（１）と、
第１の電磁スタビライザ装置が前記第１の側に配置され、第２の電磁スタビライザ装置が前記第２の側に配置される、少なくとも１対の電磁スタビライザ装置（２）と、
各々がそれぞれのエアナイフ（１）を支持する１対の第１の支持ビーム（３）と、
各々がそれぞれの電磁スタビライザ装置（２）を支持する１対の第２の支持ビーム（６）と、
を含み、
前記１対の第２の支持ビーム（６）は、前記１対の第１の支持ビーム（３）と異なり、前記第１の支持ビーム（３）は、前記理論的供給面（Ｘ）の遠位にあり、前記第２の支持ビーム（６）は、前記理論的供給面（Ｘ）に関して、前記１対の第１の支持ビーム（３）に対して少なくとも部分的に最も内側の位置にあるように、前記理論的供給面（Ｘ）の近位にあり、
前記第１の支持ビーム（３）と前記第２の支持ビーム（６）の両方は、第１の側部構造（１２）に載る、他の第１の端部から独立するそれぞれの第１の端部（３’’、６’’）と、第２の側部構造（１３）に載る、他の第２の端部から独立するそれぞれの第２の端部（３’’’、６’’’）とを有する、安定化装置。

【請求項2】

前記少なくとも１対の第１の支持ビームの２つの第１の支持ビーム（３）は、それぞれ、前記第１の側と前記第２の側に配置され、互いに異なり、前記少なくとも１対の第２の支持ビームの２つの第２の支持ビーム（６）も、それぞれ、前記第１の側と前記第２の側に配置され、互いに異なる、請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記エアナイフ（１）からのエアジェット用のバッフルシステム（４）は、前記第２の支持ビーム（６）の間に配置され、前記第２の支持ビーム（６）の少なくとも１つに固定され、少なくとも１対のバッフル（７）を含み、前記少なくとも１対のバッフルの各々のバッフル（７）は、前記エアナイフ（１）の間には、前記エアナイフのそれぞれの端部に設置される、請求項１又は２に記載の装置。

【請求項4】

前記バッフルシステム（４）は、各々が前記理論的供給面（Ｘ）に垂直な平面（Ｙ）のそれぞれの側に配置される２つの支持体（５）を含み、
各々の支持体（５）は、それぞれのバッフル（７）が設置された下部アーム（８）と、ストリップのエッジを検出する検出装置（１０）が設置された上部アーム（９）とを有する、請求項３に記載の装置。

【請求項5】

各々の電磁スタビライザ装置（２）は、それぞれの第２の支持ビーム（６）の凹部内に少なくとも部分的に配置され、前記凹部には、前記電磁スタビライザ装置（２）が前記理論的供給面（Ｘ）に垂直な方向に沿って作動位置から静止位置へ、又はその逆にスライドするスライドガイド（１１）が設置される、請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。

【請求項6】

前記第１の側部構造（１２）と前記第２の側部構造（１３）は、前記第１の支持ビーム（３）及び／又は前記第２の支持ビーム（６）を持ち上げるか又は下げるそれぞれの垂直移動手段を有する、請求項１から５のいずれか１項に記載の装置。

【請求項7】

前記第１の支持ビーム（３）は、それぞれのエアナイフ（１）を支持するそれぞれの中央ストレッチ（３’）を有し、前記中央ストレッチ（３’）は、前記理論的供給面（Ｘ）に関して最も外側にあり、対応する第１の端部（３’’）及び第２の端部（３’’’）に対して下げられ、前記第２の支持ビーム（６）は、前記理論的供給面（Ｘ）に関して、対応する第１の端部（６’’）及び第２の端部（６’’’）に対して最も外側にあるそれぞれの中央ストレッチ（６’）を有し、前記中央ストレッチ（６’）は、その前記理論的供給面に対する近位側から、それぞれの電磁スタビライザ装置（２）を収容する対応する第２の支持ビーム（６）の凹部を区切り、前記第１の支持ビーム（３）の中央ストレッチ（３’）は、前記２つの中央ストレッチ（３’）の間のゾーンに前記電磁スタビライザ装置（２）を収容できるように、前記理論的供給面（Ｘ）から離れて配置される、請求項１から６のいずれか１項に記載の装置。

【請求項8】

各々の第２の支持ビーム（６）の中央ストレッチ（６’）は、対応する第１の支持ビーム（３）の中央ストレッチ（３’）に接近し、前記中央ストレッチ（３’）の上の位置に配置される、請求項７に記載の装置。

【請求項9】

各々の電磁スタビライザ装置（２）は、それぞれの第２の支持ビーム（６）の凹部の下に延びる、請求項７又は８に記載の装置。

【請求項10】

前記第１の支持ビーム（３）の第１の端部（３’’）と第２の端部（３’’’）の両方は、それぞれ前記第１の側部構造（１２）と前記第２の側部構造（１３）に設置された、前記理論的供給面（Ｘ）に垂直であるそれぞれのスライドガイド（１４、１５）に載ることにより、前記第１の支持ビーム（３）は、スライドして、２つのエアナイフ（１）の間の距離を調整することができる、請求項１から９のいずれか１項に記載の装置。

【請求項11】

機械的システムは、前記第２の支持ビーム（６）を、前記理論的供給面（Ｘ）に対してオフセットされる実際の供給面に対して対称な位置に維持するために設置される、請求項１０に記載の装置。

【請求項12】

少なくとも１つの補強横木（１６、１７）は、前記第２の支持ビーム（６）の第１の端部（６’’）と第２の端部（６’’’）の両方に設置され、各々の補強横木（１６、１７）は、第１の端部が前記第２の支持ビーム（６）の一方にヒンジで連結され、第２の端部が前記第２の支持ビーム（６）の他方に設置されたロック装置（１８、１９）に係合するように適合される、請求項１から１１のいずれか１項に記載の装置。

【請求項13】

接続装置（２０）は、前記１対の第１の支持ビーム（３）と前記１対の第２の支持ビーム（６）の両方をクレーンにより持ち上げる必要がある場合、各々の第１の支持ビーム（３）をその近位にある第２の支持ビーム（６）に接続するために設置される、請求項１から１２のいずれか１項に記載の装置。

【請求項14】

金属ストリップを溶融金属層でコーティングする設備であって、溶融金属浴（２１）を収容するように適合されたタンクの上に配置された請求項１から１３のいずれか１項に記載の安定化装置を含む、設備。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、強磁性材料製の平坦な製品、例えば、金属ストリップ、特に鋼ストリップをコーティングする設備の分野に関する。より詳細には、本発明は、強磁性材料で作られた運動中のストリップの振動及び揺動を緩和し、溶融金属を用いたコーティングプロセス、例えば、亜鉛めっきプロセスにおいてストリップの変形を補正する安定化装置に関する。本発明は更に、上記安定化装置を含む、金属ストリップを溶融金属を用いてコーティングする設備に関する。

【背景技術】

【0002】

知られているように、強磁性材料で作られたストリップは、複数のコーティングプロセス、例えば、亜鉛めっきにより外部コーティングされる。

【0003】

溶融金属、例えば、亜鉛を収容するタンクの上のエアナイフゾーンは、コーティングプロセスの中心であり、設備の利用可能性、プロセスの生産性、製品の品質及び亜鉛の消費に影響を与える。

【0004】

そのようなコーティングプロセスでは、移動する金属ストリップは、通常、変形及び振動の影響を受け、電磁スタビライザ装置によって補正されて、プロセスの生産性を向上させ、亜鉛の消費を最適化する。

【0005】

実際に、そのような電磁スタビライザ装置により、エアナイフゾーンでのストリップ振動の振幅を低減すると同時に、クロスボウなどの静的形状欠陥の振幅を低減することによりストリップの形状を改善することができる。

【0006】

例えば、図１及び図２は、電磁スタビライザ装置２が、下にある対応するエアナイフ１を支持する同じ支持ビーム３に取り付けられる安定化装置を概略的に示す。この構成には、ストリップの上のエアジェットの衝撃ゾーンとストリップ安定化ゾーンとの間の距離を短くすることができ、その結果、エアナイフ１の下流にあるストリップの振動と形状の両方を制御するのに優れた効果があるという利点がある。

【0007】

しかしながら、この構成は、
－支持ビームは、エアナイフの重量と電磁スタビライザ装置の重量の両方を支持する必要があるため、大きく、
－構成が複雑であるため、投資コストに大きな影響を与え、
－メンテナンスのためにエアナイフを取り外す手順は、複雑であり、
－スタビライザを追加することにより、エアナイフのみを備えた設備を現代化する場合、エアナイフとそれらの移動システムにも介入することが必須である、
という幾つかの欠点がある。

【0008】

したがって、安定化装置の革新的な構成を実施することにより、前述の欠点を解決する必要がある。

【発明の概要】

【0009】

本発明は、非常に簡単でコンパクトである、溶融金属浴から上がる金属ストリップを安定化する安定化装置を作製することを目的とする。

【0010】

本発明は、ストリップのコーティング厚さの精度に関してエアナイフの性能を向上させるような構造を有する安定化装置を作製することを更なる目的とする。

【0011】

本発明は、投資コストへの影響が低い安定化装置を作製することを更なる目的とする。

【0012】

本発明は、エアナイフと電磁装置の両方のメンテナンス動作を容易にし、持ち上げ動作の回数を最小限に抑え、スタビライザ装置を古いエアナイフから分解して、一連の新しいエアナイフに再組み立てする必要性をなくす安定化装置を作製することを更なる目的とする。

【0013】

本発明は、溶融金属浴から理論的供給面Ｘに沿って上がる金属ストリップを安定化する安定化装置により、本明細書に照らして明らかになるそのような目的の少なくとも１つ、及び他の目的を達成し、該装置は、
第１のエアナイフが第１の側に配置され、第２のエアナイフが上記理論的供給面Ｘに対して第１の側の反対側の第２の側に配置される少なくとも１対のエアナイフと、
第１の電磁スタビライザ装置が上記第１の側に配置され、第２の電磁スタビライザ装置が上記第２の側に配置される少なくとも１対の電磁スタビライザ装置と、
各々がそれぞれのエアナイフを支持する１対の第１の支持ビームと、
各々がそれぞれの電磁スタビライザ装置を支持する１対の第２の支持ビームと、を含み、
１対の第２の支持ビームは、１対の第１の支持ビームと異なり、第１の支持ビームは、理論的供給面Ｘの遠位にあり、第２の支持ビームは、上記理論的供給面Ｘの近位にあり、１対の第１の支持ビームに対して少なくとも部分的に内側にある位置に配置される。

【0014】

本発明の別の態様は、金属ストリップを溶融金属層でコーティングする設備であって、溶融金属浴を収容するように適合されたタンクの上に設置された前述の安定化装置を含む、設備に関する。

【0015】

有利には、電磁スタビライザの２つの支持ビームとエアナイフの２つの支持ビームの両方は、２つの側部構造にばらばらに取り付けられ、該２つの側部構造は、上記４つの支持ビームに対して横方向であり、かつ動作段階を開始する前に、エアナイフと電磁スタビライザ装置の両方を持ち上げるか又は下げるができる。それにより、ラインのプロセスパラメータ（ストリップの速度及びコーティング厚さ）に対する電磁スタビライザ装置とエアナイフの一体的な移動と、ストリップの位置に対する平行度の可能な補正とを得ることができる。

【0016】

同時に、メンテナンスのステップでは、このばらばらになった組み立てにより、電磁スタビライザの支持ビームとエアナイフの支持ビームをクレーンなどにより別々に持ち上げることができる。

【0017】

メンテナンスは、以下の順序で実行される：
まず電磁スタビライザ装置の支持ビーム、次にエアナイフの支持ビームを２つの側部構造から分解し持ち上げ、
まずエアナイフの支持ビームを再組み立てし、次に電磁スタビライザ装置の支持ビームを再組み立てする。

【0018】

更に、本発明の装置の構成により、電磁装置により生成された力への反応として生成された応力がエアナイフの支持ビームに解放されて、コーティング厚さの精度に関してエアナイフの性能に明らかに悪影響を与えることを回避することができる。実際に、電磁装置により生成された応力は、エアナイフの支持ビームからばらばらにされた電磁装置のそれぞれの支持ビームに解放される。

【0019】

次に、電磁装置の支持ビームは、端部が、それらの高い剛性を保証する上記２つの側部構造に拘束される。

【0020】

また、電磁装置の支持ビームの剛性を更に向上させるために、これらのビーム間の接続システムは、オペレータ側とモータ側の両方に設置されて、安定化グループの、好ましくはエアジェットのバッフルシステムの曲げ剛性を向上させるフレームを作る。

【0021】

更なる利点は、本発明の装置のコンパクトさを向上させるために、ストリップのエッジでのエアナイフのバッフルシステムを１つ以上の電磁スタビライザ装置の同じ第２の支持ビームにより支持することができるため、バッフルシステムの組み立てを少なくとも１つの電磁スタビライザ装置の組み立てと一体化することができる変形例により表される。

【0022】

特に、第２の支持ビームの１つは、また、ストリップの各々のエッジに１つずつ、２つのエッジバッフルを含むエアナイフのバッフルシステムを支持する。

【0023】

好ましくは、第２の支持ビームは、装置のコンパクトさを維持しながら、ストリップ供給面の近位にある作動位置から上記ストリップ供給面の遠位にある静止位置への電磁スタビライザ装置の水平移動を可能にするように適切に成形される。

【0024】

更なる利点は、エアナイフの支持ビームが、コーティングを制御するエアジェット衝撃ゾーンと電磁スタビライザとの間の距離をできるだけ最小限に抑えるように適切に成形される変形例により表される。

【0025】

特に、エアナイフの支持ビームは、前進ストリップの位置でのそれらの中央ストレッチが、これらの２つの中央ストレッチの間のゾーンにスタビライザのハウジングが配置できるように、供給面から離れて設置されるように成形することができる。このようにして、電磁アクチュエータを収容するハウジングは、エアナイフノズルに対してできるだけ近いように下げることができる。これは、電磁スタビライザにより、ストリップの振動と形状の両方に対する制御効果を最大化するために行われる。

【0026】

本発明の更なる特徴及び利点は、好ましいが排他的ではない実施形態の詳細な説明に照らして、より明らかになる。

【0027】

従属請求項は、本発明の特定の実施形態を説明する。

【0028】

本発明の説明は、非限定的な例として提供される添付の図面を参照する。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】従来技術の安定化装置の概略図である。

【図2】図１の装置の平面Ａ－Ａに沿った側面図である。

【図3】本発明に係る安定化装置の概略図である。

【図4】図３の装置の平面Ｂ－Ｂに沿った側面図である。

【図5】本発明に係る安定化装置の上面図である。

【図6】本発明に係る安定化装置の一実施形態の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0030】

図中の同じ参照番号と文字は、同じ要素又は部品を示す。

【0031】

図に関して、亜鉛などの溶融金属浴２１から理論的供給面Ｘに沿って上がる金属ストリップを安定化するように適合された、本発明に係る安定化装置のいくつかの例が示される。

【0032】

本発明の全ての実施形態において、安定化装置は、
第１のエアナイフが理論的供給面Ｘの第１の側に配置され、第２のエアナイフが上記理論的供給面Ｘの第１の側の反対側の第２の側に配置される少なくとも１対、好ましくは１対のみのエアナイフ１と、
第１の電磁スタビライザ装置が上記第１の側に配置され、第２の電磁スタビライザ装置が上記第２の側に配置される少なくとも１対、好ましくは１対のみの電磁スタビライザ装置２と、
各々がそれぞれのエアナイフ１を支持する１対の第１の支持ビーム３と、
各々がそれぞれの電磁スタビライザ装置２を支持する１対の第２の支持ビーム６とを含む。

【0033】

好ましくは、装置の動作ステップでは、各々のエアナイフ１は、理論的供給面Ｘに対して他方のエアナイフの鏡像に配置され、すなわち、エアナイフ１は、理論的供給面Ｘに対して対称的に配置される。同様に、各々の電磁スタビライザ装置２は、上記理論的供給面Ｘに対して他方の電磁スタビライザ装置の鏡像に配置され、すなわち、電磁スタビライザ装置は、上記理論的供給面Ｘに対して対称的に配置される。

【0034】

有利には、１対の第２の支持ビーム６は、１対の第１の支持ビーム３と異なり、すなわち別個であり、第１の支持ビーム３は、理論的供給面Ｘの遠位にあり、第２の支持ビーム６は、上記理論的供給面Ｘの近位にある。第１及び第２の支持ビームが互いに異なるか又は別個であるという事実は、第２の支持ビーム６が対応する第１の支持ビーム３により直接的又は間接的に支持されないことを意味する。特に、第２の支持ビーム６は、第１の支持ビーム３に載っておらず、第１の支持ビーム３によりいかなる方法で支持されない。それにより、電磁スタビライザ装置２により生成された力への反応として生成された応力がエアナイフ１の支持ビーム３に解放されて、コーティング厚さの精度に関してエアナイフの性能に明らかに悪影響を与えることを回避することができる。実際に、電磁スタビライザ装置２により生成された応力は、エアナイフ１の支持ビームから分離された電磁スタビライザ装置自体のそれぞれの支持ビーム６に解放される。

【0035】

更に、第２の支持ビーム６は、理論的供給面Ｘに関して、１対の第１の支持ビーム３に対して少なくとも部分的に最も内側の位置又は完全に最も内側の位置に配置することができる。支持ビームのこの配置により、本発明の装置は、既知の解決策より簡単で、よりコンパクトである。

【0036】

特に、第２の支持ビーム６は、第１の支持ビーム３に平行に配置することができる。

【0037】

例えば、図６に示すように、第２の支持ビーム６は、その少なくとも一部のみが第１の支持ビーム３の上にあるように配置することができる。

【0038】

特に、２つの第１の支持ビーム３は、互いに異なり、それぞれ上記理論的供給面Ｘの第１の側と第２の側に、好ましくは互いに鏡面的に配置され、すなわち、支持ビーム３は、上記理論的供給面Ｘに対して対称的に配置され、また、２つの第２の支持ビーム６は、互いに異なり、それぞれ上記第１の側と上記第２の側に、好ましくは、上記理論的供給面Ｘに対して互いに鏡面的に配置され、すなわち、支持ビーム６は、理論的供給面Ｘに対して対称的に配置される。

【0039】

本発明の装置のコンパクトさを更に向上させるために、変形例には、上記エアナイフ１からのエアジェット用のバッフルシステム４が設置され、バッフルシステム４は、第２の支持ビーム６の間に配置され、上記第２の支持ビーム６の少なくとも１つ、好ましくは１つのみに固定され、少なくとも１対のバッフル７を含み、各々のバッフル７は、エアナイフ１の間には、エアナイフのそれぞれの端部に設置される。バッフル７は、エアジェットの干渉により生成されたノイズを低減し、特に厚いコーティングを有する低速ストリップの場合、ストリップエッジのオーバーコーティングを最小限に抑える機能を有する。

【0040】

上記バッフルシステム４の特定の実施形態は、各々が理論的供給面Ｘに垂直な平面Ｙのそれぞれの側に配置される２つの支持体５を含む。

【0041】

２つの支持体５は、実質的に平坦であり、理論的供給面Ｘに沿って、好ましくは互いに鏡面的に、すなわち平面Ｙに対して対称的に配置される。

【0042】

各々の支持体５は、好ましくはＣ字形であり、それぞれのバッフル７が設置された下部アーム８と、ストリップのエッジを検出する検出装置１０が設置された上部アーム９とを有する（図４）。そのような検出装置１０は、例えば、フォトセル又はカメラタイプのセンサであってもよい。平面Ｙに対するバッフル７の距離は、溶融金属浴から上がるストリップのエッジの位置の検出に基づいて調整することができる。２つのバッフル７の間の距離は、例えば、５００～２０００ｍｍである。

【0043】

例えば、２つの支持体５は、第２の支持体ビーム６の１つに沿って、理論的供給面Ｘに平行にスライドすることができる。各々のバッフル７は、ストリップのエッジの検出装置１０からの信号に応答してリニアサーボアクチュエータにより配置することができる。サーボアクチュエータは、アブソリュート・エンコーダを含んでもよい。

【0044】

通常の動作中に、ストリップとバッフルとは、接触しない。検出装置１０は、オペレータの介入なしに、エアカーテンにより数週間清潔に保持することができる。バッフル７は、ストリップが浴から上がるときに、上記ストリップの溶接シームが到着すると自動的に後退することができる。

【0045】

動作中にバッフルの高さを調整し、例えば、初期基準位置から±２０ｍｍ、最大４０ｍｍ調整する垂直調整機構を含んでもよい。

【0046】

本発明の装置の変形例において、第１の支持ビーム３と第２の支持ビーム６の両方は、
第１の側部構造１２に載る第１の端部３’’、６’’と、
第２の側部構造１３に載る第２の端部３’’’、６’’’とを有し、側部構造１２、１３は、好ましくは、互いに平行であり、上記平面Ｙに平行である（図５）。

【0047】

具体的には、各々の第１の支持ビーム３の第１の端部３’’は、各々の第２の支持ビーム６の第１の端部６’’からばらばらにされるか又は独立して、第１の側部構造１２に載り、各々の第１の支持ビーム３の第２の端部３’’’は、各々の第２の支持ビーム６の第２の端部６’’’から互いにばらばらにされるか又は独立して、第２の側部構造１３に載る。

【0048】

好ましくは、第１の側部構造１２と第２の側部構造１３は、任意に互いに同期して、第１の支持ビーム３及び第２の支持ビーム６を共に持ち上げるか又は下げるそれぞれの垂直移動手段を有する。そのような垂直移動手段は、例えば、油圧、空気圧又は機械的アクチュエータを含む。

【0049】

例えば、垂直移動は、機械式ジャッキを介して２．２ｋＷのＡＣギアモータにより駆動することができる。

【0050】

そのような垂直移動は、下のタンク内の溶融金属の公称レベルから７０ｍｍ～７００ｍｍであってもよい。垂直移動の速度は、例えば、約３８０～４２０ｍｍ／ｍｉｎである。

【0051】

有利には、第１の支持ビーム３は、底部でそれぞれのエアナイフ１を支持するそれぞれの中央ストレッチ３’を有し、上記中央ストレッチ３’は、理論的供給面Ｘに関して最も外側にあり、第１の支持ビーム３の対応する第１の端部３’’及び第２の端部３’’’に対して下げられる（図６）。また、第２の支持ビーム６は、理論的供給面Ｘに関して最も外側にあり、好ましくは第２の支持ビーム６の対応する第１の端部６’’及び第２の端部６’’’に対して下げられるそれぞれの中央ストレッチ６’を有する。各々の中央ストレッチ６’は、その理論的供給面Ｘに対する近位側から、対応する第２の支持ビーム６の凹部を区切る。第１の支持ビーム３の中央ストレッチ３’は、有利には、上記２つの中央ストレッチ３’の間のゾーンに電磁スタビライザ装置２を収容できるように、理論的供給面Ｘから離れて配置される。

【0052】

好ましくは、第１の端部３’’又は第２の端部３’’’を中央ストレッチ３’と結合する中間ビームストレッチは、少なくとも部分的に曲線であり、好ましくは２つの変曲点を有する軸を規定し、或いはそれぞれの第１の支持ビーム３の端部と中央ストレッチの両方に垂直な中間ビームストレッチであってもよい。

【0053】

代わりに、第１の支持ビーム３の中間ビームストレッチについて今説明したものに加えて、第１の端部６’’又は第２の端部６’’’を中央ストレッチ６’と結合する中間ビームストレッチは、中央ストレッチ６’に対して横方向、好ましくは直交し、上記中央ストレッチ６’と共に、電磁スタビライザ装置２が配置される凹部を規定する部分６０を更に有することができる。

【0054】

各々の電磁スタビライザ装置２は、好ましくは、それぞれの第２の支持ビーム６の凹部内に少なくとも部分的に配置される。任意に、上記凹部に、好ましくは上記凹部の端部には、対応する電磁スタビライザ装置２が理論的供給面Ｘに垂直な方向に沿って作動位置から静止位置へ、又はその逆にスライドするスライドガイド１１（図５）が設置される。

【0055】

ストリップの供給面Ｘの近位の作動位置では、電磁スタビライザ装置２は、例えば、ストリップの表面ひいては供給面から４０～６０ｍｍの距離にある。

【0056】

代わりに、ストリップ供給面Ｘの遠位の静止位置では、電磁スタビライザ装置２は、例えば、ストリップの表面ひいては供給面から１００～２５０ｍｍの距離にある。

【0057】

有利な実施形態（図６）において、各々の第２の支持ビーム６の中央ストレッチ６’は、対応する第１の支持ビーム３の中央ストレッチ３’の近位に、上記中央ストレッチ３’の上の位置に、好ましくは少なくとも部分的に最も内側の位置又は完全に最も内側の位置に配置され、その結果、対応する支持ビーム６の凹部に収容されたそれぞれの電磁スタビライザ装置２は、その下の対応するエアナイフ１に接近することができる。

【0058】

例えば、図６に示すように、第２の支持ビーム６は、第１の支持ビーム３の上に部分的にのみ配置される。特に、各々の第２の支持ビーム６の中央ストレッチ６’は、対応する第１の支持ビーム３の中央ストレッチ３’の上に配置される。

【0059】

各々の電磁スタビライザ装置２は、それぞれの第２の支持ビーム６の凹部の下、好ましくは対応する第１の支持ビーム３の中央ストレッチ３’の下に延びて、電磁スタビライザ装置２とその下のエアナイフ１との間の距離は、２００～１５００ｍｍ、好ましくは２００～１０００ｍｍである。

【0060】

好ましくは、各々の中央ストレッチ６’は、第１の支持ビーム３の第１の端部３’’及び第２の端部３’’’の上部エッジの高さより低い高さに配置される。

【0061】

本発明の装置の更なる実施形態において、第１の支持ビーム３の第１の端部３’’と第２の端部３’’’の両方は、それぞれ第１の側部構造１２と第２の側部構造１３に設置された、理論的供給面Ｘに垂直であるそれぞれのスライドガイド１４、１５に載ることにより、第１の支持ビーム３は、上記スライドガイド１４及び１５上をスライドして、２つのエアナイフ１の間の距離を調整することができる（図５）。

【0062】

第１の支持ビーム３のこの水平移動は、別個のステッピングモータにより駆動することができる。トランスミッションは、精密ボールねじ、リニアガイド１４及び１５を含んでもよい。

【0063】

支持ビーム３のそのような水平移動は、支持ビーム３の初期基準位置に対して、支持ビーム３がストリップの供給面に近づく場合に－２０ｍｍであり、上記供給面から離れる場合に＋１００ｍｍである。

【0064】

ストリップ供給面（パスライン）は、平面Ｙに沿って±２５ｍｍ水平に移動することができる。第１の支持ビーム３は、水平面に対して平行又は傾斜して調整することができる。

【0065】

第１の支持ビーム３ひいてはエアナイフ１の水平高速開放機能は、溶融金属浴から上がるストリップの溶接シームの通過時に提供することができる。この場合、水平移動の速度は、例えば、ストローク１００ｍｍあたり約２～４秒である。

【0066】

垂直移動のモータと水平移動のモータの両方、全てのモーターに少なくとも１つのリニアトランスデューサを提供することができる。

【0067】

ストリップのパスラインが設計位置、すなわち理論的供給面に対して変位する場合、上記理論的供給面Ｘに対してオフセットされる実際の供給面に対するエアナイフの対称性を維持するために、エアナイフ１が上記スライドガイド１４及び１５に沿って移動し、そして、第２の支持ビーム６も、適切な機械的システムにより自己調整して、上記第２の支持ビーム６を上記実際の供給面に対して鏡面的位置、すなわち対称的に維持する。

【0068】

この機械的システム、例えば、ねじ及び／又はレバーのシステムは、好ましくは、側部構造１２及び１３の内側、任意にスライドガイド１４及び１５を含む平面の下に設置され、また、エアナイフ１からのエアジェットのバッフルシステム４が第２の支持ビーム６の間に配置されると共に、上記第２の支持ビーム６の１つに固定された変形例において、バッフル７の位置の自己調整を可能にする。

【0069】

本発明の更なる変形例において、少なくとも１つの補強横木１６、１７は、第２の支持ビーム６の第１の端部６’’と第２の端部６’’’の両方に設置される（図５）。各々の補強横木１６、１７は、第１の端部が第２の支持ビーム６の一方に回転可能に拘束され、第２の端部が第２の支持ビーム６の他方に設置されたロック装置１８、１９に係合するように適合される。それにより、安定化グループの、好ましくはエアジェットのバッフルシステムの曲げ剛性を向上させるフレームを作ることができる。

【0070】

接続装置２０は、１対の第１の支持ビーム３と１対の第２の支持ビーム６の両方をクレーンにより持ち上げる必要がある場合、各々の第１の支持ビーム３をその近位にある第２の支持ビーム６に接続するために設置されてもよい。

【0071】

本発明の装置の全ての実施形態において、溶融金属浴２１を収容するタンクの真上にあるエアナイフ１は、加圧エアジェットによりストリップ表面上の溶融金属コーティングの厚さを調整して、所望の厚さの均一なコーティングを達成する。

【0072】

各々のエアナイフは、最初に空気を一連の内部の互いに部分的に分離されたチャンバーに通過させることにより、ノズル２２（図４）の幅にわたって均一なエアジェットを生成することができ、チャンバーは、ノズル２２に近づく連続的に小さい流路を有する。各々の制限により流路は、空気圧がより均一になるように強制する。ノズル２２のリップの出口では、圧力プロファイルは、幅全体にわたって±１．５％以下に均一である。

【0073】

例として、以下の場合が挙げられる：
各々のエアナイフの入口に必要な最大圧力は約８５０～９５０ｍｂａｒであり、
各々のエアナイフに必要な最大空気流量は、２０℃で約６０～６５Ｎｍ^３／ｍｉｎであり、
エアナイフに供給するブロワーの流量は、２０℃で約６５～１４５ｍ^３／分間であり、
ブロワーあたりの設置電力は、約３００ｋＷである。

【0074】

理論的供給面Ｘに対するノズル２２の角度を調整する手動機構、及び／又はノズルのリップ間のギャップを調整する手動機構を設置することができる。

【0075】

好ましくは、平面Ｘに平行に測定されたノズル２２の開口部の幅は、１４００～２０００ｍｍで、例えば１９００ｍｍである。ノズルのリップ間のギャップは、最大２．５ｍｍで、例えば、１．０ｍｍ（中央）～１．３ｍｍ（端部）であってもよい。ノズル２２の角度調整範囲は、水平に対して約１０°で、例えば＋３°～－７°である。

【0076】

空気圧で動作する自動ノズル洗浄装置２２を設置することができる。

【0077】

本発明の装置の全ての実施形態において、電磁スタビライザ装置２により、ストリップの振動を低減し、ストリップを平らにし（形状補正作用）、エアナイフ１の間に一定のパスラインを確立することができる。それにより、ストリップ上の亜鉛コーティングがより均一になり、亜鉛コーティングが減少し、製品の品質が向上する。更に、シンクロールを安定化する水中ベアリング又は焼鈍炉などの他の機器による制限がない限り、生産性が向上する。

【0078】

好ましくは、各々の電磁スタビライザ装置２は、磁気安定化効果を最大化するために、ノズル２２にできるだけ近く、電磁スタビライザ装置２の下のエアナイフ１の本体の上に配置されたハウジングを含む。上記ハウジングは、複数の磁気アクチュエータ及び渦電流センサ、渦電流センサの電子機器、ガイド１１上をスライドする機械的運動ユニットを内部で囲むことができる。各々の装置２の磁気アクチュエータ及び渦電流センサは、他の装置２の対応する反対側の磁気アクチュエータ及び渦電流センサと対になって動作する。

【0079】

特に、各々のハウジング内の電動式移動機構は、エアナイフ本体及びストリップに対して垂直に各々のハウジングの位置を独立して調整することができる。

【0080】

ストリップからの各々のハウジングの動作距離は、例えば、約２０ｍｍであり、ハウジングは、例えば、ストリップから約７０ｍｍの距離まで後退することができる。スタビライザ装置２の水平移動の最大速度は、約５０ｍｍ／ｓである。

【0081】

理論的供給面からの水平に沿うストリップの最大オフセットは、±２５ｍｍであるが、その傾斜の補正の最大値は、１°である。

【0082】

溶融金属浴から上がるストリップは、磁気アクチュエータ及び渦電流センサを収容する２つの空冷ハウジングの間を通過する。ハウジングは、過酷な環境、ストリップからの熱放射、及び溶融金属浴を収容するタンクから装置を保護するように特別に設計される。

【0083】

更に、スタビライザ装置２の電磁構成は、最良の平面性制御を提供するために、スポット状の分布と対照的に、ストリップの幅に沿って空間的に連続した磁力を与えるように規定される。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】