特許 7393400 真空処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-11-28

(45)【発行日】2023-12-06

(54)【発明の名称】真空処理装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/50 20060101AFI20231129BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20231129BHJP

【ＦＩ】

C23C14/50 K

C23C14/50 E

H01L21/68 A

【請求項の数】 5

(21)【出願番号】P 2021143014

(22)【出願日】2021-09-02

(65)【公開番号】P2023036153

(43)【公開日】2023-03-14

【審査請求日】2022-05-23

(73)【特許権者】

【識別番号】000227294

【氏名又は名称】キヤノンアネルバ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100143395

【弁理士】

【氏名又は名称】岩田 今日文

(72)【発明者】

【氏名】野沢 直之

(72)【発明者】

【氏名】高波 勇二

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 達哉

【審査官】▲高▼橋 真由

(56)【参考文献】

【文献】特許第６８６８９２９（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】特開２００３－２９３１３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】中国特許出願公開第１０７２８７５７４（ＣＮ，Ａ）

【文献】実開平０７－０２１７６２（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／００ －１４／５８

Ｈ０１Ｌ ２１／６７７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、
前記処理室内には、伸縮シリンダと連動して動く押しつけベアリングが設けられており、
前記回転ホルダ内には、前記トレイの温度を調整するための温度調整機構と前記トレイを脱着するための脱着駆動部と、が設けられており、
前記脱着駆動部は、前記トレイを保持するための引き込みフックとガイド板とを有し、
前記搬送機構は、前記回転ホルダの回転軸と前記搬送機構の回転軸とを結ぶ中心線上に沿って移動可能なように、前記真空処理装置内に設けられており、
前記押しつけベアリングと前記ガイド板とは、
前記トレイが前記回転ホルダの表面から離間した状態で、前記押しつけベアリングと前記ガイド板とが接触する際、前記押しつけベアリングの中心と前記ガイド板の中心とが、前記中心線上に位置するように配置されており、
前記ガイド板の中心部分には、前記押しつけベアリングと前記ガイド板とが接触した際、前記押しつけベアリングを受けるＶ字ガイド溝が形成されていることを特徴とする真空処理装置。

【請求項2】

前記ガイド板の前記Ｖ字ガイド溝が無い側には、前記ガイド板の中心部分と接触するストッパーを有することを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。

【請求項3】

前記引き込みフックは、前記中心線に沿って移動可能なシャフトに連結されており、
前記シャフトは、
前記ガイド板の中心部分と前記ストッパーとが離間する際には、前記トレイが前記回転ホルダの表面に接触する方向に移動し、
前記ガイド板が前記中心線に沿って移動し、前記ガイド板の中心部分と前記ストッパーとが接触する際には、前記トレイが前記回転ホルダの表面から離間する方向に移動する、
ことを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。

【請求項4】

前記引き込みフックは、前記トレイの貫通穴に挿入可能なように、前記回転ホルダの上端部左右２カ所に設けられた上引き込みフックと、前記トレイの下端部を保持可能なように、前記回転ホルダの下端部左右２カ所に設けられた下引き込みフックと、から構成され、
前記トレイが前記回転ホルダの表面と接触する際には、
前記トレイの上端部は前記上引き込みフックに吊り下げられた状態であり、
前記トレイの下端部は前記下引き込みフックに保持された状態である、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の真空処理装置。

【請求項5】

前記搬送機構は、前記トレイの中心が前記中心線上に位置した状態で、前記トレイを保持可能なフックを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の真空処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、筒状のドラム型回転ホルダの外周部に基板を保持するトレイを設置し、回転ホルダを回転させながら基板を処理する真空処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

複数の基板を外周面に保持した多角形又は円筒形のドラム型回転ホルダを地面に垂直な円筒中心軸上で回転させながら、ドラム型回転ホルダの外周に対向して設置されたターゲットをスパッタリングして基板固定トレイに設置された基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ装置が知られている。
カルーセル型スパッタ装置では、成膜開始前に複数の基板固定トレイを前記回転ホルダの外周に取り付け、成膜された基板固定トレイを回転ホルダの外周から取り外す必要がある。
ところがこのようなカルーセル型スパッタ装置では、真空中でドラム型の回転ホルダに自動で基板固定トレイの取り付け、取り外しを行うことは大掛かりな脱着機構が必要となり、大気圧で手作業により基板の取り付け取り外しを行う場合が多くあった。
成膜室を大気圧にして手作業で基板の取り付け取り外しを行う場合、ターゲットの酸化や、不純物の付着により、成膜した膜に不純物が混入する場合がある。また、成膜手段により成膜室に付着した膜が大気にさらされると剥がれやすくなるため、基板に付着するパーティクルの原因となり歩留まりを悪化させることがある。
又、成膜ごとに大気解放及び真空排気が必要であり、大気解放前の冷却時間や、真空排気後の加熱時間が必要であり、シールドの交換周期も短くなる為、生産性が悪く、人手が掛かる問題を有していた。
こういった問題点を解決する為に、成膜室は真空のままロボットでのトレイの入れ替えが出来る装置が考えられた。

【0003】

前記問題を解決するカルーセル型スパッタ装置の１例として、図１６，図１７に示す薄膜形成装置について説明する（特許文献１）。
図１６、図１７に示す真空処理装置は、処理室内１０１に、処理すべき基板の装着される回転ドラム治具１０２を固定配置し、処理室内１０１の上記回転ドラム治具１０２に対して処理すべき基板固定トレイ１０１２を脱着するための基板固定トレイ脱着機構１０１４を設け、処理室１０１に対して基板固定トレイ１０１２を垂直状態（回転軸に対して平行状態）で、基板仕込み室１０４・基板取り出し室１０５との間で、図１７に示す搬送機構１０１３により、水平搬入、水平搬出（回転軸に対して垂直状態）できるように構成したことを特徴とする。
図１６、図１７に示す真空処理装置によれば、回転ドラム治具１０２を処理室内１０１に固定配置し、脱着機構１０１４を用いて基板固定トレイ１０１２だけを回転軸に対して平行状態で、搬入装着、取外し搬出するように構成しているので、ドラム治具１０２に必要な装置、例えば冷却機構やバイアス印加手段を組込むことができ、また各室（基板仕込み室１０４，処理室１０１，基板取り出し室１０５）の仕切バルブ１０８，１０９、１０１０、１０１１も小型化でき、デッドスペースの縮小と共に装置自体を小型化でき、そして排気系の負荷も軽減させることができる。
なお、図１６、図１７において、カソード１０３、回転ドラム治具１０２の各基板装着面１０２Ａ、案内ローラ１０１３Ａと駆動ローラ１０１３Ｂ、回転ドラム治具１０２を所定の位置（すなわち基板固定トレイ１０１２の脱着位置）で停止させる停止案内装置１０１６を示す。
しかし、上記特許文献１に示す装置は以下のような課題を有する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特公平４－８０７３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

図１６，図１７に示す真空処理装置の場合、基板仕込み室１０４から処理室１０１に基板固定トレイ１０１２を搬入する場合、まず→Ａの方向に基板固定トレイ１０１２をつり下げた状態で水平移動して、処理室１０１に基板固定トレイ１０１２を搬入する。
この時、基板固定トレイ１０１２は、基板固定トレイ１０１２と回転ドラム治具１０２の装着面１０２Ａとが平行状態で、かつ、基板固定トレイ１０１２が回転ドラム治具１０２の装着面１０２Ａに位置するように、図１６、図１７に示す仮想線で示す位置に位置決めする必要がある。
次に、基板固定トレイ１０１２を回転ドラム治具１０２の装着面１０２Ａに装着する際には、基板固定トレイ１０１２は、図１７に示す仮想線で示す位置においてシリンダ作動機構１０１４Ａ，１０１４Ｂのホルダチャック部材１０１５Ａ，１０１５Ｂで受けられ、搬送装置１０１３の案内ローラ１０１３Ａおよび駆動ローラ１０１３Ｂは基板固定トレイ１０１２から離され、→Ｂの方向（→Ａに対しては垂直方向）に基板固定トレイ１０１２をつり下げた状態で水平移動する必要がある。
そして各シリンダ作動機構１０１４Ａ，１０１４Ｂは、所定の位置に停止されている回転ドラム治具１０２の装着面１０２Ａに対して基板固定トレイ１０１２を押し当て各突子１０１２Ｄを治具１０２における係止穴１０２Ｃに係止させる。こうして基板固定トレイ１０１２は回転ドラム治具１０２に装着され、この操作を繰返して治具１０２の全装着面１０２Ａに処理すべき基板固定トレイ１０１２を装着する。
一方、処理室１０１から基板仕込み室１０４に基板固定トレイ１０１２を搬出する場合、→Ｃの方向に基板固定トレイ１０１２をつり下げた状態で水平移動し、回転ドラム治具１０２の全装着面１０２Ａから基板固定トレイ１０１２を脱着し、次に、図１６に示す仮想線で示す位置において、→Ｄの方向（→Ｃに対しては垂直方向）に基板固定トレイ１０１２を水平移動し、基板固定トレイ１０１２を基板仕込み室１０４に搬入する必要がある。
このように、図１６，図１７に示す真空処理装置の場合、基板固定トレイ１０１２のアクセス面側に大きな搬送エリアを必要とするという課題がある。

【0006】

そこで、本発明は、前記特許文献１記載の発明の問題を解決することを目的とするものであり、
処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、トレイのアクセス面側に大きな搬送エリアを必要とすることなく、簡易な構造で回転ホルダとトレイとの位置補正を行いながら、回転ホルダの全装着面へのトレイの脱着・搬送を可能とする真空処理装置を提供することを目的とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、前記処理室内には、伸縮シリンダと連動して動く押しつけベアリングが設けられており、前記回転ホルダ内には、前記トレイの温度を調整するための温度調整機構と前記トレイを脱着するための脱着駆動部と、が設けられており、前記脱着駆動部は、前記トレイを保持するための引き込みフックとガイド板とを有し、前記搬送機構は、前記回転ホルダの回転軸と前記搬送機構の回転軸とを結ぶ中心線上に沿って移動可能なように、前記真空処理室内に設けられており、前記押しつけベアリングと前記ガイド板とは、前記トレイが前記回転ホルダの表面から離間した状態で、前記押しつけベアリングと前記ガイド板とが接触する際、前記押しつけベアリングの中心と前記ガイド板の中心と前記トレイの中心が、前記中心線上に位置するように配置されており、前記ガイド板の中心部分には、前記押しつけベアリングと前記ガイド板とが接触した際、前記押しつけベアリングを受けるＶ字ガイド溝が形成されていることを特徴とする真空処理装置としたものである。

【発明の効果】

【0008】

請求項１記載の発明によれば、トレイのアクセス面側に大きな搬送エリアを必要とすることなく、脱着駆動部で回転ホルダの位置補正を行ない、トレイの装着中心と搬送機構での搬送中心を合わせられる構造にする事で、搬送機構によるトレイの脱着・搬送が容易に出来る。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の実施例であり、カルーセル型成膜装置の断面図である

【図2】本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。

【図3】本発明の実施例、回転ホルダのトレイ脱着状態を示す斜視図である。

【図4】図３のＩ－Ｉ線矢視図である。

【図5】本発明の実施例、回転ホルダのトレイ設置状態を示す図である。

【図6】本発明の実施例、回転ホルダのトレイ設置状態での搬送機構との位置関係を示す図である。

【図7】図３のＩ－Ｉ線矢視図を示し、（Ａ）はトレイが回転ホルダ表面と接触した状態を示し、（Ｂ）はトレイが回転ホルダの表面から離間した状態を示す。

【図8】図３のＩＩ矢視図を示し、（Ａ）はガイド板とストッパーとが離間した状態を示し、（Ｂ）はガイド板とストッパーとが接触した状態を示す。

【図9】図７（Ａ），図８（Ａ）のトレイ設置前の動作状態図である。

【図10】図７（Ｂ），図８（Ｂ）のフック解放時の動作状態図である。

【図11】図７（Ｂ），図８（Ｂ）のトレイ挿入時の動作状態図である。

【図12】図７（Ｂ），図８（Ｂ）のトレイ下降時の動作状態図である。

【図13】図７（Ａ），図８（Ａ）のトレイ下降時の動作状態図である。

【図14】本発明の実施例、防着シールド付きトレイの設置例の図である。

【図15】本発明の実施例、回転ホルダ側に防着シールド装着用溝を取り付けた設置例の図である。

【図16】特許文献１の真空処理装置を示す概略断面図である。

【図17】特許文献１の真空処理装置を示す部分断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

図１は、本発明の実施例であり、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の断面図である。図１の真空処理装置は、複数の基板を保持可能なトレイ（基板固定治具）１３を収納可能なカセット３を有するロードロック室２と、トレイ１３を載置可能な回転ホルダ７を有する処理室１と、ロードロック室２と処理室１との間で、トレイ１３を垂直状態のつり下げて状態で、水平搬送可能な搬送機構４と、ロードロック室２内のカセット３を隣接する冷却室や加熱室に搬送させる搬送機構１７と、から構成される。 処理室１には、複数の基板固定用のトレイ１３を外周面に保持した多角形のドラム型の回転ホルダ７を地面に垂直な回転軸８上で駆動機構１６を回転させながら、回転ホルダ７の外周に対向して設置された複数の成膜機構（例えば、ターゲット５）をスパッタリングして各基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ室が設置される。処理室１に隣接してロードロック室２がスリットバルブ６を介して接続されていて、スリットバルブ６を閉めた状態で排気やベントをすることでロードロック室２だけを大気や真空にすることができ、また、ロードロック室２の中に基板を固定したトレイ１３を複数枚保管できるカセット３を設置することができる。回転ホルダ７内の表面には、トレイ１３の温度を調整するための温度調整機構（不図示）を有する。図１の真空処理装置は、処理室１に対してトレイ１３を、回転軸８に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室２との間で、搬送機構４により、水平搬入、水平搬出できる。なお、図１において、４Ａは搬送機構４の搬送アームを示し、４Ｃは搬送機構４の回転軸を示し、１７はカセット３の搬送のための搬送機構である。

【0011】

図２は、本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。図１と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図２において、２１は回転ホルダに対してトレイ１３を脱着するための脱着駆動部２１である。図２に示すように、脱着駆動部２１は、回転ホルダ７の回転軸８と搬送機構４の回転軸４Ｃとを結ぶ中心線上に、脱着駆動部２１の中心２１Ｃが位置するように配置することが好ましい。なお、本明細書において、「中心線」とは、図２に示すように、回転ホルダ７の回転軸８と搬送機構４の回転軸４Ｃとを結ぶ中心線上の線をいう。「回転ホルダ７の回転方向」とは、回転軸８を中心として回転ホルダ７が回転する方向をいう。搬送機構４は、前記中心線上に沿って移動可能なように、真空処理装置内に設けられている。図２において、点線→Ａはトレイ１３が回転ホルダ７のトレイ装着面（不図示）に向かう方向、点線→Ｂはトレイ１３が回転ホルダ７のトレイ装着面（不図示）から離れる方向、Ｃはトレイ１３が下降する方向、Ｄはトレイ１３が上昇する方向を示す。

【0012】

図３は、回転ホルダ７の基板固定用のトレイ１３の脱着状態図になる。図１及び図２と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。長方形の板状であるトレイ１３は上端部左右２カ所に貫通穴１４が空いている。搬送アーム４Ａは、その上端部左右に、トレイ１３の貫通穴１４に挿入可能な、搬送フック１５を有し、その下端部に、トレイ１３の下端部のフレの抑制防止が可能な下フック２０（例えば、この字型）を有する。トレイ１３は、搬送アーム４Ａの搬送フック１５により、垂直状態につり下げた状態で、ロードロック室２と成膜室１との間で水平搬送され、成膜室１内に搬送される。脱着駆動部２１は、トレイ１３を保持するための引き込みフック２２を有する。引き込みフック２２は、トレイ１３の貫通穴１４に挿入可能なように、上端部左右２カ所に設けられた上引き込みフック２２Ａと、トレイ１３の下端面を載置可能なように、下端部左右２カ所に設けられた下引き込みフック２２Ｂと、から構成される。図３に示すように、トレイ１３を回転ホルダ７に装着する時には、搬送アーム４Ａ（図２参照）が伸び、トレイ１３を、引き込みフック２２を避けて侵入し、搬送アーム４Ａを下降させることで、トレイ１３を搬送アーム４Ａの搬送フック１５から、引き込みフック２２Ａに受け渡した高さで、ベアリング（不図示）を脱着駆動部２１から離間した状態にして、トレイ１３を引き込みフック２２により回転ホルダ７内に設けられた温度調整機構（例えば、冷却面）に押し付ける。反対に、トレイ１３を回転ホルダ７から取り出す時は、押しつけベアリング（不図示）を脱着駆動部２１と接触させ、ストッパー（不図示）に当たるまで押しつけ、トレイ１３から引き込みフック２２を解放させた状態にし、その位置で搬送アーム４Ａ（図２参照）の搬送フック１５及び下フック２０が侵入し、トレイ１３をすくい上げることで、トレイ１３を回転ホルダ７から回収する。

【0013】

図４は、図３のＩ－Ｉ線矢視図である。図１から図３と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。処理室１内には、伸縮シリンダ３３と伸縮シリンダ３３と連動して動く押しつけベアリング２５とが設けられている。脱着駆動部２１は トレイ１３を保持するための引き込みフックとガイド板とを有する。図４において、伸縮シリンダ３３を駆動することにより、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板と離間した状態（非接触の状態）にすると、引き込みフック２２がＢ方向に移動する。これにより、引き込みフック２２に保持されたトレイ１３は回転ホルダ７内の表面付近に設けられた温度調整機構３０（例えば、冷却面）に押し付けられる。

【0014】

図５は、本実施形態における回転ホルダのトレイ１３の設置状態図になる。
図１から図４と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
多面体である縦型のドラムホルダーの各面にトレイ１３が設置され、上下をトレイ脱着駆動部（不図示）に連結されている引き込みフック２２にて冷却面に押し付けられている。

【0015】

図６は、本実施形態における回転ホルダのトレイ１３設置状態での搬送機構４との位置関係を示す図である。
図１から図５と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
トレイ１３は、搬送アーム４Ａの搬送フック１５に吊り下げられた状態で、上引き込みフック２２Ａの位置まで搬送される。搬送アーム４Ａを、図６の二点鎖線で示す位置から図６の実線で示す位置まで下降することにより、トレイ１３は上引き込みフック２２Ａに引き渡される。その位置で搬送アーム４Ａは、トレイ１３に干渉することなく、回転ホルダから離間する方向に移動可能となる。

【0016】

図７は本実施形態における回転ホルダ７の脱着駆動部２１の側面動作図であり、図３のＩ－Ｉ線矢視図である。
図１から図６と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する
なお、図７（Ａ）は、回転ホルダ７へのトレイ１３の設置が完了し、トレイ１３が回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面と接触した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の温度制御（冷却）時を示し、図７（Ｂ）は、回転ホルダ７からトレイ１３を脱着するため、トレイ１３が回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面から離間した状態を示し、トレイ１３の脱着時を示す。
回転ホルダ７の上下面に装着された脱着駆動部２１は、処理室１の側面外側に装着された伸縮シリンダ３３により、該伸縮シリンダ３３の先端に装着され、連動して動く押しつけベアリング２５をＡ方向に移動し、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板（不図示）に押し付ける。これにより、図７（Ｂ）に示すように、トレイ１３は該回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面から離れる。
一方、伸縮シリンダ３３の動作により、連動して押しつけベアリング２５をＢ方向に移動し、押しつけベアリング２５を脱着駆動部２１のガイド板（不図示）から離間する。これにより、図７（Ａ）に示すように、トレイ１３は、回転ホルダ７（温度調整機構３０）の表面に押し付けられる。

【0017】

図８は回転ホルダ７の脱着駆動部２１の上面動作図であり、図３のＩＩ矢視図である。
図１から図７と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
なお、図８（Ａ）は、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが離間した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の温度制御（冷却）時を示し、図８（Ｂ）は、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが接触した状態を示し、基板固定用のトレイ１３の脱着時を示す。
ガイド板２４の中心部分２４Ｃには、押しつけベアリング２５を受けるＶ字ガイド溝２４Ａが形成されている。ガイド板２４のＶ字ガイド溝２４Ａが無い側には、ガイド板２４の中心部分２４Ｃと接触するストッパー２９を有する。
脱着駆動部２１には、ベアリングケース２３の中にスライドガイド（不図示）が設置され、伸縮方向に圧縮スプリング２８を設置する事で、ガタのない水平動作と、回転コロ又はベアリング２５に押しつけ解放後に、速やかに元の位置に戻る機能を有する。
上引き込みフック２２Ａは中心線に沿って移動可能なシャフト２７に連結されている。
シャフト２７は、ガイド板２４の中心部分２４Ｃとストッパー２９とが離間する際（図８（Ａ）の際）には、トレイ１３が回転ホルダ７の表面に接触する方向（Ｂ方向）に移動する。
一方、シャフト２７は、ガイド板２４が中心線に沿ってＡ方向に移動し、ガイド板２４の中心部分２４Ｃとストッパー２９とが接触する際（図８（Ｂ）の際）には、トレイ１３が回転ホルダ７の表面から離間する方向（Ａ方向）に移動する。
図８では不図示であるが、シャフト２７は下引き込みフック２２Ｂにも取り付けられている。
図８（Ｂ）に示すように、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは、押しつけベアリング２５とガイド板２４とが接触する際、押しつけベアリング２５の中心２５Ｃとガイド板２４の中心２４Ｃとが、中心線上に位置するように配置されている。
図８（Ａ）の状態から図８（Ｂ）の状態に移行するには、伸縮シリンダ３３（図８では不図示）と連動して動く押しつけベアリング２５を、押しつけベアリング２５の中心２５Ｃが中心線上に維持された状態で、Ａ方向に移動し、押しつけベアリング２５をガイド板２４に押し付ける。
ガイド板２４の中心部分２４ＣにはＶ字ガイド溝２４Ａが形成されているので、押しつけベアリング２５はＶ字ガイド溝２４Ａと接触する。
更に、押しつけベアリング２５をＡ方向に移動すると、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは、押しつけベアリング２５の中心２５Ｃとガイド板２４の中心２４Ｃとが中心線上に位置した状態で、ガイド板２４のＶ字ガイド溝２４Ａが無い面は、ストッパー２９に当たるまで押し付けられる。これにより、回転ホルダの中心とトレイ１３の中心１３Ｃとが一致した状態となり、回転ホルダ（不図示）の回転方向の停止位置が矯正され、トレイ１３を支持する上フック２２Ａの中心と一致することになる。
一方、トレイ１３は、搬送アーム（不図示）のフック（不図示）により、トレイ１３の中心１３Ｃが中心線上に位置した状態で保持されている。この状態で、搬送アーム（不図示）を中心線に沿ってＢ方向に移動し、トレイ１３の引き渡し位置で停止する。
これにより、図８（Ｂ）に示すように、トレイ１３は搬送機構（不図示）のフック（不図示）から上フック２２Ａに引き渡しされる。
この状態で、伸縮シリンダ３３（図８では不図示）と連動して動く押しつけベアリング２５を、押しつけベアリング２５の中心２５Ｃが中心線上に維持された状態で、Ｂ向に移動し、押しつけベアリング２５をガイド板２４から離間する。
これにより、上フック２２Ａに保持されたトレイ１３が回転ホルダ（温度調整機構）の表面と接触することとなる。

【0018】

図９から図１３は回転ホルダ７のトレイ１３の脱着駆動部２１へ、トレイ１３を設置する時の連続動作を示す。
図１から図８と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。

【0019】

図９に示すトレイ１３の設置前においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４とは離間した状態にあるので、スプリング２８は伸びた状態になり、ガイド板２４とストッパー２９とは離間した状態にある。この状態で押しつけベアリング２５をＡ方向に移動する。
図１０に示すフック解放時においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４のＶ字ガイド溝２４Ａとは接触し、押しつけベアリング２５がガイド板２４を押しつけた状態にあるので、スプリング２８は縮んだ状態になり、押しつけベアリング２５によりガイド板２４がストッパー２９に当たるまで押し付けられると、回転ホルダ（不図示）の回転方向の停止位置を矯正してトレイ１３を支持するフック２２の中心とトレイ１３の中心とが一致することになる。
この状態で、トレイ１３は、搬送アーム４Ａの上フック１５から上引き込みフック２２Ａ、２２Ｂへの受け渡しが行われことになる。
図１１は、図１０の状態から搬送アーム４Ａが伸びた状態を示す。この時、トレイ１３が上引き込みフック２２Ａに挿入可能な状態となる。
図１２は、図１１の状態から搬送アーム４Ａによって、トレイ１３をＣに示す方向に下降させ、上引き込みフック２２Ａに挿入される。この状態で押しつけベアリング２５をＢ方向に移動する。
図１３に示すトレイ１３の装着完了時においては、押しつけベアリング２５とガイド板２４のＶ字ガイド溝２４Ａとは離間した状態にあるので、スプリング２８は伸びた状態になり、伸縮シャフト２７は、トレイ１３が回転ホルダ７の表面に接触する方向（Ｂ方向）に移動する。これにより、トレイ１３が回転ホルダ（不図示）の温度調整機構（例えば、冷却面）に押しつけられ、トレイ１３の温度制御（冷却）が行われる。

【0020】

図１４は防着シールド付きトレイの設置例の図である。
図１から図１３と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
図１４に示すトレイ１３は、トレイの両サイドに遮蔽板３１を有する第１トレイ１３Ａと、トレイの両サイドに遮蔽板３１を有しない第２トレイ１３Ｂと、を交互に設置したトレイで構成されることを特徴とする。遮蔽板３１は、第２トレイ１３Ｂの端部の一部に重なり合う構造であることが好ましい。遮蔽板３１の第２トレイ１３Ｂの端部の一部に重なり合う部分は、第２トレイ１３Ｂと接触せずに隙間を有する構造であることが好ましい。
このように、図１４に示すトレイ１３は、隣り合うトレイ１３Ａ、１３Ｂ間の隙間に対して、回転ホルダ７の外周に設置するトレイ数を偶数で埋まる構成とし、第２のトレイ１３Ｂの両サイドが、両隣の第２トレイ１３Ｂに被る形状の遮蔽板３１（又は、第１のトレイ１３Ａと一体構造でも可）を持つ第１トレイ１３Ａと、両サイドに遮蔽板３１を持たない第２トレイ１３Ｂを交互に設置することで、基板固定トレイ１３Ａ、１３Ｂ間の隙間を埋めることで、回転ホルダ７表面への膜の付着を防止する。
設置は、第２トレイ１３Ｂを先に１つ飛ばしで設置した後、両サイドに遮蔽板３１を装着した第１トレイ１３Ａを空いているポジションに設置することで、回転ホルダ７間の隙間を見えなくする。
回収時は設置時とは反対に、遮蔽板３１を装着した第１トレイ１３Ａを全て回収した後、第２トレイ１３Ｂを回収する

【0021】

図１５は回転ホルダ７側にシールド３１装着用の溝を取り付けた設置例の図である。図１から図１４と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図１５に示すトレイ１３は、隣り合うトレイ１３とトレイ１３の間には、搬送機構（不図示）での水平搬入、水平搬出時にトレイ１３が干渉しない為の隙間を有し、回転ホルダ７側にトレイ１３間の隙間より広い幅の溝３４を設け、遮蔽板３１を固定することを特徴とする。溝３４の深さは、遮蔽板３１の厚さより、深くして、回転ホルダ７表面より凸にならない構造を有することが好ましい。溝３４は、回転ホルダ側７に入り口が溝底部より狭いアリ溝３４であることが好ましい。アリ溝３４にアリ溝３４の入り口幅より広い幅のバネ性のある遮蔽板３１を撓ませた状態で装着することが好ましい。このように、図１５に示すトレイ１３は、隣り合うトレイ１３間の隙間に対して、回転ホルダ７側に入り口が溝底部（不図示）より狭いアリ溝３４を掘り、このアリ溝３４にアリ溝３４の入り口幅（不図示）より広い幅のバネ性のある遮蔽板３１を撓ませた状態で装着し、遮蔽板３１のバネ復元力を利用して遮蔽板３１（シールド）の脱落の防止を図る。この遮蔽板３１は、簡易な形状である為、使用後は再生をせずに使い捨てで運用することを想定する。回転ホルダ７側のアリ溝３４の入り口幅は、トレイ１３間の隙間より広く設け、回転ホルダ７表面への膜の付着を防止している。

【符号の説明】

【0022】

１ 処理室
２ ロードロック室
３ カセット
４ 搬送機構
４Ｃ 搬送機構の回転軸
７ 回転ホルダ
８ 回転ホルダの回転軸
１３ トレイ
２１ 脱着駆動部
２２ 引き込みフック
２４ ガイド板
２４Ｃ ガイド板の中心
２５ 押しつけベアリング
２５Ｃ 押しつけベアリングの中心
３０ 温度調整機構
３３ 伸縮シリンダ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】