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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-11-28
(45)【発行日】2023-12-06
(54)【発明の名称】真空処理装置
(51)【国際特許分類】
   C23C 14/50 20060101AFI20231129BHJP
   H01L 21/677 20060101ALI20231129BHJP
【FI】
C23C14/50 D
C23C14/50 K
H01L21/68 A
【請求項の数】 7
(21)【出願番号】P 2021143017
(22)【出願日】2021-09-02
(65)【公開番号】P2023036155
(43)【公開日】2023-03-14
【審査請求日】2022-05-23
(73)【特許権者】
【識別番号】000227294
【氏名又は名称】キヤノンアネルバ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100143395
【弁理士】
【氏名又は名称】岩田 今日文
(72)【発明者】
【氏名】野沢 直之
(72)【発明者】
【氏名】高波 勇二
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 達哉
【審査官】▲高▼橋 真由
(56)【参考文献】
【文献】特開2008-063632(JP,A)
【文献】特開2021-109985(JP,A)
【文献】実開昭60-093758(JP,U)
【文献】中国特許出願公開第1821438(CN,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C23C 14/00 -14/58
H01L 21/677
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、
前記トレイは、
前記トレイの両サイドに遮蔽板を有する第1トレイと、
前記トレイの両サイドに遮蔽板を有しない第2トレイと、
を交互に設置したトレイで構成され、
前記遮蔽板は、前記第2トレイの端部の一部に重なり合う構造であることを特徴とする真空処理装置。
【請求項2】
前記遮蔽板の前記第2トレイの端部の一部に重なり合う部分は、前記第2トレイと接触せずに隙間を有する構造であることを特徴とする請求項1記載の真空処理装置。
【請求項3】
前記トレイを、前記ロードロック室との間で水平搬出する時は、前記遮蔽板を設置した前記第1トレイを全て搬出した後、前記第2トレイを搬出することを特徴とする請求項1又は2に記載の真空処理装置。
【請求項4】
処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、
隣り合うトレイとトレイの間には、前記搬送機構での水平搬入、水平搬出時に前記トレイが干渉しない為の隙間を有し、前記回転ホルダ側に前記トレイ間の前記隙間より広い幅の溝を設け、遮蔽板を固定することを特徴とする真空処理装置。
【請求項5】
前記溝の深さは、前記遮蔽板の厚さより、深くして、前記回転ホルダ表面より凸にならない構造を有することを特徴とする請求項4記載の真空処理装置。
【請求項6】
前記溝は、前記回転ホルダ側に入り口が溝底部より狭いアリ溝であることを特徴とする請求項4又は5記載の真空処理装置。
【請求項7】
前記アリ溝に前記アリ溝の入り口幅より広い幅のバネ性のある前記遮蔽板を撓ませた状態で装着したことを特徴とする請求項記載の真空処理装置。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、筒状のドラム型ホルダの外周部に基板を保持するトレイを設置し、ホルダを回転させながら基板を処理する真空処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
複数の基板を外周面に保持した多角形又は円筒形のドラム型回転ホルダを地面に垂直な円筒中心軸上で回転させながら、ドラム型回転ホルダの外周に対向して設置されたターゲットをスパッタリングして基板固定トレイに設置された基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ装置が知られている。
カルーセル型スパッタ装置では、成膜開始前に複数の基板固定トレイを前記回転ホルダの外周に取り付け、成膜された基板固定トレイを回転ホルダの外周から取り外す必要がある。
ところがこのようなカルーセル型スパッタ装置では、真空中でドラム型の回転ホルダに自動で基板固定トレイの取り付け、取り外しを行うことは大掛かりな機構が必要となり、大気圧で手作業により基板の取り付け取り外しを行う場合が多くあった。
成膜室を大気圧にして手作業で基板の取り付け取り外しを行う場合、ターゲットの酸化や、不純物の付着により、成膜した膜に不純物が混入する場合がある。また、成膜手段により成膜室に付着した膜が大気にさらされると剥がれやすくなるため、基板に付着するパーティクルの原因となり歩留まりを悪化させることがある。
又、成膜ごとに大気解放及び真空排気が必要であり、大気解放前の冷却時間や、真空排気後の加熱時間が必要であり、シールドの交換周期も短くなる為、生産性が悪く、人手が掛かる問題を有していた。
こういった問題点を解決する為に、成膜室は真空のままロボットでのトレイの入れ替えが出来る装置が考えられた。
【0003】
いわゆるカルーセル型スパッタリング装置の1例として、図16図17に示す薄膜形成装置について説明する(特許文献1)。
図16図17に示す真空処理装置は、処理室内101に、処理すべき基板の装着される回転ドラム治具102を固定配置し、処理室内101の上記回転ドラム治具102に対して処理すべき基板固定トレイ1012を脱着するための基板固定トレイ脱着機構1014を設け、処理室101に対して基板固定トレイ1012を垂直状態(回転軸に対して平行状態)で、基板仕込み室104・基板取り出し室105との間で、図17に示す搬送機構1013により、水平搬入、水平搬出(回転軸に対して垂直状態)できるように構成したことを特徴とする。
図16図17に示す真空処理装置によれば、回転ドラム治具102を処理室内101に固定配置し、脱着機構1014を用いて基板固定トレイ1012だけを回転軸に対して平行状態で、搬入装着、取外し搬出するように構成しているので、ドラム治具102に必要な装置、例えば冷却機構やバイアス印加手段を組込むことができ、また各室(基板仕込み室104,処理室101,基板取り出し室105)の仕切バルブ108,109、1010、1011も小型化でき、デッドスペースの縮小と共に装置自体を小型化でき、そして排気系の負荷も軽減させることができる。
なお、図16図17において、カソード103、回転ドラム治具102の各基板装着面102a、案内ローラ1013aと駆動ローラ1013b、回転ドラム治具102を所定の位置(すなわち基板固定トレイ1012の脱着位置)で停止させる停止案内装置1016を示す。
【0004】
いわゆるカルーセル型スパッタ装置の2例として、図18に示すスパッタリング装置について説明する(特許文献2)。
図18に示すスパッタリング装置は、基板ホルダ2013が回転して複数の基板2014にスパッタリングを行うスパッタリング装置において、回転方向の膜厚を一定にする補正板2010を設けたことを特徴とするスパッタリング装置である。
図18に示すスパッタリング装置によれば、簡単な補正板2010を基板ホルダ2013に取り付けるだけで、基板2014の横方向のみならず、上下方向の膜厚制御を行え、ばらつきの少ないスパッタリング付けが可能となる。
しかし、上記特許文献1,特許文献2に示す装置は以下のような課題を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特公平4-80734号公報
【文献】実開平2-33257号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
図16図17に示す真空処理装置の場合、基板固定トレイ1012の脱着機構の動作においては、搬送装置1013によって、基板仕込み室104から搬入されてきた基板固定トレイ1012は、図17に示す仮想線で示す位置においてシリンダ作動機構1014a,1014bのホルダチャック部材1015a,1015bで受けられ、搬送装置1013の案内ローラ1013aおよび駆動ローラ1013bは基板固定トレイ1012から離され、そして各シリンダ作動機構1014a,1014bは、所定の位置に停止されている回転ドラム治具102の装着面102aに対して基板固定トレイ1012を押し当て各突子1012dを治具102における係止穴102cに係止させる。こうして基板固定トレイ1012は治具102に装着され、この操作を繰返して治具102の全装着面102aに処理すべき基板固定トレイ1012を装着する。
そのため、図16図17に示す真空処理装置の場合、基板固定トレイ1012の脱着機構の動作においては、複雑な動作、大掛かりな脱着機構1014を必要とするという課題がある。
【0007】
図18に示すスパッタリング装置の場合、補正板2010は、基板ホルダ2013に2枚の基板2014が隙間を設けて装着されているスパッタリング装置を前提とするものである。
図18に示すスパッタリング装置の場合、補正板2010は基板2014の横方向のみならず、上下方向の膜厚制御を行え、ばらつきの少ないスパッタリング膜付けが可能となるが、基板ホルダ2013に2枚の基板2014が隙間を設けて装着されている。そのため、隣り合う基板2014間の隙間から、基板ホルダ2013の各基板装着面に膜が付着するという問題がある。
更に、図18に示すスパッタリング装置の場合、補正板2010と2枚の基板2014を保持するトレイの位置関係については、開示されていない。
【0008】
そこで、本発明は、前記特許文献1から特許文献2記載の発明の課題を解決することを目的とするものであり、
処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、前記トレイの脱着ごとに、前記トレイとの境界部より、膜剥がれが発生しない真空処理装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
前記目的を達成するため、請求項1記載の発明は、処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、前記トレイは、前記トレイの両サイドに遮蔽板を有する第1トレイと、前記トレイの両サイドに遮蔽板を有しない第2トレイと、を交互に設置したトレイで構成され、前記遮蔽板は、前記第2トレイの端部の一部に重なり合う構造であることを特徴とする真空処理装置としたものである。
前記目的を達成するため、請求項4記載の発明は、処理室内に、垂直な回転軸を有し、かつ、基板を保持するトレイが装着される回転ホルダを配置し、前記処理室内の前記回転ホルダに対して前記トレイを脱着するためのトレイ脱着機構を設け、前記処理室に対して前記トレイを、前記回転軸に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室との間で、搬送機構により、水平搬入、水平搬出できる真空処理装置であって、隣り合うトレイとトレイの間には、前記搬送機構での水平搬入、水平搬出時に前記トレイが干渉しない為の隙間を有し、前記回転ホルダ側に前記トレイ間の前記隙間より広い幅の溝を設け、遮蔽板を固定することを特徴とする真空処理装置としたものである。
【発明の効果】
【0010】
請求項1または請求項4記載の発明によれば、トレイを温度制御されている回転ホルダ面から浮かすことなく、トレイ間の隙間の隙間を埋める遮蔽板が設置出来、かつ遮蔽板の交換が容易に出来る。
【図面の簡単な説明】
【0011】
図1図1は、本発明の実施例であり、カルーセル型成膜装置の断面図である
図2】本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。
図3】本発明の実施例、防着シールド付きトレイの設置例の図である。
図4】本発明の実施例、回転ホルダ側に防着シールド装着用溝を取り付けた設置例の図である。
図5】本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ脱着状態を示す斜視図である。
図6図5のI-I線矢視図である。
図7】本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ設置状態を示す図である。
図8】本発明の実施例、回転ホルダの基板固定トレイ設置状態での搬送機構との位置関係を示す図である
図9図5のI-I線矢視図示し、(A)はトレイが回転ホルダ表面と接触した状態を示し、(B)はトレイが回転ホルダの表面から離間した状態を示す。
図10図5のII線矢視図を示し、(A)はガイド板とストッパーとが離間した状態を示し、(B)はガイド板とストッパーとが接触した状態を示す。
図11図8(A),図9(A)のトレイ設置前の動作状態図である。
図12図8(B),図9(B)のフック解放時の動作状態図である。
図13図8(B),図9(B)のトレイ挿入時の動作状態図である。
図14図8(B),図9(B)のトレイ下降時の動作状態図である。
図15図8(A),図9(A)のトレイ下降時の動作状態図である。
図16】特許文献1の真空処理装置を示す概略断面図である。
図17】特許文献1の真空処理装置を示す概略断面図である。
図18】特許文献2のスパッタリング装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
図1は、本発明の実施例であり、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の断面図である。図1の真空処理装置は、複数の基板を保持可能な基板固定治具13を収納可能なカセット3を有するロードロック室2と、基板トレイ13を載置可能な回転ホルダ7を有する処理室1と、ロードロック室2と処理室1との間で、基板トレイ13を垂直状態のつり下げて状態で、水平搬送可能な搬送機構4と、ローロック室内のカセットを隣接する冷却室や加熱室に搬送させる搬送機構17と、から構成される。 処理室1には、複数の基板固定用のトレイ13を外周面に保持した多角形のドラム型の回転ホルダ7を地面に垂直な回転軸8上で駆動機構16を回転させながら、回転ホルダ7の外周に対向して設置された複数の成膜機構(例えば、ターゲット5)をスパッタリングして各基板上に薄膜を成膜する、いわゆるカルーセル型スパッタ室が設置される。処理室1に隣接してロードロック室2がスリットバルブ6を介して接続されていて、スリットバルブ6を閉めた状態で排気やベントをすることでロードロック室2だけを大気や真空にすることができ、また、ロードロック室2の中に基板を固定したトレイ13を複数枚保管できるカセット3を設置することができる。回転ホルダ7内の表面には、トレイ13の温度を調整するための温度調整機構(不図示)を有する。図1の真空処理装置は、処理室1に対してトレイ13を、回転軸8に対して平行状態で、かつ、つり下げた垂直状態で、ロードロック室2との間で、搬送機構4により、水平搬入、水平搬出できる。なお、図1において、4aは搬送機構4の搬送アームを示し、4cは搬送機構4の回転軸を示し、17はカセット3の搬送のための搬送機構である。
【0013】
図2は、本発明の実施例、いわゆるカルーセル型の真空処理装置の上から見た平面図である。図1と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図2において、21は回転ホルダに対してトレイ13を脱着するための脱着駆動部21である。図2に示すように、脱着駆動部21は、回転ホルダ7の回転軸8と搬送機構4の回転軸4cとを結ぶ中心線上に、脱着駆動部21の中心21cが位置するように配置することが好ましい。なお、本明細書において、「中心線」とは、図2に示すように、回転ホルダ7の回転軸8と搬送機構4の回転軸4cとを結ぶ中心線上の線をいう。「回転ホルダ7の回転方向」とは、回転軸8を中心として回転ホルダ7が回転する方向をいう。搬送機構4は、前記中心線上に沿って移動可能なように、設けられている。図2において、点線→Aはトレイ13が回転ホルダ7のトレイ装着面(不図示)に向かう方向、点線→Bはトレイ13が回転ホルダ7のトレイ装着面(不図示)から離れる方向、Cはトレイ13が下降する方向、Dはトレイ13が上昇する方向を示す。
【0014】
図3は防着シールド付きトレイの設置例の図である。
図1から図2と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
図3に示すトレイ13は、トレイの両サイドに遮蔽板31を有する第1トレイ13aと、トレイの両サイドに遮蔽板31を有しない第2トレイ13bと、を交互に設置したトレイで構成されることを特徴とする。遮蔽板31は、第2トレイ13bの端部の一部に重なり合う構造であることが好ましい。遮蔽板31の第2トレイ13bの端部の一部に重なり合う部分は、第2トレイ13bと接触せずに隙間を有する構造であることが好ましい。
このように、図3に示すトレイ13は隣り合うトレイ13a、13b間の隙間に対して、回転ホルダ7の外周に設置するトレイ数を偶数で埋まる構成とし、第2のトレイ13bの両サイドが、両隣の第2トレイ13bに被る形状の遮蔽板31(又は、第1のトレイ13aと一体構造でも可)を持つ第1トレイ13aと、両サイドに遮蔽板31を持たない第2トレイ13bを交互に設置することで、基板固定トレイ13a、13b間の隙間を埋めることで、回転ホルダ7表面への膜の付着を防止する。
設置は、第2トレイ13bを先に1つ飛ばしで設置した後、両サイドに遮蔽板31を装着した第1トレイ13aを空いているポジションに設置することで、回転ホルダ7間の隙間を見えなくする。
回収時は設置時とは反対に、遮蔽板31を装着した第1トレイ13aを全て回収した後、第2トレイ13bを回収する
【0015】
図4は回転ホルダ7側にシールド13装着用の溝を取り付けた設置例の図である。図1から図3と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。図4に示すトレイ13は、隣り合うトレイ13とトレイ13の間には、搬送機構(不図示)での水平搬入、水平搬出時にトレイ13が干渉しない為の隙間を有し、回転ホルダ7側にトレイ13間の隙間より広い幅の溝34を設け、遮蔽板31を固定することを特徴とする。溝34の深さは、遮蔽板31の厚さより、深くして、回転ホルダ7表面より凸にならない構造を有することが好ましい。溝34は、回転ホルダ側7に入り口が溝底部より狭いアリ溝34であることが好ましい。アリ溝34にアリ溝34の入り口幅より広い幅のバネ性のある遮蔽板31を撓ませた状態で装着することが好ましい。このように、図4に示すトレイ13は隣り合うトレイ13間の隙間に対して、回転ホルダ7側に入り口が溝底部(不図示) より狭いアリ溝34を掘り、このアリ溝34にアリ溝34の入り口幅(不図示)より広い幅のバネ性のある遮蔽板31を撓ませた状態で装着し、遮蔽板31のバネ復元力を利用して遮蔽板31(シールド)の脱落の防止を図る。この遮蔽板31は、簡易な形状である為、使用後は再生をせずに使い捨てで運用することを想定する。回転ホルダ7側のアリ溝34の入り口幅は、トレイ13間の隙間より広く設け、回転ホルダ7表面への膜の付着を防止している。
【0016】
図5は、前記回転ホルダの基板固定用のトレイ13の脱着状態図になる。図1から図4と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。長方形の板状であるトレイ13は上端部左右2カ所に貫通穴14が空いている。搬送機構4は、その上端部左右に、トレイ13の貫通穴14に挿入可能な、搬送フック15を有し、その下端部に、トレイ13の下端部のフレの抑制防止が可能な下フック20(例えば、この字型)を有する。搬送フック15と下フック20とにトレイ13を保持することにより、トレイ13はトレイ13の中心が前記中心線上に位置した状態で、保持可能となる。トレイ13は、搬送アーム4aの搬送フック15により、垂直状態につり下げた状態で、ロードロック室2と処理室1との間で水平搬送され、処理室1内に搬送される。脱着駆動部21は、トレイ13を保持するための引き込みフック22を有する。引き込みフック22は、トレイ13の貫通穴14に挿入可能なように、上端部左右2カ所に設けられた上引き込みフック22aと、トレイ13の下端面を載置可能なように、下端部左右2カ所に設けられた下引き込みフック22bと、から構成される。図5に示すように、トレイ13を回転ホルダ7に装着する時には、搬送アーム4aが伸び、トレイ13の上下を、引き込みフック22を高さで避けて侵入し、搬送アーム4aを下降させることで、トレイ13を搬送機構4の搬送フック15から、引き込みフック22に受け渡した高さで、ベアリング(不図示)を脱着駆動部21から離間した状態にして、トレイ13を引き込みフック22により回転ホルダ7の温度調整機構(例えば、冷却面)に押し付ける。反対に、トレイ13を回転ホルダ7から取り出す時は、押しつけベアリング(不図示)を脱着駆動部21と接触させ、ストッパー(不図示)に当たるまで押しつけ、トレイ13から引き込みフック22を解放させた状態にし、その位置で搬送アーム4a(図2参照)の上フック14及び下フック20が侵入し、トレイ13をすくい上げることで、トレイ13を回転ホルダ7から回収する。
【0017】
図6は、図5のI-I線矢視図である。図1から図5と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。処理室1内には、伸縮シリンダ33と伸縮シリンダ33と連動して動く押しつけベアリング25とが設けられている。脱着駆動部21は トレイ13を保持するための引き込みフックとガイド板とを有する。図6において、伸縮シリンダ33を駆動することにより、押しつけベアリング25を脱着駆動部21のガイド板と離間した状態(非接触の状態)にすると、引き込みフック22がB方向に移動する。これにより、引き込みフック22に保持されたトレイ13は回転ホルダ7内の表面付近に設けられた温度調整機構30(例えば、冷却面)に押し付けられる。
【0018】
図7は、本実施形態における回転ホルダのトレイ13の設置状態図になる。
図1から図6と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
多面体である縦型のドラムホルダーの各面にトレイ13が設置され、上下をトレイ脱着駆動部(不図示)に連結されている引き込みフック22にて冷却面に押し付けられている。
【0019】
図8は、本実施形態における回転ホルダのトレイ13設置状態での搬送機構4との位置関係を示す図である。
図1から図7と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
トレイ13は、搬送アーム4aの搬送フック15に吊り下げられた状態で、上引き込みフック22aの位置まで搬送される。搬送アーム4aを、図8の二点鎖線太線で示す位置から図8の実線で示す位置まで下降することにより、トレイ13は上引き込みフック22aに引き渡される。その位置で搬送アーム4aは、トレイ13に干渉することなく、回転ホルダから離間する方向に移動可能となる。
【0020】
図9は本実施形態における回転ホルダ7の脱着駆動部21の側面動作図であり、図5のI-I線矢視図である。
図1から図8と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する
なお、図9(A)は、回転ホルダ7へのトレイ13の設置が完了し、トレイ13が回転ホルダ7(温度調整機構30)の表面と接触した状態を示し、基板固定用のトレイ13の温度制御(冷却)時を示し、図9(B)は、回転ホルダからトレイを脱着するため、トレイ13が回転ホルダ7(温度調整機構30)の表面とから離間した状態を示し、トレイ13の脱着時を示す。
回転ホルダ7の上下面に装着された脱着駆動部21は、処理室1の側面外側に装着された伸縮シリンダ33により、該伸縮シリンダ33の先端に装着され、連動して動く押しつけベアリング25をA方向に移動し、押しつけベアリング25を脱着駆動部21のガイド板(不図示)に押し付ける。これにより、図9(B)に示すように、トレイ13は該回転ホルダ7(温度調整機構30)の表面から離れる。
一方、伸縮シリンダ33の動作により、連動して動く押しつけベアリング25をB方向に移動し、押しつけベアリング25を脱着駆動部21のガイド板(不図示)から離間する。これにより、図9(A)に示すように、トレイ13は、回転ホルダ7(温度調整機構30)の表面に押し付けられる。
【0021】
図10は回転ホルダ7の脱着駆動部21の上面動作図であり、図5のII線矢視図である。
図1から図9と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
なお、図10(A)は、押しつけベアリング25とガイド板24とが離間した状態を示し、基板固定用のトレイ13の温度制御(冷却)時を示し、図10(B)は、押しつけベアリング25とガイド板24とが接触した状態を示し、基板固定用のトレイ13の脱着時を示す。
ガイド板24の中心部分24cには、押しつけベアリング25を受けるV字ガイド溝24aが形成されている。ガイド板24のV字ガイド溝24aが無い側には、ガイド板24の中心部分24cと接触するストッパー29を有する。
脱着駆動部21には、ベアリングケース23の中にスライドガイド(不図示)が設置され、伸縮方向に圧縮スプリング28を設置する事で、ガタのない水平動作と、押しつけベアリング25に押しつけ解放後に、速やかに元の位置に戻る機能を有する。
上引き込みフック22aは中心線に沿って移動可能なシャフト27に連結されている。
シャフト27は、ガイド板24の中心部分24cとストッパー29とが離間する際(図10(A)の際)には、トレイ13が回転ホルダ7の表面に接触する方向(B方向)に移動する。
一方、シャフト27は、ガイド板24が中心線に沿ってA方向に移動し、ガイド板24の中心部分24cとストッパー29とが接触する際(図10(B)の際)には、トレイ13が回転ホルダ7の表面から離間する方向(A方向)に移動する。
図10では不図示であるが、シャフト27は下フック22bにも取り付けられている。
図10(B)に示すように、押しつけベアリング25とガイド板24とは、押しつけベアリング25とガイド板24とが接触する際、押しつけベアリング25の中心25cとガイド板24の中心24cとが、中心線上に位置するように配置されている。
図10(A)の状態から図10(B)の状態に移行するには、伸縮シリンダ33(図10では不図示)と連動して動く押しつけベアリング25を、押しつけベアリング25の中心25cが中心線上に維持された状態で、A方向に移動し、押しつけベアリング25をガイド板24に押し付ける。
ガイド板24の中心部分24cにはV字ガイド溝24aが形成されているので、押しつけベアリング25はV字ガイド溝24aと接触する。
更に、押しつけベアリング25をA方向に移動すると、押しつけベアリング25とガイド板24とは、押しつけベアリング25の中心25cとガイド板24の中心24cとが中心線上に位置した状態で、ガイド板24のV字ガイド溝24aが無い面は、ストッパー29に当たるまで押し付けられる。これにより、回転ホルダの中心とトレイ13の中心13cとが一致した状態となり、回転ホルダ(不図示)の回転方向の停止位置が矯正され、トレイ13を支持する上フック22aの中心と一致することになる。
一方、トレイ13は、搬送アーム(不図示)のフック(不図示)により、トレイ13の中心13cが中心線上に位置した状態で保持されている。この状態で、搬送アーム(不図示)を心線に沿ってB方向に移動し、トレイ13の引き渡し位置で停止する。
これにより、図10(B)に示すように、トレイ13は搬送アーム(不図示)のフック(不図示)から上フック22aに引き渡しされる。
この状態で、伸縮シリンダ33(図10では不図示)と連動して動く押しつけベアリング25を、押しつけベアリング25の中心25cが中心線上に維持された状態で、B向に移動し、押しつけベアリング25をガイド板24から離間する。
これにより、上フック22aに保持されたトレイ13が回転ホルダ(温度制御機構)の表面と接触することとなる。
【0022】
図11から図15は回転ホルダ7のトレイ13の脱着駆動部21へ、トレイ13を設置する時の連続動作を示す。
図1から図10と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
【0023】
図11に示すトレイ13の設置前においては、押しつけベアリング25とガイド板24とは離間した状態にあるので、スプリング28は伸びた状態になり、ガイド板24とストッパー29とは離間した状態にある。この状態で押しつけベアリング25をA方向に移動する。
図12に示すフック解放時においては、押しつけベアリング25とガイド板24のV字ガイド溝24aとは接触し、押しつけベアリング25がガイド板24を押した状態にあるので、スプリング28は縮んだ状態になり、押しつけベアリング25によりガイド板24がストッパー29に当たるまで押し付けられると、回転ホルダ(不図示)の回転方向の停止位置を矯正してトレイ13を支持するフック22の中心とトレイ13の中心とが一致することになる。
この状態で、トレイ13が搬送アーム4aの上フック15から上引き込みフック22a、22bへの受け渡しが行われることになる。
図13は、図12の状態から搬送アーム4aが伸びた状態を示す。この時、トレイ13が上引き込みフック22aに挿入可能な状態となる。
図14は、図13の状態から搬送機構4の搬送アームによって、トレイ13をCに示す方向に下降さ、引き込みフック22aに挿入される。この状態で押しつけベアリング25をB方向に移動する。
図15に示すトレイ13の装着完了時においては、押しつけベアリング25とガイド板24のV字ガイド溝24aとは離間した状態にあるので、スプリング28は伸びた状態になり、伸縮シャフト27は、トレイ13が回転ホルダ7の表面に接触する方向(B方向)に移動する。これにより、トレイ13が回転ホルダ(不図示)の温度制御機構(例えば、冷却面)に押しつけられ、トレイ13の温度制御(冷却)が行われる。
【符号の説明】
【0024】
1 処理室
2 ロードロック室
4 搬送機構
7 回転ホルダ
13 トレイ
13a 第1トレイ13b 第2トレイ31 遮蔽板34 溝
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