特許 7397531 靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-12-05

(45)【発行日】2023-12-13

(54)【発明の名称】靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴

(51)【国際特許分類】

   A43B 17/00 20060101AFI20231206BHJP

   A43B 7/14 20220101ALI20231206BHJP

   A43B 7/1425 20220101ALI20231206BHJP

   A43B 7/144 20220101ALI20231206BHJP

   A43B 7/145 20220101ALI20231206BHJP

   A43B 7/1435 20220101ALI20231206BHJP

   A61F 5/14 20220101ALI20231206BHJP

【ＦＩ】

A43B17/00 E

A43B7/14 A

A43B7/1425

A43B7/144

A43B7/145

A43B7/1435

A61F5/14

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2022528444

(86)(22)【出願日】2021-03-10

(86)【国際出願番号】 JP2021009637

(87)【国際公開番号】W WO2021246016

(87)【国際公開日】2021-12-09

【審査請求日】2022-12-13

(31)【優先権主張番号】P 2020098771

(32)【優先日】2020-06-05

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】520200687

【氏名又は名称】中沢 達

(74)【代理人】

【識別番号】100129207

【弁理士】

【氏名又は名称】中越 貴宣

(72)【発明者】

【氏名】中沢 達

【審査官】渡邉 洋

(56)【参考文献】

【文献】特開平１１－２２６０４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－８９８３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－５６３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】登録実用新案第３１９２４７７（ＪＰ，Ｕ）

【文献】国際公開第２０１４／０６１１１０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】米国特許出願公開第２００４／０１１８０１７（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ４３Ｂ １／００－ ２３／３０

Ａ４３Ｃ １／００－ １９／００

Ａ４３Ｄ １／００－９９９／００

Ａ６１Ｆ ５／１４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

略足形の中敷き本体と、
前記中敷き本体上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、
前記下側緩衝部上に配設され、足趾、母趾球及び小趾球の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部と、
前記中敷き本体上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、
を含んで成ることを特徴とする靴の中敷き。

【請求項2】

前記下側緩衝部と前記上側緩衝部とを積層した高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の靴の中敷き。

【請求項3】

前記上側緩衝部上に配設され、前記足趾を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の靴の中敷き。

【請求項4】

略足形の中敷き本体と、
前記中敷き本体上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、
前記中敷き本体上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、
を含んで成り、
前記中敷き本体が、
ＩＰ関節から母趾球の位置に相当する部分に形成される母趾孔と、
少なくとも示趾球、中趾球、及び環趾球の位置に相当する部分に形成されるＭＰ関節孔と、
小趾球の位置に相当する部分に形成される小趾球孔と、
踵骨中央部の位置に相当する部分に形成される踵孔と、
を備えることを特徴とする靴の中敷き。

【請求項5】

前記下側緩衝部の上面の高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする請求項４に記載の靴の中敷き。

【請求項6】

前記下側緩衝部上に配設され、足趾を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の靴の中敷き。

【請求項7】

中底上面の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、
前記下側緩衝部上に配設され、足趾、母趾球及び小趾球の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部と、
前記中底上面の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、
を含んで成ることを特徴とする中敷き構造を備えた靴。

【請求項8】

前記下側緩衝部と前記上側緩衝部とを積層した高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする請求項７に記載の中敷き構造を備えた靴。

【請求項9】

前記上側緩衝部上に配設され、前記足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の中敷き構造を備えた靴。

【請求項10】

中底上面の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、
前記中底上面の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、
を含んで成り、
前記中底が、
ＩＰ関節から母趾球の位置に相当する部分に形成される母趾孔と、
少なくとも示趾球、中趾球、及び環趾球の位置に相当する部分に形成されるＭＰ関節孔と、
小趾球の位置に相当する部分に形成される小趾球孔と、
踵骨中央部の位置に相当する部分に形成される踵孔と、
を備えることを特徴とする中敷き構造を備えた靴。

【請求項11】

前記下側緩衝部の上面の高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする請求項１０に記載の中敷き構造を備えた靴。

【請求項12】

前記下側緩衝部上に配設され、足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の中敷き構造を備えた靴。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴に関し、特に、足のアーチ構造に係るアーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正、更には姿勢矯正に好適な靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴に関する。

【背景技術】

【0002】

人の足には三つのアーチ構造、具体的には内側縦アーチ、外側縦アーチ、横アーチが形成されている。これら三つのアーチ構造は歩行において大変重要な機能を有している。例えば、歩行時の衝撃を吸収するクッションの役割、次の一歩を踏み出す際のバネの役割、立位姿勢や歩行姿勢の安定性を保持する役割などを担っている。そして、アーチが低下するとこれらの機能が発揮されにくくなって歩行障害や関節障害、足裏の痛みを生じたり、外反母趾や扁平足、開張足などの足の障害につながったりするため、アーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が非常に重要となる。

【0003】

そこで、足のアーチ構造を支持する構成を備えた靴の中敷きが種々開示されている（例えば、特許文献１から特許文献３参照。）。特許文献１に開示されたアーチ部を有する靴中敷きは、足底全体の輪郭を有し、足底の横アーチ、内側縦アーチ及び外側縦アーチの部分に相当する部分にそれぞれ相当する、緩やかな下に凸状の横アーチパッド部、内側縦アーチパッド部及び外側縦アーチパッド部の少なくとも１つを一体に有する弾性または粘弾性パッドとよりなることを特徴とする。

【0004】

また、特許文献２に開示されたインソールは、全体として板状である可撓性材料からなり、足裏に対応した平面形状を有するインソール本体の上面に、（１）第２趾～第４趾の中足骨アーチ部に当接するように隆起した中央隆起部、（２）前記中央隆起部から外側縦アーチ方向へ連続的に延設され、外側縦アーチの下部を横断するように隆起した外側縦アーチ隆起部、（３）前記中央隆起部の内側先端から、第１中足骨と第２中足骨との間に沿ってこれらの中足骨骨頭部付近まで連続的に延設された第１－第２中足骨間隆起部、を一体的に形成した中足骨隆起を設けたことを特徴とする。

【0005】

更に、特許文献３に開示された靴の中敷きは、所定高さ厚みを備えると共に所定箇所に一定の段差を形成したベース部に、所定の突起部を形成して構成したものであって、ベース部が踵底面全体と対応する踵面部と、土踏まず部分が大きく抉れた細幅面部と、基節骨と対応する先面部とを備えた外形状で、細幅面部の内側から先面部後縁に至る内縁段差、及び先面部前縁に先端段差を形成し、突起部を、ベース部周縁における踵部の尾端、内外側、及び先部の内外側に設けたことを特徴とする。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】特開平１１－２２６０４２号公報

【文献】特開２０１０－２７５号公報

【文献】実用新案登録第３２２４３４３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１に開示された靴中敷きでは粘弾性部によって、また特許文献２に開示されたインソールでは隆起部によって、更に特許文献３に開示された靴の中敷きでは細幅面部や先面部、内縁段差、周壁などによって、足のアーチを支持する構成となっている。つまり、従来の中敷きにおいては、アーチを直接支持することによって、歩行姿勢の安定、歩行障害の緩和、アーチの回復、アーチ低下の予防などを図っている。

【0008】

しかしながら、特許文献１に係る粘弾性部などでアーチを直接支持する構成では、アーチの動きが拘束されてしまうため、歩行時にアーチ構造の本来の機能、すなわち前述したクッション機能やバネ機能などを十分に発揮することが困難となる。

【0009】

また、アーチが直接支持されることによって歩行障害の緩和やアーチ低下の予防効果はある程度期待できる。しかし、足裏の感覚を頼りに、自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正する効果は得られにくいものと思料する。

【0010】

そこで本願発明者は、上記の問題点に鑑み、足のアーチ構造に係るアーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が図られるとともに、足裏の感覚を頼りにバランス感覚を維持する、或いはバランス感覚を高めて自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正する効果が得られる靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴を提供するべく鋭意検討を重ねた結果、本発明に至ったのである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

即ち、請求項１に記載の発明は、略足形の中敷き本体と、前記中敷き本体上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、前記下側緩衝部上に配設され、足趾、母趾球及び小趾球の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部と、前記中敷き本体上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、を含んで成ることを特徴とする靴の中敷きである。

【0012】

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記下側緩衝部と前記上側緩衝部とを積層した高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする。

【0013】

請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、前記上側緩衝部上に配設され、前記足趾を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする。

【0014】

請求項４に記載の発明は、略足形の中敷き本体と、前記中敷き本体上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、前記中敷き本体上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、を含んで成り、前記中敷き本体が、ＩＰ関節から母趾球の位置に相当する部分に形成される母趾孔と、少なくとも示趾球、中趾球、及び環趾球の位置に相当する部分に形成されるＭＰ関節孔と、小趾球の位置に相当する部分に形成される小趾球孔と、踵骨中央部の位置に相当する部分に形成される踵孔と、を備えることを特徴とする靴の中敷きである。

【0015】

請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記下側緩衝部の上面の高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする。

【0016】

請求項６に記載の発明は、請求項４または請求項５に記載の発明において、前記下側緩衝部上に配設され、足趾を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする。

【0017】

請求項７に記載の発明は、中底上面の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、前記下側緩衝部上に配設され、足趾、母趾球及び小趾球の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部と、前記中底上面の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、を含んで成ることを特徴とする中敷き構造を備えた靴である。

【0018】

請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記下側緩衝部と前記上側緩衝部とを積層した高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする。

【0019】

請求項９に記載の発明は、請求項７または請求項８に記載の発明において、前記上側緩衝部上に配設され、前記足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする。

【0020】

請求項１０に記載の発明は、中底上面の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部と、前記中底上面の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部と、を含んで成り、前記中底が、ＩＰ関節から母趾球の位置に相当する部分に形成される母趾孔と、少なくとも示趾球、中趾球、及び環趾球の位置に相当する部分に形成されるＭＰ関節孔と、小趾球の位置に相当する部分に形成される小趾球孔と、踵骨中央部の位置に相当する部分に形成される踵孔と、を備えることを特徴とする中敷き構造を備えた靴である。

【0021】

請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の発明において、前記下側緩衝部の上面の高さと、前記踵支持部の上面の高さが略同一に設定されていることを特徴とする。

【0022】

請求項１２に記載の発明は、請求項１０または請求項１１に記載の発明において、前記下側緩衝部上に配設され、足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部を備えることを特徴とする。

【発明の効果】

【0023】

本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴によると、足のアーチ構造に係るアーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が図られる。特に、アーチを直接支持する構成ではなく、下側緩衝部や上側緩衝部が平面形状をなすため、足裏の感覚を頼りにバランス感覚を維持する、或いはバランス感覚を高めて自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正する効果が得られる。

【0024】

また、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴において、下側緩衝部と上側緩衝部とに段差を設けることによって、歩行時やつま先立ちの際に母趾球や小趾球より足裏側に出っ張ることとなる示趾球、中趾球、環趾球の部分を自然に支持することができ、長時間の歩行や立位姿勢でも足裏に痛みが生じにくく、歩行障害や関節障害などを抑制することができる。

【0025】

更に、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴において、下側緩衝部と上側緩衝部を積層した高さと、踵支持部の上面の高さが略同一に設定されることによって、アーチ低下の予防効果、バランス感覚の維持、姿勢矯正効果を更に高めることが可能となる。

【0026】

また、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴において、上側緩衝部上に、足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部が配設されることによって、歩行時に足趾によって地面を蹴る感覚や立位姿勢の際に足趾で地面を掴む感覚がより得やすくなり、姿勢の安定性向上、足裏の疲労軽減が図られる。

【0027】

また、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴において、中敷き本体、或いは中底の所定の箇所に貫通孔（母趾孔、ＭＰ関節孔、小趾球孔、踵孔）を設けることによって、歩行時やつま先立ちの際に母趾球や小趾球より足裏側に出っ張ることとなる示趾球、中趾球、環趾球の部分が若干沈み込んで足裏前方部分を自然に支持することができ、長時間の歩行でも足裏に痛みが生じにくく、歩行障害や関節障害などを抑制することができる。また、立位姿勢においても、各趾球の位置及び踵の位置に相当する部分に形成された貫通孔に各趾球部分及び踵部分が若干沈み込むことによって足裏前方部分及び踵部分を平面的に支持することができるため、足裏の痛みの緩和、或いは痛みが生じにくくなる。

【0028】

また、運動時において、特に始動時や停止時には母趾に大きな負担が掛かるが、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴において、下側緩衝部と上側緩衝部を積層する、或いは中敷き本体、または中底に母趾孔を形成することによって、母趾への負担を大幅に軽減することができ、足裏の痛みの緩和、或いは痛みが生じにくくなる。

【0029】

更に、本発明に係る下側緩衝部と上側緩衝部とを積層した態様と比較して、本発明に係る中敷き本体、または中底の所定の箇所に貫通孔を形成した態様は、中敷き及び中敷き構造の厚みを薄くすることができる。

【0030】

また、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴に係る中敷き本体、または中底の所定の箇所に貫通孔を形成した態様において、下側緩衝部の上面の高さと、踵支持部の上面の高さが略同一に設定されることによって、アーチ低下の予防効果、バランス感覚の維持、姿勢矯正効果を更に高めることが可能となる。

【0031】

また、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴に係る中敷き本体、または中底の所定の箇所に貫通孔を形成した態様において、下側緩衝部上に、足趾の位置に相当する部分を支持する足趾支持部が配設されることによって、歩行時に足趾によって地面を蹴る感覚や立位姿勢の際に足趾で地面を掴む感覚がより得やすくなり、姿勢の安定性向上、足裏の疲労軽減が図られる。

【図面の簡単な説明】

【0032】

【図1】本発明の一実施形態に係る靴の中敷きの平面図である。

【図2A】図１に示した靴の中敷きの右側面図である。

【図2B】図１におけるＡ－Ａ断面図である。

【図3A】図１に示した靴の中敷きに係る下側緩衝部の平面図である。

【図3B】図１に示した靴の中敷きに係る上側緩衝部の平面図である。

【図4】図１に示した靴の中敷きに足を置いた状態を示した平面図である。

【図5】本発明の他の実施形態に係る靴の中敷きの平面図である。

【図6A】図５に示した靴の中敷きの右側面図である。

【図6B】図５におけるＢ－Ｂ断面図である。

【図7】図５に示した靴の中敷きに足を置いた状態を示した平面図である。

【図8】本発明の他の実施形態に係る靴の中敷きの平面図である。

【図9】図８に示した靴の中敷きに係る中敷き本体と足の位置関係を示した平面図である。

【図10】図８に示した靴の中敷き本体及び下側緩衝部と、足の位置関係を示した平面図である。

【図11】本発明の他の実施形態に係る靴の中敷きの平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0033】

以下、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴について、まず下側緩衝部と上側緩衝部とを積層した態様（以下、「積層タイプ」という。）に係る靴の中敷きの実施形態を図面に基づいて詳述する。図１は本発明の一実施形態に係る靴の中敷き１（左足用）の平面図、図２Ａは図１に示した本実施形態の靴の中敷き１の右側面図、図２Ｂは図１におけるＡ－Ａ断面図、図３Ａは本実施形態の靴の中敷き１に係る下側緩衝部３の平面図、図３Ｂは靴の中敷き１に係る上側緩衝部４の平面図、図４は本実施形態の靴の中敷き１に足を置いた状態を示す平面図である。

【0034】

図１～図４に示すように、本発明の一実施形態に係る積層タイプの靴の中敷き１は、略足形の中敷き本体２と、中敷き本体２上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部３と、この下側緩衝部３上に配設され、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部４と、中敷き本体２上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部５と、を含んで成ることを特徴とする。

【0035】

本実施形態の靴の中敷き１に係る中敷き本体２上の前方に配設される下側緩衝部３は、図３Ａに示すような平面形状を成し、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分、すなわち足趾１０、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５の部分を平面的に支持する。

【0036】

ここで、図４に示すように、足裏にある母趾球２１は、母趾１１につながる第１中足骨骨頭部分に位置する膨らみ部分であり、小趾球２５は、小趾１５につながる第５中足骨骨頭部分に位置する膨らみ部分である。そこで、これらと同様に、足裏において、示趾１２につながる第２中足骨骨頭部分を示趾球２２、中趾１３につながる第３中足骨骨頭部分を中趾球２３、環趾１４につながる第４中足骨骨頭部分を環趾球２４とする。母趾球２１や小趾球２５と違って、示趾球２２や中趾球２３、環趾球２４の部分に目立った膨らみ部分はないが、本願において、第２中足骨骨頭部分を示趾球２２、第３中足骨骨頭部分を中趾球２３、第４中足骨骨頭部分を環趾球２４、と便宜上定義する。

【0037】

次に、本実施形態に係る下側緩衝部３上に配設される上側緩衝部４は、図３Ｂに示すように平面視が略Ｕ字状をなし、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５の位置に相当する部分を支持する。下側緩衝部３上に略Ｕ字状をなす上側緩衝部４を配設することによって、図２及び図４に示すように、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５が位置することとなる部分は、下側緩衝部３と上側緩衝部４とが積層された状態となる。また、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４が位置することとなる部分は、下側緩衝部３が露出した状態となり、下側緩衝部３と上側緩衝部４とによって段差が形成される。

【0038】

そして、本実施形態に係る中敷き本体２上の後方に配設される踵支持部５は、踵の位置に相当する部分を支持する。なお、踵支持部５は、下側緩衝部３や上側緩衝部４と同様、平面状に形成されてもよいが、踵を安定支持するべく、踵の周囲を包み込むような肉厚部５ａを備えていることが好ましい。

【0039】

以上の構成を備える本実施形態の積層タイプの靴の中敷き１によると、従来のようなアーチを直接支持する構成ではなく、下側緩衝部３及び上側緩衝部４が平面形状をなすため、足裏の感覚を頼りにバランス感覚を維持したり、バランス感覚を高めて自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正したりする効果が得られ、アーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が図られる。

【0040】

また、本実施形態の靴の中敷き１において、下側緩衝部３上に略Ｕ字状をなす上側緩衝部４を配設することによって、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５が位置することとなる部分は、下側緩衝部３と上側緩衝部４とが積層された状態となり、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５が上側緩衝部４の上面によって直接、平面的に支持されるとともに、下側緩衝部３と上側緩衝部４との積層構造によって地面からの衝撃が吸収され、歩行時における足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５への衝撃が緩和されることとなる。

【0041】

更に、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４が位置することとなる部分は、下側緩衝部３が露出した状態となって、下側緩衝部３と上側緩衝部４とに段差が形成されるため、歩行時やつま先立ちの際に母趾球２１や小趾球２５より足裏側に出っ張ることとなる示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４の部分を自然に支持することができ、長時間の歩行や立位姿勢でも足裏に痛みが生じにくく、歩行障害や関節障害などを抑制することができる。

【0042】

また、運動時において、特に始動時や停止時には母趾に大きな負担が掛かるが、本実施形態の靴の中敷き１において、下側緩衝部３と上側緩衝部４とを積層することによって、母趾１１及び母趾球２１への負担を大幅に軽減することができ、足裏の痛みの緩和、或いは痛みが生じにくくなる。

【0043】

なお、本実施形態の靴の中敷き１において、下側緩衝部３、上側緩衝部４及び踵支持部５の高さ（厚み）は特に限定されるものではないが、図２Ｂに示すように、下側緩衝部３と上側緩衝部４を積層した高さ（厚み）と、踵支持部５の上面５ｂの高さ（踵支持部５の厚み）が略同一に設定されていることがより好ましい。このように、下側緩衝部３と上側緩衝部４とを積層した高さと、踵支持部５の上面５ｂの高さが略同一に設定されることによって、アーチ低下の予防効果、バランス感覚の維持、姿勢矯正効果を更に高めることが可能となる。

【0044】

本発明の他の実施形態として、図５～図７に示した靴の中敷き１ａは、基本的な構成は上述した実施形態に係る積層タイプの靴の中敷き１と同様、略足形の中敷き本体２と、中敷き本体２上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部３と、この下側緩衝部３上に配設され、足趾１０、母趾球２１及び小趾球２５の位置に相当する部分を支持する略Ｕ字状の上側緩衝部４と、中敷き本体２上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部５と、を含んで成る。更に本実施形態の靴の中敷き１ａにおいては、足趾１０を支持する足趾支持部６が、上側緩衝部４上に配設されていることを特徴とする。

【0045】

本実施形態の靴の中敷き１ａに係る足趾支持部６は、靴の中敷き１ａの先端部分に配設されており、図５、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、足趾支持部６が最上段に配設され、その下側に上側緩衝部４、更にその下側に下側緩衝部３が配設されることによって、段差が形成されることとなる。従って、図７に示すように、足趾１０が足趾支持部６によって支持され、母趾球２１及び小趾球２５が上側緩衝部４で支持され、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４が下側緩衝部３によって支持されることとなる。

【0046】

以上のように、本実施形態の靴の中敷き１ａによると、本発明の一実施形態に係る靴の中敷き１と同様の効果が得られるとともに、上側緩衝部４上に、足趾１０を支持する足趾支持部６が配設されていることによって、歩行時に足趾１０によって地面を蹴る感覚や立位姿勢の際に足趾１０で地面を掴む感覚がより得やすくなり、姿勢の安定性向上、足裏の疲労軽減が図られる。

【0047】

次に、本発明の靴の中敷きの他の実施形態として、中敷き本体の所定の箇所に貫通孔を備える態様（以下、「有孔タイプ」という。）を図８～図１０に示す。本実施形態に係る有孔タイプの靴の中敷き１ｂは、略足形の中敷き本体２ａと、中敷き本体２ａ上の前方に配設され、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分を支持する下側緩衝部３と、中敷き本体２ａ上の後方に配設され、踵の位置に相当する部分を支持する踵支持部５とを含んで成る。そして、図９に示すように、本実施形態の靴の中敷き１ｂに係る中敷き本体２ａが、ＩＰ関節１６から母趾球２１の位置に相当する部分に形成される母趾孔３１と、少なくとも示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４の位置に相当する部分に形成されるＭＰ関節孔３２と、小趾球２５の位置に相当する部分に形成される小趾球孔３３と、踵骨中央部の位置に相当する部分に形成される踵孔３４とを備えることを特徴とする。

【0048】

本実施形態の靴の中敷き１ｂに係る中敷き本体２ａ上の前方に配設される下側緩衝部３は平面形状を成し（図３Ａ参照）、つま先から中足骨骨頭部分の位置までに相当する部分、すなわち足趾１０、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５の部分を支持する。

【0049】

また、本実施形態に係る中敷き本体２ａ上の後方に配設される踵支持部５は、踵の位置に相当する部分を支持する。なお、踵支持部５は、下側緩衝部３と同様、平面状に形成されてもよいが、踵を安定支持するべく、踵の周囲を包み込むような肉厚部を備えていてもよい。

【0050】

本実施形態に係る中敷き本体２ａ上の前方に下側緩衝部３が配設されることによって、足趾１０、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５の部分が支持されるとともに、ＩＰ関節１６から母趾球２１の位置に母趾孔３１が位置し、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４の位置にＭＰ関節孔３２が位置し、小趾球２５の位置に小趾球孔３３が位置することとなる（図９参照）。

【0051】

また、本実施形態に係る中敷き本体２ａ上の後方に踵支持部５が配設されることによって、踵の位置に相当する部分が支持されるとともに、踵骨中央部の位置に踵孔３４が位置することとなる。

【0052】

以上の構成を備える本実施形態に係る有孔タイプの靴の中敷き１ｂによると、従来のようなアーチを直接支持する構成ではなく、下側緩衝部３及び踵支持部５が平面形状をなすため、足裏の感覚を頼りにバランス感覚を維持したり、バランス感覚を高めて自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正したりする効果が得られ、アーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が図られる。

【0053】

また、本実施形態の靴の中敷き１ｂにおいて、中敷き本体２ａ上に下側緩衝部３を配設することによって、足趾１０、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５は、下側緩衝部３の上面によって直接支持されるとともに、下側緩衝部３によって地面からの衝撃が吸収され、歩行時における足趾１０や母趾球２１、小趾球２５等への衝撃が緩和されることとなる。

【0054】

また、本実施形態の靴の中敷き１ｂにおいて、中敷き本体２ａの所定の箇所に母趾孔３１、ＭＰ関節孔３２、小趾球孔３３及び踵孔３４を設けることによって、歩行時やつま先立ちの際に母趾球２１や小趾球２５より足裏側に出っ張ることとなる示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４の部分をＭＰ関節孔３２内に沈み込ませることができる。従って、足趾１０、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５をバランス良く支持することができるため、長時間の歩行でも足裏に痛みが生じにくく、歩行障害や関節障害などを抑制することができる。

【0055】

更に、立位姿勢においては、母趾球２１が母趾孔３１に、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４がＭＰ関節孔３２に、小趾球２５が小趾球孔３３に、踵部分が踵孔３４にそれぞれ若干沈み込むことによって、足裏前方部分及び踵部分を安定的に支持することができるため、足裏の痛みの緩和、或いは痛みが生じにくくなる。

【0056】

また、運動時において、特に始動時や停止時には母趾１１及び母趾球２１に大きな負担が掛かるが、本実施形態の靴の中敷き１ｂにおいて、中敷き本体２ａに母趾孔３１を形成することによって、母趾１１及び母趾球２１への負担を大幅に軽減することができ、足裏の痛みの緩和、或いは痛みが生じにくくなる。

【0057】

また更に、積層タイプの実施形態に係る靴の中敷き１と比較して、本実施形態に係る有孔タイプの靴の中敷き１ｂは、厚みを薄くすることができる。

【0058】

なお、本実施形態に係る有孔タイプの靴の中敷き１ｂにおいても、下側緩衝部３及び踵支持部５の高さ（厚み）は特に限定されるものではないが、下側緩衝部３の上面の高さ（下側緩衝部３の厚み）と、踵支持部５の上面の高さ（踵支持部５の厚み）は略同一に設定されていることがより好ましい。このように、下側緩衝部３の上面の高さと、踵支持部５の上面の高さが略同一に設定されることによって、アーチ低下の予防効果、バランス感覚の維持、姿勢矯正効果を更に高めることが可能となる。

【0059】

本発明の有孔タイプの他の実施形態として、図１１に示した靴の中敷き１ｃは、基本的な構成は上述した実施形態に係る靴の中敷き１ｂと同様、略足形の中敷き本体２ａの所定の位置に母趾孔３１、ＭＰ関節孔３２、小趾球孔３３及び踵孔３４が形成され、中敷き本体２ａ上の前方に下側緩衝部３が配設され、中敷き本体２ａ上の後方に踵支持部５が配設されている。そして、本実施形態の靴の中敷き１ｃにおいては、下側緩衝部３上に、足趾１０を支持する足趾支持部６が配設されていることを特徴とする。

【0060】

本実施形態の靴の中敷き１ｃに係る足趾支持部６は、靴の中敷き１ｃの先端部分に配設されており、足趾支持部６が下側緩衝部３上に配設されることによって、段差が形成されることとなる。従って、足趾１０が足趾支持部６によって平面的に支持され、母趾球２１、示趾球２２、中趾球２３、環趾球２４及び小趾球２５が下側緩衝部３で支持されることとなる。

【0061】

以上のように、本実施形態の靴の中敷き１ｃによると、本発明の一実施形態に係る靴の中敷き１ｂと同様の効果が得られるとともに、下側緩衝部３上に、足趾１０を支持する足趾支持部６が配設されていることによって、歩行時に足趾１０によって地面を蹴る感覚や立位姿勢の際に足趾１０で地面を掴む感覚がより得やすくなり、姿勢の安定性向上、足裏の疲労軽減が図られる。

【0062】

以上、本発明の靴の中敷きの種々の実施形態について詳述したが、上記の積層タイプの実施形態に係る靴の中敷き１、１ａにおける下側緩衝部３、上側緩衝部４、踵支持部５及び足趾支持部６、また、上記の有孔タイプの実施形態に係る靴の中敷き１ｂ、１ｃにおける下側緩衝部３、踵支持部５及び足趾支持部６は、何れも着脱自在に構成されてもよい。下側緩衝部３、上側緩衝部４、踵支持部５及び足趾支持部６を着脱自在に構成することによって、足の形状や状態、また使用者の好みに合わせて各部を厚みの異なるものに交換することができ、容易に調整することができる。

【0063】

なお、既存の平面的な靴の中敷きに、本実施形態に係る着脱自在の下側緩衝部３、上側緩衝部４、踵支持部５及び足趾支持部６を適宜配設することによって、本発明の靴の中敷き、特に積層タイプの靴の中敷きと同様の効果を得ることができる。

【0064】

その他、本発明の積層タイプの実施形態に係る靴の中敷き１において、中敷き本体２、下側緩衝部３、上側緩衝部４及び踵支持部５が一体成型された態様であってもよく、靴の中敷き１ａにおいては、中敷き本体２、下側緩衝部３、上側緩衝部４、踵支持部５及び足趾支持部６が一体に成型された態様であってもよい。同様に、本発明の有孔タイプの実施形態に係る靴の中敷き１ｂでは中敷き本体２ｂ、下側緩衝部３及び踵支持部５が一体成型された態様であってもよく、靴の中敷き１ｃでは、中敷き本体２ｂ、下側緩衝部３、踵支持部５及び足趾支持部６が一体成型された態様であってもよい。

【0065】

次に、本発明の中敷き構造を備えた靴の実施形態であるが、積層タイプの中敷き構造を備えた靴は、靴の中底上面に、本発明の靴の中敷きに係る下側緩衝部、上側緩衝部及び踵支持部がそれぞれ配設されたものであり、有孔タイプの中敷き構造を備えた靴は、靴の中底に、母趾孔、ＭＰ関節孔、小趾球孔及び踵孔を形成するとともに、当該各孔が形成された靴の中底上に下側緩衝部及び踵支持部がそれぞれ配設されたものであって、本発明の靴の中敷きと略同様の構成を備える。なお、中底上面に配設される下側緩衝部、上側緩衝部及び踵支持部は着脱自在に構成されてもよい。

【0066】

また、積層タイプの中敷き構造を備えた靴の実施形態においては、中底と下側緩衝部、上側緩衝部及び踵支持部が一体に成型されてもよい。つまり、中底上面において、その前方に下側緩衝部と上側緩衝部が一体成型され、後方に踵支持部が一体成型された態様であってもよい。同様に、有孔タイプの中敷き構造を備えた靴の実施形態においても、母趾孔、ＭＰ関節孔、小趾球孔及び踵孔が形成された靴の中底上に、下側緩衝部及び踵支持部が一体成型された態様であってもよい。

【0067】

以上の構成を備える本発明の実施形態に係る積層タイプの中敷き構造を備えた靴によっても、従来のようなアーチを直接支持する構成ではなく、下側緩衝部や上側緩衝部が平面形状をなすため、足裏の感覚を頼りにバランス感覚を維持したり、バランス感覚を高めて自ら立位姿勢や歩行姿勢を矯正したりする効果が得られ、アーチ低下の予防、アーチの回復及び矯正が図られる。

【0068】

また、本発明の積層タイプの中敷き構造を備えた靴の実施形態においては、中底上面に配設される下側緩衝部と上側緩衝部を積層した高さ（厚み）と、踵支持部の上面の高さ（踵支持部の厚み）を略同一に設定することが好ましい。一方、本発明の有孔タイプの中敷き構造を備えた靴の実施形態においては、所定の位置に母趾孔等が形成された中底上面に配設される下側緩衝部の高さ（下側緩衝部の厚み）と、踵支持部の上面の高さ（踵支持部の厚み）を略同一に設定することが好ましい。これらの構成によって、アーチ低下の予防効果、バランス感覚の維持、姿勢矯正効果を更に高めることが可能となる。

【0069】

更に、本発明の中敷き構造を備えた靴の実施形態において、積層タイプ及び有孔タイプの何れの態様にも足趾を支持する足趾支持部が配設されてもよく、この足趾支持部は積層タイプであれば上側緩衝部、有孔タイプであれば下側緩衝部と一体成型された態様であってもよい。本発明の中敷き構造を備えた靴の実施形態において、足趾支持部が配設されることによって、歩行時に足趾によって地面を蹴る感覚や立位姿勢の際に足趾で地面を掴む感覚がより得やすくなり、姿勢の安定性向上、足裏の疲労軽減が図られる靴を提供することができる。

【0070】

以上、本発明の靴の中敷き、及び中敷き構造を備えた靴の実施形態について詳述したが、上記の実施形態は本発明の技術的思想を実質的に限定するものと解してはならない。例えば、各実施形態において図示した下側緩衝部３、上側緩衝部４、踵支持部５及び足趾支持部６の外形状は一例であり、特に下側緩衝部３、上側緩衝部４及び足趾支持部６に係るつま先部分の外形状ついては、使用者の足の形状（ギリシャ型、エジプト型、スクエア型など）に合わせて、適宜調整されることが好ましい。

【0071】

また、本発明の有孔タイプの靴の中敷きに係る中敷き本体、或いは有孔タイプの中敷き構造を備えた靴に係る中底に形成されるＭＰ関節孔の大きさ（長さ）は特に限定されず、少なくとも示趾球、中趾球及び環趾球の位置に相当する部分にＭＰ関節孔が形成されていればよいが、使用者の足の形状に容易に対応すべく、図９に示したＭＰ関節孔３２のように、示趾球２２、中趾球２３及び環趾球２４の位置に相当する部分から、第２中足骨２６、第３中足骨２７及び第４中足骨２８の各中足骨中間位置に相当する部分に形成されてもよい。本発明はその要旨を逸脱しない範囲で、当業者の創意と工夫により、適宜に改良、変更又は追加をしながら実施できる。

【符号の説明】

【0072】

１、１ａ、１ｂ、１ｃ：靴の中敷き
２、２ａ：中敷き本体
３：下側緩衝部
４：上側緩衝部
５：踵支持部
５ａ：肉厚部
５ｂ：踵支持部の上面
６：足趾支持部
１０：足趾
１１：母趾
１２：示趾
１３：中趾
１４：環趾
１５：小趾
１６：ＩＰ関節
２１：母趾球
２２：示趾球
２３：中趾球
２４：環趾球
２５：小趾球
２６：第２中足骨
２７：第３中足骨
２８：第４中足骨
３１：母趾孔
３２：ＭＰ関節孔
３３：小趾球孔
３４：踵孔

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】

【図4】

【図5】

【図6A】

【図6B】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】