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光学素子および光学素子を備えた光偏向装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献１、２は、入射位置によって光の回折角度を異なる方向に出射させる技術ではなく、そのような記載もない。 特許文献３のような１つの次元で非線形に変化する局所的な光学軸方向を備えた光学異方性を有する層に対して、光を入射させると、入射位置によって回折度合いが異なることが本発明者らの検討により明らかになった。このような素子において、領域によって異なる入射角で光を入射させ、出射させる場合、面内の回折効率が領域によって異なり、回折効率が低下する領域が生じることがあった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の技術には、以下の態様が含まれる。 ＜１＞ 液晶化合物に由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化した面内配向パターンを有する光学異方性層を厚さ方向に複数備え、 光学異方性層は、一方向において光学軸の向きが１８０°回転するまでの長さが互いに異なる領域を有し、 複数の光学異方性層の少なくとも１層は、一方向に沿って厚さ方向に・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、光学素子および光偏向装置において、面内における回折効率の平均化を図り、平均的な回折効率を向上させることができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第１の実施形態の光学素子の表面の一部における光学軸の配向パターンを模式的に示す平面図である。
【図2】 図１に示す光学素子についての走査型顕微鏡で得られる断面像の模式図である。
【図3】 図１に示す光学素子の厚み方向（ｚ方向）および水平方向（ｘ方向）の液晶配向パターンを模式的に示す図である。
【図4】 水平回転配向パターンを有する光学異方性層の作用を示す概念図である。
【図5】 第２の実施形態の光学素子についての走査型顕微鏡で得られる断面像の模式図である。
【図6】 第３の実施形態の光学素子についての走査型顕微鏡で得られる断面像の模式図である。
【図7】 第４の実施形態の光学素子の断面を模式的に示す図である。
【図8】 設計変更例の光学素子の表面における光学軸の配向パターンを模式的に示す平面図である。
【図9】 配向膜を露光して配向パターンを形成する露光装置の一例を概念的に示す図である。
【図10】 光偏向装置の一例の概略構成を示す図である。
【図11】 比較例１の光学素子の層構成を示す図である。
【図12】 実施例１の光学素子の層構成を示す図である。
【図13】 実施例２の光学素子の層構成を示す図である。
【図14】 実施例３の光学素子の層構成を示す図である。
【図15】 実施例４の光学素子の層構成を示す図である。
【図16】 実施例５の光学素子の層構成を示す図である。
【図17】 透過光強度の測定方法を示す概念図である。
【図18】 比較例１１の光学素子の層構成を示す図である。
【図19】 実施例１１の光学素子の層構成を示す図である。
【図20】 反射光強度の測定方法を示す概念図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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