(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-12-13
(45)【発行日】2023-12-21
(54)【発明の名称】蒸着マスク
(51)【国際特許分類】
C23C 14/24 20060101AFI20231214BHJP
C23C 14/04 20060101ALI20231214BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20231214BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20231214BHJP
【ＦＩ】
C23C14/24 G
C23C14/04 A
H05B33/14 A
H05B33/10
【請求項の数】
11
(21)【出願番号】P 2019218965
(22)【出願日】2019-12-03
(65)【公開番号】P2021088737
(43)【公開日】2021-06-10
【審査請求日】2022-10-27
(73)【特許権者】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100091982
【弁理士】
【氏名又は名称】永井 浩之
(74)【代理人】
【識別番号】100091487
【弁理士】
【氏名又は名称】中村 行孝
(74)【代理人】
【識別番号】100105153
【弁理士】
【氏名又は名称】朝倉 悟
(74)【代理人】
【識別番号】100127465
【弁理士】
【氏名又は名称】堀田 幸裕
(74)【代理人】
【識別番号】100150717
【弁理士】
【氏名又は名称】山下 和也
(72)【発明者】
【氏名】小林 幸司
【審査官】▲高▼橋 真由
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１９－１６０３９９（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８
Ｈ１０Ｋ ５０／１０
Ｈ０５Ｂ ３３／１０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
蒸着マスクであって、
第１開口列を有する支持体と、
前記支持体に積層され、２つ以上の貫通孔を有するマスク本体と、を備え、
前記支持体は、蒸着時に上方に位置する第１外縁と、前記第１外縁とは反対側であって、蒸着時に下方に位置する第２外縁と、を有し、
前記第１開口列は、前記第１外縁と前記第２外縁との間に位置し、
前記蒸着マスクを水平配置した場合、前記支持体は平面視で矩形状に形成されて、前記第１外縁および前記第２外縁は第１方向に沿って延び、
平面視で、前記第１方向に沿う前記支持体の長さよりも、前記第１方向に直交する第２方向に沿う前記支持体の長さが短く、
前記第１開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の支持体開口で構成され、
前記第２方向における前記支持体の中間位置を通る前記第１方向に沿って延びる中間線に対して前記第１外縁の側の領域を第１領域とし、前記中間線に対して前記第２外縁の側の領域を第２領域とし、
平面視で、前記第２方向に沿って延びる基準線を前記第１開口列に重ねたときに、前記第１領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第１領域開口長さは、前記第２領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第２領域開口長さよりも長い、蒸着マスク。
【請求項2】
前記第２方向において隣り合う前記支持体開口の間に、前記第１方向に延びる桟部が介在され、前記第２領域に前記桟部が位置している、請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項3】
前記第２方向において２つ以上の前記桟部が配列され、前記第１領域および前記第２領域の各々に前記桟部が位置しているとき、前記第１領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さは、前記第２領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さよりも短い、請求項２に記載の蒸着マスク。
【請求項4】
前記第１開口列を構成する２つ以上の前記支持体開口のうち前記第１外縁に最も近くに位置する前記支持体開口が、前記中間線を跨いで前記第２領域に延びている、請求項２に記載の蒸着マスク。
【請求項5】
前記支持体は、前記第１方向において前記第１開口列に離間した第２開口列を有し、前記第２開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の前記支持体開口で構成され、
平面視で、前記基準線を前記第２開口列に重ねたときに、前記第１領域開口長さは、前記第２領域開口長さよりも長い、請求項１～４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項6】
前記第１開口列の前記支持体開口と、前記第２開口列の前記支持体開口は、前記第１方向において整列されている、請求項５に記載の蒸着マスク。
【請求項7】
前記マスク本体の厚みは、２μｍ以上５０μｍ以下である、請求項１～６のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項8】
前記支持体の厚みは、０．０５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、請求項１～７のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項9】
前記支持体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、請求項１～８のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項10】
前記マスク本体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、請求項１～９のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項11】
前記マスク本体は、前記支持体の側に設けられた金属層と、前記支持体とは反対側に設けられた樹脂層と、を有している、請求項１～９のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、蒸着マスクに関する。
【背景技術】
【0002】
スマートフォンやタブレット等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置は、高精細であることが好ましく、例えば画素密度が４００ｐｐｉ以上であることが好ましい。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラハイディフィニション（ＵＨＤ）に対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度は、例えば８００ｐｐｉ以上であることが好ましい。
【0003】
表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用いて、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、まず、有機ＥＬ表示装置用の被蒸着基板に蒸着マスクを組み合わせる。続いて、有機材料を含む蒸着材料を、蒸着マスクの貫通孔を介して被蒸着基板に蒸着させる。このことにより、蒸着マスクの貫通孔と同様のパターンで、蒸着材料を含む蒸着層を画素として被蒸着基板上に形成することができる。
【0004】
このような蒸着マスクとして、開口を有する支持体に、複数の貫通孔を有するマスク本体が積層された構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。この蒸着マスクにおいては、平面視で、マスク本体の貫通孔が支持体の開口と重なるように位置しており、蒸着材料は、開口および貫通孔を介して、被蒸着基板に蒸着される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】米国特許出願公開第２０１９／００７４３４３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本開示は、精細度を高めることができる蒸着マスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示による蒸着マスクは、第１開口列を有する支持体と、支持体に積層され、２つ以上の貫通孔を有するマスク本体と、を備えている。平面視で、第１方向に沿う支持体の長さよりも、第１方向に直交する第２方向に沿う支持体の長さが短くなっている。第１開口列は、第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の貫通孔と重なる２つ以上の支持体開口で構成されている。第２方向における支持体の中間位置を通る第１方向に沿って延びる中間線に対して一側の領域を第１領域とし、中間線に対して他側の領域を第２領域とする。平面視で、第２方向に沿って延びる基準線を第１開口列に重ねたときに、第１領域において基準線のうち支持体開口と重なる部分の長さである第１領域開口長さは、第２領域において基準線のうち支持体開口と重なる部分の長さである第２領域開口長さよりも長くなっている。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、精細度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本開示の実施形態による蒸着マスクを備えた蒸着装置を示す図である。
【図2】本開示の実施形態による蒸着マスクを示す平面図である。
【図6A】本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、支持基板に形成されたマスク本体を準備する準備工程を示す図である。
【図6B】本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、マスク本体に支持体を積層させる積層工程を示す図である。
【図6C】本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、マスク本体を支持体に接合する接合工程を示す図である。
【図6D】本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、支持基板から蒸着マスクを分離させる分離工程を示す図である。
【図7】本開示の実施形態において、蒸着マスクを用いて作製された蒸着基板を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
【0011】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【0012】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
【0013】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
【0014】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。
【0015】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
【0016】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。
【0017】
本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクに対し、本実施形態を適用することができる。
【0018】
以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
【0019】
本開示の第１の態様は、
第１開口列を有する支持体と、
前記支持体に積層され、２つ以上の貫通孔を有するマスク本体と、を備え、
平面視で、第１方向に沿う前記支持体の長さよりも、前記第１方向に直交する第２方向に沿う前記支持体の長さが短く、
前記第１開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の支持体開口で構成され、
前記第２方向における前記支持体の中間位置を通る前記第１方向に沿って延びる中間線に対して一側の領域を第１領域とし、前記中間線に対して他側の領域を第２領域とし、
平面視で、前記第２方向に沿って延びる基準線を前記第１開口列に重ねたときに、前記第１領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第１領域開口長さは、前記第２領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第２領域開口長さよりも長い、蒸着マスク、
である。
第１開口列を有する支持体と、
前記支持体に積層され、２つ以上の貫通孔を有するマスク本体と、を備え、
平面視で、第１方向に沿う前記支持体の長さよりも、前記第１方向に直交する第２方向に沿う前記支持体の長さが短く、
前記第１開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の支持体開口で構成され、
前記第２方向における前記支持体の中間位置を通る前記第１方向に沿って延びる中間線に対して一側の領域を第１領域とし、前記中間線に対して他側の領域を第２領域とし、
平面視で、前記第２方向に沿って延びる基準線を前記第１開口列に重ねたときに、前記第１領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第１領域開口長さは、前記第２領域において前記基準線のうち前記支持体開口と重なる部分の長さである第２領域開口長さよりも長い、蒸着マスク、
である。
【0020】
本開示の第２の態様として、上述した第１の態様による蒸着マスクにおいて、
前記第２方向において隣り合う前記支持体開口の間に、前記第１方向に延びる桟部が介在され、
前記第２領域に前記桟部が位置している、
ようにしてもよい。
前記第２方向において隣り合う前記支持体開口の間に、前記第１方向に延びる桟部が介在され、
前記第２領域に前記桟部が位置している、
ようにしてもよい。
【0021】
本開示の第３の態様として、上述した第２の態様による蒸着マスクにおいて、
前記第２方向において２つ以上の前記桟部が配列され、
前記第１領域および前記第２領域の各々に前記桟部が位置しているとき、前記第１領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さは、前記第２領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さよりも短い、
ようにしてもよい。
前記第２方向において２つ以上の前記桟部が配列され、
前記第１領域および前記第２領域の各々に前記桟部が位置しているとき、前記第１領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さは、前記第２領域に位置する前記桟部の前記第２方向の長さよりも短い、
ようにしてもよい。
【0022】
本開示の第４の態様として、上述した第２の態様による蒸着マスクにおいて、
前記支持体は、前記第１方向に沿って延びる前記第１領域の側に位置する第１外縁と、前記第１方向に沿って延びる前記第２領域の側に位置する第２外縁と、を有し、
前記第１開口列を構成する２つ以上の前記支持体開口のうち前記第１外縁に最も近くに位置する前記支持体開口が、前記中間線を跨いで前記第２領域に延びている、
ようにしてもよい。
前記支持体は、前記第１方向に沿って延びる前記第１領域の側に位置する第１外縁と、前記第１方向に沿って延びる前記第２領域の側に位置する第２外縁と、を有し、
前記第１開口列を構成する２つ以上の前記支持体開口のうち前記第１外縁に最も近くに位置する前記支持体開口が、前記中間線を跨いで前記第２領域に延びている、
ようにしてもよい。
【0023】
本開示の第５の態様として、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記支持体は、前記第１方向において前記第１開口列に離間した第２開口列を有し、
前記第２開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の前記支持体開口で構成され、
平面視で、前記基準線を前記第２開口列に重ねたときに、前記第１領域開口長さは、前記第２領域開口長さよりも長い、
ようにしてもよい。
前記支持体は、前記第１方向において前記第１開口列に離間した第２開口列を有し、
前記第２開口列は、前記第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の前記貫通孔と重なる２つ以上の前記支持体開口で構成され、
平面視で、前記基準線を前記第２開口列に重ねたときに、前記第１領域開口長さは、前記第２領域開口長さよりも長い、
ようにしてもよい。
【0024】
本開示の第６の態様として、上述した第５の態様による蒸着マスクにおいて、
前記第１開口列の前記支持体開口と、前記第２開口列の前記支持体開口は、前記第１方向において整列されている、
ようにしてもよい。
前記第１開口列の前記支持体開口と、前記第２開口列の前記支持体開口は、前記第１方向において整列されている、
ようにしてもよい。
【0025】
本開示の第７の態様として、上述した第１の態様から上述した第６の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記マスク本体の厚みは、２μｍ以上５０μｍ以下である、
ようにしてもよい。
前記マスク本体の厚みは、２μｍ以上５０μｍ以下である、
ようにしてもよい。
【0026】
本開示の第８の態様として、上述した第１の態様から上述した第７の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記支持体の厚みは、０．０５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ようにしてもよい。
前記支持体の厚みは、０．０５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ようにしてもよい。
【0027】
本開示の第９の態様として、上述した第１態様から上述した第８の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記支持体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、
ようにしてもよい。
前記支持体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、
ようにしてもよい。
【0028】
本開示の第１０の態様として、上述した第１態様から上述した第９の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記マスク本体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、
ようにしてもよい。
前記マスク本体は、ニッケルを含む鉄合金、ニッケル及びコバルトを含む鉄合金、又はニッケルで構成されている、
ようにしてもよい。
【0029】
本開示の第１１の態様として、上述した第１態様から上述した第９の態様のそれぞれによる蒸着マスクにおいて、
前記マスク本体は、前記支持体の側に設けられた金属層と、前記支持体とは反対側に設けられた樹脂層と、を有している、
ようにしてもよい。
前記マスク本体は、前記支持体の側に設けられた金属層と、前記支持体とは反対側に設けられた樹脂層と、を有している、
ようにしてもよい。
【0030】
【0031】
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置８０について、図１を参照して説明する。ここでは、後述する被蒸着基板９１および蒸着マスク２０を鉛直方向に沿うように配置する縦型蒸着装置を例にとって説明する。
【0032】
図１に示すように、蒸着装置８０は、筐体８１と、筐体８１内に設けられた蒸着源８２と、を備えていてもよい。蒸着源８２は、図示しないヒータを内蔵していてもよい。また、蒸着装置８０は、筐体８１の内部空間を真空雰囲気にするための排気手段（図示せず）を更に備えていてもよい。蒸着源８２は、有機発光材料などの蒸着材料８３を収容しており、ヒータで加熱されるように構成されている。筐体８１の内部空間を真空雰囲気にして蒸着材料８３をヒータで加熱することにより、蒸着材料８３が蒸発する。
【0033】
筐体８１内に、蒸着源８２に対向するように被蒸着基板９１が配置される。被蒸着基板９１は、蒸着材料８３を付着させる蒸着対象物である。被蒸着基板９１は、蒸着材料８３を付着させる被蒸着面９１ａが、鉛直方向（図１における上下方向）に沿うように配置されており、被蒸着面９１ａは、直立して蒸着源８２に対向する。被蒸着基板９１の被蒸着面９１ａに、蒸着マスク２０が直立して配置される。蒸着源８２から飛来した蒸着材料８３は、蒸着マスク２０の後述する貫通孔４６を通って、被蒸着基板９１の被蒸着面９１ａに付着する。
【0034】
図１に示すように、蒸着装置８０は、被蒸着基板９１の、被蒸着面９１ａとは反対側の面９１ｂに配置された磁石８５を更に備えていてもよい。この磁石８５の磁力によって蒸着マスク２０を磁石８５の側に引き寄せて、蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に密着させることができる。これにより、蒸着工程においてシャドー（後述）が発生することを抑制することができ、被蒸着基板９１に付着した蒸着材料８３によって形成される蒸着層９２（図７参照）の形状精度や位置精度を高めることができる。被蒸着基板９１と磁石８５との間には、蒸着時に被蒸着基板９１を冷却する冷却板（図示せず）が介在されていてもよい。
【0035】
【0036】
図２および図３に示すように、本実施形態による蒸着マスク２０は、支持体３０と、支持体３０に積層されたマスク本体４０と、を備えていてもよい。本実施形態では、支持体３０の後述する第１支持体面３０ａに、２つ以上のマスク本体４０（図２においては、１８個のマスク本体４０）が接合されている。本実施形態では、マスク本体４０の各々は、１つの貫通孔群４５（または１つの有効領域４７）を有している。貫通孔群４５は、第１方向Ｄ１１および第２方向Ｄ１２に２次元的に並列配置された２つ以上の貫通孔４６を含んでいる。
【0037】
図２および図３に示すように、マスク本体４０は、例えば溶接によって支持体３０に固定されていてもよい。例えば、スポット溶接によって、マスク本体４０を支持体３０に固定するようにしてもよい。この場合、図２に示すように、マスク本体４０の外周縁に沿う方向に並ぶ複数の点状の溶接痕２１が、スポット溶接によって形成されるようにしてもよい。
【0038】
後述するように、マスク本体４０がめっき処理で製造されている場合には、マスク本体４０は積極的に引っ張ることなく支持体３０に支持されていてもよい。この場合、マスク本体４０は支持基板５０上にめっき処理による金属材料の析出によって形成されるため、支持基板５０から分離されるとマスク本体４０には張力が残留する。このことにより、マスク本体４０は、張力が付与された状態で支持体３０に支持されて、撓むことを抑制できる。一方、マスク本体４０がエッチング処理で製造されている場合には、マスク本体４０は、第１方向Ｄ１１および第２方向Ｄ１２に引っ張った状態で支持体３０に支持されていてもよい。この場合、図示しない張力付与装置のアームの先端部に粘着層を介してマスク本体４０を粘着させることによりマスク本体４０に張力を付与することができる。このことにより、マスク本体４０は支持体３０に張設され、マスク本体４０が撓むことを抑制できる。なお、マスク本体４０が撓むことを抑制できる場合には、マスク本体４０は張設することなく、支持体３０に支持されていてもよい。
【0039】
次に、支持体３０について説明する。
【0040】
図３に示すように、支持体３０は、マスク本体４０の側に位置する第１支持体面３０ａと、第１支持体面３０ａとは反対側に位置する第２支持体面３０ｂと、を有していてもよい。第１支持体面３０ａに、マスク本体４０が接合されて固定されている。第２支持体面３０ｂには、フレームなどの部材が設けられていなくてもよい。この場合、第２支持体面３０ｂは、図１に示す蒸着源８２に対向して、蒸着源８２に向かって露出されている。なお、図３は、図２のＡ－Ａ線断面を模式的に示した図であり、図面を明瞭にするために、支持体開口３１およびマスク本体４０の個数を少なくしている。
【0041】
支持体３０は、平面視で矩形状に形成されていてもよい。より具体的には、支持体３０は、第１方向Ｄ１１および第２方向Ｄ１２に沿うように、平面視で矩形状に形成されている。支持体３０は、第１方向に沿って延びる一対の外縁（第１外縁３０ｃおよび第２外縁３０ｄ）を有していてもよい。第１外縁３０ｃは、第１方向Ｄ１１に沿って延びる後述する第１領域Ｒ１の側（図４における上側）に位置している。第２外縁３０ｄは、第１方向Ｄ１１に沿って延びる後述する第２領域Ｒ２の側（図４における下側）に位置している。第１外縁３０ｃおよび第２外縁３０ｄは、互いに平行であってもよい。支持体３０は、第１外縁３０ｃおよび第２外縁３０ｄに直交する一対の外縁（第３外縁３０ｅおよび第４外縁３０ｆ）を更に有していてもよい。第３外縁３０ｅは、第２方向Ｄ１２に沿って延び、図４における左側に位置している。第４外縁３０ｆは、第２方向Ｄ１２に沿って延び、図４における右側に位置している。第１外縁３０ｃ～第４外縁３０ｆによって、矩形状の支持体３０が画定されている。図４に示すように、平面視で、第１方向Ｄ１１に沿う支持体３０の長さＴＬ１よりも第１方向Ｄ１１に直交する第２方向Ｄ１２に沿う支持体３０の長さＴＬ２が短くなっている。長さＴＬ１は、第１外縁３０ｃの長さまたは第２外縁３０ｄの長さに相当し、長さＴＬ２は、第３外縁３０ｅの長さまたは第４外縁３０ｆの長さに相当している。
【0042】
【0043】
本実施形態においては、支持体開口３１は、平面視で矩形状に形成されており、支持体開口３１の各々は、同一の形状および同一の大きさを有していてもよい。より具体的には、支持体開口３１は、第１方向Ｄ１１および第２方向Ｄ１２に沿うように、平面視で矩形状に形成されている。支持体開口３１の各々の第１方向Ｄ１１の長さは、等しくなっている。支持体開口３１の各々の第２方向Ｄ１２の長さも、等しくなっている。ここで、「平面視」とは、蒸着マスク２０や支持体３０、マスク本体４０の厚み方向で見ることを意味する用語であって、例えば、図２の紙面に垂直な方向で見ることを意味する用語とする。
【0044】
支持体３０は、平面視で矩形枠状に形成された枠体部３２と、枠体部３２の内側に設けられた複数の桟部３３、３４と、を有していてもよい。桟部３３、３４は、互いに隣り合う上述の支持体開口３１の間に介在されており、枠体部３２と複数の桟部３３、３４とによって、複数の支持体開口３１が区画されている。
【0045】
支持体３０は、第１開口列３５ａと第２開口列３５ｂとを有していてもよい。第１開口列３５ａおよび第２開口列３５ｂは、第２方向Ｄ１２に整列された２つ以上の支持体開口３１でそれぞれ構成されていてもよい。より具体的には、第１開口列３５ａを構成する支持体開口３１の各々は、第２方向Ｄ１２に延びる一対の側縁が、それぞれ同一直線上に位置しており、第１方向Ｄ１１において同じ位置に位置している。第２開口列３５ｂを構成する２つ以上の支持体開口３１も同様に、第２方向Ｄ１２に延びる一対の側縁が、それぞれ同一直線上に位置しており、第１方向Ｄ１１において同じ位置に位置している。
【0046】
第１開口列３５ａおよび第２開口列３５ｂは、第１方向Ｄ１１において互いに離間している。第１開口列３５ａの支持体開口３１と、第２開口列３５ｂの支持体開口は、第１方向Ｄ１１において整列されていてもよい。より具体的には、第１開口列３５ａの支持体開口３１の第１方向Ｄ１１に延びる一対の側縁と、第２開口列３５ｂの支持体開口３１の第１方向Ｄ１１に延びる一対の側縁とがそれぞれ、同一直線上に位置しており、第２方向Ｄ１２において同じ位置に位置している。
【0047】
図４に示すように、本実施形態においては、支持体３０は、第１開口列３５ａおよび第２開口列３５ｂと同様な第３開口列３５ｃ、第４開口列３５ｄ、第５開口列３５ｅおよび第６開口列３５ｆを有していてもよい。この場合、各開口列３５ａ～３５ｆを構成する各支持体開口３１が、第１方向Ｄ１１において整列されていてもよい。より具体的には、第１方向Ｄ１１において整列された６つの支持体開口３１で構成される列が３つ形成される。このようにして、複数の支持体開口３１は、並列配列されていてもよい。なお、図４においては、最も左側に第１開口列３５ａが配置され、右側に向かって第２開口列３５ｂ～第６開口列３５ｆがこの順番に配置されている例を示しているが、開口列の配置および個数は任意である。
【0048】
図２に示すように、１つの支持体開口３１に、１つのマスク本体４０が割り当てられて重ねられていてもよい。そして、１つの支持体開口３１に、対応するマスク本体４０の１つの貫通孔群４５が平面視で重なっており、当該貫通孔群４５が支持体開口３１に露出している。この場合、平面視で、各貫通孔群４５の周囲に、支持体３０の枠体部３２または桟部３３、３４が位置し、各貫通孔群４５の周囲が、支持体３０で支持される。
【0049】
図４に示すように、複数の桟部３３、３４は、複数の第１桟部３３と、複数の第２桟部３４とによって構成されていてもよい。
【0050】
第１桟部３３は、第１方向Ｄ１１に延びており、第２方向Ｄ１２において隣り合う支持体開口３１の間に介在されている。このようにして、第１桟部３３が、第２方向Ｄ１２において支持体開口３１を区画している。第２方向Ｄ１２において、３つ以上の支持体開口３１が配列されて、２つ以上の第１桟部３３が配列されていてもよい。本実施形態では、第２方向Ｄ１２において３つの支持体開口３１が整列されており、２つの第１桟部３３が配列されている。
【0051】
第２桟部３４は、第２方向Ｄ１２に延びており、第１方向Ｄ１１において隣り合う支持体開口３１の間に介在されている。このようにして、第２桟部３４が、第１方向Ｄ１１において支持体開口３１を区画している。第１方向Ｄ１１において、３つ以上の支持体開口３１が配列されて、２つ以上の第１桟部３３が配列されていてもよい。本実施形態では、第１方向Ｄ１１において６つの支持体開口３１が整列されており、５つの第２桟部３４が配列されている。
【0052】
図４に示すように、支持体３０の平面領域を、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２とに区分けしてもよい。第１領域Ｒ１は、第２方向Ｄ１２における支持体３０の中間位置を通る第１方向Ｄ１１に沿って延びる中間線ＭＬに対して一側（図４における上側）の領域であってもよい。第２領域Ｒ２は、当該中間線ＭＬに対して他側（図４における下側）の領域であってもよい。言い換えると、図４のように支持体を見たときに、第２方向Ｄ１２において上側半分の領域が第１領域Ｒ１に相当し、下側半分の領域が第２領域Ｒ２に相当している。
【0053】
本実施形態では、第１領域Ｒ１に位置する支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さの合計値が、第２領域Ｒ２に位置する支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さの合計値よりも長くなっていてもよい。
【0054】
より具体的には、図４に示すように、平面視で、第２方向Ｄ１２に沿って延びる基準線ＳＬを第１開口列３５ａに重ねたときに、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっていてもよい。
【0055】
第１領域開口長さＬ１は、第１領域Ｒ１において基準線ＳＬのうち第１開口列３５ａを構成する支持体開口３１と重なる部分の長さである。第１領域Ｒ１において基準線ＳＬが２つ以上の支持体開口３１と重なる場合、第１領域開口長さＬ１は、第１領域Ｒ１において基準線ＳＬと重なる各支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さの合計値となる。また、基準線ＳＬと重なる複数の支持体開口３１のうちの一の支持体開口３１が中間線ＭＬを跨いでいる場合、当該支持体開口３１のうち第１領域Ｒ１に位置する部分の長さは、第１領域開口長さＬ１に含まれる。
【0056】
第２領域開口長さＬ２は、第２領域Ｒ２において基準線ＳＬのうち第１開口列３５ａを構成する支持体開口３１と重なる部分の長さである。第２領域Ｒ２において基準線ＳＬが２つ以上の支持体開口３１と重なる場合、第２領域開口長さＬ２は、第２領域Ｒ２において基準線ＳＬと重なる各支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さの合計値となる。また、基準線ＳＬと重なる複数の支持体開口３１のうちの一の支持体開口３１が中間線ＭＬを跨いでいる場合、当該支持体開口３１のうち第２領域Ｒ２に位置する部分の長さは、第２領域開口長さＬ２に含まれる。
【0057】
本実施形態では、第１領域開口長さＬ１は、第１外縁３０ｃに最も近く（図４における最も上側）に位置する支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さＬ１１と、中間線ＭＬに跨がっている支持体開口３１のうち第１領域Ｒ１に位置する部分の第２方向Ｄ１２の長さＬ１２と、の合計値となる。第２領域開口長さＬ２は、第２外縁３０ｄに最も近く（図４における最も下側）に位置する支持体開口３１の第２方向Ｄ１２の長さＬ２１と、中間線ＭＬに跨がっている支持体開口３１のうち第２領域Ｒ２に位置する部分の第２方向Ｄ１２の長さＬ２２と、の合計値となる。
【0058】
上述したように、第１開口列３５ａの支持体開口３１と、第２開口列３５ｂの支持体開口は、第１方向Ｄ１１において整列されているため、平面視で、基準線ＳＬを第２開口列３５ｂに重ねたときにおいても、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっていてもよい。基準線ＳＬを第３開口列３５ｃ～第６開口列３５ｆのいずれに重ねたときでも第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっていてもよい。第１開口列３５ａの支持体開口３１と第２開口列３５ｂの支持体開口３１が第１方向Ｄ１１において整列されている場合には、第１領域開口長さＬ１と第２領域開口長さＬ２の差は、任意の開口列の組み合わせにおいて等しくなってもよい。なお、任意の開口列の組み合わせにおいて、第１領域開口長さＬ１と第２領域開口長さＬ２の差は、異なっていてもよい。
【0059】
上述したように、第１開口列３５ａを構成する２つ以上の支持体開口３１が第２方向Ｄ１２において整列している場合、第１領域Ｒ１に位置する支持体開口３１の開口面積である第１領域開口面積は、第２領域Ｒ２に位置する支持体開口３１の開口面積である第２領域開口面積よりも大きくなっていてもよい。
【0060】
ここで、第１領域Ｒ１において２つ以上の支持体開口３１が位置する場合には、第１領域開口面積は、第１領域Ｒ１に位置する２つ以上の支持体開口３１の開口面積の合計値となる。また、中間線ＭＬを跨いでいる支持体開口３１のうち第１領域Ｒ１に位置する部分の開口面積は、第１領域開口面積に含まれる。同様に、第２領域Ｒ２において２つ以上の支持体開口３１が位置する場合には、第２領域開口面積は、第２領域Ｒ２に位置する２つ以上の支持体開口３１の開口面積の合計値となる。また、中間線ＭＬを跨いでいる支持体開口３１のうち第２領域Ｒ２に位置する部分の開口面積は、第２領域開口面積に含まれる。
【0061】
本実施形態では、図４に示す支持体３０における第１領域開口面積は、第１外縁３０ｃに最も近くに位置する６つの支持体開口３１の開口面積と、中間線ＭＬに跨がっている６つの支持体開口３１のうち第１領域Ｒ１に位置する部分の開口面積と、の合計値となる。第２領域開口面積は、第２外縁３０ｄに最も近くに位置する６つの支持体開口３１の開口面積と、中間線ＭＬに跨がっている６つの支持体開口３１のうち第２領域Ｒ２に位置する部分の開口面積と、の合計値となる。
【0062】
上述した第１桟部３３は、第２領域Ｒ２に位置していてもよい。この場合、第１桟部３３は、第１領域Ｒ１に位置していなくてもよい。本実施形態では、図４に示すように、第１桟部３３は、第１領域Ｒ１および第２領域Ｒ２のそれぞれに位置している。この場合、第１領域Ｒ１に位置する第１桟部３３の第２方向Ｄ１２の長さＣＬ１は、第２領域Ｒ２に位置する第１桟部３３の第２方向Ｄ１２の長さＣＬ２よりも短くてもよい。
【0063】
本実施形態では、図４に示す支持体３０の第１領域Ｒ１における第１桟部３３の長さＣＬ１は、第１外縁３０ｃの側に位置する第１桟部３３の第２方向Ｄ１２の長さであってもよい。第２領域Ｒ２における第１桟部３３の長さＣＬ２は、第２外縁３０ｄの側に位置する第１桟部３３の第２方向Ｄ１２の長さであってもよい。
【0064】
支持体３０の厚みＨ１は、例えば、０．０５ｍｍ以上であってもよく、０．１０ｍｍ以上であってもよく、０．５０ｍｍ以上であってもよく、１．００ｍｍ以上であってもよい。厚みＨ１を０．０５ｍｍ以上とすることにより、蒸着マスク２０の剛性を向上させることができる。また、厚みＨ１は、例えば、１．５０ｍｍ以下であってもよく、２．００ｍｍ以下であってもよく、２．５０ｍｍ以下であってもよく、３．００ｍｍ以下であってもよい。厚みＨ１を３．００ｍｍ以下とすることにより、後述するように支持体３０に接合されたマスク本体４０から支持基板５０を分離させる際に、支持基板５０が分離できなくなる不具合が生じることを抑制することができる。厚みＨ１の範囲は、０．０５ｍｍ、０．１０ｍｍ、０．５０ｍｍ及び１．００ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、１．５０ｍｍ、２．００ｍｍ、２．５０ｍｍ及び３．００ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．０５ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上２．００ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上１．５０ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上１．００ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以上０．１０ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上２．００ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上１．５０ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上１．００ｍｍ以下であってもよく、０．１０ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下であってもよく、０．５０ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、０．５０ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、０．５０ｍｍ以上２．００ｍｍ以下であってもよく、０．５０ｍｍ以上１．５０ｍｍ以下であってもよく、０．５０ｍｍ以上１．００ｍｍ以下であってもよく、１．００ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、１．００ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、１．００ｍｍ以上２．００ｍｍ以下であってもよく、１．００ｍｍ以上１．５０ｍｍ以下であってもよく、１．５０ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、１．５０ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、１．５０ｍｍ以上２．００ｍｍ以下であってもよく、２．００ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよく、２．００ｍｍ以上２．５０ｍｍ以下であってもよく、２．５０ｍｍ以上３．００ｍｍ以下であってもよい。
【0065】
次に、マスク本体４０について説明する。マスク本体４０は、任意の製造方法により製造することができる。例えば、圧延材をエッチングすることにより製造されていてもよく、あるいは、めっき処理で製造されていてもよい。めっき処理で製造される場合には、マスク本体４０は、２つ以上の層で構成されていてもよい。この場合、後述する貫通孔４６は、これらの層を貫通するように形成される。
【0066】
図３に示すように、マスク本体４０は、第１本体面４０ａと、第２本体面４０ｂとは反対側に位置する第２本体面４０ｂと、を有していてもよい。第１本体面４０ａは、蒸着時に被蒸着基板９１が密着する面であってもよい。第２本体面４０ｂは、上述した支持体３０の側の面であってもよい。
【0067】
マスク本体４０は、２つ以上の貫通孔４６を有していてもよい。マスク本体４０は、２つ以上の貫通孔４６で構成される貫通孔群４５を有していてもよい。本実施形態では、各マスク本体４０は、１つのみの貫通孔群４５を有している。
【0068】
貫通孔４６は、第１本体面４０ａから第２本体面４０ｂに延びており、マスク本体４０を貫通している。図３においては、図面を簡略化するために、貫通孔４６の壁面が、第１本体面４０ａから第２本体面４０ｂに向かって中心軸線から遠ざかるように中心軸線に対して直線状に傾斜している例が示されている。このように、貫通孔４６の壁面は、第１本体面４０ａにおける開口寸法が、第２本体面４０ｂにおける開口寸法よりも小さくなるように形成されていてもよい。この場合、蒸着装置８０の蒸着源８２から飛来した蒸着材料８３が、貫通孔４６の壁面に到達して付着することを抑制できる。このことにより、被蒸着基板９１への蒸着材料８３の付着が貫通孔４６の壁面によって阻害されること（シャドーとも称する）を抑制することができる。このため、被蒸着基板９１に付着した蒸着材料８３によって形成される蒸着層９２（図７参照）の形状精度や位置精度を向上させることができ、蒸着層９２の精細度を高めることができる。なお、貫通孔４６の断面形状についてのより詳細な説明はここでは省略するが、マスク本体４０の製造方法に応じて、壁面の形状は湾曲状であってもよく、任意とすることができる。
【0069】
図５に示すように、貫通孔４６は、平面視において、略矩形形状の輪郭を有していてもよい。この場合、貫通孔４６の輪郭のうちの四隅は湾曲していてもよい。なお、輪郭の形状は、画素の形状に応じて任意に定められ得る。例えば、六角形、八角形などのその他の多角形の形状を有していてもよく、円形状を有していてもよい。また、輪郭の形状は、複数の形状の組み合わせであってもよい。また、貫通孔４６はそれぞれ、互いに異なる輪郭の形状を有していてもよい。貫通孔４６が多角形形状の輪郭を有する場合、貫通孔４６の開口寸法は、図５に示すように、多角形において対向する一対の辺の間隔としてもよい。
【0070】
図５に示すように、貫通孔４６は、上述した貫通孔群４５をなしていてもよい。貫通孔群４５は、上述した支持体３０の支持体開口３１（図２および図３参照）に重なっており、支持体開口３１から露出している。１つの支持体開口３１が、１つの貫通孔群４５を露出させていてもよい。図５に示すように、貫通孔群４５は、２つ以上の貫通孔４６が群をなすように構成されていてもよい。貫通孔群４５とは、規則的に配列された複数の貫通孔４６の集合体を意味する用語として用いている。１つの貫通孔群４５を構成する外縁の貫通孔４６は、同様に規則的に配列されている複数の貫通孔４６のうち最も外側に位置する貫通孔４６である。外縁の貫通孔４６の外側には、同様に規則的に配列されて蒸着材料８３の通過を意図する貫通孔４６は存在していなくてもよい。しかしながら、外縁の貫通孔４６の外側には、他の用途の貫通孔や凹部（いずれも図示せず）は形成されていてもよい。これらの他の用途の貫通孔や凹部は、貫通孔４６の配列の規則性を持たずに形成されていてもよく、貫通孔群４５には属していないと考えてもよい。
【0071】
図５に示すように、貫通孔群４５において、複数の貫通孔４６は、所定の間隔を開けて（所定のピッチで）配列されていてもよい。貫通孔４６は、第１方向Ｄ１１において所定の間隔（図５に示す符号Ｃ３）を開けて配列されると共に、第２方向Ｄ１２において所定の間隔（図５に示す符号Ｃ４）を開けて配列されていてもよい。貫通孔４６の配列ピッチＣ３、Ｃ４は、第１方向Ｄ１１および第２方向Ｄ１２で異なっていてもよいが、等しくてもよい。図５においては、第１方向Ｄ１１の配列ピッチＣ３と第２方向Ｄ１２の配列ピッチＣ４が等しい例を示している。図５に示すように、貫通孔４６は、並列配列されていてもよい。より具体的には、第１方向Ｄ１１に沿った一の列を構成する各貫通孔４６と、当該列と第２方向Ｄ１２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔４６とは、第２方向Ｄ１２において整列されていてもよい。貫通孔４６の配列ピッチＣ３、Ｃ４は、表示装置または投影装置の画素密度に応じて、例えば以下のように定められていてもよい。
・画素密度が６００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは４２．３μｍ以下
・画素密度が１２００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは２１．２μｍ以下
・画素密度が３０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは８．５μｍ以下
画素密度が６００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置として用いられてもよい。画素密度が１２００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、仮想現実（いわゆるＶＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が３０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、拡張現実（いわゆるＡＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。
・画素密度が６００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは４２．３μｍ以下
・画素密度が１２００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは２１．２μｍ以下
・画素密度が３０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは８．５μｍ以下
画素密度が６００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置として用いられてもよい。画素密度が１２００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、仮想現実（いわゆるＶＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が３０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、例えば、拡張現実（いわゆるＡＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。
【0072】
なお、貫通孔群４５における貫通孔４６は、並列配列ではなく、千鳥配列（図示せず）されていてもよい。すなわち、第１方向Ｄ１１に沿った一の列を構成する各貫通孔４６と、当該列と第２方向Ｄ１２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔４６とは、第２方向Ｄ１２において整列されていなくてもよい。一の列を構成する各貫通孔４６と、隣り合う他の列を構成する貫通孔４６とは、第１方向Ｄ１１においてずれて配列されていてもよい。そのずれ量は、第１方向における配列ピッチＣ３の半分になっていてもよいが、ずれ量は任意である。
【0073】
図３および図５において、マスク本体４０の第１本体面４０ａにおける貫通孔４６の開口寸法が、符号Ｓ１で示されている。また、マスク本体４０の第２本体面４０ｂにおける貫通孔４６の開口寸法が、符号Ｓ２で示されている。また、符号Ｓ３は、第１本体面４０ａにおける互いに隣り合う貫通孔４６同士の間の距離を示している。図５においては、貫通孔４６の平面形状は正方形としているため、第１方向Ｄ１１における貫通孔４６の開口寸法と第２方向Ｄ１２における貫通孔４６の開口寸法は等しくなっている。代表的にＤ１２における貫通孔４６の寸法を、符号Ｓ１、Ｓ２で示している。
【0074】
寸法Ｓ１、寸法Ｓ２および寸法Ｓ３は、表示装置又は投影装置の画素密度に応じて例えば以下の表１のように定められる。
【表1】
【0075】
ところで、貫通孔群４５は、有効領域４７と称することがある。有効領域４７の周囲に位置する領域は周囲領域４８と称することがある。本実施形態では、周囲領域４８は、１つの有効領域４７を囲んでいる。
【0076】
蒸着マスク２０を用いて有機ＥＬ表示装置などの表示装置を作製する場合、１つの有効領域４７は、１つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応する。このため、図２に示す蒸着マスク２０によれば、有機ＥＬ表示装置の多面付蒸着が可能である。なお、１つの有効領域４７が複数の表示領域に対応する場合もある。
【0077】
有効領域４７は、例えば、図５に示すように、平面視において略矩形状の輪郭を有していてもよい。有効領域４７の輪郭は、対応する貫通孔群４５のうち最も外側に位置する貫通孔４６に外側から接する線によって画定されてもよい。より詳細には、有効領域４７の輪郭は、貫通孔４６の開口に接する線によって画定されていてもよい。図５に示す例では、貫通孔４６が並列配列されていることから、有効領域４７の輪郭は、略矩形状の輪郭となっている。なお、図示はしないが、各有効領域４７は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域４７は、円形状の輪郭を有していてもよい。
【0078】
マスク本体４０の厚みＨ２は、例えば、２μｍ以上であってもよく、５μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。厚みＨ２を２μｍ以上とすることにより、マスク本体４０の剛性を確保し、ハンドリング性を向上させることができる。また、厚みＨ２は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。厚みＨ２を５０μｍ以下とすることにより、シャドーが発生することを抑制することができる。厚みＨ２の範囲は、２μｍ、５μｍ、１０μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、２μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。
【0079】
蒸着マスク２０を構成する支持体３０およびマスク本体４０は、例えば、ニッケルを含む鉄合金で構成されていてもよい。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、支持体３０の材料およびマスク本体４０の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。ニッケルを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。ニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材などを挙げることができる。このような鉄合金を用いることにより、支持体３０の熱膨張係数およびマスク本体４０の熱膨張係数を低くすることができる。例えば、被蒸着基板９１としてガラス基板が用いられる場合に、支持体３０の熱膨張係数およびマスク本体４０の熱膨張係数を、ガラス基板と同等の低い値にすることができる。これにより、蒸着工程の際、被蒸着基板９１に形成される蒸着層９２の形状精度や位置精度が、蒸着マスク２０と被蒸着基板９１との間の熱膨張係数の差に起因して低下することを抑制することができる。また、熱膨張係数をガラス基板と同等の低い値にしなくてもよい場合には、支持体３０およびマスク本体４０は、上述した鉄合金の代わりに、例えば、単体のニッケルで構成されていてもよい。この場合においても、上述した鉄合金と同様に、支持体３０およびマスク本体４０の熱膨張係数を低くすることができる。支持体３０とマスク本体４０とは、同一の材料で形成されていてもよいが、互いに異なる材料で形成されていてもよい。
【0080】
【0081】
まず、図６Ａに示すように、準備工程として、マスク本体４０が形成された支持基板５０を準備してもよい。
【0082】
例えば、マスク本体４０をめっき処理によって作製する場合には、支持基板５０に導電性パターン（図示せず）を形成し、この導電性パターンに、金属材料を析出させるめっき処理を行って、マスク本体４０が作製されてもよい。導電性パターンには、めっき処理を行う前に離型剤が塗布されていてもよい。めっき処理によるマスク本体４０の製造方法についての詳細な説明は省略する。
【0083】
また、例えば、マスク本体４０を圧延材からのエッチング処理によって作製する場合には、圧延材をフォトファブリケーションの手法を用いたエッチング処理によって、貫通孔４６が形成されたマスク本体４０を予め作製する。作製されたマスク本体４０を、支持基板５０に、粘着層（図示せず）を介して剥離可能に貼り付ける。この粘着層は、粘着性を有する材料で作製されていてもよい。粘着層の材料は、例えば、紫外線を照射したり、または加熱されたりすることによって粘着性を喪失可能な材料で作製されていてもよい。
【0084】
支持基板５０は、光透過性を有するガラスで作製されていてもよい。あるいは、支持基板５０は、光透過性を有する樹脂材料（例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やポリイミド等）で作製されていてもよい。
【0085】
準備工程の後、接合工程として、マスク本体４０に支持体３０が接合される。
【0086】
この場合、まず、図６Ｂに示すように、マスク本体４０の第２本体面４０ｂに、支持体３０の第１支持体面３０ａが重ね合わされる。支持体３０は、任意の製造方法により製造することができる。例えば、上述したマスク本体４０と同様に、フォトファブリケーションの手法を用いて圧延材をエッチング処理することにより製造されていてもよい。あるいは、上述したマスク本体４０と同様に、支持基板（図示せず）に設けられた導電性パターン（図示せず）に金属材料を析出させるめっき処理を行い、その後に支持基板から分離させることにより製造されていてもよい。
【0087】
続いて、図６Ｃに示すように、マスク本体４０が支持体３０に接合される。例えば、レーザ光ＬＢを用いるスポット溶接によって、マスク本体４０が支持体３０に接合されて固定されてもよい。支持基板５０が光透過性を有している場合、レーザ光ＬＢは、支持基板５０を透過させて、マスク本体４０の第１本体面４０ａに照射させるようにしてもよい。レーザ光ＬＢは、マスク本体４０の外周縁に沿って、複数箇所で順次照射されてもよい。このことにより、図２に示す溶接痕２１が形成される。
【0088】
接合工程の後、分離工程として、図６Ｄに示すように、支持基板５０からマスク本体４０が分離されてもよい。
【0089】
このようにして、支持体３０にマスク本体４０が積層された本実施形態による蒸着マスク２０が得られる。
【0090】
【0091】
蒸着基板の製造方法は、蒸着マスク２０を用いて被蒸着基板９１に蒸着材料８３を付着させて蒸着層９２を形成し、図７に示すような蒸着基板９０を得る方法である。蒸着基板９０は、主として、被蒸着基板９１と、被蒸着基板９１に形成された蒸着層９２とによって構成されており、有機ＥＬ表示装置などで用いられる。本実施形態による蒸着基板の製造方法は、蒸着マスク準備工程と、密着工程と、蒸着工程と、を備えていてもよい。
【0092】
まず、蒸着マスク準備工程として、上述した蒸着マスク２０を準備してもよい。
【0093】
蒸着マスク準備工程の後、密着工程として、図１に示すように、蒸着マスク２０のマスク本体４０のうち第１本体面４０ａを、被蒸着基板９１に密着させてもよい。
【0094】
より具体的には、被蒸着基板９１および蒸着マスク２０が、蒸着源８２に対向するように蒸着装置８０の筐体８１内に直立して配置される。被蒸着基板９１の蒸着材料８３を蒸着させる被蒸着面９１ａと蒸着マスク２０のマスク本体４０の第１本体面４０ａは、互いに接触させ、被蒸着面９１ａと第１本体面４０ａが、鉛直方向に沿うように配置される。
【0095】
ここで、被蒸着基板９１および蒸着マスク２０は、支持体３０の第２方向Ｄ１２に沿う外縁（第３外縁３０ｅおよび第４外縁３０ｆ）が、鉛直方向に沿って直立するように配置される。この場合、上述した第１領域Ｒ１（および第１外縁３０ｃ）が上方に位置し、第２領域Ｒ２（および第２外縁３０ｄ）が下方に位置する。上述したように、本実施形態では、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっている。このことにより、支持体３０の第２領域Ｒ２に占める部分の重さよりも、第１領域Ｒ１に占める部分の重さを軽くすることができる。このため、蒸着マスク２０を上述のように直立させた場合に、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。すなわち、第１領域Ｒ１の部分が重い場合には、当該部分が自重による座屈の現象で撓み、支持体３０が全体として鉛直面から外れて湾曲する傾向にある。この場合、各貫通孔４６の位置が下方に変位し、位置ずれを生じるという問題が考えられる。これに対して本実施形態では、上述したように、第１領域Ｒ１の部分の重さを軽くすることができることにより、当該部分が自重で撓むことを抑制することができる。このため、支持体３０が全体として撓むことを抑制することができ、直立状態での蒸着マスク２０の貫通孔４６の位置精度を向上させることができる。
【0096】
被蒸着基板９１および蒸着マスク２０を直立させた後、被蒸着基板９１の蒸着マスク２０とは反対側の面に磁石８５が配置されてもよい。この場合、蒸着マスク２０と磁石８５との間に被蒸着基板９１が介在されて、磁石８５の磁力で蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に引き寄せてもよい。このことにより、被蒸着基板９１の被蒸着面９１ａに、マスク本体４０の第１本体面４０ａが密着することができる。すなわち、上述したように、磁石８５により蒸着マスク２０を引き寄せる前の直立状態で支持体３０が撓むことを抑制して貫通孔４６の位置精度を向上させている。このことにより、支持体３０が撓んで貫通孔４６の位置ずれが生じている状態で蒸着マスク２０が被蒸着基板９１に密着してしまうことを抑制できる。このため、蒸着マスク２０が被蒸着基板９１に密着した状態においても、貫通孔４６の位置精度を向上させることができる。
【0097】
密着工程の後、蒸着工程として、蒸着マスク２０の貫通孔４６を通して蒸着材料８３を被蒸着基板９１に蒸着させてもよい。このことにより、被蒸着基板９１に蒸着層９２が形成された蒸着基板９０が得られる。より具体的には、蒸着装置８０の内部空間を真空雰囲気にし、蒸着材料８３を加熱して蒸発させる。蒸発した蒸着材料８３は、蒸着源８２から被蒸着基板９１に向かって側方に飛来する。飛来した蒸着材料８３は、蒸着マスク２０の支持体３０の各支持体開口３１および各貫通孔４６を通って被蒸着基板９１の被蒸着面９１ａに到達して付着する。このようにして、被蒸着基板９１に、貫通孔４６のパターンに対応したパターンで形成された蒸着層９２を備えた蒸着基板９０が得られる。
【0098】
上述したように、本実施形態では、貫通孔４６が各有効領域４７において所定のパターンで配置されている。複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０を準備し、各蒸着マスク２０で被蒸着基板９１に各色の蒸着材料８３を順次付着させる。これにより、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を一の被蒸着基板９１にそれぞれ蒸着させることができる。
【0099】
このようにして、被蒸着基板９１に、各色の蒸着層９２が形成された蒸着基板９０が得られる。
【0100】
このように本実施形態によれば、支持体３０の第１領域Ｒ１において基準線ＳＬのうち支持体開口３１と重なる部分の長さである第１領域開口長さＬ１が、第２領域Ｒ２において基準線ＳＬのうち支持体開口３１と重なる部分の長さである第２領域開口長さＬ２よりも長くなっている。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０のうち下方に位置する第２領域Ｒ２における部分の重さよりも、上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さを軽くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。この場合、直立状態での蒸着マスク２０の貫通孔４６の位置精度を向上させることができる。この結果、被蒸着基板９１に形成される蒸着層９２の形状精度および位置精度を向上させることができ、蒸着層９２の精細度を高めることができる。
【0101】
また、本実施形態によれば、第２方向Ｄ１２において隣り合う支持体開口３１の間に、第１方向Ｄ１１に延びる第１桟部３３が介在され、第１桟部３３が、第２領域Ｒ２に位置している。このことにより、第１桟部３３によって支持体３０の機械的強度を高めることができる。また、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、第１桟部３３は第２領域Ｒ２に位置しているため、支持体３０のうち上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さが重くなることを抑制することができる。このため、支持体３０の機械的強度を高めつつ、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。
【0102】
また、本実施形態によれば、第１領域Ｒ１に位置する第１桟部３３の第２方向の長さが、第２領域Ｒ２に位置する第１桟部３３の第２方向Ｄ１２の長さよりも短くなっている。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０のうち上方に位置する第１領域Ｒ１における第１桟部３３の重さを、下方に位置する第２領域Ｒ２における第１桟部３３の重さよりも軽くすることができる。また、第１領域Ｒ１および第２領域Ｒ２の各々に第１桟部３３を設けることにより、支持体３０の機械的強度を第１領域Ｒ１および第２領域Ｒ２の各々で高めることができる。このため、支持体３０の機械的強度をより一層高めつつ、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。
【0103】
また、本実施形態によれば、第１方向Ｄ１１において第１開口列３５ａに離間した第２開口列３５ｂに基準線ＳＬを重ねたときに、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっている。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０のうち下方に位置する第２領域Ｒ２における部分の重さよりも、上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さをより一層軽くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことをより一層抑制することができる。
【0104】
また、本実施形態によれば、第１開口列３５ａの支持体開口３１と、第２開口列３５ｂの支持体開口３１は、第１方向Ｄ１１において整列されている。このことにより、各開口列に基準線ＳＬを重ねても、第１領域開口長さＬ１を、第２領域開口長さＬ２よりも長くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことをより一層抑制することができる。
【0105】
なお、上述した本実施形態においては、第１開口列３５ａ～第６開口列３５ｆを構成する各支持体開口３１が、第１方向Ｄ１１において整列されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、第１変形例として図８に示すように、各開口列３５ａ～３５ｆを構成する各支持体開口３１は、第１方向Ｄ１１において整列されていなくてもよい。図８に示す例では、最も左側に位置する開口列を第５開口列３５ｅとし、最も右側に位置する開口列を第６開口列３５ｆとし、残りの４つの開口列を左側から右側に向かって第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄがこの順番に配置されている例を示している。
【0106】
例えば、図８に示すように、第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄを構成する各支持体開口３１が第１方向Ｄ１１において整列されるが、第５開口列３５ｅを構成する各支持体開口３１が、第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄを構成する各支持体開口３１と、第１方向Ｄ１１において整列されていなくてもよい。第６開口列３５ｆを構成する各支持体開口３１が、第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄを構成する各支持体開口３１と、第１方向Ｄ１１において整列されていなくてもよい。第５開口列３５ｅを構成する支持体開口３１と第６開口列３５ｆを構成する支持体開口３１とは、第１方向Ｄ１１において整列されていてもよい。
【0107】
図８に示す第１変形例では、平面視で、基準線ＳＬを第１開口列３５ａに重ねたときに、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっていてもよい。基準線ＳＬを第２開口列３５ｂ～第４開口列３５ｄのいずれに重ねたときでも同様である。また、第１領域開口長さＬ１と第２領域開口長さＬ２との差は、第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄの任意の組み合わせにおいて等しくなっていてもよいが、異なっていてもよい。なお、基準線ＳＬを第５開口列３５ｅおよび第６開口列３５ｆに重ねたときには、第１領域開口長さＬ１と、第２領域開口長さＬ２は、等しくなっていてもよい。
【0108】
なお、第１領域開口長さＬ１が第２領域開口長さＬ２よりも長くなる開口列は、第１開口列３５ａ～第４開口列３５ｄに限られることはなく、任意である。例えば、第１領域開口長さＬ１が第２領域開口長さＬ２よりも長くなる開口列は、第１開口列３５ａ～第６開口列３５ｆのうちの少なくとも１つの任意の開口列であってもよい。
【0109】
このように図８に示す第１変形例によれば、基準線ＳＬを第１開口列３５ａに重ねたときに、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっている。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０のうち下方に位置する第２領域Ｒ２における部分の重さよりも、上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さを軽くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。この場合、直立状態での蒸着マスク２０の貫通孔４６の位置精度を向上させることができる。この結果、被蒸着基板９１に形成される蒸着層９２の形状精度および位置精度を向上させることができ、蒸着層９２の精細度を高めることができる。
【0110】
また、上述した本実施形態においては、１つの支持体開口３１に、１つの貫通孔群４５が平面視で重なっている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。第２変形例として図９および図１０に示すように、１つの支持体開口３１に、２つ以上の貫通孔群４５が平面視で重なっていてもよい。
【0111】
例えば、図９に示すように、支持体３０は、４つの支持体開口３１を有していてもよい。４つの支持体開口３１は、２つの第１支持体開口６１と、２つの第２支持体開口６２と、で構成されていてもよい。図９に示す例では、第１開口列３５ａおよび第２開口列３５ｂがそれぞれ、第２方向Ｄ１２において整列された第１支持体開口６１および第２支持体開口６２によって構成されている。
【0112】
第１支持体開口６１は、第１領域Ｒ１の側に位置するとともに、第１外縁３０ｃに最も近くに位置していてもよい。第２支持体開口６２は、第２領域Ｒ２の側に位置するとともに、第２外縁３０ｄに最も近くに位置していてもよい。第１支持体開口６１および第２支持体開口６２はいずれも、平面視で矩形状に形成されているが、第１支持体開口６１の開口面積は、第２支持体開口６２の開口面積よりも大きくなっていてもよい。
【0113】
第１支持体開口６１は、対応する第２支持体開口６２と、第２方向Ｄ１２で整列されていてもよい。より具体的には、第１支持体開口６１の第１方向Ｄ１１の長さと、第２支持体開口６２の第１方向Ｄ１１の長さは等しくなっている。そして、第１支持体開口６１の第２方向Ｄ１２に延びる一対の側縁と、対応する（当該第１支持体開口６１と第２方向Ｄ１２で整列された）第２支持体開口６２の第２方向Ｄ１２に延びる一対の側縁とが、同一直線上に位置しており、第１方向Ｄ１１において同じ位置に位置している。
【0114】
２つの第１支持体開口６１は、第１方向Ｄ１１に整列されていてもよい。より具体的には、第１支持体開口６１の各々の第２方向Ｄ１２の長さは、等しくなっている。そして、各第１支持体開口６１の第１方向Ｄ１１に延びる一対の側縁が、同一直線上に位置しており、第２方向Ｄ１２において同じ位置に位置している。
【0115】
同様に、第２支持体開口６２は、第１方向Ｄ１１に整列されていてもよい。より具体的には、第２支持体開口６２の各々の第２方向Ｄ１２の長さは、等しくなっている。そして、各第２支持体開口６２の第１方向Ｄ１１に延びる一対の側縁が、同一直線上に位置しており、第２方向Ｄ１２において同じ位置に位置している。
【0116】
第２方向Ｄ１２において整列した第１支持体開口６１と第２支持体開口６２との間に、第１桟部３３が介在されている。第１桟部３３は、第２領域Ｒ２に位置している。第１領域Ｒ１には、第１桟部３３は存在していない。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０の第１領域Ｒ１における部分の重さが重くなることを抑制することができる。
【0117】
第１支持体開口６１は、中間線ＭＬを跨いで第２領域Ｒ２に延びている。言い換えると、第１支持体開口６１の一部は、第１領域Ｒ１に位置しているが、残りの一部は、第２領域Ｒ２に位置している。第２支持体開口６２は、全体として第２領域Ｒ２に位置している。
【0118】
図１０に示す支持体３０においても、第１領域Ｒ１に位置する支持体開口３１の高さの合計値が、第２領域Ｒ２に位置する支持体開口３１の高さの合計値よりも大きくなっていてもよい。
【0119】
より具体的には、図１０に示すように、平面視で、基準線ＳＬを第１開口列３５ａに重ねたときに、第１領域開口長さＬ１が、第２領域開口長さＬ２よりも長くなっていてもよい。上述したように、第２方向Ｄ１２において第１支持体開口６１と対応する第２支持体開口６２とが整列している場合、第１領域開口面積は、第２領域開口面積よりも大きくなる。
【0120】
図１０に示す第２変形例においては、第１領域開口長さＬ１は、上側に位置するとともに中間線ＭＬに跨がっている第１支持体開口６１のうち第１領域Ｒ１に位置する部分の第２方向Ｄ１２の長さＬ１３となる。第２領域開口長さＬ２は、第１支持体開口６１のうち第２領域Ｒ２に位置する部分の第２方向Ｄ１２の長さＬ２３と、下側に位置する第２支持体開口６２の第２方向Ｄ１２の長さＬ２４と、の合計値になる。
【0121】
マスク本体４０は、２つ以上の貫通孔群４５を有していてもよい。図９に示す第２変形例においては、蒸着マスク２０は、４つのマスク本体４０を備えている。４つのマスク本体４０は、２つの第１マスク本体７１と、２つの第２マスク本体７２と、で構成されていてもよい。
【0122】
第１マスク本体７１は、２つ以上の貫通孔群４５を有していてもよい。図９に示す例では、第１マスク本体７１は、６つの貫通孔群４５を有している。第１マスク本体７１の各貫通孔群４５は、第１支持体開口６１に重なっており、６つの貫通孔群４５が第１支持体開口６１から露出している。
【0123】
同様に、第２マスク本体７２は、２つ以上の貫通孔群４５を有していてもよい。図９に示す例では、第２マスク本体７２は、３つの貫通孔群４５を有している。第２マスク本体７２の各貫通孔群４５は、第２支持体開口６２に重なっており、３つの貫通孔群４５が第２支持体開口６２から露出している。
【0124】
このように図９および図１０に示す第２変形例によれば、第１領域Ｒ１において基準線ＳＬのうち支持体開口３１と重なる部分の長さである第１領域開口長さＬ１が、第２領域Ｒ２において基準線ＳＬのうち支持体開口３１と重なる部分の長さである第２領域開口長さＬ２よりも長くなっている。このことにより、蒸着マスク２０を、支持体３０の第１外縁３０ｃが上部に位置するように直立させた場合、支持体３０のうち下方に位置する第２領域Ｒ２における部分の重さよりも、上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さを軽くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。この場合、直立状態での蒸着マスク２０の貫通孔４６の位置精度を向上させることができる。この結果、被蒸着基板９１に形成される蒸着層９２の形状精度および位置精度を向上させることができ、蒸着層９２の精細度を高めることができる。
【0125】
また、図９および図１０に示す第２変形例によれば、支持体３０の第１外縁３０ｃに最も近くに位置する第１支持体開口６１が、中間線ＭＬを跨いで第２領域Ｒ２に延びている。このことにより、第１領域Ｒ１に第１桟部３３を設けることを回避でき、支持体３０のうち下方に位置する第２領域Ｒ２における部分の重さよりも、上方に位置する第１領域Ｒ１における部分の重さを軽くすることができる。このため、支持体３０のうち第１領域Ｒ１の部分が自重で撓むことを抑制することができる。
【0126】
また、上述した本実施の形態においては、支持体３０の第２支持体面３０ｂに、フレームなどの部材が設けられない例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、支持体３０の第２支持体面３０ｂに、図示しないフレームが設けられていてもよい。フレームは、例えばスポット溶接によって支持体３０に接合されていてもよい。フレームは、例えば、平面視で矩形枠状に形成されていてもよい。この場合、フレームは、フレーム開口を有し、フレーム開口に、全ての貫通孔群４５が平面視で重ね合わされて露出されるようにしてもよい。被蒸着基板９１に蒸着材料８３を蒸着させる蒸着工程においては、蒸着源８２からフレーム開口、支持体開口３１および貫通孔４６を通って被蒸着基板９１の被蒸着面９１ａに蒸着材料８３が飛来する。
【0127】
また、上述した本実施の形態においては、マスク本体４０が、エッチング処理またはめっき処理で製造される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。
【0128】
例えば、図１１に示すように、マスク本体４０は、支持体３０の側に設けられた金属層４１と、支持体３０とは反対側に設けられた樹脂層４２と、を有していてもよい。この場合、金属層４１は、第２本体面４０ｂの側に位置する。樹脂層４２は、第１本体面４０ａの側に位置し、金属層４１に積層される。貫通孔４６は、金属層４１および樹脂層４２を貫通している。すなわち、貫通孔４６は、金属層４１を貫通する金属層貫通孔４３と、樹脂層４２を貫通する樹脂層貫通孔４４と、を含んでいる。金属層貫通孔４３は、樹脂層貫通孔４４毎に設けられて、対応する一の樹脂層貫通孔４４に連通して当該樹脂層貫通孔４４に平面視で重なるように位置していてもよい。図示しないが、複数の金属層貫通孔４３が一体に形成されて、樹脂層貫通孔４４よりも大きな平面面積を有する開口を形成するようにしてもよい。金属層４１は、上述したマスク本体４０と同様の材料で構成されていてもよい。樹脂層４２は、例えば、ポリイミドで構成されていてもよい。
【0129】
図１１に示すマスク本体４０を作製する場合、まず、例えば、支持基板上にポリイミドワニス等の樹脂溶液を塗布して加熱、乾燥させて樹脂層４２を形成し、その樹脂層４２上に、金属層貫通孔４３に対応するようにパターン状のシード層を形成してシード層上にめっき処理によって金属材料を析出させて金属層４１を形成してもよい。樹脂層貫通孔４４は、レーザ光を樹脂層４２に照射することにより形成することができる。この場合、貫通孔４６の形状精度および位置精度を向上させることができる。
【0130】
また、上述した本実施の形態においては、蒸着マスク２０を鉛直方向に沿うように配置した縦型蒸着装置に適用する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、例えば、蒸着マスク２０を水平方向に沿うように配置した横型蒸着装置に適用してもよい。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】